JPH09208591A - 多官能の環状オルガノシロキサン類、それらの製造方法およびそれらの使用 - Google Patents
多官能の環状オルガノシロキサン類、それらの製造方法およびそれらの使用Info
- Publication number
- JPH09208591A JPH09208591A JP9028492A JP2849297A JPH09208591A JP H09208591 A JPH09208591 A JP H09208591A JP 9028492 A JP9028492 A JP 9028492A JP 2849297 A JP2849297 A JP 2849297A JP H09208591 A JPH09208591 A JP H09208591A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- individual
- formula
- halogen
- sir
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 47
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 claims description 11
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 2
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 11
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract description 8
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 abstract description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 abstract description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 abstract 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 44
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 26
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 5
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical class CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N chlorodimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)Cl YGHUUVGIRWMJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical group [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIGWAXDAPKFNCQ-UHFFFAOYSA-N 4-isopropylbenzyl alcohol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(CO)C=C1 OIGWAXDAPKFNCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005915 C6-C14 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 229910001570 bauxite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012154 double-distilled water Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000011005 laboratory method Methods 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N platinum(2+);dinitrate Chemical class [Pt+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZGJADVGJIVEEGF-UHFFFAOYSA-M potassium;phenoxide Chemical compound [K+].[O-]C1=CC=CC=C1 ZGJADVGJIVEEGF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 150000003138 primary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHILTCGAOPTOV-UHFFFAOYSA-N tetrakis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](C=C)(C=C)C=C UFHILTCGAOPTOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0889—Reactions not involving the Si atom of the Si-O-Si sequence
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0876—Reactions involving the formation of bonds to a Si atom of a Si-O-Si sequence other than a bond of the Si-O-Si linkage
- C07F7/0878—Si-C bond
- C07F7/0879—Hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
その製造方法および使用を提供する。 【解決手段】 一般式(I) [m=3−6、N=2−6、R=C1−C8アルキルまた
はC6−C14アリール、各nと各Rは相互に同じか或は
異なり、 A)X=ハロゲンでa=1−3、或はX=OR’または
OHでa=1−2、R’がC1−C8−アルキルである
か、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]、a=1−3およびb=1−
3、Y=ハロゲン、OR’またはOH、R’がAと同様
であるか、或は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYcR3-c]b]、c=1−
3、a,b,Y,R’がBと同様である]の環状オルガ
ノシロキサン類、その製造方法および使用。
Description
キサン類、それらの製造方法およびそれらの使用に関す
る。
ら習得可能なように、線状の多官能シラン類およびシロ
キサン類は、縮合で架橋するオルガノポリシロキサン組
成物、例えば室温において水分の存在下で硬化してエラ
ストマーを生じる1成分および2成分シリコンペースト
などにおける架橋剤として用いられる。このような化合
物はまた表面被覆用組成物の製造およびそれらの改質で
も用いられる。
りわけコンクリートの表面被覆で用いられそして金属表
面用塗料のラッカー添加剤として用いられる環状シロキ
サン類が記述されている。しかしながら、このようなシ
ロキサン類が有する加水分解性基は1分子当たり1個の
みであり、従ってこれらは網状組織形成剤として用いる
には適切でない。
際特許WO 94/06807から既に公知である。し
かしながら、このような化合物が水の存在下で示す貯蔵
寿命は限定された度合のみであり、そのアルコキシ基が
ゆっくりと加水分解および縮合を受けてポリマー状のシ
ロキサンが生じる。文献で知られている方法を用いて、
均一触媒の存在下でアルケニルシラン類にトリアルコキ
シシラン類をヒドロシリル化させる製造では、時とし
て、変換が不完全なことから二次的生成物がかなりの量
で生じる。主要生成物の精製を蒸留、晶析または他の通
常方法で行うのは不可能なことから、上記二次的生成物
は分離可能であるとしても骨の折れる方法を用いること
でのみ可能である。更に、均一触媒を用いたヒドロシリ
ル化の場合、しばしば、反応熱の管理が可能であるとし
ても困難さを伴うと言った欠点を示す。このことは、反
応を実験室規模から産業的規模に移そうと試みる時に特
に明らかになる。
とHSiCl3、HSiCl2MeまたはHSiClMe
2との反応(ここでは、各々、Si−C結合が4つ生じ
る)は全部、強い発熱反応である。Macromole
cules 1993、26、963−968に記述さ
れているように、バッチサイズが数グラムのみの時で
も、還流コンデンサ単独では低沸点のクロロシランを再
縮合させるのは不可能なことから、しばしば、冷却浴を
用いて反応容器を冷却する必要がある。
反応が始まる時を正確に見積もるのは非常に困難であ
る。全遊離体を極めて徹底的に精製しかつ触媒を新しく
反応直前に調製したとしても、時として、追加的に熱を
加えなくても反応それ自身が始まる。しかしながら、多
くの場合、熱を導入する必要がある。この反応が始まる
と、その予熱された混合物を例えば冷却などで管理下に
置くのは益々困難になる。その原因は、恐らくは、遊離
体に汚染物(水、HCl)が痕跡量で入っていることと
触媒活性が変化することによるものであろう。
Chem.、1979、17、407−409には、こ
のような挙動が「誘導期間」として記述されており、そ
してこの挙動は実際に触媒活性を示す種が上記「誘導期
間」中に生成することによるものであると記述されてい
る。
規模で用いるのは望ましくない。発熱反応が一度始まっ
た後に熱を迅速に消散させるのは、いやしくも可能であ
るとしても、多大な技術的困難さを伴うことでのみ達成
可能である。
低濃度で用いた時でもそれが生成物中に残存する点であ
る。高価な貴金属が失われること以外に、触媒が組み込
まると、一般に、その結果として生じる生成物に否定的
な影響が生じる。
オルガノポリシロキサン組成物、例えば室温において水
分の存在下で硬化してエラストマーを生じる1成分およ
び2成分シリコンペーストなどにおける架橋剤として用
いるに適切で、表面被覆用組成物の製造およびそれらの
改質で用いるに適切な、貯蔵安定性を示す多官能の環状
オルガノシロキサン類を提供し、そして上述した欠点を
示さない方法を提供することであった。
の環状オルガノシロキサン類をここに見い出した。
=2−10、好適には2−5、特に好適には2、R=C
1−C8アルキルおよび/またはC6−C14アリール、好
適にはC1−C2アルキル、ここで、個々の各nおよびR
は分子内で他の個々の各nおよびRと同じか或は異なっ
ていてもよく、好適には同じであり、そして残りの残基
が下記の意味を有する: A)X=ハロゲン、即ちCl、Br、IおよびF、好適
にはClであり、そしてa=1−3であるか、或はX=
OR’またはOHでa=1−2であり、ここで、R’=
C1−C8アルキル、好適にはC1−C2アルキルである
か、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]、a=1−3でb=1−3、
Y=ハロゲン、OR’またはOH、好適にはCl、O
R’、OHであり、ここで、R’=C1−C8アルキル、
好適にはC1−C2アルキルであるか、或は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYCR3-c]b]ここで、a
=1−3、b=1−3およびc=1−3、Y=ハロゲ
ン、OR’またはOH、好適にはCl、OR’、OHで
あり、ここで、R’=C1−C8アルキル、好適にはC1
−C2アルキルである]で表される多官能の環状オルガ
ノシロキサン類を提供する。
−C8アルキルおよび/またはC6−C14アリールを表
す。代表的なC1−C8アルキル基には、これらに限定す
るものでないが、メチル、エチル、イソ−プロピル、n
−プロピル、n−ヘプチル、n−オクチル、2−エチル
ヘキシルが含まれ、メチルおよびエチルが好適であり、
そしてメチルが特に好適である。代表的なC6−C14ア
リール基には、これらに限定するものでないが、フェニ
ル、トリル、ベンジル、ナフチルが含まれ、フェニルが
好適である。このアリール基は置換環であってもよい。
置換基には、これらに限定するものでないが、Cl、B
r、アミン、ニトロ基またはスルホナト基が含まれる。
4、R=メチル、そしてX=OHまたはOR’、ここ
で、R’=メチルまたはエチル、そしてa=1である。
ロキサン内で、各R基は他の各基と同じか或は異なって
いてもよい。例として、m=4でa=1の場合、4個の
SiXaR3-a基内に存在する4個のSi原子各々に2個
のR基が結合しそして4個のSiR基内に存在するSi
原子各々に1個のR基が結合することもあるであろう。
このような12個のR基の各々は同じか或は異なってい
てもよい。例えば、SiXaR3-a基内に存在するSi原
子に結合している各R基は、互いに同じであるが、Si
R基(これら自身互いに同じであってもよい)内に存在
するSi原子に結合しているR基とは異なっていてもよ
い。
シロキサン類は、
=1−3、n=2−10、好適には2−5、特に好適に
は2、R=C1−C8アルキルおよび/またはC6−C14
アリール、好適にはC1−C2アルキル、そしてここで、
各a、nおよびRはそれぞれ分子内で他の各a、nおよ
びRと同じか或は異なっていてもよく、好適には同じで
あり、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)X=ハロゲン、即ちF、Cl、BrおよびI、O
R’、好適にはCl、OR’であり、そしてR’がC1
−C8アルキル、好適にはC1−C2アルキルの意味を有
するか、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]でb=1−3、そしてY=ハ
ロゲン、OR’、好適にはClまたはOR’であり、こ
こで、R’はA)で与えたのと同じ意味を有するか、或
は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYcR3-c)b]でb=1−
3、c=1−3、そしてY=ハロゲン、OR’、好適に
はClまたはOR’であり、ここで、R’はA)で与え
た意味を有する]で表される多官能の環状オルガノシロ
キサン類を製造する方法も提供し、ここでは、式(I
I)
=C1−C8アルキルおよび/またはC6−C14アリー
ル、好適にはC1−C2アルキル、ここで、各Rは分子内
で互いに同じか或は異なっていてもよく、好適には同じ
であり、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)Z=C2H3でq=2−10、好適には2−5、特に
好適には2であるか、或は B)Z=SiR3-e(CnH2n-1)eでe=1−3、n=2−1
0、好適には2−5、特に好適には2であり、そしてq
=4−12、好適には4−6であるか、或は C)Z=SiR3-e[(CH2)nSiR3-e(CnH2n-1)e]eでe=1−
3、そしてq=4−12、好適には4−6、n=2−1
0、好適には2−5、特に好適には2である]で表され
る環状オルガノシロキサン類と式(III) HSiTfR3-f (III) [式中、f=1−3、T=ハロゲンまたはOR、そして
R=C1−C8アルキルおよび/またはC6−C14アリー
ル、好適にはC1−C2アルキル、ここで、個々の各Rは
他の個々の各Rと同じか或は異なっていてもよい]で表
されるヒドリドシラン類を不均一触媒の存在下で反応さ
せる。
としてシクロ(テトラ(メチルビニルシロキサン))
[即ちm=4、q=2、Z=C2H3およびR=メチル]
を好適に用いそして該ヒドリドシランとしてHSiCl
3、HSiCl2MeまたはHSiClMe2を好適に用
いる。
ることから、この触媒の含有量を用いてヒドロシリル化
反応の過程そしてまた熱の発生を確実に管理することが
できる。触媒の量を少なくすると直接的に熱の発生量が
少なくなる。このようにして、この方法は産業的大規模
で簡単に実施することが可能である。
しば、遊離体を予め精製する必要がなくなる。
均一触媒のさらなる利点は、ヒドロシリル化を任意に連
続的に行うことができることで空間/時間収率がかなり
向上し得る点である。
運転において、例えば濾過などで簡単な様式で分離可能
である。不連続運転の場合、分離後の触媒を再使用する
ことができる。
媒残渣を全く含まない生成物が得られる。
均一触媒、例えばイソプロパノール中のヘキサクロロ白
金酸などとは異なり、特別な手段を用いることなく活性
の損失なしに貯蔵可能である。
=1−3、n=2−10、好適には2−5、特に好適に
は2、R=C1−C8アルキルおよび/またはC6−C14
アリール、好適にはC1−C2アルキル、ここで、それぞ
れa、nおよびRは各々分子内で他の各a、nおよびR
と同じか或は異なっていてもよく、好適には同じであ
り、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)U=OR’またはOHでR’=C1−C8アルキル、
好適にはメチル、エチルであるか、或は B)U=[(CH2)nSiYgR3-g]でg=1−3、そしてY=O
R’またはOH、R’=C1−C8アルキル、好適にはメ
チル、エチルであるか、或は C)U=[(CH2)nSiR3-g[(CH2)nSiY3-hRh]gでh=1−
3、g=1−3、そしてY=OR’またはOH、R’=
C1−C8アルキル、好適にはメチル、エチルである]で
表される多官能の環状オルガノシロキサン類を製造する
方法も提供し、ここでは、式(II)
=C1−C8アルキルおよび/またはC6−C14アリー
ル、好適にはC1−C2アルキル、ここで、各Rは分子内
で互いに同じか或は異なっていてもよく、好適には同じ
であり、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)Z=C2H3、そしてq=2−10、好適には2−
5、特に好適には2であるか、或は B)Z=SiR3-b(CnH2n-1)bでb=1−3、ここで、各b
は分子内で他の各bと同じか或は異なっていてもよく、
好適には同じであり、n=2−10、好適には2−5、
特に好適には2であり、そしてq=4−12、好適には
4−6であるか、或は C)Z=SiR3-b[(CH2)nSiR3-b(CnH2n-1)b]bでb=1−
3、ここで、各bは分子内で他の各bと同じか或は異な
っていてもよく、好適には同じであり、n=2−10、
好適には2−5、特に好適には2であり、そしてq=4
−12、好適には4−6である]で表される環状オルガ
ノシロキサン類と式(III) HSiTfR3-f (III) [式中、f=1−3、T=ハロゲン]で表されるヒドリ
ドシラン類を不均一触媒の存在下で反応させた後、水を
用いて加水分解を受けさせるか或はアルコールを用いて
アルコール分解を受けさせる。
体材料に付着させた白金または白金化合物である。支持
体材料の例として、炭素を基とする材料または金属酸化
物もしくは酸化物混合物を挙げることができる。この支
持体材料は合成材料か或は天然源のものであってもよ
い、即ちこれらは例えば粘土材料、軽石、カオリン、漂
布土、ボーキサイト、ベントナイト、ケイソウ土、アス
ベストまたはゼオライトなどから成っていてもよい。本
発明の好適な態様では、触媒活性成分を炭質支持体、例
えば活性炭、カーボンブラック、グラファイトまたはコ
ークスなどに付着させる。これに関連して活性炭が特に
好適である。
ことに加えて、例えば球形、円柱形、棒状、中空円柱形
または環などの形状形態で使用可能である。
は、適切な支持体に付着させた触媒である。この触媒の
反応性成分は、これが反応性を示す状態の時、好適に
は、ハロゲン化白金またはハロゲン化白金を含有する錯
体化合物(これは更に例えばオレフィン類、アミン類、
ホスフィン類、ニトリル類、一酸化炭素または水などを
含んでいてもよい)、例えばA2Pt(Hal)6[ここ
で、Aは例えばH、Li、Na、K、NH4、Rb、C
s、NR4などを表し、ここで、NR4中のRは有機残基
であるC6からC10アリール、C7からC12アラルキルお
よび/またはC1からC20アルキル残基であり、そして
Halは、ハロゲン、例えばF、Cl、BrまたはIな
どを表す]などである。このようなハロゲン含有白金錯
体化合物は本技術分野で公知である。
法で用いる触媒をインサイチューで生じさせる。この目
的で、ハロゲンを含まない適切な白金金属化合物とハロ
ゲン化物を含有する化合物から製造している間に、イン
サイチューで、ハロゲン化白金またはハロゲン化白金含
有錯体化合物を支持体上に生じさせる。ハロゲンを含ま
ない使用可能な白金金属化合物は、例えば白金の硝酸
塩、酸化物、水酸化物、アセチルアセトン塩、そして本
分野の技術者に知られている他のものである。使用可能
なハロゲン化物含有化合物は、元素周期律系(Mend
eleyev)の主要族1から3および亜族1から8の
元素に加えて希土類金属(原子番号58−71)とハロ
ゲンを含有する塩および錯体化合物である。その例は、
NaBr、NaCl、MgBr2、AlCl3、NaPF
6、MnCl2、CoBr2、CeCl3、SmI2、Cu
Cl2、Na2ZnCl4、TiCl4である。
含有錯体化合物の量は、反応性を示す状態において、こ
の触媒の全重量を基準にした金属白金として計算して好
適には0.01から15重量%、特に好適には0.05
から10重量%である。
切な挙げることができる溶媒は、例えば水、脂肪族炭化
水素、例えばペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン
など、ハロゲン化脂肪族炭化水素、例えばジクロロメタ
ン、トリクロロメタンなど、芳香族炭化水素、例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレンなど、ハロゲン化芳香族炭
化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼンな
ど、第一、第二または第三アルコール類、例えばメタノ
ール、エタノール、n−プロパノール、イソ−プロパノ
ール、n−ブタノール、イソ−ブタノール、t−ブタノ
ール、クミルアルコール、イソ−アミルアルコール、ジ
エチレングリコールなど、ケトン類、例えばアセトン、
2−ブタノン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセ
トンなど、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、メチルt−ブチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフランなど、エステル類、例えば
酢酸メチル、酢酸エチルなど、ニトリル類、例えばアセ
トニトリル、ベンゾニトリルなど、カーボネート類、例
えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ
フェニルカーボネートなど、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドンおよびテトラメチル尿素などであ
る。また、上記溶媒の混合物も勿論使用可能である。
野の技術者に知られている方法を用いる。従って、浸
漬、吸着、液侵、噴霧、含浸およびイオン交換により、
白金と上記ハロゲン化物含有化合物が入っている溶液を
本発明に従って用いる触媒支持体に付着させてもよい。
また、白金と上記ハロゲン化物含有化合物を支持体に付
着させる場合、塩基を用いることも可能である。考えら
れ得る塩基は、例えばNaOH、Li2CO3およびカリ
ウムフェノラートなどである。望まれる何らかの順およ
び同時の両方で、白金とハロゲン化物含有化合物を支持
体に付着させることができる。
を付着させる場合、浸漬時間は、使用する白金化合物、
使用する支持体の形状および間隙率、および溶媒に若干
依存する。この時間は一般に数分から数時間の範囲であ
り、好適には0.01から30時間、特に好適には0.
05から20時間、非常に特に好適には0.1から15
時間である。
かしながら、任意に使用する何らかの形状が撹拌機で損
傷を受けないようにまた上記混合物を放置するか或はそ
れを振とうすることも有利であり得る。
などで支持触媒を分離することができる。ここでは、例
えば蒸留などで過剰量の溶媒を除去してもよい。
燥させる。空気中でか、真空下でか、或は気体流中で乾
燥を進行させることができる。この支持触媒を気体流中
で乾燥させる場合に用いるに好適な気体は、例えば窒
素、酸素、二酸化炭素または貴ガスなどに加えて、上記
気体いずれかの所望混合物、好適には例えば空気であ
る。好適には20から200℃、特に好適には40から
180℃、非常に特に好適には60から150℃で乾燥
を進行させる。
率および使用する溶媒などに依存する。この時間は好適
には0.5から50時間、特に好適には1から40時
間、非常に特に好適には1から30時間の範囲である。
受けさせてもよい。空気中でか、真空下でか、或は気体
流中で焼成を進行させることができる。この支持触媒の
焼成を気体流中で行う場合に用いるに好適な気体は、例
えば窒素、酸素、二酸化炭素または貴ガスなどに加え
て、上記気体いずれかの所望混合物、好適には例えば空
気である。好適には100から800℃、特に好適には
100から700℃、非常に特に好適には100から6
00℃で焼成を進行させる。
間、特に好適には1から40時間、非常に特に好適には
1から30時間の範囲である。
柱形、棒状、中空円柱形または環などの形状形態で使用
可能であり、そしてこれらは例えば濾過、沈降または遠
心分離などで反応混合物から分離可能である。
ば、メチルビニルジクロロシランに通常の加水分解を受
けさせた後それの分別を行う方法などで入手可能であ
る。
ganometallics 1994、13、268
2に記述されているように、式(II)A)で表される
化合物から出発してこれらをヒドリドシラン類、例えば
HSiCl3、HSiCl2MeまたはHSiClMe2
などでヒドロシリル化することを通して合成可能であ
る。次に、上記反応生成物を更に例えばアルケニルマグ
ネシウムハライド類などと反応させて化合物(II)
B)を得る。同様な様式で、(II)B)を用いて出発
して化合物(II)C)を得る。
ポリシロキサン組成物における架橋剤としてそして表面
被覆用組成物の製造または改質で本発明に従う多官能の
環状オルガノシロキサン類を用いることも提供する。
るが、これに限定するものでない。
空下、気体入り口、バブルカウンター(bubble
counter)を伴うジャケット付きのコイルコンデ
ンサおよび機械的撹拌機を取り付けた多口フラスコから
成る反応装置内で実施した。特に明記しない限り、使用
する溶媒全部を使用前に通常の実験室方法で乾燥させ、
そして窒素下、蒸留形態で用いる。市販遊離体、例えば
クロロジメチルシランおよびシクロ(テトラ(メチルビ
ニルシロキサン))などの場合、さらなる精製を行うこ
となくこれらを用いた。
H−NMRスペクトルを記録した。
1活性炭[比表面積1400m2/gで粒子サイズ75
μm(10−20%)]を49.5g懸濁させた後、元
素状金属として計算してPtを0.5g含有するH2P
tCl6水溶液200mLと一緒にした。この混合物を
10分間撹拌した後、この触媒をブフナー漏斗で濾別し
た。この湿っている粗生成物(153g)を0.1 P
a下110℃で乾燥させた後、アルゴン下で貯蔵した。
この得た触媒(触媒Cat I)はPtを触媒の1重量
%の量で含有していた。
I) 金属として計算してPtを0.5g含有するH2PtC
l6水溶液33.9mLに、Norit ROX(商
標)0.8活性炭[比表面積1000m2/gで平均粒
子サイズ0.8mm]の押出し加工形状物を49.5g
(114.6mL)浸漬した。この粗生成物を最初に1
10℃の窒素流中で乾燥させ、次に0.1Pa下110
℃で乾燥させた後、窒素下で貯蔵した。この触媒はPt
を1%含有していた。
I) 金属として計算してPtを0.5g含有するH2PtC
l6水溶液を132mL用いて比表面積が180m2/g
のSiO2(Merck 657(商標))(49.5
g)を処理することでペースト状にした。この湿ってい
る粗生成物を最初に110℃の乾燥キャビネット内で乾
燥させ、次に0.1 Pa下110℃で乾燥させた後、
アルゴン下で貯蔵した。この触媒はPtを触媒の1重量
%の量で含有していた。
V) 金属として計算してPtを0.5g含有するH2PtC
l6水溶液を40mL用いて比表面積が250m2/gの
γ−Al2O3(Rhoene−Poulenc、SPH
509(商標))(49.5g)を処理することでペ
ースト状にした。この湿っている粗生成物を最初に11
0℃の乾燥キャビネット内で乾燥させ、次に0.1 P
a下110℃で乾燥させた後、アルゴン下で貯蔵した。
この触媒はPtを触媒の1重量%の量で含有していた。
PtCl6水溶液を70mL用いて比表面積が330m2
/gのTiO2(バイエル(Bayer)PK5 58
5(商標))(49.5g)を処理することでペースト
状にした。この湿っている粗生成物を最初に110℃の
乾燥キャビネット内で乾燥させ、次に0.1 Pa下1
10℃で乾燥させた後、アルゴン下で貯蔵した。この触
媒はPtを触媒の1重量%の量で含有していた。
ル)で触媒Cat Iが800mgの混合物を120m
LのTHFに入れて撹拌しながらこれにクロロジメチル
シランを69g(726.7ミリモル)加えた。この反
応混合物を50℃に加熱して、この温度に2時間置いた
後でも、熱の発生は全く観察されなかった。55から6
0℃で更に20時間後、この混合物を室温に冷却し、そ
して逆焼結フィルターに通して触媒を濾別した。この無
色透明な濾液から揮発性成分を真空下で除去することで
生成物を無色油状物として得、これの実験式はC20H52Cl
4Si8O4であることを確認した。
3H,O2Si(CH3 )(CH2)2Si(CH3)2C
l);0.39ppm(s,6H,Si(CH3)2C
l);0.51ppmおよび0.74ppm(m,各場合
とも2H,Si(CH2)2Si)。
リエチルアミンと12.1mL(12.1g、672.
2ミリモル)の水と2850mLのt−ブチルメチルエ
ーテルから成る混合物に、撹拌しながら1時間かけて、
100mLのジエチルエーテルに入れた105g(14
5.5ミリモル)のシクロ{SiO(CH3)[(CH2)2SiCl(CH3)
2]}4を滴下した。滴下が終了した時点で、撹拌を更に1
時間継続した後、塩酸トリエチルアミン沈澱物を濾別し
た。次に、ロータリーエバポレーターを用いて揮発性成
分を真空下で除去し、油状残渣を少量のTHFに再溶解
させた後、シリカゲルに通して濾過した。全ての揮発性
成分を真空下で再び除去した時点で、生成物を粘性油状
物として得た。
当)。
(s,9H,SiCH3);0.42ppm(m,4H,
SiCH2);5.27ppm(s,1H,SiOH)。
2g(0.1モル)に、ゆっくりと撹拌しながら1時間
かけて、エタノールを36g入れた。添加が終了した時
点で、この混合物を250ミリバールの圧力下で1時間
還流させた。次に、この試験物を100℃/250ミリ
バールに条件付けした後、中和した。この混合物を室温
で1時間撹拌し、沈澱物を濾別した後、100℃/20
ミリバールに条件付けした。この生成物は無色液体の形
態を取った。
相当)。
ρ(23℃)=0.960g/cm3 実施例9 シクロ−{SiOMe[CH2CH2SiMe2(OMe)]}4の合成 撹拌機と内部冷却装置を取り付けた1リットルのフラス
コに、実施例6に記述した如く製造したシクロ−[SiOMe
(CH2CH2SiMe2Cl)]4を100gおよびt−ブチルメチル
エーテルを200g入れた。この撹拌している溶液に1
時間25分間かけてメタノールを40g加えた。この添
加過程が終了した後、250ミリバールの圧力下40℃
の温度で撹拌を30分間継続した。この混合物を室温に
冷却した。この混合物が試験でアルカリ性を示すまで、
上記溶液にアンモニアガスを大気圧下でバブリングし
た。NH4Cl沈澱物を濾別した後、その濾液を減圧下
で温度が80℃になるまで蒸留した。
す透明な液体)。
9H,OSiCH3 −CH2CH2Si(CH3 )2(OC
H3);δ=0.42ppm(m,4H,OSiCH3−
CH2 CH2 Si(CH3 )2(OCH3));δ=3.4p
pm(m,3H,OSiCH3−CH2CH2nSi(CH
3)2(OCH3 ))。
機ハイブリッド材料の形成および被膜としての使用 4.25g(6.02ミリモル)のシクロ−[SiOMe((CH
2)2Si(OMe)Me2)]4、7.5g(8.1mL;36.1ミ
リモル)のテトラエチルオルトシリケート、10mLの
エタノールおよび1.5gの0.1 N HClを混合
した後、20時間撹拌した。次に、フィルム流し込み用
フレームを用いて、無色透明なコーティング溶液をガラ
スプレート上に流し込んだ(湿った状態のフィルム厚1
20μm)。この被膜を室温で約10分間乾燥させた
後、160℃のオーブン内で15分間硬化させた。室温
に冷却した後、亀裂がなくて均質で透明なフィルムが得
られた。
ある。
C1−C8アルキルまたはC6−C14アリール、ここで、
各nおよび各Rは分子内で他の各nまたはRと同じか或
は異なっていてもよく、そして残りの残基が下記の意味
を有する: A)X=ハロゲンでa=1−3であるか、或はX=O
R’またはOHでa=1−2であり、そしてR’がC1
−C8アルキルの意味を有するか、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]、a=1−3およびb=1−
3、そしてY=ハロゲン、OR’またはOHであり、そ
してR’がC1−C8−アルキルの意味を有するか、或は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYcR3-c]b]、a=1−
3およびb=1−3およびc=1−3、そしてY=ハロ
ゲン、OR’またはOHであり、そしてR’がC1−C8
−アルキルの意味を有する]で表される多官能の環状オ
ルガノシロキサン類。
R’、R’=メチルまたはエチル、そしてa=1である
第1項記載の多官能の環状オルガノシロキサン類。
C1−C8アルキルまたはC6−C14アリール、ここで、
個々の各a、nおよびRは分子内で他の個々の各a、n
およびRと同じか或は異なっていてもよく、そして残り
の残基が下記の意味を有する: A)X=ハロゲンまたはOR’であり、そしてR’がC
1−C8アルキルの意味を有するか、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]でb=1−3、Y=ハロゲン
またはOR’であり、ここで、R’=C1−C8−アルキ
ルであるか、或は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYcR3-c]b]でb=1−
3、Y=ハロゲンまたはOR’であり、ここで、R’=
C1−C8−アルキルである]で表される多官能の環状オ
ルガノシロキサン類を製造する方法であって、式(I
I)
ルまたはC6−C14アリール、ここで、個々の各Rは分
子内で他の個々の各Rと同じか或は異なっていてもよ
く、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)Z=C2H3でq=2−10であるか、或は B)Z=SiR3-e(CnH2n-1)eでe=1−3およびn=2−
10、ここで、個々の各eは分子内で他の個々の各eと
同じか或は異なっていてもよく、そしてq=4−12で
あるか、或は C)Z=SiR3-e[(CH2)nSiR3-e(CnH2n-1)e]eでe=1−
3、ここで、個々の各eは分子内で他の個々の各eと同
じか或は異なっていてもよく、q=4−12、およびn
=2−10ある]で表される環状オルガノシロキサン類
と式(III) HSiTfR3-f (III) [式中、f=1−3、T=ハロゲンまたはOR’、そし
てR’=C1−C8アルキルまたはC6−C14アリール、
ここで、個々の各R’は他の個々の各R’と同じか或は
異なっていてもよい]で表されるヒドリドシラン類を不
均一触媒の存在下で反応させることによる方法。
クロ(テトラ(メチルビニルシロキサン))を用いそし
て該ヒドリドシランとしてHSiCl3、HSiCl2M
eまたはHSiClMe2を用いる第3項記載の方法。
−10、R=C1−C8アルキルまたはC6−C14アリー
ル、ここで、個々の各a、nおよびRは分子内で他の個
々の各a、nおよびRと同じか或は異なっていてもよ
く、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)U=OR’またはOHでR’=C1−C8アルキルで
あるか、或は B)U=[(CH2)nSiYgR3-g]でg=1−3、そしてY=O
R’またはOHでR’=C1−C8アルキルであるか、或
は C)U=[(CH2)nSiR3-g[(CH2)nSiYhR3-h]g]でh=1−
3、g=1−3Y=OR’またはOHでR’=C1−C8
アルキルである]で表される多官能の環状オルガノシロ
キサン類を製造する方法であって、式(II)
ルまたはC6−C14アリール、ここで、個々の各Rは分
子内で他の個々の各Rと同じか或は異なっていてもよ
く、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)Z=C2H3でq=2−10であるか、或は B)Z=SiR3-b(CnH2n-1)bでb=1−3、ここで、個々
の各bは分子内で他の個々の各bと同じか或は異なって
いてもよく、q=4−12およびn=2−10である
か、或は C)Z=SiR3-b[(CH2)nSiR3-b(CnH2n-1)b]bでb=1−
3、ここで、個々の各bは分子内で他の個々の各bと同
じか或は異なっていてもよく、q=4−12、およびn
=2−10である]で表される環状オルガノシロキサン
類と式(III) HSiTfR3-f (III) [式中、f=1−3、T=ハロゲン]で表されるヒドリ
ドシラン類を不均一触媒の存在下で反応させた後、水を
用いて加水分解を受けさせるか或はアルコールを用いて
アルコール分解を受けさせる方法。
ての白金または白金化合物を支持体材料としての炭素に
支持させた触媒である第3項記載の方法。
せたヘキサクロロ白金酸を用いる第3項記載の方法。
せる第3項記載の方法。
合で架橋させる方法であって、第1項の環状オルガノシ
ロキサンを架橋剤として用いて上記オルガノポリシロキ
サン組成物を架橋させることを含む方法。
オルガノシロキサンであって、上記オルガノシロキサン
がシクロ-{SiO(CH3)[(CH2)2Si(OEt)2(CH3)]}4、シクロ-
{SiO(CH3)[(CH2)2Si(OH)(CH3)2]}4またはシクロ-{OSi(C
H3)[(CH2)2Si(OMe)(CH3)2]}4である多官能の環状オルガ
ノシロキサン。
Claims (5)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 [式中、m=3−6、n=2−10、R=C1−C8アル
キルまたはC6−C14アリール、ここで、各nおよび各
Rは分子内で他の各nまたはRと同じか或は異なってい
てもよく、そして残りの残基が下記の意味を有する: A)X=ハロゲンでa=1−3であるか、或はX=O
R’またはOHでa=1−2であり、そしてR’がC1
−C8アルキルの意味を有するか、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]、a=1−3およびb=1−
3、そしてY=ハロゲン、OR’またはOHであり、そ
してR’がC1−C8−アルキルの意味を有するか、或は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYcR3-c]b]、a=1−
3およびb=1−3およびc=1−3、そしてY=ハロ
ゲン、OR’またはOHであり、そしてR’がC1−C8
−アルキルの意味を有する]で表される多官能の環状オ
ルガノシロキサン類。 - 【請求項2】 式(Ia) 【化2】 [式中、m=3−6、n=2−10、R=C1−C8アル
キルまたはC6−C14アリール、ここで、個々の各a、
nおよびRは分子内で他の個々の各a、nおよびRと同
じか或は異なっていてもよく、そして残りの残基が下記
の意味を有する: A)X=ハロゲンまたはOR’であり、そしてR’がC
1−C8アルキルの意味を有するか、或は B)X=[(CH2)nSiYbR3-b]でb=1−3、Y=ハロゲン
またはOR’であり、ここで、R’=C1−C8−アルキ
ルであるか、或は C)X=[(CH2)nSiR3-b[(CH2)nSiYcR3-c]b]でb=1−
3、Y=ハロゲンまたはOR’であり、ここで、R’=
C1−C8−アルキルである]で表される多官能の環状オ
ルガノシロキサン類を製造する方法であって、式(I
I) 【化3】 [式中、m=3−6、R=C1−C8アルキルまたはC6
−C14アリール、ここで、個々の各Rは分子内で他の個
々の各Rと同じか或は異なっていてもよく、そして残り
の残基が下記の意味を有する: A)Z=C2H3でq=2−10であるか、或は B)Z=SiR3-e(CnH2n-1)eでe=1−3およびn=2−
10、ここで、個々の各eは分子内で他の個々の各eと
同じか或は異なっていてもよく、そしてq=4−12で
あるか、或は C)Z=SiR3-e[(CH2)nSiR3-e(CnH2n-1)e]eでe=1−
3、ここで、個々の各eは分子内で他の個々の各eと同
じか或は異なっていてもよく、q=4−12、およびn
=2−10ある]で表される環状オルガノシロキサン類
と式(III) HSiTfR3-f (III) [式中、f=1−3、T=ハロゲンまたはOR’、そし
てR’=C1−C8アルキルまたはC6−C14アリール、
ここで、個々の各R’は他の個々の各R’と同じか或は
異なっていてもよい]で表されるヒドリドシラン類を不
均一触媒の存在下で反応させることによる方法。 - 【請求項3】 式(Ib) 【化4】 [式中、m=3−6、a=1−3、n=2−10、R=
C1−C8アルキルまたはC6−C1 4アリール、ここで、
個々の各a、nおよびRは分子内で他の個々の各a、n
およびRと同じか或は異なっていてもよく、そして残り
の残基が下記の意味を有する: A)U=OR’またはOHでR’=C1−C8アルキルで
あるか、或は B)U=[(CH2)nSiYgR3-g]でg=1−3、そしてY=O
R’またはOHでR’=C1−C8アルキルであるか、或
は C)U=[(CH2)nSiR3-g[(CH2)nSiYhR3-h]g]でh=1−
3、g=1−3 Y=OR’またはOHでR’=C1−C8アルキルであ
る]で表される多官能の環状オルガノシロキサン類を製
造する方法であって、式(II) 【化5】 [式中、m=3−6、R=C1−C8アルキルまたはC6
−C14アリール、ここで、個々の各Rは分子内で他の個
々の各Rと同じか或は異なっていてもよく、そして残り
の残基が下記の意味を有する: A)Z=C2H3でq=2−10であるか、或は B)Z=SiR3-b(CnH2n-1)bでb=1−3、ここで、個々
の各bは分子内で他の個々の各bと同じか或は異なって
いてもよく、q=4−12およびn=2−10である
か、或は C)Z=SiR3-b[(CH2)nSiR3-b(CnH2n-1)b]bでb=1−
3、ここで、個々の各bは分子内で他の個々の各bと同
じか或は異なっていてもよく、q=4−12、およびn
=2−10である]で表される環状オルガノシロキサン
類と式(III) HSiTfR3-f (III) [式中、f=1−3、T=ハロゲン]で表されるヒドリ
ドシラン類を不均一触媒の存在下で反応させた後、水を
用いて加水分解を受けさせるか或はアルコールを用いて
アルコール分解を受けさせる方法。 - 【請求項4】 オルガノポリシロキサン組成物を縮合で
架橋させる方法であって、請求項1の環状オルガノシロ
キサンを架橋剤として用いて上記オルガノポリシロキサ
ン組成物を架橋させることを含む方法。 - 【請求項5】 式(I)で表される多官能の環状オルガ
ノシロキサンであって、上記オルガノシロキサンがシク
ロ-{SiO(CH3)[(CH2)2Si(OEt)2(CH3)]}4、シクロ-{SiO(C
H3)[(CH2)2Si(OH)(CH3)2]}4またはシクロ-{OSi(CH3)[(C
H2)2Si(OMe)(CH3)2]}4である多官能の環状オルガノシロ
キサン。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19603241A DE19603241C1 (de) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | Multifunktionelle, cyclische Organosiloxane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE19603241.5 | 1996-01-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09208591A true JPH09208591A (ja) | 1997-08-12 |
JP4224140B2 JP4224140B2 (ja) | 2009-02-12 |
Family
ID=7784025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02849297A Expired - Fee Related JP4224140B2 (ja) | 1996-01-30 | 1997-01-28 | 多官能の環状オルガノシロキサン類、それらの製造方法およびそれらの使用 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (2) | EP1207163A3 (ja) |
JP (1) | JP4224140B2 (ja) |
CN (1) | CN1067399C (ja) |
DE (2) | DE19603241C1 (ja) |
TW (1) | TW399058B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001525833A (ja) * | 1997-05-23 | 2001-12-11 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 有機シラン−オリゴマー |
JP2002348476A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
WO2005030874A1 (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-07 | Ge Toshiba Silicones Co., Ltd. | 熱伝導性シリコーン組成物 |
KR100854904B1 (ko) * | 2001-01-24 | 2008-08-28 | 바이엘 악티엔게젤샤프트 | 중합체 기재 및 중합체 기재의 제조 방법 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19824187A1 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-02 | Bayer Ag | Suspensionen, ein Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE19935326A1 (de) * | 1999-07-28 | 2001-02-01 | Bayer Ag | Verwendung selbstorganisierender Beschichtungen auf Basis fluorfreier polyfunktioneller Organosilane zur Herstellung ultrahydrophober Beschichtungen |
ATE283304T1 (de) * | 1999-08-20 | 2004-12-15 | Bayer Materialscience Ag | Anorganische beschichtungszusammensetzung, ein verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung |
DE10031764A1 (de) * | 2000-06-29 | 2002-01-10 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Sol- Gel-Kompositionen mit verringertem Lösungsmittelgehalt und verbesserter Lagerstabilität und deren Verwendung |
DE10162443A1 (de) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von dielektrischen Schichten unter Verwendung multifunktioneller Carbosilane |
DE10217202A1 (de) * | 2002-04-18 | 2003-11-06 | Bayer Ag | Anti-Haft-Beschichtungen für Reaktoren |
DE102004059375A1 (de) | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Auf nanoskaligem Titandioxid geträgerte Platin-Katalysatoren, deren Verwendung in der Hydrosilylierung, ein Hydrosilylierungsverfahren mit solchen Katalysatoren und Zusammensetzungen enthaltend solche Katalysatoren |
CN103450249B (zh) * | 2013-08-12 | 2016-09-14 | 东至绿洲环保化工有限公司 | 甲基环硅氧烷的精制方法 |
WO2017087241A1 (en) | 2015-11-19 | 2017-05-26 | Milliken & Company | Cyclic siloxane compounds and compositions comprising the same |
US10155839B2 (en) | 2015-11-19 | 2018-12-18 | Milliken & Company | Adduct of an amine and a cyclic siloxane compound |
CN105622664A (zh) * | 2016-03-01 | 2016-06-01 | 江苏赛菲新材料有限公司 | 一种环聚硅烷的环保型制备方法 |
CN109836580A (zh) * | 2017-10-12 | 2019-06-04 | 弗洛里光电材料(苏州)有限公司 | 含四个硅氢键的硅氧烷环氧化物与其应用 |
US11655369B2 (en) | 2020-10-28 | 2023-05-23 | Dow Silicones Corporation | Trialkoxy functional branched siloxane compositions |
CN115678016A (zh) * | 2022-11-01 | 2023-02-03 | 江西贝特利新材料有限公司 | 一种利用苯基含氢硅油副产物合成甲基苯基乙烯基硅油的方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE786221A (fr) * | 1971-07-15 | 1973-01-15 | Dow Corning Ltd | Copolymeres sequences organiques de siloxane et leur procede d'obtention |
JPS61127733A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Toray Silicone Co Ltd | 新規なオルガノポリシロキサン化合物 |
US4689085A (en) * | 1986-06-30 | 1987-08-25 | Dow Corning Corporation | Coupling agent compositions |
JP2895602B2 (ja) * | 1989-12-27 | 1999-05-24 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 液体クロマトグラフィー用充填剤 |
DE4022661A1 (de) | 1990-07-17 | 1992-01-23 | Bayer Ag | Verfahren zur hertellung von poly(diorganosiloxanen) mit alkoxyendgruppen |
US5153332A (en) * | 1990-09-13 | 1992-10-06 | Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. | Organocyclosiloxane and method for its preparation |
US5378790A (en) | 1992-09-16 | 1995-01-03 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Single component inorganic/organic network materials and precursors thereof |
JP2826939B2 (ja) * | 1993-05-28 | 1998-11-18 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | ジオルガノポリシロキサンの製造方法 |
US5359109A (en) | 1993-06-16 | 1994-10-25 | Osi Specialties, Inc. | Surface-active siloxane coating compounds and their use in coatings |
-
1996
- 1996-01-30 DE DE19603241A patent/DE19603241C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-17 EP EP02004369A patent/EP1207163A3/de not_active Withdrawn
- 1997-01-17 EP EP97100727A patent/EP0787734B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-17 DE DE59708463T patent/DE59708463D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-24 TW TW086100750A patent/TW399058B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-01-28 JP JP02849297A patent/JP4224140B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-01-30 CN CN97102510A patent/CN1067399C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001525833A (ja) * | 1997-05-23 | 2001-12-11 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 有機シラン−オリゴマー |
KR100854904B1 (ko) * | 2001-01-24 | 2008-08-28 | 바이엘 악티엔게젤샤프트 | 중합체 기재 및 중합체 기재의 제조 방법 |
JP2002348476A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Ge Toshiba Silicones Co Ltd | 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物 |
WO2005030874A1 (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-07 | Ge Toshiba Silicones Co., Ltd. | 熱伝導性シリコーン組成物 |
JPWO2005030874A1 (ja) * | 2003-09-29 | 2006-12-07 | ジーイー東芝シリコーン株式会社 | 熱伝導性シリコーン組成物 |
US7692032B2 (en) | 2003-09-29 | 2010-04-06 | Momentive Performance Materials Japan Llc | Thermal conductive silicone composition |
JP4745058B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2011-08-10 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 熱伝導性シリコーン組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0787734B1 (de) | 2002-10-16 |
DE19603241C1 (de) | 1997-07-10 |
CN1161969A (zh) | 1997-10-15 |
JP4224140B2 (ja) | 2009-02-12 |
DE59708463D1 (de) | 2002-11-21 |
EP1207163A2 (de) | 2002-05-22 |
EP1207163A3 (de) | 2004-01-02 |
EP0787734A1 (de) | 1997-08-06 |
CN1067399C (zh) | 2001-06-20 |
TW399058B (en) | 2000-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6005131A (en) | Multi-functional, cyclic organosiloxanes, process for the production thereof and use thereof | |
JP4224140B2 (ja) | 多官能の環状オルガノシロキサン類、それらの製造方法およびそれらの使用 | |
US5677410A (en) | Carbosilane-dendrimers, carbosilane-hybrid materials, methods for manufacturing them and a method for manufacturing coatings from the carbosilane-dendrimers | |
US4719273A (en) | Method for forming new preceramic polymers containing silicon | |
CN107108663B (zh) | 使用衍生自锗烯的有机催化剂的氢化硅烷化方法 | |
US7442666B2 (en) | Catalytic system for the dehydrogenative condensation of polyorganosiloxanes with alcohols and a process for preparing organically modified polyorganosiloxanes | |
JPS6157593A (ja) | 白金(0)アルキン錯体の製造方法 | |
JPH0718077A (ja) | カルビノール・官能シロキサンの製造法 | |
JPS6115887A (ja) | 有機珪素化合物、その製造方法及び使用方法 | |
JP4141547B2 (ja) | エポキシ基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
GB2173197A (en) | Method for making silylaroylhalides and reaction products | |
JP4172291B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
DE19603242A1 (de) | Funktionelle Carbosilan-Dendrimere, organisch-anorganische Carbosilan-Hybridmaterialien, jeweils Verfahren zu deren Herstellung, ein Verfahren zur Herstellung von Lacken aus den fuktionellen Carbosilan-Dendrimeren und deren Verwendung | |
JP3580403B2 (ja) | 環状オリゴシロキサンの製造方法 | |
JP3543400B2 (ja) | オルガノシラノール類の製造方法 | |
EP0423686A2 (en) | Silacyclobutanes and process for preparation | |
JPH09100352A (ja) | ポリシロキサン及びその製造方法 | |
JPH0493326A (ja) | アルコキシ官能性オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JPH04268333A (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
US3641089A (en) | Siloxazanes compositions and processes thereof | |
US3576022A (en) | Organosilicon compounds | |
JP2585099B2 (ja) | α,ω―ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンの製造法 | |
JP2558164B2 (ja) | 新規な環状オルガノポリシロキサン及びその製造法 | |
JPH06107671A (ja) | 有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
US6844394B2 (en) | Polyfunctional carbosiloxanes with linear and cyclic components |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070719 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070731 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071127 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080221 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080226 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080328 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081121 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131128 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |