JPH09202820A - 封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置 - Google Patents

封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置

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JPH09202820A
JPH09202820A JP1125396A JP1125396A JPH09202820A JP H09202820 A JPH09202820 A JP H09202820A JP 1125396 A JP1125396 A JP 1125396A JP 1125396 A JP1125396 A JP 1125396A JP H09202820 A JPH09202820 A JP H09202820A
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JP
Japan
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epoxy resin
curing agent
formula
resin composition
represented
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Application number
JP1125396A
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English (en)
Inventor
Takashi Toyama
貴志 外山
Masayuki Kiyougaku
正之 教学
Tatsuyoshi Wada
辰佳 和田
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エポキシ樹脂、硬化剤、及び、無機質充填剤
を構成材料とする封止用エポキシ樹脂組成物であって、
吸湿率が小さく、吸湿後の半田クラック防止及び耐湿信
頼性の良好な組成物を提供する。 【解決手段】 エポキシ樹脂として、4−4’−ジヒド
ロキシ−テトラメチルビフェニルエポキシ樹脂で例示さ
れる樹脂、及び、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキ
シ樹脂を含有し、且つ、硬化剤として、下式〔3〕、及
び、下式〔4〕で表される硬化剤を共に含む。なお、式
中R5 〜R13は水素又はアルキル基、aは平均値で0か
ら7を示す。 【化1】 【化2】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子部品、半導体素
子等を封止する封止用エポキシ樹脂組成物、及び、その
組成物を用いた半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子部品、半導体素子を物理的、化学的
に保護し、且つ固着するための封止材料として、エポキ
シ樹脂、硬化剤、及び、無機質充填剤を構成材料とする
エポキシ樹脂組成物が知られている。近年、電子部品、
半導体装置の高密度化に伴って、信頼性の向上が求めら
れている。例えば、実装の際に、半田に直接浸漬される
など、急激に高温下にさらされ、さらに長期間保管され
ると、オープン不良(回路断線)が発生し易い事態とな
っている。このため、耐熱性、密着性の向上、特に、吸
湿率の低下、吸湿後の半田クラック防止及び耐湿信頼性
の向上がもとめられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の事実に
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、吸湿
率が小さく、吸湿後の半田クラック防止及び耐湿信頼性
の良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及び、この封止用
エポキシ樹脂組成物を用いた半導体装置を提供すること
にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
封止用エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤、
及び、無機質充填剤を構成材料とする封止用エポキシ樹
脂組成物であって、上記エポキシ樹脂として、下式
〔1〕、及び、下式〔2〕で表されるエポキシ樹脂を共
に含み、且つ、上記硬化剤として、下式〔3〕、及び、
下式〔4〕で表される硬化剤を共に含むことを特徴とす
る。
【0005】
【化5】
【0006】〔式中、R1 〜R4 は水素あるいはアルキ
ル基を示す。〕
【0007】
【化6】
【0008】〔式中、nは平均値が0から5を示す。〕
【0009】
【化7】
【0010】〔式中、R5 は水素あるいはC1 〜C5
アルキル基を示す。〕
【0011】
【化8】
【0012】〔式中、R6 〜R13は水素あるいはアルキ
ル基を示し、aは平均値で0から7を示す。〕 本発明の請求項2に係る封止用エポキシ樹脂組成物は、
請求項1記載の封止用エポキシ樹脂組成物において、上
記〔1〕で表されるエポキシ樹脂の配合量が、エポキシ
樹脂全量に対し25〜75重量%の範囲であることを特
徴とする。
【0013】本発明の請求項3に係る封止用エポキシ樹
脂組成物は、請求項1又は請求項2記載の封止用エポキ
シ樹脂組成物において、上記〔2〕で表されるエポキシ
樹脂の配合量が、エポキシ樹脂全量に対し25〜75重
量%の範囲であることを特徴とする。
【0014】本発明の請求項4に係る封止用エポキシ樹
脂組成物は、請求項1乃至請求項3いずれか記載の封止
用エポキシ樹脂組成物において、上記〔3〕で表される
硬化剤の配合量が、硬化剤全量に対し、25〜75重量
%の範囲であることを特徴とする。
【0015】本発明の請求項5に係る封止用エポキシ樹
脂組成物は、請求項1乃至請求項4いずれか記載の封止
用エポキシ樹脂組成物において、上記〔4〕で表される
硬化剤の配合量が、硬化剤全量に対し、25〜75重量
%の範囲であることを特徴とする。
【0016】本発明の請求項6に係る封止用エポキシ樹
脂組成物は、請求項1乃至請求項5いずれか記載の封止
用エポキシ樹脂組成物において、上記組成物がイオン捕
捉剤を構成材料とすることを特徴とする。
【0017】本発明の請求項7に係る半導体装置は、請
求項1乃至請求項6いずれか記載の封止用エポキシ樹脂
組成物で封止されてなることを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0019】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、エ
ポキシ樹脂、硬化剤、及び、無機質充填剤を構成材料と
する。
【0020】上記エポキシ樹脂としては、前式〔1〕、
及び、前式〔2〕で表されるエポキシ樹脂を必須成分と
する。これらエポキシ樹脂を構成材料とすると、組成物
の硬化物は吸湿率が小さくなり、耐湿信頼性が良好とな
る。エポキシ樹脂の配合量は、エポキシ樹脂全量に対
し、前式〔1〕、及び、前式〔2〕で表されるエポキシ
樹脂の総量が45重量%以上であることが好ましい。さ
らに、前式〔1〕、及び、前式〔2〕で表されるエポキ
シ樹脂の配合量は、エポキシ樹脂全量に対し、前式
〔1〕で表されるエポキシ樹脂は15〜85重量%が好
ましく、より好ましくは25〜75重量%の範囲であ
り、前式〔2〕で表されるエポキシ樹脂も15〜85重
量%が好ましく、より好ましくは25〜75重量%の範
囲である。上記エポキシ樹脂は、前式〔1〕、及び、前
式〔2〕で表されるエポキシ樹脂と共に、例えば、ビス
フェノール型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ト
リフェノールメタン型エポキシ樹脂、難燃性の高いブロ
ム化エポキシ樹脂等を併用することができる。
【0021】上記硬化剤としては、前式〔3〕、及び、
前式〔4〕で表される硬化剤を必須成分とする。上記硬
化剤を構成材料とすると、硬化する際の流動性を良好と
し密着を良くするため、組成物の硬化物は吸湿率が小さ
くなり、耐湿信頼性が良好となる。硬化剤の配合量は、
硬化剤の全量に対し、前式〔3〕、及び、前式〔4〕で
表される硬化剤の総量が50重量%以上であることが好
ましい。さらに、前式〔3〕、及び、前式〔4〕で表さ
れる硬化剤の配合量は、硬化剤の全量に対し、各々とも
15〜85重量%が好ましく、より好ましくは25〜7
5重量%の範囲である。なお、硬化剤に、前式〔3〕、
及び、前式〔4〕で表される硬化剤と共に、他の硬化剤
を併用することができる。他の硬化剤としては、フェノ
ールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、多価
フェノール化合物等の1分子中にフェノール性水酸基を
少なくとも2個以上有するフェノール樹脂硬化剤が挙げ
られる。
【0022】上記エポキシ樹脂に対する硬化剤の配合比
率は、当量比で0.5〜1.5の範囲が好ましく、当量
比で0.8〜1.2の範囲がより好ましい。
【0023】上記無機質充填剤としては、例えば、溶融
シリカ、結晶シリカ、アルミナ、チッ化珪素等が挙げら
れる。これらは単独、あるいは2種以上を併用して使用
される。なかでも、溶融シリカが好ましい。
【0024】上記無機質充填剤は、γ−グルシドキシプ
ロピルメトキシシラン等のエポキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシラ
ン、ビニルシラン、アミノシラン等のカップリング剤で
表面処理を施していると、より耐湿信頼性が向上するの
で、好ましい。
【0025】さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂組成
物はイオン捕捉剤を構成材料とすることが好ましい。上
記イオン捕捉剤を含有していると組成物中に混入するC
-、Na+ 等のイオンを捕捉して、組成物中のイオン
量を減少させるため耐湿性をさらに向上することができ
る。上記イオン捕捉剤としては、下式〔5〕で表せる化
合物が挙げられる。
【0026】
【化9】
【0027】〔式中、v=0〜0.3、w=0.5〜
2.0、x=3.0〜5.0、y=0.4〜2.0、z
=0.1〜0.5、n=1〜2を示す。〕 本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は上記材料以外に、
必要に応じて、硬化促進剤、難燃剤、離型剤、着色剤を
適宜配合する。上記硬化促進剤として、例えば、ジアザ
ビシクロウンデセン、トリフェニルホスフィン、テトラ
フェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、イミ
ダゾール、3級アミン等が挙げられる。上記難燃剤とし
ては三酸化アンチモン等が挙げられ、上記離型剤として
はカルナバワックス等が挙げられ、上記着色剤としては
カーボンブラック等が挙げられる。
【0028】上述の配合成分をミキサ、ブレンダー等を
用いて均一に混合した後に、ニーダー、ロール等を用い
て混練して封止用エポキシ樹脂組成物が得られる。な
お、混練した後に、必要に応じて冷却固化し、粉砕して
粉状としたり、粒状にして用いられる。
【0029】上記封止用エポキシ樹脂組成物を用い、圧
縮成形、トランスファー成形、射出成形等により、半導
体素子を封止し、半導体装置が得られる。
【0030】
【実施例】以下、本発明の実施例と比較例を挙げる。
【0031】エポキシ樹脂に、前式〔1〕で表されるエ
ポキシ樹脂として4,4’− ジヒドロキシ−テトラメ
チルビフェニルエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式
会社製:YX4000H、エポキシ当量192)、前式
〔2〕で表されるエポキシ樹脂としてエポキシ当量25
0のジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂(大日
本インキ化学工業株式会社製:EP7200)、及び、
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学工
業株式会社製:ESCN195XL、エポキシ当量19
5)を用いた。難燃性エポキシ樹脂にブロム化エポキシ
樹脂(住友化学工業株式会社製:ESB400、エポキ
シ当量400)を用いた。
【0032】硬化剤として、水酸基当量140の前式
〔3〕で表される硬化剤(日本化薬株式会社製:カヤハ
ードNHN)、水酸基当量190の前式〔4〕で表され
る硬化剤(大日本インキ化学工業株式会社製:CZ−2
56A)、及び、水酸基当量105のフェノールノボラ
ック樹脂(荒川化学株式会社製:タマノール752)を
用いた。
【0033】無機質充填剤として、カップリング剤であ
るγ−グルシドキシプロピルトリメトキシシランで表面
処理した溶融シリカを用いた。
【0034】さらに、難燃化剤として三酸化アンチモ
ン、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、離型剤
としてカルナバワックス、着色剤としてカーボンブラッ
クを用いた。また、イオン捕捉剤として前式〔5〕で表
せる化合物(東亜合成化学工業株式会社製:IXE−6
33)を用いた。
【0035】(実施例1)溶融シリカ668重量部(以
下部と記す)をカップリング剤4部で表面処理したもの
に、4,4’− ジヒドロキシ−テトラメチルビフェニ
ルエポキシ樹脂を52部、ジシクロペンタジエン骨格含
有エポキシ樹脂52部、ブロム化エポキシ樹脂を14
部、前式〔3〕で表される硬化剤を41部、前式〔4〕
で表される硬化剤を41部、三酸化アンチモンを21
部、トリフェニルホスフィンを1.5部、カルナバワッ
クスを3部、カーボンブラックを2.5部、イオン捕捉
剤を5部ミキサーで均一に混合した。なお、エポキシ樹
脂全量に対し、4,4’− ジヒドロキシ−テトラメチ
ルビフェニルエポキシ樹脂は44重量%、ジシクロペン
タジエン骨格含有エポキシ樹脂は44重量%であった。
硬化剤全量に対し、前式〔3〕で表される硬化剤は50
重量%、前式〔4〕で表される硬化剤は50重量%であ
った。その後、100〜120℃のミキシングロールで
混練した。この混練物を冷却し、粉砕して、封止用エポ
キシ樹脂組成物を得た。
【0036】(実施例2〜7、及び、比較例1〜2)表
1及び表2に示す配合比率で、実施例1と同様に上記材
料を配合し、封止用エポキシ樹脂組成物を得た。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】(評価)得られた実施例1〜7、及び、比
較例1〜2の封止用エポキシ樹脂組成物の吸湿率、吸湿
後の半田クラック性、及び、耐湿信頼性を評価した。
【0040】上記吸湿率は、得られた封止用エポキシ樹
脂組成物を、金型温度175℃、成形圧力50kg/c
2 で成形し、直径50mm、厚さ3mmの円板の試料
を得た。これら試料を、温度85℃、相対湿度85%で
72時間放置した。測定の前後の重量変化から吸湿率を
求めた。
【0041】上記吸湿後の半田クラック性は、得られた
封止用エポキシ樹脂組成物を、トランスファー成形機を
用い、金型温度175℃、成形圧力50kg/cm2
条件で半導体素子を封止成形し、評価用サンプルを得
た。評価用サンプルは、櫛形状のアルミニウム配線回路
をシリコンチップ表面に配設した評価用の半導体素子を
42アロイ製の60QFPリードフレームに搭載したも
のを使って封止成形した、60QFP成形品を用いた。
これらサンプルを、85℃85%相対湿度で72時間吸
湿した後に、250℃の半田槽に10秒間浸漬した。半
田浸漬した後に、実体顕微鏡でクラックの発生の有無を
観察した。60QFP成形品10個中で不良となった個
数を求めた。
【0042】上記耐湿信頼性は、上記吸湿後の半田クラ
ック性の評価と同様に、評価用サンプルを85℃85%
相対湿度で72時間吸湿した後に、250℃の半田槽に
10秒間浸漬し、さらに、PCTで133℃、相対湿度
100%雰囲気に放置し、200時間後、及び、500
時間後に、実装した半導体素子のオープン不良(回路の
断線)の有無を検査した。60QFP成形品10個中で
不良となった個数を求めた。
【0043】結果は表3に示すとおり、実施例1〜7は
いずれも、比較例1〜2に比べ吸湿率は小さく、且つ、
吸湿後の半田クラック性及び耐湿信頼性が向上している
ことが確認できた。
【0044】
【表3】
【0045】
【発明の効果】本発明の請求項1乃至請求項6いずれか
に係る封止用エポキシ樹脂組成物は、上記構成により、
吸湿率は小さく、且つ、吸湿後の半田クラック性及び耐
湿信頼性の良好な半導体装置が得られる。
【0046】本発明の請求項7に係る半導体装置は、上
記封止用エポキシ樹脂組成物を用いるので、吸湿率は小
さく、且つ、吸湿後の半田クラック性及び耐湿信頼性が
良好である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年4月4日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正内容】
【0002】電子部品、半導体素子を物理的、化学的に
保護し、且つ固着するための封止材料として、エポキシ
樹脂、硬化剤、及び、無機質充填剤を構成材料とするエ
ポキシ樹脂組成物が知られている。近年、電子部品、半
導体装置の高密度化に伴って、信頼性の向上が求められ
ている。例えば、実装の際に、保管中に吸湿した半導体
装置が半田に直接浸漬されることにより、この半導体装
置にクラックが発生し、これに起因したオープン不良
(回路断線)が発生し易い事態となっている。このた
め、耐熱性、密着性の向上、特に、吸湿率の低下、吸湿
後の半田クラック防止及び耐湿信頼性の向上がもとめら
れている。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】上記エポキシ樹脂としては、前式〔1〕、
及び、前式〔2〕で表されるエポキシ樹脂を必須成分と
する。これらエポキシ樹脂を構成材料とすると、組成物
の硬化物は吸湿率が小さくなり、半田後の耐湿信頼性が
良好となる。エポキシ樹脂の配合量は、エポキシ樹脂全
量に対し、前式〔1〕、及び、前式〔2〕で表されるエ
ポキシ樹脂の総量が45重量%以上であることが好まし
い。さらに、前式〔1〕、及び、前式〔2〕で表される
エポキシ樹脂の配合量は、エポキシ樹脂全量に対し、前
式〔1〕で表されるエポキシ樹脂は15〜85重量%が
好ましく、より好ましくは25〜75重量%の範囲であ
り、前式〔2〕で表されるエポキシ樹脂も15〜85重
量%が好ましく、より好ましくは25〜75重量%の範
囲である。上記エポキシ樹脂は、前式〔1〕、及び、前
式〔2〕で表されるエポキシ樹脂と共に、例えば、ビス
フェノール型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ト
リフェノールメタン型エポキシ樹脂、難燃性の高いブロ
ム化エポキシ樹脂等を併用することができる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】上記硬化剤としては、前式〔3〕、及び、
前式〔4〕で表される硬化剤を必須成分とする。上記硬
化剤を構成材料とすると、硬化する際の流動性を良好と
し密着を良くするため、組成物の硬化物は吸湿率が小さ
くなり、半田後の耐湿信頼性が良好となる。硬化剤の配
合量は、硬化剤の全量に対し、前式〔3〕、及び、前式
〔4〕で表される硬化剤の総量が50重量%以上である
ことが好ましい。さらに、前式〔3〕、及び、前式
〔4〕で表される硬化剤の配合量は、硬化剤の全量に対
し、各々とも15〜85重量%が好ましく、より好まし
くは25〜75重量%の範囲である。なお、硬化剤に、
前式〔3〕、及び、前式〔4〕で表される硬化剤と共
に、他の硬化剤を併用することができる。他の硬化剤と
しては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラ
ック樹脂、多価フェノール化合物等の1分子中にフェノ
ール性水酸基を少なくとも2個以上有するフェノール樹
脂硬化剤が挙げられる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0032
【補正方法】変更
【補正内容】
【0032】硬化剤として、水酸基当量140の前式
〔3〕で表される硬化剤(日本化薬株式会社製:カヤハ
ードNHN)、水酸基当量190の前式〔4〕で表され
る硬化剤(大日本インキ化学工業株式会社製)、及び、
水酸基当量105のフェノールノボラック樹脂(荒川化
学株式会社製:タマノール752)を用いた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤、及び、無機質充
    填剤を構成材料とする封止用エポキシ樹脂組成物であっ
    て、上記エポキシ樹脂として、下式〔1〕、及び、下式
    〔2〕で表されるエポキシ樹脂を共に含み、且つ、上記
    硬化剤として、下式〔3〕、及び、下式〔4〕で表され
    る硬化剤を共に含むことを特徴とする封止用エポキシ樹
    脂組成物。 【化1】 〔式中、R1 〜R4 は水素あるいはアルキル基を示
    す。〕 【化2】 〔式中、nは平均値が0から5を示す。〕 【化3】 〔式中、R5 は水素あるいはC1 〜C5 のアルキル基を
    示す。〕 【化4】 〔式中、R6 〜R13は水素あるいはアルキル基を示し、
    aは平均値で0から7を示す。〕
  2. 【請求項2】 上記〔1〕で表されるエポキシ樹脂の配
    合量が、エポキシ樹脂全量に対し25〜75重量%の範
    囲であることを特徴とする請求項1記載の封止用エポキ
    シ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 上記〔2〕で表されるエポキシ樹脂の配
    合量が、エポキシ樹脂全量に対し25〜75重量%の範
    囲であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の
    封止用エポキシ樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 上記〔3〕で表される硬化剤の配合量
    が、硬化剤全量に対し、25〜75重量%の範囲である
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項3いずれか記載の
    封止用エポキシ樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 上記〔4〕で表される硬化剤の配合量
    が、硬化剤全量に対し、25〜75重量%の範囲である
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項4いずれか記載の
    封止用エポキシ樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 上記組成物がイオン捕捉剤を構成材料と
    することを特徴とする請求項1乃至請求項5いずれか記
    載の封止用エポキシ樹脂組成物。
  7. 【請求項7】 請求項1乃至請求項6いずれか記載の封
    止用エポキシ樹脂組成物で封止されてなることを特徴と
    する半導体装置。
JP1125396A 1996-01-25 1996-01-25 封止用エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置 Pending JPH09202820A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008201987A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Matsushita Electric Works Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008201987A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Matsushita Electric Works Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置

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