JPH09186217A - ウエハ搬入搬出装置 - Google Patents

ウエハ搬入搬出装置

Info

Publication number
JPH09186217A
JPH09186217A JP1709196A JP1709196A JPH09186217A JP H09186217 A JPH09186217 A JP H09186217A JP 1709196 A JP1709196 A JP 1709196A JP 1709196 A JP1709196 A JP 1709196A JP H09186217 A JPH09186217 A JP H09186217A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
carrier
light beam
light
relative movement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1709196A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiro Akamatsu
孝弘 赤松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP1709196A priority Critical patent/JPH09186217A/ja
Publication of JPH09186217A publication Critical patent/JPH09186217A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ウエハ搬入搬出装置において、各発光素子の
取付け誤差や経時変化にかかわらず、常に正確なウエハ
の収納姿勢状態を算出できるようにする。 【解決手段】 複数枚のウエハを所定間隔を隔てて平行
に保持するキャリアと、ウエハの搬入搬出手段と、1対
以上の発光素子および受光素子と、キャリアと光ビーム
とを並進的に相対移動させる手段と、キャリアに対する
光ビームの傾きを検出する遮光部材と、遮光部材のエッ
ジを光ビームが相対移動により横切る際の受光素子の出
力に基づいて光ビームの傾きを得るとともに、キャリア
に保持されたウエハを光ビームが相対移動により横切る
際の受光素子の出力および光ビームの傾きからキャリア
に保持されたウエハの姿勢を判断する演算手段とを具備
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
において、ウエハ等の基板を複数収容するキャリアか
ら、基板を一枚ずつ搬出したり搬入するための板状体の
搬送方法およびその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体露光装置や検査装置などの
半導体製造装置において多段のウエハ収納溝を有するウ
エハキャリアにウエハを挿入し、あるいはそこからウエ
ハを取り出すためのウエハ搬入搬出装置として、特開平
5−36812号公報に記載されたものがある。以下に
特開平5−36812号公報に記載されている先願例の
構成を図8および図9を用いて説明する。但し、同図に
おいて、1(A、B、C)はウエハ、2はウエハ1を収
納するキャリア、7はキャリア2を載せるキャリア載置
台、3はウエハ1を搬入搬出するためのハンド、4a,
4bは半導体レーザなどの発光素子、5a,5bはフォ
トセンサなどの受光素子、6a,6b,8a,8bはピ
ンホールである。
【0003】図8および図9に示すように、先願例で
は、キャリア内でウエハが傾いて収納されている場合で
あっても、ウエハを搬入搬出するハンド挿入位置でのウ
エハ間隔を正確に検出し、ウエハを確実に取り出し可能
とするために、キャリアの両側に配置した2対の発光素
子4a,4bおよび受光素子5a,5bからなる光学的
ウエハ検出手段と、該ウエハ検出手段からの出力により
ウエハ1の収納姿勢状態を計算し判断する演算手段とを
設け、前記2対のウエハ検出手段の各発光素子からの光
ビーム方向が基準面に対し異なる角度となるように該検
出手段を配置していた。また、ウエハ1と搬入搬出ハン
ド3との相対距離を測定する必要性から、ウエハ1をキ
ャリア台7に対して水平に置き、キャリア台を上から下
に駆動させた時に光ビーム11a,11bが遮光される
位置よりウエハ1と搬入搬出ハンド3との相対距離を予
め測定していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、前記2対のウエハ検出手段の各発光素子から
の光ビーム11a,11b方向の基準面に対する角度
は、ウエハ検出手段からの出力によりウエハの収納姿勢
状態を計算する演算手段に設定されている角度データと
同じになるように各発光素子4a,4bを正確に取り付
ける必要があった。しかし、取り付け角度誤差をなくす
には困難を要し、さらに経時変化によって各発光素子の
取り付け角度が変化することにより角度誤差が発生する
ことが考えられる。
【0005】すなわち、従来例では図9に示す受光素子
5a,5bの出力より求められる遮光幅、例えば(Aa
2−Aa1)、(Ab2−Ab1)を直接用いてウエハ
の傾き方向を判定していた。2対の光ビームの角度が同
一であると、遮光幅が同じ場合はウエハは水平に置かれ
ていると判断する。しかし、2対の光ビームの角度が異
なっていると、遮光幅が同じでもウエハは傾いている。
したがってウエハの姿勢の判断を誤ってしまう。このよ
うにウエハの収納姿勢状態の計算結果に誤差を生じるこ
とで最悪の場合、ウエハと搬入搬出ハンドとが干渉する
という欠点があった。
【0006】また、各発光素子の取り付け角度誤差を吸
収するため、あらかじめウエハをキャリア載置台7に対
して所定の間隔で水平に置き、キャリア載置台7を上か
ら下に駆動して、各発光素子からの光ビーム11a,1
1bをウエハが遮光する位置からウエハと搬入搬出ハン
ドとの相対位置関係をもとめていた。しかし、光ビーム
の角度に誤差があるため、ウエハの直径が変わるごと
に、この相対位置関係を求め直す必要があるという欠点
があった。
【0007】そこで、本発明の第1の目的は、ウエハ搬
入搬出装置において、各発光素子の取付け誤差や経時変
化にかかわらず、常に正確なウエハの収納姿勢状態を算
出できるようにすることにある。
【0008】また、本発明の第2の目的は、ウエハ搬入
搬出装置において、ウエハの直径が変わっても直径デー
タを設定することにより、再度この相対位置関係を求め
直す必要をなくすことにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明のウエハ搬入搬出装置は、複数枚のウエハを所定
間隔を隔てて平行に保持するキャリアと、このキャリア
に対してウエハを搬入および搬出する搬入搬出手段と、
前記キャリアの一方の側から光ビームを照射してこれを
他方の側から受光する1対以上の発光素子および受光素
子と、前記キャリアと前記光ビームとを並進的に相対移
動させる手段と、前記キャリアに対して位置的に固定さ
れ、前記キャリアに対する前記光ビームの傾きを検出す
るために設けられた遮光部材と、前記遮光部材のエッジ
を前記光ビームが前記相対移動により横切る際の前記受
光素子の出力に基づいて前記光ビームの傾きを得るとと
もに、前記キャリアに保持されたウエハを前記光ビーム
が前記相対移動により横切る際の前記受光素子の出力お
よび前記光ビームの傾きから前記キャリアに保持された
ウエハの姿勢を判断する演算手段とを具備することを特
徴とする。
【0010】また、本発明のウエハ搬入搬出方法は、複
数枚のウエハを所定間隔を隔てて平行に保持するキャリ
アと光ビームとを並進的に相対移動させる工程と、前記
キャリアに対して位置的に固定され、前記キャリアに対
する前記光ビームの傾きを検出するために設けられた遮
光部材のエッジを前記光ビームが前記相対移動により横
切る際に前記光ビームを観察することにより前記遮光部
材の前記キャリアを基準とする位置を検出する工程と、
前記光ビームが各ウエハを前記相対移動により横切る際
に前記光ビームを観察することにより各ウエハの前記キ
ャリアを基準とする位置を検出する工程と、前記遮光部
材の位置に基づいて前記光ビームの傾きを得る工程と、
この光ビームの傾きおよび前記各ウエハの位置に基づい
て各ウエハの姿勢を判断する工程とを具備することを特
徴とする。
【0011】
【作用】この構成において、キャリア内のウエハ収納位
置や姿勢を検出するための光ビームの傾きを得、これを
考慮して各ウエハの位置や姿勢が得られる。したがっ
て、発光素子の取付け位置の誤差や経時変化にかかわら
ず、常に正確な光ビームの傾きに基づいた各ウエハの位
置や姿勢が得られる。これにより、キャリアからウエハ
を搬出する際には、ウエハ搬送ハンドがウエハに対して
最適な位置に挿入される。また、ウエハ搬入搬出手段と
キャリアに正しい姿勢で保持されたウエハとの位置関係
を一度測定して得ておけば、そのウエハと異なるサイズ
のウエハについてのウエハ搬入搬送手段との同様の位置
関係は、これらウエハのサイズと前記光ビームの傾きと
に基づいて、計算により得られる。したがって、ウエハ
のサイズが変わった場合でも、ウエハ搬入搬送手段との
位置関係を測定し直す必要がない。
【0012】
【発明の実施の態様】本発明のより具体的な態様におい
ては、前記遮光部材のエッジは前記光ビーム上の異なる
2点において前記光ビームを横切る2つのエッジ部分を
有し、これらエッジ部分は前記キャリアを載せるキャリ
ア載置台の両端に位置しもしくは十分離れている。ま
た、前記光ビームの傾きを得るために用いられる前記受
光素子の出力は、前記光ビームが遮光される際のもの、
または遮光が解除される際のもののいずれかに統一され
ている。これにより、光ビームの傾きの計測精度が担保
される。
【0013】また、前記演算手段は、前記光ビームが前
記相対移動により前記キャリアに保持されている各ウエ
ハを横切る際の前記受光素子の出力および前記光ビーム
の傾きに基づいて前記各ウエハの前記キャリア上の位置
を得る際、それに先立って毎回前記光ビームの傾きの測
定を行う。これにより、光ビームの傾きの経時変化によ
るウエハ位置の測定誤差が、最小限に抑えられる。
【0014】また、前記演算手段は、前記相対移動によ
り前記光ビームが前記キャリアに保持されているウエハ
によって遮光されている間の前記相対移動の距離を、前
記キャリアの正位置に保持された仮想ウエハによって前
記相対移動により前記光ビームが遮光されている間の前
記相対移動の距離によって正規化した値を用いて、前記
ウエハの姿勢判断を行う。これにより、ウエハの姿勢の
傾き方向が正しく判断される。
【0015】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。
【0016】図1は本発明の特徴を最もよく表す図面で
あり、同図において、1(A、B、C)はウエハ、2は
ウエハ1を収納するキャリア、7はキャリア2を載せる
キャリア載置台、3はウエハ1を搬入搬出するためのハ
ンド、4a、4bは半導体レーザなどの発光素子、5
a、5bはフォトセンサなどの受光素子、6a、6b、
8aおよび8bはピンホール、9b、10bは発光素子
4a、4bからの光ビーム11a、11bの基準面に対
する角度を計測するための、遮光器としての薄板状のナ
イフエッジである。
【0017】発光素子4aからの光ビーム11aはキャ
リア載置台7(基準面)に対し概略傾き+θa、発光素
子4bからの光ビーム11bはキャリア載置台7(基準
面)に対し概略傾き−θb(時計方向を+)に配置され
る。傾きθは、0.5°近傍の値が望ましい。
【0018】ウエハ1の収納高さ位置の測定のため、キ
ャリア載置台7を上から下に駆動すると、図2(A)に
示す信号が受光素子5a,5bより得られる。これよ
り、まず光ビームの傾きθa,θbを求める。すなわ
ち、図3に示すように、キャリア載置台7を上から下に
駆動し、ナイフエッジ9bの下端が光ビーム11bを遮
ると(同図(A))受光素子5bの出力は0となる(図
2のNb1の位置)。さらにキャリア載置台7が下に移
動すると(同図(B))光ビーム11bは再び透過とな
り(図2のNb2の位置)、つぎに図3(C)の位置に
達すると、ナイフエッジ10bにより再び遮光される
(図2のNb3の位置)。この受光素子5bの出力を所
定のスライスレベルで二値化すると、ナイフエッジ9b
および10bの位置Nb1、Nb2およびNb3が求め
られる。利用するナイフエッジの位置は、全ての位置が
透過から遮光へ、または遮光から透過への切り換わりと
いうように統一されている方が位置計測精度が向上する
ため望ましい。ナイフエッジ9bの下端とキャリア載置
台7の上面間の距離をf1 、ナイフエッジ10bの下端
とキャリア載置台7の上面間の距離をf2 とし、ナイフ
エッジ9b,10b間の距離をdとする。dの距離はな
るべく長い方が傾き計測誤差が少なくなるのでキャリア
載置台7の両端等にナイフエッジを取り付けることが望
ましい。光ビーム11bの傾きθbは、数1式で求めら
れる。
【0019】
【数1】 同様に光ビーム11aについてもナイフエッジ9b,1
0bの取り付け位置を入れ換えたものを適用すれば、傾
きθaは数2式で求められる。
【0020】
【数2】
【0021】次にウエハ1の収納姿勢を求める手順につ
いて説明する。図1に示すように、キャリア2に収納さ
れているウエハ1の姿勢はウエハBのように(P)側が
下がっている場合もあれば、ウエハCのように(P)側
が上がっている場合もある。このような種々の姿勢を持
ったウエハ1に対して、たとえば(P)側のウエハ下面
と搬入搬出ハンド3との隙間を一定として搬入搬出ハン
ド3を挿入する場合、ウエハ1の姿勢がどのようになっ
ているかを正確に知る必要がある。そのために傾きの異
なった光ビームを2本用いて姿勢を判定している。光ビ
ームの傾きの絶対値θa,θbが同じであるとすると、
図6(a)に示すように、ウエハ1が水平に置かれてい
る場合は、光ビーム11a,11bの遮光幅SaA,S
bAは等しい。同図(b)に示すように、(P)側が下
がっている場合は、遮光幅SaBの方がSbBより大き
い。同図(c)に示すように、(P)側が上がっている
場合は、遮光幅SbCの方がSaCより大きい。したが
って、光ビーム11a,11bの遮光幅を比較すること
によりウエハ1の姿勢を判定できる。しかし、光ビーム
の傾きの絶対値θa,θbが異なっていると単純に比較
しても正しい結果は得られない。そこで以下に述べる手
順によって正しい結果が得られるようにする。
【0022】キャリア載置台7に対して水平に置かれた
仮想ウエハ1を上から下に駆動した時に光ビーム11
a,11bが仮想ウエハ1によって遮光される基準遮光
幅Sa,Sbを計算する。この基準遮光幅Sa,Sbか
らはウエハ1の厚み寸法は除かれており、図4に示すよ
うに、ウエハ1の厚みをWt、光ビーム位置での仮想ウ
エハ1の幅をd1 とすると、数3式により求められる。
【0023】
【数3】
【0024】次に図2のような受光素子5a,5bの出
力信号により実際のウエハの遮光幅、たとえば(Aa2
−Aa1)、(Ab2−Ab1)などを計算し、もし、
光ビームの傾きの絶対値θa,θbが等しければこの遮
光幅を直接比較し、値の大きい方がその光ビームに対し
角度を持っていることになる。しかし、実際においては
二つの光ビームの傾きθa,θbは異なっていることが
多く、したがってこの遮光幅の比較において単に受光素
子5a,5bより得られた幅を用いるのではなく、前記
基準遮光幅Sa,Sbにより正規化した値を用いて比較
する。これをウエハA、B、Cを例にとって説明する。 (1)ウエハAは、数4式により水平であると判断す
る。
【0025】
【数4】 (2)ウエハBは、数5式により(P)側に下がってい
ると判断する。
【0026】
【数5】 (3)ウエハCは、数6式により(Q)側に下がってい
ると判断する。
【0027】
【数6】 以上の手順によりウエハ1の傾き方向が正しく判断され
ることになる。
【0028】次にウエハ検知手段の光ビーム11a,1
1bとウエハ搬入搬出ハンド3との相対位置関係を求め
る手順を図5を用いて説明する。まず、図5においてウ
エハ1をキャリア載置台7に水平に置く。ウエハ1とキ
ャリア載置台7の上面との間隔は、例えばキャリア2の
最下段の棚にウエハ1を収納した時の間隔と同等とす
る。そしてキャリア載置台7を上から下へ駆動した時に
光ビーム11bが遮光された位置から搬入搬出ハンド3
との隙間Tcを保つ位置までの距離hcを求める。
【0029】この距離hcはウエハ1を搬入搬出ハンド
3で搬出する場合に用いる。すなわち、図1のウエハA
がキャリア2の最下段の棚に位置するウエハだとすると
hc+Aa1だけキャリア載置台7を駆動すると、ウエ
ハAの下面と搬入搬出ハンド3の上面との隙間Tcを保
持した位置関係に移動する。この状態でウエハ1を取り
出すために搬入搬出ハンド3をキャリア2内に挿入する
が、この場合ウエハ1と干渉することはない。
【0030】一度この距離hcを求めた後、ウエハ1の
直径が変更になった場合は、以下に述べる手順で距離h
cを補正して用いる。距離hcを求めた時のウエハ1の
直径をd1 とする。新しく使用するウエハ1の直径をd
3 とすると、この直径d3 なるウエハ1を上から下へ駆
動した場合の受光素子5bの出力は図2のA′b1,
A′b2,B′b1,B′b2等となる。この場合、ウ
エハ1の検出位置はウエハ1の直径がd1 からd3 に変
化することにより(A′b1−Ab1)だけ実際の位置
よりずれている。このずれ量は光ビーム11bの傾きよ
り算出できる。すなわち、数7式により求められる。
【0031】
【数7】 したがって、ウエハ1の直径がd1 からd2 に変わった
場合、ウエハ直径データd1 をd2 に再設定し、距離h
cを下記式8のように補正する。
【0032】
【数8】 この補正により、ウエハ1の直径が変化したとしてもウ
エハ1と搬入搬出ハンド3との相対位置関係は正しく保
たれる。
【0033】次にウエハ1を搬送する時の動作を図7の
フローチャートを用いて説明する。まず、ウエハ1が収
納されたキャリア2が搭載されたキャリア載置台7を上
下に駆動し、光ビーム11a,11bの出力より各ナイ
フエッジ9b、10bとウエハ1の位置情報をサンプリ
ングする(ステップ12)。次にナイフエッジの位置情
報より光ビーム11a,11bの傾きを計算する(ステ
ップ13)。次に光ビーム11a,11bの傾きと、設
定されたウエハ1の直径データより、基準遮光幅Sa,
Sbおよび搬入搬出ハンド3の挿入位置までの駆動量h
cを計算する(ステップ14)。次に各ウエハ1に対す
る搬入搬出ハンド3の挿入位置までの駆動量を計算する
(ステップ15)。次に搬送しようとするウエハ1のハ
ンド挿入位置へキャリア載置台7を駆動する(ステップ
16)。次に搬入搬出ハンド3をキャリア2内に挿入
後、上昇させウエハ1を吸着する(ステップ17)。次
にキャリア2からウエハ1を取り出して次の処理工程に
搬送する(ステップ18)。なお、上記の実施例におい
て、キャリア載置台7を駆動して固定された光ビーム1
1a,11bの信号を取り込んでいたが、両者は相対的
に移動すればよいので、キャリア載置台7を固定にして
光ビーム11a,11bを駆動してもかまわない。ま
た、光ビームは1本以上であれば光ビームの数だけナイ
フエッジを用意すれば同様に光ビームの傾きを求めるこ
とが可能である。また、ナイフエッジ9bおよび10b
は薄板状でなくても、たとえばブロック状のものでも同
様な効果が得られる。また、光ビーム11a,11bは
+θa,−θbなる角度を持っているが、水平な光ビー
ムに適用しても同様な効果が得られることはいうまでも
ない。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ビームの基準面に対する取り付け角度を適宣計測する
ことにより、光ビームの角度に誤差や経時変化があって
も、常に正しいウエハの姿勢を求めることが可能とな
る。さらに、一度だけウエハと搬入搬出ハンドとの相対
位置関係を求めれば、ウエハの直径が変わってもウエハ
の直径データを設定すれば、再度この相対位置関係を求
め直す必要がないという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例に係わるウエハ搬入搬出装
置の概略構成図。
【図2】 図1の装置における、ウエハ位置と受光素子
の出力との関係を示すグラフ。
【図3】 図1の装置における、ナイフエッジと光ビー
ムの関係を示す概念図。
【図4】 図1の装置における、ウエハと光ビームの位
置関係を示す概念図。
【図5】 図1の装置における、ウエハと搬入搬出ハン
ドの位置関係を示す概念図。
【図6】 図1の装置における、ウエハの姿勢と光ビー
ムの遮光幅との関係を示す概念図。
【図7】 図1の装置における、ウエハの収納姿勢を求
め、ウエハを搬送するフローチャート。
【図8】 従来のウエハ搬入搬出装置の概略構成図。
【図9】 図8の装置における、従来技術のウエハ位置
と受光素子出力との関係を示すグラフ。
【符号の説明】
1:ウエハ、2:キャリア、3:搬入搬出ハンド、4
a,4b:発光素子、5a,5b:受光素子、6a,6
b:発光側ピンホール、7:キャリア載置台、8a,8
b:受光側ピンホール、9b,10b:ナイフエッジ、
11a,11b:光ビーム、12:ナイフエッジとウエ
ハの位置情報サンプリング工程、13:光ビームの傾き
を計算する演算工程、14〜15:ウエハの収納姿勢状
態を計算し判断する演算工程、16〜18:ウエハ搬送
工程。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数枚のウエハを所定間隔を隔てて平行
    に保持するキャリアと、 このキャリアに対してウエハを搬入および搬出する搬入
    搬出手段と、 前記キャリアの一方の側から光ビームを照射してこれを
    他方の側から受光する1対以上の発光素子および受光素
    子と、 前記キャリアと前記光ビームとを並進的に相対移動させ
    る手段と、 前記キャリアに対して位置的に固定され、前記キャリア
    に対する前記光ビームの傾きを検出するために設けられ
    た遮光部材と、 前記遮光部材のエッジを前記光ビームが前記相対移動に
    より横切る際の前記受光素子の出力に基づいて前記光ビ
    ームの傾きを得るとともに、前記キャリアに保持された
    ウエハを前記光ビームが前記相対移動により横切る際の
    前記受光素子の出力および前記光ビームの傾きから前記
    キャリアに保持されたウエハの姿勢を判断する演算手段
    とを具備することを特徴とするウエハ搬入搬出装置。
  2. 【請求項2】 前記キャリアを載せるキャリア載置台を
    有し、前記遮光部材のエッジは前記光ビーム上の異なる
    2点において前記光ビームを横切る2つのエッジ部分を
    有し、これらエッジ部分は前記キャリア載置台の両端に
    位置しもしくは十分離れていることを特徴とする請求項
    1記載のウエハ搬入搬出装置。
  3. 【請求項3】 前記光ビームの傾きを得るために用いら
    れる前記受光素子の出力は、前記光ビームが遮光される
    際のもの、または遮光が解除される際のもののいずれか
    に統一されていることを特徴とする請求項1または2記
    載のウエハ搬入搬出装置。
  4. 【請求項4】 前記演算手段は前記光ビームが前記相対
    移動により前記キャリアに保持されている各ウエハを横
    切る際の前記受光素子の出力および前記光ビームの傾き
    に基づいて前記各ウエハの前記キャリア上の位置を得る
    とともに、それに先立って毎回前記光ビームの傾きの測
    定を行うものであることを特徴とする請求項1〜3記載
    のウエハ搬入搬出装置。
  5. 【請求項5】 前記演算手段は、前記相対移動により前
    記光ビームが前記キャリアに保持されているウエハによ
    って遮光されている間の前記相対移動の距離を、前記キ
    ャリアの正位置に保持された仮想ウエハによって前記相
    対移動により前記光ビームが遮光されている間の前記相
    対移動の距離によって正規化した値を用いて、前記ウエ
    ハの姿勢判断を行うものであることを特徴とする請求項
    1〜4記載のウエハ搬入搬出装置。
  6. 【請求項6】 複数枚のウエハを所定間隔を隔てて平行
    に保持するキャリアと光ビームとを並進的に相対移動さ
    せる工程と、 前記キャリアに対して位置的に固定され、前記キャリア
    に対する前記光ビームの傾きを検出するために設けられ
    た遮光部材のエッジを前記光ビームが前記相対移動によ
    り横切る際に前記光ビームを観察することにより前記遮
    光部材の前記キャリアを基準とする位置を検出する工程
    と、 前記光ビームが各ウエハを前記相対移動により横切る際
    に前記光ビームを観察することにより各ウエハの前記キ
    ャリアを基準とする位置を検出する工程と、 前記遮光部材の位置に基づいて前記光ビームの傾きを得
    る工程と、 この光ビームの傾きおよび前記各ウエハの位置に基づい
    て各ウエハの姿勢を判断する工程とを具備することを特
    徴とするウエハ搬入搬出方法。
JP1709196A 1996-01-05 1996-01-05 ウエハ搬入搬出装置 Pending JPH09186217A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1709196A JPH09186217A (ja) 1996-01-05 1996-01-05 ウエハ搬入搬出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1709196A JPH09186217A (ja) 1996-01-05 1996-01-05 ウエハ搬入搬出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09186217A true JPH09186217A (ja) 1997-07-15

Family

ID=11934327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1709196A Pending JPH09186217A (ja) 1996-01-05 1996-01-05 ウエハ搬入搬出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09186217A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004509454A (ja) * 2000-07-10 2004-03-25 ニューポート コーポレイション Fimsシステムで実施されるポッドロードインタフェース装置
JP2010219209A (ja) * 2009-03-16 2010-09-30 Yaskawa Electric Corp 基板検出装置およびそれを備えた基板搬送装置
JP2016149501A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 東京エレクトロン株式会社 基板検出装置、基板検出方法及び基板処理システム
WO2016201718A1 (zh) * 2015-06-17 2016-12-22 北京七星华创电子股份有限公司 一种半导体设备承载区域的硅片分布状态检测方法及装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004509454A (ja) * 2000-07-10 2004-03-25 ニューポート コーポレイション Fimsシステムで実施されるポッドロードインタフェース装置
JP2010219209A (ja) * 2009-03-16 2010-09-30 Yaskawa Electric Corp 基板検出装置およびそれを備えた基板搬送装置
JP2016149501A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 東京エレクトロン株式会社 基板検出装置、基板検出方法及び基板処理システム
WO2016201718A1 (zh) * 2015-06-17 2016-12-22 北京七星华创电子股份有限公司 一种半导体设备承载区域的硅片分布状态检测方法及装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7248931B2 (en) Semiconductor wafer position shift measurement and correction
JP5949741B2 (ja) ロボットシステム及び検出方法
JP5544414B2 (ja) センサキャリアにより基板処理システム内の物体の位置を自動的に測定して教示する方法および関連するセンサキャリア
US10115588B2 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
JP6415220B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
US10042356B2 (en) Substrate processing apparatus, method for correcting positional displacement, and storage medium
EP1331840B1 (en) Method of locating and placing eye point features of a semiconductor die on a substrate
JP2004214462A (ja) 基板検出方法及び装置並びに基板処理装置
JP2004165543A (ja) ウェハーマッピング機能を備えるウェハー処理装置
TW201703181A (zh) 基板檢出裝置、基板檢出方法及基板處理系統
US5114229A (en) Apparatus for measuring leads of electrical component and method of measuring leads of electrical component
EP0996963A1 (en) Multiple point position scanning system
US7012680B2 (en) Method and apparatus for quantitative quality inspection of substrate such as wafer
JPH0997826A (ja) マガジン内のマガジン棚と、同マガジン棚内に格納されたウェハ状物体とに使用するインデックス装置
JPH09186217A (ja) ウエハ搬入搬出装置
JP2010140933A (ja) ラインセンサの補正方法、アライメント装置及び基板搬送装置
JP3124535B2 (ja) 表面実装部品検査装置
JPH0864654A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
JP2899121B2 (ja) 電子部品のリード線の断面像取得方法
JP3823488B2 (ja) Icリード浮き検査装置及び検査方法
JPH0566734B2 (ja)
JP3334822B2 (ja) ウエハキャリア歪み測定方法
JP2808199B2 (ja) ウエハ搬送装置
KR100350692B1 (ko) 피검사체를 검사위치에 반송하기 위한 장치
JP3498074B2 (ja) 電気部品装着システム