JPH09185948A - マグネトロン - Google Patents

マグネトロン

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JPH09185948A
JPH09185948A JP8329589A JP32958996A JPH09185948A JP H09185948 A JPH09185948 A JP H09185948A JP 8329589 A JP8329589 A JP 8329589A JP 32958996 A JP32958996 A JP 32958996A JP H09185948 A JPH09185948 A JP H09185948A
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Jong-Soo Lee
ジョン−ソー リー
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L G DENSHI KK
LG Electronics Inc
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    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J23/00Details of transit-time tubes of the types covered by group H01J25/00
    • H01J23/02Electrodes; Magnetic control means; Screens
    • H01J23/04Cathodes
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    • H01J23/05Cathodes having a cylindrical emissive surface, e.g. cathodes for magnetrons

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フィラメントを用いずにマイクロウェーブを
発生するマグネトロンの陰極を構成し、マグネトロンの
性能を向上して寿命を延長させ、原価を低廉化し得るマ
グネトロンを提供することを目的とする。 【解決手段】 フィラメントを用いずに微量の電子を放
射する1次陰極と、該放射された微量の電子を回転し外
周壁に衝突させて衝突エネルギにより多量の電子を放射
する2次陰極と、を備えた陰極を構成し、該陰極を有し
たマグネトロンを構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はマグネトロンに係る
もので、詳しくは、フィラメントを用いずにマイクロウ
ェーブを発生するマグネトロンの陰極を構成し、マグネ
トロンの性能を向上して寿命を延長させ、原価を低廉化
し得るマグネトロン構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のマグネトロンにおいては、図8〜
図10に示したように、チョークコイル21及びコンデ
ンサー22が内蔵されたフィルターボックス20を有
し、該フィルターボックス20の上面にボックス状のヨ
ーク30が装着されて該ヨーク30内部の上下両方側に
永久磁石12,12′が夫々装着収納され、該ヨーク3
0の上方側にアンテナが突成され、それら上下部永久磁
石12,12′間に冷却ファン13を有したシリンダー
形の陽極1が装着され、該陽極1の内方側壁面に複数の
ベース2が中心部位に所定径の作用空間4を有して放射
状に夫々装着され、ベース2の上下部両方側の前記作用
空間4に隣接した部位に、リング状の内部ストラップリ
ング9及び外部ストラップリング10が夫々交番に掛合
され、前記陽極1と各ベース2間の空間には共振部14
が形成されて構成されていた。
【0003】且つ、前記作用空間4の内部には、上下方
両方側にフランジ6を有した上部エンドシールド7及び
下部エンドシールド8が夫々係合され、それら上下部エ
ンドシールド7,8間の所定方向に中心軸5aを介して
螺旋状のフィラメント5が掛合され、陰極3が形成され
ていた。このように構成された従来のマグネトロンの動
作を以下に説明する。
【0004】先ず、陰極3に電圧を印加すると、該陰極
3とベーン2間の作用空間4には静電界が形成され、該
陰極3の中心軸5a方向に電磁界が形成される。次い
で、各ベーン2間の共振部14には高周波電界が発生
し、該高周波電界は各ベーン2の先方側に集中してその
一部が作用空間4の内部に漏洩される。次いで、内部ス
トラップリング9及び外部ストラップリング10が夫々
交番に各ベーン2に掛合されているため、相互隣接する
各ベーン2間の電位は速やかに変換され、前記陰極3か
ら放射した電子は作用空間4で回転した後、高周波電界
の作用によりマイクロウェーブが発振される。
【0005】次いで、各ベーン2に接続されたアンテナ
11を通ってマイクロウェーブはマグネトロンの外部に
誘導されるが、このとき、電子エネルギの発熱は陽極1
の冷却ファン13から放熱され、温度上昇が防止され
る。さらに、この場合、2450MHz の基本ウェーブの
外に、数百KHz からGHz の領域にわたって電磁波が発生
し、該電磁波が外部に漏洩すると、TV受像機又はラジ
オに支障を与えるため、これをチョークコイル21及び
コンデンサー22を有したフィルターボックス20によ
り防止する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】然るに、このように構
成された従来のマグネトロンにおいては、 、フィラメントを加熱する別途の電源が必要となり、
該フィラメントが約1700℃の高温下で動作するた
め、該フィラメントを維持している中心軸、上部エンド
シールド及び下部エンドシールド等を高溶融点のモリブ
デンのような高価な材料にて製造するようになって、原
価が上昇するという不都合な点があった。
【0007】、前記フィラメントを加熱するとき、3
0W−50Wの電力が消耗され、マグネトロンの熱効率
が低下するという不都合な点があった。 、約1700℃の高温が前記上部エンドシールド及び
下部エンドシールドを通ってチョークコイルに伝導され
るため、該チョークコイルの熱的安定を図ることが難し
くなるという不都合な点があった。
【0008】、約1700℃の陰極熱源によりシリン
ダー状の陽極とベーン間の共振部が高温になるため、マ
グネトロンの冷却が難しくなるという不都合な点があっ
た。 、高温によりフィラメントの強度が低下し、僅かな衝
撃が加えられても破損するおそれがあるという不都合な
点があった。 、電源をフィラメントに印加した後に数秒間経過して
フィラメントが正常に稼働するようになっているため、
該数秒経過する間に電波の雑音が発生し、マグネトロン
の性能が低下するという不都合な点があった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、フィラ
メントを用いずにマイクロウェーブを発生するマグネト
ロンの陰極を構成し、マグネトロンの性能を向上して寿
命を延長させ、原価を低廉化し得るマグネトロンを提供
しようとするものである。そして、このような本発明の
目的は、円柱状のセンターリードと、該センターリード
の上部に掛合され熱電子の漏洩を防止するフランジ状の
上部エンドシールドと、該上部エンドシールドの下方側
の前記センターリードの外方側面に所定間隔で切欠され
た切欠部を有して嵌合された中空円筒状の支持部と、該
支持部の切欠部内に外方側向きで縦方向に掛合された板
状の1次陰極と、該1次陰極の前後両方側面から所定距
離だけ離間したスリット部を有し前記支持部の外周面か
ら所定間隔だけ離れて該支持部外周面に係合された中空
円筒状の2次陰極と、該2次陰極の下部に掛合したフラ
ンジ状の下部エンドシールドと、支持部の外周面上部と
2次陰極の内周面間に掛合される2次陰極活性化部と、
を備えた陰極を形成し、該陰極外方側に装着された陽極
と、該陽極の上下方側に装着された永久磁石と、陽極、
陰極及び永久磁石の収納されるヨークと、該ヨークの下
方側に形成されチョークコイル及びコンデンサーを有し
たフィルターボックスと、から構成されている。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に対し図
面を用いて説明する。本発明に係るマグネトロン陰極の
第1実施形態においては、図1に示したように、円柱状
に形成されたセンターリード111と、該センターリー
ド111の上部に掛合され熱電子の漏洩を防止するフラ
ンジ状の上部エンドシールド116と、該上部エンドシ
ールド116の下方側の前記センターリード111の外
周面に所定間隔で切欠された切欠部を有して嵌合された
中空円筒状の支持部117と、該支持部117の切欠部
内に外方側向きで縦方向に掛合され所定電圧を印加する
と縁部から微量の電子を放射する板状の1次陰極113
と、該1次陰極113の前後両方側面から所定距離だけ
離間したスリット部150(P)を有し前記支持部11
7の外周面から所定間隔だけ離れて該支持部117の外
周面に係合された中空円筒状の2次陰極114と、該2
次陰極114の下部に掛合されたフランジ状の下部エン
ドシールド112と、支持部117の外周面上部の1次
陰極113と2次陰極114の内周面上部間に掛合し該
2次陰極114に所定電圧を印加する初期に用いられた
後に消滅する2次陰極活性化部115と、から構成され
ている。
【0011】さらに、このように構成された陰極と、該
陰極外方側に装着された陽極と、該陽極の上下方側に装
着された永久磁石と、陽極、陰極及び永久磁石の収納さ
れるヨークと、該ヨークの下方側に形成されチョークコ
イル及びコンデンサーを有したフィルターボックスと、
から本発明に係るマグネトロンが構成されている。又、
前記支持部117の材質は、Ni及びZr中の何れか1
つが用いられ、前記2次陰極活性化部115は前記2次
陰極114に初期電圧を印加するため活性化された後消
滅されるようになっている。
【0012】そして、本発明に係るマグネトロン陰極の
第2実施形態として次のように構成して使用することも
できる。即ち、図3及び図4に示したように、円柱状の
センターリード211上部にフランジ状に上部エンドシ
ールド216が掛合され、該上部エンドシールド216
下面に薄肉環状の1次陰極223が係合され、該1次陰
極223の内方側の前記上部エンドシールド216の下
部外周面及び前記センターリード211外周面に、上部
エンドシールド216及びセンターリード211の外周
面から所定間隔だけ離れて中空円筒状の2次陰極214
が係合され、該2次陰極214の外周面下部にフランジ
状の下部エンドシールド212が嵌合され、該2次陰極
214の内周面上部と前記上部エンドシールド216の
下部外周面間に断面がチャネル状に形成されたリング状
の2次陰極活性化部215が掛合されている。このと
き、該2次陰極活性化部215も2次陰極214に初期
電圧を印加し活性化された後は消滅される。
【0013】又、本発明に係るマグネトロン陰極の第3
実施形態として次のように構成することもできる。即
ち、図5に示したように、円柱状のセンターリード31
1上部にフランジ状の上部エンドシールド316が掛合
され、該上部エンドシールド316下面に扇状の1次陰
極324が複数枚所定間隔を用いて放射状に係合され、
センターリード311の外周面と各扇状の1次陰極32
4内周面間に該センターリード311の外周面に沿って
中空円筒状の2次陰極314が係合され、該2次陰極3
14の外周面の前記各1次陰極324の各間隔に板状の
突出部324′が夫々2次陰極314の外周面外方向き
に放射状に突成され、それら2次陰極314の内周面上
部と前記上部エンドシールド316の外周面間に断面が
チャネル状に形成されたリング状の2次陰極活性化部3
15が掛合されている。このとき、該2次陰極活性化部
315も前記2次陰極314に初期電圧を印加し活性化
された後は消滅される。
【0014】更に、このように構成された第1〜第3実
施形態の各陰極においては、各1次陰極に所定電圧が印
加すると、各1次陰極から微量の電子が放射され、該電
子が回転しながら2次陰極の外方側壁面に衝突され、そ
れら衝突されたエネルギにより多量の電子が放射される
ようになっている。そして、本発明に係る1次陽極にお
いては、次の条件を満足させる材質を用いる。、各1
次陰極113,223,324は、低電圧が印加しても
電子が放出されるように関数の低い材質を用いる(φ<
3eV)。通常材料の関数を増加させるものは酸素の吸
着であるが、低温下で金属又は半導体に係る酸素の化学
的吸着作用はパッシベーション(passivatio
n)と酸化作用とであり、以下の計数(α)が用いられ
る。
【0015】 α=n(Vok/Voμ) (1) (ここで、Vokは酸素の分子容積、Voμは金属の核
容積、nは金属の原子数と酸素分子内の全ての原子数と
の比を示したものである) 式中、多孔率(Porosity)計数(α)が1より
も小さいと、酸化物の多孔(Poros)層が酸化作用
の過程で形成され、酸素が容易に金属中に浸透して深く
酸化作用を起こす。しかし、該多孔率計数(α)が1よ
りも大きいと、酸化の過程で酸化物の密集層が形成さ
れ、金属中に酸素の浸透することが防止される。
【0016】、前記各1次陰極113,223,32
4の材質の熱的特性がそれら1次陰極113,223,
324の温度特性を決定するため、電気伝導度及び熱伝
導度を高くして電界場による破壊を防止すべきである。
このような条件を満足させる材質として、Ta,Nb,
Si,Al等がある。且つ、前記各2次陰極114,2
14,314は、図6及び図7に示したように、ベース
層101及び表皮層102にて構成され、該ベース層1
01はNi及びZr中の何れか1つにより形成され、表
皮層102はBa及びAlの合金、Pd及びBaの合
金、Re及びLaの合金中の、何れか1つの合金にて形
成される。又、2次陰極の表示層102の活性化過程に
対し説明すると、例えば、Ba及びAlの合金を用いる
場合、製造後の初期には図6に示したように、Ba及び
Alが混在されるが、前記2次陰極活性化部115,2
15,315から所定電圧を印加し、400℃〜600
℃に加熱されると、図7に示したように、前記Baが表
皮層102の縁部位に位置して活性化され電子の放射が
活性化される。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るマグ
ネトロンにおいては、従来のフィラメントを用いずに、
微量の電子を放射する1次陰極と、該放射された微量の
電子を回転し外壁面に衝突させて衝突エネルギにより多
量の電子を放射する2次陰極と、を備えた陰極を構成
し、該陰極を有したマグネトロンを構成するようになっ
ているため、マグネトロンの性能を向上して寿命を延長
させ、原価を低廉化し得るといる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るマグネトロン陰極の第1実施形態
を示した縦断面構成図である。
【図2】図1の横断面構成図である。
【図3】本発明に係るマグネトロン陰極の第2実施形態
を示した縦断面構成図である。
【図4】図3の横断面構成図である。
【図5】本発明に係るマグネトロン陰極の第3実施形態
の構成を示した横断面図である。
【図6】本発明に係る2次陰極活性化部の断面を示した
説明図で、2次陰極活性化部の断面を示した縦断面図で
ある。
【図7】図6の説明図で、電圧の印加後加熱された状態
の2次陰極活性部の断面を示した縦断面図である。
【図8】従来のマグネトロンを示した縦断面構成図であ
る。
【図9】図8の陽極及び陰極の縦断面図である。
【図10】図8の陽極及び陰極の横断面図である。
【符号の説明】
111,211…センターリード 112,212…下部エンドシールド 113,223,324…1次陰極 114,214,314…2次陰極 115,215…2次陰極活性化部 116,216,316…上部エンドシールド 117…支持壁 324′…突成部 150…スリット部

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陰極と、該陰極の外方側に装着された陽
    極と、該陽極の上下方側に装着された永久磁石と、陰
    極、陽極及び永久磁石を収納するヨークと、該ヨークの
    下方側に形成されチョークコイル及びコンデンサーを有
    するフィルターボックスと、を備えたマグネトロンにお
    いて、 前記陰極は、円柱状に形成されたセンターリード(11
    1)と、 該センターリード(111)の上部に掛合され熱電子の
    漏洩を防止するフランジ状の上部エンドシールド(11
    6)と、 該上部エンドシールド(116)の下方側の前記センタ
    ーリード(111)の外周面に所定間隔で切欠された切
    欠部を有して嵌合された中空円筒状の支持部(117)
    と、 該支持部(117)の切欠部内に外方側向きで縦方向に
    掛合され所定電圧を印加するとその縁部位から微量の電
    子を放射する板状の1次陰極(113)と、 該1次陰極(113)の前後両方側面から所定距離だけ
    離間したスリット部(150)を有し、前記支持部(1
    17)の外周面から所定距離だけ離間して該支持部(1
    17)の外周面に係合された中空円筒状の2次陰極(1
    14)と、 該2次陰極(114)の下部に掛合されたフランジ状の
    下部エンドシールド(112)と、を備え、 前記1次陰極(113)に所定電圧が印加されると、該
    1次陰極(113)の板縁部位から微量の電子が放射さ
    れ、該放射した微量の電子が前記2次陰極(114)の
    スリット部(150)に沿って該2次陰極(114)の
    外周壁面に衝突し、該衝突後発生する衝突エネルギによ
    り多量の電子が放射するように構成されたことを特徴と
    するマグネトロン。
  2. 【請求項2】 前記1次陰極(113)上部と前記2次
    陰極(114)上部間には、所定形状の2次陰極活性化
    部(115)が掛合され、該2次陰極活性化部(11
    5)により2次陰極(114)が活性化される請求項1
    に記載のマグネトロン。
  3. 【請求項3】 前記2次陰極(114)は、ベース層
    と、該ベース層上に形成された表皮層とにより構成され
    る請求項1に記載のマグネトロン。
  4. 【請求項4】 前記2次陰極活性化部(115)は、製
    造後の初期に2次陰極(114)により所定電圧を印加
    するとき用いられ、該2次陰極(114)から活性化さ
    れた後は消滅される請求項2に記載のマグネトロン。
  5. 【請求項5】 前記1次陰極(113)は、前記2次陰
    極(114)の外周面外方側まで延長して突成される請
    求項1に記載のマグネトロン。
  6. 【請求項6】 前記1次陰極(113)は、前記2次陰
    極(114)の外周面所定部位まで延長して突成される
    請求項1に記載のマグネトロン。
  7. 【請求項7】 前記1次陰極(113)は、前記2次陰
    極(114)の内周面部位まで延長して突成される請求
    項1に記載のマグネトロン。
  8. 【請求項8】 前記1次陰極(113)は、Ta,N
    b,Si及びAl中の何れか1つの材質にて形成される
    請求項1に記載のマグネトロン。
  9. 【請求項9】 前記ベース層は、Ni及びZr中の何れ
    か1つの材質にて形成される請求項3に記載のマグネト
    ロン。
  10. 【請求項10】 前記表皮層は、Ba及びAlの合金、
    Pd及びBaの合金、Re及びLaの合金中の、何れか
    1つの合金により形成される請求項3に記載のマグネト
    ロン。
  11. 【請求項11】 前記支持部(117)は、Ni及びZ
    rの何れか1つにて形成される請求項1記載のマグネト
    ロン。
  12. 【請求項12】 円柱状のセンターリードと、 該センターリードの上部に掛合され熱電子の漏洩を防止
    するフランジ状の上部エンドシールドと、 該上部エンドシールドの下面に係合された1次陰極と、 該1次陰極の内方側の前記上部エンドシールドの下部外
    周面及び前記センターリードの外周面に、上部エンドシ
    ールド及びセンターリードの外周面から所定距離だけ離
    れて係合した中空円筒状の2次陰極と、 該2次陰極の外周面下部に嵌合されたフランジ状の下部
    エンドシールドと、から構成された陰極を備えてなるこ
    とを特徴とするマグネトロン。
  13. 【請求項13】 前記上部エンドシールドの下部外周面
    と前記2次陰極の内周面間には、断面がチャネル状に形
    成されたリング状の2次陰極活性化部が掛合される請求
    項12に記載のマグネトロン。
  14. 【請求項14】 前記1次陰極は、薄肉の環状に形成さ
    れる請求項12に記載のマグネトロン。
  15. 【請求項15】 前記1次陰極は、複数の扇状に形成さ
    れ、前記上部エンドシールドの下面に所定間隔を置いて
    放射状に係合される請求項12に記載のマグネトロン。
  16. 【請求項16】 前記2次陰極は、該2次陰極の外周面
    に所定間隔を置いて縦方向に板状の突出部が複数板突成
    される請求項12に記載のマグネトロン。
  17. 【請求項17】 前記2次陰極活性化部は、製造後の初
    期に前記2次陰極に所定電圧を印加した後、消滅される
    請求項13に記載のマグネトロン。
  18. 【請求項18】 前記2次陰極は、ベース層と、該ベー
    ス層上に形成された表皮層とから構成される請求項12
    に記載のマグネトロン。
  19. 【請求項19】 前記1次陰極は、Ta,Nb,Si、
    及びAl中の何れか1つから形成される請求項12に記
    載のマグネトロン。
  20. 【請求項20】 前記ベース層は、Ni及びZr中の何
    れか1つから形成される請求項18に記載のマグネトロ
    ン。
  21. 【請求項21】 前記表皮層は、Ba及びAlの合金、
    Pd及びBaの合金、Re及びLaの合金中の、何れか
    1つの合金により形成される請求項18に記載のマグネ
    トロン。
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DE (1) DE19651233C2 (ja)
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IN (1) IN192411B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6329753B1 (en) 1998-01-08 2001-12-11 Litton Systems, Inc. M-type microwave device with slanted field emitter
US6388379B1 (en) 1998-01-08 2002-05-14 Northrop Grumman Corporation Magnetron having a secondary electron emitter isolated from an end shield
JP2003272537A (ja) * 2002-03-20 2003-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd マグネトロン
JP2004503907A (ja) * 2000-06-01 2004-02-05 レイセオン・カンパニー 高効率の光放射発生用の光マグネトロンおよび1/2λ誘起πモード動作

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100304809B1 (ko) * 1998-02-13 2001-10-19 구자홍 마그네트론의음극
US6089868A (en) * 1998-05-14 2000-07-18 3M Innovative Properties Company Selection of orthodontic appliances
US6485346B1 (en) 2000-05-26 2002-11-26 Litton Systems, Inc. Field emitter for microwave devices and the method of its production
US6724146B2 (en) * 2001-11-27 2004-04-20 Raytheon Company Phased array source of electromagnetic radiation
US6686696B2 (en) * 2001-03-08 2004-02-03 Genvac Aerospace Corporation Magnetron with diamond coated cathode
US6525477B2 (en) 2001-05-29 2003-02-25 Raytheon Company Optical magnetron generator
US6831416B1 (en) * 2003-11-06 2004-12-14 L-3 Communications Corporation Inductive compensator for magnetron
US7626179B2 (en) 2005-09-30 2009-12-01 Virgin Island Microsystems, Inc. Electron beam induced resonance
US7586097B2 (en) 2006-01-05 2009-09-08 Virgin Islands Microsystems, Inc. Switching micro-resonant structures using at least one director
US7791290B2 (en) 2005-09-30 2010-09-07 Virgin Islands Microsystems, Inc. Ultra-small resonating charged particle beam modulator
US7265360B2 (en) * 2004-11-05 2007-09-04 Raytheon Company Magnetron anode design for short wavelength operation
US7245082B1 (en) * 2005-06-06 2007-07-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Mode seeding cathode for a relativistic magnetron
US7696696B2 (en) * 2005-08-04 2010-04-13 Stc.Unm Magnetron having a transparent cathode and related methods of generating high power microwaves
US8324811B1 (en) * 2005-08-04 2012-12-04 Stc.Unm Magnetron having a transparent cathode and related methods of generating high power microwaves
US7443358B2 (en) 2006-02-28 2008-10-28 Virgin Island Microsystems, Inc. Integrated filter in antenna-based detector
US7876793B2 (en) 2006-04-26 2011-01-25 Virgin Islands Microsystems, Inc. Micro free electron laser (FEL)
US7646991B2 (en) * 2006-04-26 2010-01-12 Virgin Island Microsystems, Inc. Selectable frequency EMR emitter
US7710040B2 (en) 2006-05-05 2010-05-04 Virgin Islands Microsystems, Inc. Single layer construction for ultra small devices
US7746532B2 (en) 2006-05-05 2010-06-29 Virgin Island Microsystems, Inc. Electro-optical switching system and method
US7741934B2 (en) 2006-05-05 2010-06-22 Virgin Islands Microsystems, Inc. Coupling a signal through a window
US7718977B2 (en) 2006-05-05 2010-05-18 Virgin Island Microsystems, Inc. Stray charged particle removal device
US7728702B2 (en) 2006-05-05 2010-06-01 Virgin Islands Microsystems, Inc. Shielding of integrated circuit package with high-permeability magnetic material
US7728397B2 (en) 2006-05-05 2010-06-01 Virgin Islands Microsystems, Inc. Coupled nano-resonating energy emitting structures
US7986113B2 (en) 2006-05-05 2011-07-26 Virgin Islands Microsystems, Inc. Selectable frequency light emitter
US7723698B2 (en) 2006-05-05 2010-05-25 Virgin Islands Microsystems, Inc. Top metal layer shield for ultra-small resonant structures
US8188431B2 (en) 2006-05-05 2012-05-29 Jonathan Gorrell Integration of vacuum microelectronic device with integrated circuit
US7656094B2 (en) 2006-05-05 2010-02-02 Virgin Islands Microsystems, Inc. Electron accelerator for ultra-small resonant structures
US7732786B2 (en) 2006-05-05 2010-06-08 Virgin Islands Microsystems, Inc. Coupling energy in a plasmon wave to an electron beam
US7679067B2 (en) 2006-05-26 2010-03-16 Virgin Island Microsystems, Inc. Receiver array using shared electron beam
US7655934B2 (en) 2006-06-28 2010-02-02 Virgin Island Microsystems, Inc. Data on light bulb
US7659513B2 (en) 2006-12-20 2010-02-09 Virgin Islands Microsystems, Inc. Low terahertz source and detector
US7990336B2 (en) 2007-06-19 2011-08-02 Virgin Islands Microsystems, Inc. Microwave coupled excitation of solid state resonant arrays
US7791053B2 (en) 2007-10-10 2010-09-07 Virgin Islands Microsystems, Inc. Depressed anode with plasmon-enabled devices such as ultra-small resonant structures
CN105428191A (zh) * 2015-12-21 2016-03-23 电子科技大学 一种利用透明阴极实现跳频工作的相对论磁控管
CN105810536B (zh) * 2016-03-31 2018-01-12 电子科技大学 采用组合式冷阴极头的磁控管及冷阴极体的生产方法
CN107068517B (zh) * 2017-03-20 2019-05-10 电子科技大学 一种磁控管配套用冷阴极及冷阴极头的生产方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB588186A (en) * 1941-08-22 1947-05-16 John Turton Randall Improvements in vacuum or low-pressure electric discharge apparatus
US3503001A (en) * 1967-09-19 1970-03-24 Varian Associates Static turnoff method and apparatus for crossed-field secondary-emission cold-cathode reentrant-system r.f. pulsed amplifiers
US3596131A (en) * 1969-05-29 1971-07-27 Varian Associates Cathode secondary emitter for crossed-field tubes
GB1449614A (en) * 1972-12-20 1976-09-15 Emi Varian Ltd Magnetrons
JPS63187537A (ja) * 1987-01-28 1988-08-03 Toshiba Corp マグネトロン
GB2238903B (en) * 1989-12-08 1994-10-19 Eev Ltd Magnetrons
US5280218A (en) * 1991-09-24 1994-01-18 Raytheon Company Electrodes with primary and secondary emitters for use in cross-field tubes
US5327094A (en) * 1992-12-11 1994-07-05 Litton Systems, Inc. Jitter suppression in crossed-field amplifier by use of field emitter
RU2115193C1 (ru) * 1994-03-22 1998-07-10 Владимир Ильич Махов Магнетрон

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6329753B1 (en) 1998-01-08 2001-12-11 Litton Systems, Inc. M-type microwave device with slanted field emitter
US6388379B1 (en) 1998-01-08 2002-05-14 Northrop Grumman Corporation Magnetron having a secondary electron emitter isolated from an end shield
JP2004503907A (ja) * 2000-06-01 2004-02-05 レイセオン・カンパニー 高効率の光放射発生用の光マグネトロンおよび1/2λ誘起πモード動作
JP2003272537A (ja) * 2002-03-20 2003-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd マグネトロン

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