JPH09178900A - X線観察装置 - Google Patents

X線観察装置

Info

Publication number
JPH09178900A
JPH09178900A JP34084095A JP34084095A JPH09178900A JP H09178900 A JPH09178900 A JP H09178900A JP 34084095 A JP34084095 A JP 34084095A JP 34084095 A JP34084095 A JP 34084095A JP H09178900 A JPH09178900 A JP H09178900A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
sample
optical system
observation
observing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34084095A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Nagai
宏明 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP34084095A priority Critical patent/JPH09178900A/ja
Publication of JPH09178900A publication Critical patent/JPH09178900A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】X線観察時以外においてはX線用光学系と試料
との距離を十分に確保することによって試料の交換を容
易にし、X線観察時においてはX線用光学系のアライメ
ントをし直すことなく速やかにX線用光学系を観察に適
した位置に配置することができるX線観察装置を提供す
る。 【解決手段】X線光源と、X線用光学系と、該X線用光
学系を観察に適した位置に配置する機構を有する光学系
支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支持する
試料支持手段と、これらを収納する真空容器とを備えた
X線観察装置において、前記光学系支持手段が、X線観
察時における前記X線用光学系の位置を記憶する機構
と、前記試料とX線用光学系との距離を変化させる機構
とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、X線観察装置、ま
た特に可視光観察または紫外光観察とX線観察との切り
替えをおこなうX線観察装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、軟X線を用いるX線顕微鏡の開発
が盛んである。X線顕微鏡は、X線光源と、X線光源か
ら射出したX線を集光して試料を照明するコンデンサ光
学系と、試料を透過・散乱したX線を結像する結像光学
系と、結像光学系の結像位置に配置した撮像装置と、大
気によるX線の吸収を避けるためX線光源から撮像装置
までの光路を真空に保つ真空容器と、この真空容器内を
真空排気するための排気系とからなる。
【0003】前記のコンデンサ光学系や結像光学系とし
ては、たとえば反射面に特定の波長のX線に対して高い
反射率を有する多層膜を積層してなるシュヴァルツシル
ト光学系、全反射を利用したウォルター光学系、回折を
利用したゾーンプレート光学系などが用いられる。この
ようなX線顕微鏡をはじめとするX線観察装置は、試料
が真空中に置かれるので、試料を交換するたびに真空容
器を大気開放する必要がある。特開平5−88000号
公報に、試料を収納する部分だけ大気開放する装置が記
載されている。その構成は、図9に示すように、X線発
生器501と、X線発生器から射出したX線を集光して
試料を照明するコンデンサ光学系502と、試料を透過
したX線を結像する結像光学系503と、結像光学系の
結像位置に配置した撮像装置504と、X線発生器50
1から撮像装置504までの光路を真空にするための鏡
筒用真空容器505と、この鏡筒用真空容器内を真空排
気するための排気系506とからなるX線顕微鏡であ
り、試料カプセル507を配置する位置に、試料カプセ
ルまたは試料カプセルを保持した試料ホルダ508を収
納する収納室509を前記鏡筒用真空容器とは別室に設
け、この収納室509を構成するハウジング510のX
線透過位置に、X線透過窓511または開閉可能なシャ
ッタ512を有する開口部を設けてなる。収納室509
の容積は鏡筒用真空容器505の容積に比べて小さいの
で、これを真空にする時間は短くてすむ。
【0004】また、特開平6−230200号公報に、
真空容器内に可視光顕微鏡等を備えたX線顕微鏡が記載
されている。可視光などによって試料の位置合わせをお
こなうので、試料の必要以上のX線被曝を防ぐことがで
きる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来の技術で
は、結像光学系と試料との距離またはコンデンサ光学系
と試料との距離を十分に確保できることを前提としてい
る。しかし、試料と結像位置との距離(以下、IOとい
う)を短くしたり、結像光学系の倍率を高くしようとす
るとき、結像光学系と試料との距離またはコンデンサ光
学系と試料との距離を十分に確保できない場合が生じ
る。
【0006】たとえば、IOが1m,結像倍率が200
倍の光学系では、試料と結像光学系の主面との距離は5
mm弱と短く、特開平5−88000号公報に記載され
た装置のように試料と結像光学系との間にシャッタを設
けるのは困難である。結像光学系がゾーンプレート光学
系である場合は、前記の問題が顕著である。すなわちゾ
ーンプレート光学系の素子は直径が大きなものを製作で
きず、せいぜい30μm程度であり、開口数を確保する
ためには試料と素子との距離を短くしなくてはならな
い。たとえば、素子の直径30μm,X線の波長3n
m,輪帯数500,最外輪帯幅30nmとしたとき、結
像倍率200倍を実現するには、素子と試料との距離は
0.452mmとなり、ここにシャッタを設けることは
不可能である。しかも、試料を交換するには結像光学系
またはコンデンサ光学系を取り外さなければならず、す
ると結像光学系またはコンデンサ光学系を再び取り付け
た後にそれらのアライメントをし直すなど面倒な作業を
おこなわなければならない。これらの問題は、走査型X
線顕微鏡等においても光学系と試料との距離を十分に確
保できない場合には生じ得る。
【0007】さらに、可視光顕微鏡等を真空容器内に備
えると、真空容器内が複雑で大がかりになってしまう。
可視光観察等を大気中でおこなおうとすると、X線用光
学系とは光軸が共通ではないため、X線観察と可視光観
察等とを切り替えるたびに試料の位置合わせをおこなわ
なければならない。本発明は、上記問題点に鑑み、X線
観察時以外においてはX線用光学系と試料との距離を十
分に確保することによって試料の交換を容易にし、X線
観察時においてはX線用光学系のアライメントをし直す
ことなく速やかにX線用光学系を観察に適した位置に配
置することができるX線観察装置を提供することを目的
とする。また、X線観察と可視光観察等とを、試料の位
置合わせをし直すことなく速やかに切り替えることがで
きるX線観察装置を提供することを他の目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のX線観察装置
は、X線光源と、X線用光学系と、該X線用光学系を観
察に適した位置に配置する機構を有する光学系支持手段
と、観察対象となる試料と、該試料を支持する試料支持
手段と、これらを収納する真空容器とを備えたX線観察
装置において、前記光学系支持手段が、X線観察時にお
ける前記X線用光学系の位置を記憶する機構と、前記試
料とX線用光学系との距離を変化させる機構とを有する
ことを特徴とする。
【0009】また、X線光源と、X線用光学系と、該X
線用光学系を観察に適した位置に配置する機構を有する
光学系支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支
持する試料支持手段と、これらを収納する真空容器とを
備えたX線観察装置において、前記光学系支持手段が、
前記X線用光学系を観察位置に設定するための位置調整
手段と、前記設定した位置とそこから外れた位置とを切
り替える手段とを有することを特徴とする。
【0010】また、X線光源と、X線用光学系と、該X
線用光学系を観察に適した位置に配置する機構を有する
光学系支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支
持する試料支持手段と、これらを収納する真空容器と、
可視光観察系または紫外光観察系とを備えたX線観察装
置において、前記試料支持手段が、試料を移動する機構
を有し、可視光観察系または紫外光観察系とX線観察系
とで前記試料支持手段を共有することを特徴とする。
【0011】また、X線光源と、X線用光学系と、該X
線用光学系を観察に適した位置に配置する機構を有する
光学系支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支
持する試料支持手段と、可視光観察系または紫外光観察
系とを備えたX線観察装置において、前記光学系支持手
段が、X線観察時における前記X線用光学系の位置を記
憶する機構と、前記試料とX線用光学系との距離を変化
させる機構とを有し、前記試料支持手段が、試料を移動
する機構を有し、可視光観察系または紫外光観察系とX
線観察系とで前記試料支持手段を共有することを特徴と
する。
【0012】また、X線光源と、X線用光学系と、該X
線用光学系を観察に適した位置に配置する機構を有する
光学系支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支
持する試料支持手段と、可視光観察系または紫外光観察
系とを備えたX線観察装置において、前記光学系支持手
段が、前記X線用光学系を観察位置に設定するための位
置調整手段と、前記設定した位置とそこから外れた位置
とを切り替える手段とを有し、前記試料支持手段が、試
料を移動する機構を有し、可視光観察系または紫外光観
察系とX線観察系とで前記試料支持手段を共有すること
を特徴とする。
【0013】さらに、可視光観察系または紫外光観察系
の光軸とX線観察系の光軸との相対位置が固定されたこ
とを特徴とする。さらに、試料を移動する機構が、可視
光観察系または紫外光観察系とX線観察系との切り替え
機構を、試料の位置合わせ・フォーカシング機構とは別
体に有することを特徴とする。
【0014】さらに、前記試料支持手段によって可視光
観察系または紫外光観察系とX線観察系とを切り替える
際に、可視光観察時または紫外光観察時の前記試料の位
置とX線観察時の試料の位置とが等しくなるように調整
されたことを特徴とする。さらに、前記X線用光学系が
真空窓を備えたことを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に、本発明のX線観察装置の
実施の形態1乃至4について説明する。 〔実施の形態1〕本実施の形態は、結像型軟X線顕微鏡
に適用したものであり、装置の全体を図1に、要部の詳
細を図2にそれぞれ示す。
【0016】X線光源106と,コンデンサ光学系10
2と,試料をセットしたステージ103と,結像光学系
101と,撮像素子105とが真空容器104内に設置
されている。X線光源106からのX線はコンデンサ光
学系102によって試料を照明し、試料を透過・散乱し
たX線は結像光学系101によって撮像装置105上に
結像する。真空容器104は三つのシャッタ107,1
08,109を備え、これらによって真空室110,1
11,112に分けることができ、図示しない真空排気
装置によってそれぞれ独立に真空排気することができる
ようになっている。
【0017】結像光学系101は多層膜を積層した凹面
鏡101aと凸面鏡101bとからなるシュヴァルツシ
ルト光学系であり、マウント121に固定されている。
マウント121はガイドレール122を介してステージ
123によって支持されており、図示しない駆動機構に
よって光軸方向にスライドすることができる。ステージ
123は真空容器104に固定されている。コンデンサ
光学系102は、回転楕円面形状の全反射鏡102aで
あり、マウント125に固定されている。マウント12
5はガイドレール126を介してステージ127によっ
て支持されており、図示しない駆動機構によって光軸方
向にスライドすることができる。ステージ127は真空
容器104に固定されている。したがって、結像光学系
101と試料との距離,コンデンサ光学系102と試料
との距離をそれぞれ変化させ、互いに十分に離すことが
できる。
【0018】まず、結像光学系101とコンデンサ光学
系102のアライメントについて説明する。結像光学系
101は、部材124をステージ123に接触させた状
態にして、ステージ123が備える図示しない微動装置
によってアライメントをおこなう。コンデンサ光学系1
02は、結像光学系101と同様に、部材128をステ
ージ127に接触させた状態にして、ステージ127が
備える図示しない微動装置によってアライメントをおこ
なう。このときシャッタ108,109は開けている。
【0019】次に、X線観察時の操作について説明す
る。図1(a),図2(a)はX線観察時の様子を示
す。シャッタ107を閉じ、シャッタ108,109を
開け、部材124,128をステージ123,127に
それぞれ接触させる。前記したアライメントによって、
このとき結像光学系101とコンデンサ光学系102は
観察に適した位置に配置された状態となるので、試料1
30をX線観察することができる。ステージ103は三
軸の直線駆動機構を備え、試料130の位置合わせやフ
ォーカシングをおこなえる。なお、真空容器104は真
空排気している。
【0020】次に、試料交換時の操作について説明す
る。図1(b),図2(b)は試料交換時の様子を示
す。結像光学系101をステージ123の方向へスライ
ドさせて真空室110内に引き込み、シャッタ108を
閉じ、コンデンサー光学系102をステージ127の方
向へスライドさせて真空室111内に引き込み、シャッ
タ108を閉じ、試料130を載せた試料ステージ10
3が入った真空室112を独立させる。真空室112を
窒素等のガスでパージし、シャッタ107を開けて大気
開放する。その後、ステージ103の上部をスライドし
て真空容器104の外へ出し、試料130を交換する。
この間、真空室110,111は真空のままである。交
換した試料を載せたステージ103の上部をスライドし
て元に戻し、シャッタ107を閉じ図示しない排気装置
で真空室112を真空排気する。真空室110と真空室
112との差圧、真空室111と真空室112との差圧
が小さくなったらシャッタ108,109を開け、結像
光学系101とコンデンサ光学系102も元に戻す。す
なわち、結像光学系101は部材124がステージ12
3に接触する状態にし、コンデンサ光学系102は部材
128がステージ127に接触する状態にする。これで
X線観察時の状態に再現性よく戻すことができる。すな
わち、観察時に部材124とステージ123とを,部材
128とステージ127とを接触させることでそれぞれ
の光学系の位置を記憶している。
【0021】このように本実施の形態は、結像光学系と
試料との距離,コンデンサ光学系と試料との距離を十分
に確保することができ、シャッタを設けることができ
る。そして、X線観察時は結像光学系とコンデンサ光学
系とを速やかに観察に適した位置に配置することができ
る。本実施の形態では、結像光学系101はシュヴァル
ツシルト光学系であり、コンデンサ光学系102は回転
楕円面形状の全反射鏡であるが、これらに限定されるも
のではない。また、本実施の形態は結像光学系とコンデ
ンサ光学系の両方をスライドする構成であるが、X線観
察時に光学系と試料とがシャッタを設けるに十分に離れ
ている場合は、その光学系に関しては前記構成をとるに
は及ばない。
【0022】また、光学系をスライドする構成に代え
て、後述する図3に示すように光学系を回転させる構成
としてもよい。図3(a)はX線観察時、図3(b)は
試料交換時の状態を示す。試料交換時は、マウント13
3が備える回転軸132を中心として、結像光学系10
1とシャッタが機械的に干渉しない状態にする。観察時
における光学系の位置を記憶する手段は、以下に示すと
おりである。すなわち、X線観察時においては、レーザ
134から出たレーザ光138はハーフミラー137を
透過して、マウント133上に取り付けられたミラー1
39で反射し、さらにハーフミラー137で反射してピ
ンホール136を通過して検出器135に入射する。図
3(c)に示すように、マウント133が観察時よりも
わずかに傾いたらレーザ光138はピンホール136を
通過することができず、検出器135まで達しない。し
たがって、検出器135からの信号を確認することで結
像光学系101が観察時の位置にあるかどうかを判断す
ることができる。 〔実施の形態2〕本実施の形態は、走査型軟X線顕微鏡
に適用したものであり、光源を除く装置の全体を図4に
示す。
【0023】X線光源として、放射光源を用いる。ベリ
リウムフィルタ202と,シュヴァルツシルト光学系2
01と,試料をセットしたステージ203と,X線検出
器205とが真空容器204内に設置されている。真空
容器204は図示しない放射光設備に接続されている。
放射光源からの放射光206はベリリウムフィルタ20
2によって可視光から真空紫外光までが除かれシュヴァ
ルツシルト光学系201に入射し、試料230上に微小
スポットとして照射され、試料230を透過・散乱した
X線はX線検出器205に入射し電気信号に変換され
る。ステージ203は、マウント203bと,試料台2
03aと,マウント203bと試料台203aとを接続
するピラー203cとからなり、試料台203aが備え
た図示しない駆動機構によって試料230を二次元走査
し、二次元X線像を得る。マウント203bは真空容器
204に固定されている。
【0024】真空容器204は三つのシャッタ207,
208,209を備え、これらによって真空室210,
211,212に分けることができ、図示しない真空排
気装置によってそれぞれ独立に真空排気することができ
る。また、真空容器204には可視顕微鏡220が支柱
221によって取り付けられており、X線顕微鏡の光軸
と可視顕微鏡220の光軸との相対位置は固定されてい
る。
【0025】まず、可視光観察時の操作について説明す
る。図4(b)は可視光観察時の状態を示す。ピラー2
03cを動かすと可視顕微鏡220の光軸上に試料台2
03aがくるようになっており、可視顕微鏡で観察しな
がら、マウント203bが備えた図示しない微動機構に
よって試料230を所望の位置にセットする。このと
き、真空室210,211は真空排気している。
【0026】次に、X線観察時の操作について説明す
る。図4(a)はX線観察時の状態を示す。ピラー20
3cを元に戻し試料台203aを真空室212にセット
し、シャッタ207を閉じ図示しない排気装置によって
真空室212を真空排気する。真空室210と真空室2
12との差圧、真空室211と真空室212との差圧が
小さくなったらシャッタ209,208を開ける。
【0027】このように本実施の形態は、X線観察と可
視光観察とを、試料の位置合わせをし直すことなく速や
かに切り替えることができる。また、可視光顕微鏡を大
気中に設置したので、通常の可視光顕微鏡を用いること
ができる。すなわち、その可視顕微鏡を真空仕様とする
必要がない。また、X線観察系と可視光観察系の光軸間
の距離が一定であるので、ステージの移動量が常に等し
く、切り替えが容易である。 〔実施の形態3〕本実施の形態は、結像型軟X線顕微鏡
に適用したものであり、光源を除く装置の全体を図5
に、要部の詳細を図6にそれぞれ示す。
【0028】X線光源として、放射光源を用いる。コン
デンサ光学系302と,試料をセットしたステージ30
3と,結像光学系301と,撮像素子305とが真空容
器304内に設置されている。真空容器304は図示し
ない放射光設備に接続されている。放射光源からの放射
光306は図示しないグラスホッパ分光器によって分光
され、ベリリウム窓を透過しゾーンプレート型コンデン
サ光学系302によって試料を照明し、試料を透過・散
乱したX線はゾーンプレート型結像光学系301によっ
て撮像装置305上に結像する。真空容器304はシャ
ッタ307を備え、これを介して試料を交換する。
【0029】結像光学系301はゾーンプレートであ
り、マウント321に固定されている。マウント321
はガイドレール322を介してステージ323によって
支持されており、図示しない駆動機構によって光軸方向
にスライドすることができる。ステージ323は真空容
器304に固定されている。コンデンサ光学系302は
ゾーンプレートであり、マウント325に固定されてい
る。マウント325はガイドレール326を介してステ
ージ327によって支持されており、図示しない駆動機
構によって光軸方向にスライドすることができる。ステ
ージ327は真空容器304に固定されている。したが
って、結像光学系と試料との距離、コンデンサ光学系と
試料との距離をそれぞれ変化させ、互いに十分に離すこ
とができる。ゾーンプレートは前記した素子と同様なも
のを用いる。また、先端が円錐形であるピン329によ
って、結像光学系301とコンデンサ光学系302とが
衝突するのを防ぐ。
【0030】試料ホルダ330は0.1μm厚の窒化シ
リコン膜330bに挟まれた試料室330aを備え、こ
の中に水分を含んだ生物試料を封入する。まず、結像光
学系301とコンデンサ光学系302のアライメントに
ついて説明する。結像光学系301は、部材324をス
テージ323に接触させた状態にして、ステージ323
が備える図示しない微動装置によってアライメントをお
こなう。コンデンサ光学系302は、結像光学系301
と同様に、部材328をステージ327に接触させた状
態にして、ステージ327が備える図示しない微動装置
によってアライメントをおこなう。
【0031】次に、X線観察時の操作について説明す
る。図5(a),図6(a)はX線観察時の状態を示
す。部材324,328をステージ323,327にそ
れぞれ接触させる。前記したアライメントによって、こ
のとき結像光学系301とコンデンサ光学系302は観
察に適した位置に配置された状態となるので、試料をX
線観察することができる。ステージ303は真空容器3
04に固定されており、三軸の直線駆動機構を備え、試
料の位置合わせやフォーカシングをおこなえる。なお、
真空容器304は真空排気している。
【0032】次に、試料交換時の操作について説明す
る。図5(b),図6(b)は試料交換時の状態を示
す。真空容器304を窒素等でパージし、シャッタ30
7を開けて大気開放する。結像光学系301と試料との
距離,コンデンサ光学系302と試料間との距離が狭い
ため、結像光学系301をステージ323の方向へスラ
イドさせ、コンデンサー光学系302をステージ327
の方向へスライドさせて試料ホルダ330を取り出せる
ように結像光学系301とコンデンサ光学系302との
間隔を拡げる。その後、試料ホルダ330を真空容器3
04の外へ出し、試料を交換する。交換した試料を載せ
た試料ホルダ330を元に戻し、シャッタ307を閉じ
図示しない排気装置によって真空容器304を真空排気
する。次いで、結像光学系301とコンデンサ光学系3
02も元に戻す。すなわち、結像光学系301は部材3
24がステージ323に接触する状態にし、コンデンサ
ー光学系302は部材328がステージ327に接触す
る状態にする。これでX線観察時の状態に再現性よく戻
すことができる。
【0033】このように本実施の形態は、結像光学系と
試料との距離,コンデンサ光学系と試料との距離を十分
に確保することができ、容易に試料の交換をすることが
できる。そして、X線観察時は結像光学系とコンデンサ
光学系とを速やかに観察に適した位置に配置することが
できる。 〔実施の形態4〕本実施の形態は、結像型軟X線顕微鏡
に適用したものであり、装置の全体を図7に、要部の詳
細を図8にそれぞれ示す。
【0034】X線光源406が真空容器410内に設置
され、撮像素子405が真空容器411内に設置されて
いる。結像光学系401はOリング452を介してマウ
ント421に固定されており、マウント421はベロー
451を介して真空容器411に接続されている。結像
光学系401の試料側は真空窓であるベリリウム窓45
3となっている。すなわち、真空容器411と,ベリリ
ウム窓453と,結像光学系401と,Oリング452
と,マウント421と,ベロー451とで気密構造とな
っている。コンデンサ光学系402はOリング462を
介してマウント425に固定されており、マウント42
5はベロー461を介して真空容器410に接続されて
いる。コンデンサ光学系402の試料側は真空窓である
ベリリウム窓463となっている。すなわち、真空容器
410と,ベリリウム窓463と,コンデンサ光学系4
02と,Oリング462と,マウント425と,ベロー
461とで気密構造となっている。X線光源406から
のX線はコンデンサ光学系402によって集光されベリ
リウム窓463を透過して試料を照明し、試料を透過・
散乱したX線はベリリウム窓453を透過して結像光学
系401によって撮像装置405上に結像する。真空容
器410,411は図示しない真空排気装置によってそ
れぞれ独立に真空排気することができる。
【0035】前記結像光学系401は多層膜を積層した
凹面鏡401aと凸面鏡401bとからなるシュヴァル
ツシルト光学系であり、マウント421に固定されてい
る。マウント421はガイドレール422を介してステ
ージ423によって支持されており、図示しない駆動機
構によって光軸方向にスライドすることができるように
なっている。ステージ423は真空容器411に固定さ
れている。コンデンサ光学系402は、回転楕円面形状
の全反射鏡402aであり、マウント425に固定され
ている。マウント425はガイドレール426を介して
ステージ427によって支持されており、図示しない駆
動機構によって光軸方向にスライドすることができる。
ステージ427は真空容器410に固定されている。し
たがって、結像光学系401と試料との距離、コンデン
サ光学系402と試料との距離をそれぞれ変化させ、互
いに十分に離すことができる。
【0036】まず、結像光学系401とコンデンサ光学
系402のアライメントについて説明する。結像光学系
401は、部材424をステージ423に接触させた状
態にして、ステージ423が備える図示しない微動装置
によってアライメントをおこなう。コンデンサ光学系4
02は、結像光学系401と同様に、部材428をステ
ージ427に接触させた状態にして、ステージ427が
備える図示しない微動装置によってアライメントをおこ
なう。
【0037】次に、X線観察時の操作について説明す
る。図7(a),図8(a)はX線観察時の状態を示
す。部材424,428をステージ423,427にそ
れぞれ接触させる。前記したアライメントによって、こ
のとき結像光学系401とコンデンサ光学系402は観
察に適した位置に配置された状態となるので、試料43
0をX線観察することができる。ステージ403はマウ
ント403bと、それに支持されたステージ403aと
からなり、ステージ403aに試料430をセットす
る。すなわち、試料430をセットしたステージ403
aは大気中にある。ステージ403aは三軸の直線駆動
機構を備え、試料430の位置合わせやフォーカシング
をおこなえるようになっている。なお、真空容器41
0,411は真空排気している。
【0038】次に、可視光観察時または紫外光観察時の
操作について説明する。図7(b),図8(b)は可視
光観察時または紫外光観察時の状態を示す。大気中に顕
微鏡470を備え、可視光観察または紫外光観察をおこ
なう。結像光学系401と試料との距離,コンデンサ光
学系402と試料との距離が狭いため、結像光学系40
1をステージ423の方向へスライドさせ、コンデンサ
光学系402をステージ427の方向へスライドさせ
て、ステージ403aを顕微鏡470の光軸上に移動で
きるように結像光学系401とコンデンサ光学系402
との間隔を拡げる。その後、図示しない移動機構によっ
てステージ403aを顕微鏡470の光軸上に移動す
る。再度のX線観察時は、ステージ403aを元に戻
し、次いで結像光学系401とコンデンサ光学系402
も元に戻す。すなわち、結像光学系401は部材424
がステージ423に接触する状態にし、コンデンサ光学
系402は部材428がステージ427に接触する状態
にする。これでX線観察時の状態に再現性よく戻すこと
ができる。
【0039】このように、可視光観察時または紫外光観
察時等に、結像光学系と試料との距離,コンデンサ光学
系と試料との距離を十分に確保することができ、容易に
試料の交換・移動をすることができる。また、その際に
ベリリウム窓を破損する危険が小さい。そして、X線観
察時は結像光学系とコンデンサ光学系とを速やかに観察
に適した位置に配置することができる。また、可視光顕
微鏡または紫外光顕微鏡を大気中に設置したので、通常
の可視光顕微鏡または紫外光顕微鏡を用いることができ
る。また、X線光学系が真空窓を備えているので、試料
の交換に際して大気開放をおこなう必要がなく、また、
作動距離を長くすることができる。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、結像光学系と試料との
距離,コンデンサ光学系と試料との距離を十分に確保す
ることができ、シャッタを設けることができる。また、
容易に試料の交換・移動をすることができる。また、X
線観察時は結像光学系とコンデンサ光学系とを速やかに
観察に適した位置に配置することができる。
【0041】さらに、X線観察と可視光観察または紫外
光観察とを、試料の位置合わせをし直すことなく速やか
に切り替えることができる。可視光顕微鏡または紫外光
顕微鏡を大気中に設置したので、通常の可視光顕微鏡ま
たは紫外光顕微鏡を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1によるX線観察装置の全
体図である。
【図2】本発明の実施の形態1によるX線観察装置の要
部の詳細図である。
【図3】本発明の実施の形態1によるX線観察装置の変
形例の要部の詳細図である。
【図4】本発明の実施の形態2によるX線観察装置の全
体図である。
【図5】本発明の実施の形態3によるX線観察装置の全
体図である。
【図6】本発明の実施の形態3によるX線観察装置の要
部の詳細図である。
【図7】本発明の実施の形態4によるX線観察装置の全
体図である。
【図8】本発明の実施の形態4によるX線観察装置の要
部の詳細図である。
【図9】X線観察装置の従来例の全体図である。
【符号の説明】
101,201,301,401 結像光学系 101a,401a 凹面鏡 101b,401b 凸面鏡 102,302,402 コンデンサ光学系 102a,402a 全反射鏡 103,123,127,203,303,323,3
27,403,403a,423,427 ステージ 104,204,304,410,411 真空容器 105,305,405 撮像素子 106,406 X線光源 107,108,109,207,208,209,3
07 シャッタ 110,111,112,210,211,212 真
空室 121,125,133,203a,321,325,
403b,421,425 マウント 122,126,322,326,422,426 ガ
イドレール 124,128,324,328,424,428 部
材 130,230,430 試料 132 回転軸 134 レーザ 135 検出器 136 ピンホール 137 ハーフミラー 138 レーザ光 139 ミラー 203b 試料台 203c ピラー 205 X線検出器 206,306 放射光 220 可視顕微鏡 221 支柱329 ピン 330 試料ホルダ 330a 試料室 330b 窒化シリコン膜 451,461 べロー 452,462 Oリング 453,463 ベリリウム窓 470 顕微鏡 501 X線発生器 502 コンデンサ光学系 503 結像光学系 504 撮像装置 505 鏡筒用真空容器 506 排気系 507 試料カプセル 508 試料ホルダ 509 収納室 510 ハウジング 511 X線透過窓 512 シャッタ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】X線光源と、X線用光学系と、該X線用光
    学系を観察に適した位置に配置する機構を有する光学系
    支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支持する
    試料支持手段と、これらを収納する真空容器とを備えた
    X線観察装置において、 前記光学系支持手段が、X線観察時における前記X線用
    光学系の位置を記憶する機構と、前記試料とX線用光学
    系との距離を変化させる機構とを有することを特徴とす
    るX線観察装置。
  2. 【請求項2】X線光源と、X線用光学系と、該X線用光
    学系を観察に適した位置に配置する機構を有する光学系
    支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支持する
    試料支持手段と、これらを収納する真空容器とを備えた
    X線観察装置において、 前記光学系支持手段が、前記X線用光学系を観察位置に
    設定するための位置調整手段と、前記設定した位置とそ
    こから外れた位置とを切り替える手段とを有することを
    特徴とするX線観察装置。
  3. 【請求項3】X線光源と、X線用光学系と、該X線用光
    学系を観察に適した位置に配置する機構を有する光学系
    支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支持する
    試料支持手段と、これらを収納する真空容器と、可視光
    観察系または紫外光観察系とを備えたX線観察装置にお
    いて、 前記試料支持手段が、試料を移動する機構を有し、可視
    光観察系または紫外光観察系とX線観察系とで前記試料
    支持手段を共有することを特徴とするX線観察装置。
  4. 【請求項4】X線光源と、X線用光学系と、該X線用光
    学系を観察に適した位置に配置する機構を有する光学系
    支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支持する
    試料支持手段と、可視光観察系または紫外光観察系とを
    備えたX線観察装置において、 前記光学系支持手段が、X線観察時における前記X線用
    光学系の位置を記憶する機構と、前記試料とX線用光学
    系との距離を変化させる機構とを有し、前記試料支持手
    段が、試料を移動する機構を有し、可視光観察系または
    紫外光観察系とX線観察系とで前記試料支持手段を共有
    することを特徴とするX線観察装置。
  5. 【請求項5】X線光源と、X線用光学系と、該X線用光
    学系を観察に適した位置に配置する機構を有する光学系
    支持手段と、観察対象となる試料と、該試料を支持する
    試料支持手段と、可視光観察系または紫外光観察系とを
    備えたX線観察装置において、 前記光学系支持手段が、前記X線用光学系を観察位置に
    設定するための位置調整手段と、前記設定した位置とそ
    こから外れた位置とを切り替える手段とを有し、前記試
    料支持手段が、試料を移動する機構を有し、可視光観察
    系または紫外光観察系とX線観察系とで前記試料支持手
    段を共有することを特徴とするX線観察装置。
  6. 【請求項6】可視光観察系または紫外光観察系の光軸と
    X線観察系の光軸との相対位置が固定されたことを特徴
    とする請求項3乃至5記載のX線観察装置。
  7. 【請求項7】試料を移動する機構が、可視光観察系また
    は紫外光観察系とX線観察系との切り替え機構を、試料
    の位置合わせ・フォーカシング機構とは別体に有するこ
    とを特徴とする請求項3乃至6記載のX線観察装置。
  8. 【請求項8】前記試料支持手段によって可視光観察系ま
    たは紫外光観察系とX線観察系とを切り替える際に、可
    視光観察時または紫外光観察時の前記試料の位置とX線
    観察時の試料の位置とが等しくなるように調整されたこ
    とを特徴とする請求項7記載のX線観察装置。
  9. 【請求項9】前記X線用光学系が真空窓を備えたことを
    特徴とする請求項1乃至8記載のX線観察装置。
JP34084095A 1995-12-27 1995-12-27 X線観察装置 Pending JPH09178900A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34084095A JPH09178900A (ja) 1995-12-27 1995-12-27 X線観察装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34084095A JPH09178900A (ja) 1995-12-27 1995-12-27 X線観察装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09178900A true JPH09178900A (ja) 1997-07-11

Family

ID=18340795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34084095A Pending JPH09178900A (ja) 1995-12-27 1995-12-27 X線観察装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09178900A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003081605A1 (fr) * 2002-03-22 2003-10-02 Hamamatsu Photonics K.K. Dispositif d'agrandissement d'image de rayons x
WO2007058223A1 (ja) * 2005-11-16 2007-05-24 Olympus Corporation 光学顕微鏡装置
ES2396400A1 (es) * 2011-08-31 2013-02-21 Consejo Superior De Investigaciones Científicas (Csic) Dispositivo para caracterización de muestras por medio de difracción o de dispersión de rayos x
CN107561101A (zh) * 2017-09-15 2018-01-09 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种真空飞行管道的软x射线成像装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003081605A1 (fr) * 2002-03-22 2003-10-02 Hamamatsu Photonics K.K. Dispositif d'agrandissement d'image de rayons x
WO2007058223A1 (ja) * 2005-11-16 2007-05-24 Olympus Corporation 光学顕微鏡装置
JPWO2007058223A1 (ja) * 2005-11-16 2009-05-07 オリンパス株式会社 光学顕微鏡装置
US7884999B2 (en) 2005-11-16 2011-02-08 Olympus Corporation Optical microscope apparatus
JP2011118435A (ja) * 2005-11-16 2011-06-16 Olympus Corp 光学顕微鏡装置
JP4728344B2 (ja) * 2005-11-16 2011-07-20 オリンパス株式会社 光学顕微鏡装置
ES2396400A1 (es) * 2011-08-31 2013-02-21 Consejo Superior De Investigaciones Científicas (Csic) Dispositivo para caracterización de muestras por medio de difracción o de dispersión de rayos x
WO2013030420A1 (es) * 2011-08-31 2013-03-07 Consejo Superior De Investigaciones Científicas (Csic) Dispositivo para caracterización de muestras por medio de difracción o de dispersión de rayos x
CN107561101A (zh) * 2017-09-15 2018-01-09 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种真空飞行管道的软x射线成像装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5222113A (en) X-ray microscope
US5032720A (en) Confocal imaging system
EP0530274B1 (en) Bidirectional light steering apparatus
US9081193B2 (en) Interferometric systems and methods
CA2060217C (en) Water window imaging x-ray microscope
US5144477A (en) Method of operating a scanning confocal imaging system
US5912939A (en) Soft x-ray microfluoroscope
US5533083A (en) Vacuum optical system
US6282020B1 (en) Laser microscope and confocal laser scanning microscope
JPH09178900A (ja) X線観察装置
US11762181B2 (en) Scanning microscope with enhanced FOV and NA
US20050226372A1 (en) X-ray image magnifying device
JP3029040B2 (ja) X線顕微鏡
JP3020460B2 (ja) 真空光学系構造
JPH07174899A (ja) 軟x線顕微鏡、及びアライメント調整方法
JP2001174708A (ja) 赤外顕微鏡
JPH04265900A (ja) 結像型軟x線顕微鏡装置
JPH07167994A (ja) X線光学系
JPH09251100A (ja) 軟x線顕微鏡
JPH06230200A (ja) 軟x線顕微鏡
JP3686708B2 (ja) 落射照明装置
JP3226338B2 (ja) 軟x線顕微鏡のケーラ照明光学系
JPH1020100A (ja) 画像形成方法、画像形成装置及びx線顕微鏡
JP2711537B2 (ja) X線露光装置
JPH06347600A (ja) X線顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040106