JPH09171615A

JPH09171615A - 磁気記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH09171615A
Application number: JP33242495A
Authority: JP
Inventors: Kenichiro Yoshida; 健一郎吉田
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1995-12-21
Filing date: 1995-12-21
Publication date: 1997-06-30

Abstract

(57)【要約】【課題】耐久性に優れた磁気記録媒体及びその製造方
法の提供。【解決手段】非磁性基板１２と、該非磁性基板１２上
に設けられた磁性層１４と、該磁性層１４上に設けられ
た保護層２４と、該保護層２４上に設けられた潤滑剤層
２６とを具備する本発明の磁気記録媒体１０は、上記潤
滑剤層２６の平均膜厚が０．１〜４ｎｍであり且つ水に
対する接触角が５５°以上であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体及び
その製造方法に関するものであり、更に詳しくは、耐久
性に優れる磁気記録媒体及びその製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年の
コンピューターの小型化及び高速化に伴い、外部記憶装
置にも大容量化及び高速アクセス化が要求されている。
コンピューター等の外部記憶装置の中でも、磁気ディス
ク装置は、大容量化及び高速アクセス化に適しているた
め、大きな需要を有している。

【０００３】従来、磁気ディスク装置としては、ディス
クの停止時に磁気ヘッドがディスクのランディング領域
に停泊するタイプのものと、ディスクの停止時に磁気ヘ
ッドが装置の格納箇所に格納されるタイプのものとがあ
る。前者のタイプの磁気ディスク装置は、磁気ヘッドを
格納するスペースが不要であるため、装置を小さくでき
るという長所がある。ノートブック型パーソナルコンピ
ューター等の可搬性に富むパーソナルコンピューターが
普及し、磁気ディスク装置の小型化が更に要求されてい
る近年においては、磁気ディスク装置として、このよう
なタイプのものが主流を占めている。

【０００４】しかしながら、このタイプの磁気ディスク
装置は、ディスクの起動時及び停止時に、磁気ヘッドと
ディスク表面のランディング領域とが接触及び離脱を繰
り返すため、起動時及び停止時に、ヘッドとディスク表
面との間に摺動状態が生じる。その結果、上記ランディ
ング領域は磁気ディスクの他の領域に比し磨耗が激しく
なる。

【０００５】上記摩耗を防止するため、磁気ディスク装
置のディスク表面には一般に潤滑剤層が設けられてい
る。ディスク表面に該潤滑剤層を設ける方法としては、
塗布による方法が一般的であるが、このような潤滑剤層
を設けたディスク装置においても、耐久性の点において
充分なものではない。この問題の解決方法として、潤滑
剤層の厚さを厚くすることが考えられる。しかし、近年
においては高密度記録が要求されるため、磁気ヘッド浮
上高さを低くする必要があるため、潤滑剤層を厚くした
場合、スティクションをおこす恐れがあり、更なる改良
が望まれていた。

【０００６】従って、本発明の目的は、耐久性に優れた
磁気記録媒体及びその製造方法を提供することにある。

【０００７】本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意
検討したところ、潤滑剤を塗布した直後の潤滑剤層にお
いては、該潤滑剤が保護層上を完全に被覆した状態にな
っておらず該潤滑剤は塊状となっており、各潤滑剤塊間
が離れた状態で保護層上に小さな接触角を保ちながら存
在していることを見い出し、この状態が潤滑剤層の耐久
性に大きく影響していることを知見した。

【０００８】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
のであり、非磁性基板と、該非磁性基板上に設けられた
磁性層と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保護層
上に設けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体にお
いて、上記潤滑剤層は、その平均膜厚が０．１〜４ｎｍ
であり且つ水に対する接触角が５５°以上であることを
特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。

【０００９】また、本発明は、上記磁気記録媒体の好ま
しい製造方法として、非磁性基板と、該非磁性基板上に
設けられた磁性層と、該磁性層上に設けられた保護層
と、該保護層上に設けられた潤滑剤層とを具備する磁気
記録媒体の製造方法において、上記潤滑剤層形成後の磁
気記録媒体を、密閉容器内で１日以上エージングするこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供するもの
である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体の好
ましい実施形態を図面を参照して詳細に説明する。ここ
で、図１は、本発明の磁気記録媒体の好ましい第一の実
施形態の構造を示す模式図である。

【００１１】図１に示す実施形態の磁気記録媒体１０
は、非磁性基板１２と、上記非磁性基板１２の上に設け
られた第１下地層２０と、該第１下地層上に設けられた
第２下地層２２と、該第２下地層２２上に設けられた磁
性層１４と、該磁性層１４上に設けられた保護層２４
と、該保護層２４上に設けられた潤滑剤層２６とを具備
している。以下、上記磁気記録媒体１０を構成する各層
についてそれぞれ説明する。

【００１２】まず、上記磁気記録媒体１０における上記
非磁性基板について説明すると、該非磁性基板１２とし
ては、例えば、Ａｌ基板、ＮｉＰめっきＡｌ合金基板、
強化ガラス基板、結晶化ガラス基板、セラミックス基
板、Ｓｉ合金基板、Ｔｉ基板、Ｔｉ合金基板、プラスチ
ック基板、カーボン基板、及びこれらの複合材料から成
る基板等が使用できる。これらのうち、特にカーボン基
板、就中ガラス状カーボン基板は、小径／薄板化に有利
であり、耐熱性に優れ、しかも導電性も有しているの
で、本発明において好ましく用いられる。

【００１３】次に、上記非磁性基板１２と上記磁性層１
４との間にそれぞれ設けられる上記第１下地層２０及び
上記第２下地層２２について説明すると、該第１下地層
２０は、媒体ノイズを低減させる目的で設けられるもの
であり、Ｔｉ又はＴｉ合金から構成されるものであるこ
とが好ましい。一方、該第１下地層２０上に設けられる
第２下地層２２は、上記磁性層１４の静磁気特性の向上
を目的として設けられるものであり、この目的のため
に、その材質としては該磁性層１４を構成する物質の格
子定数に近いものを用いることが好ましい。特に、第２
下地層２２は、Ｃｒ又はＣｒを含む二元合金からなるこ
とが静磁気特性の向上と共に媒体ノイズの低減化の点か
ら好ましい。該Ｃｒを含む二元合金の例としては、Ｃｒ
Ｔｉ、ＣｒＭｏ、ＣｒＷ、ＣｒＮｂ、ＣｒＳｉ、ＣｒＣ
ｏ、ＣｒＴａ等を挙げることができる。

【００１４】上記第１下地層及び第２下地層２２の厚さ
は、それぞれ５〜２００ｎｍ及び５〜１５０ｎｍである
ことが好ましい。上記第１下地層２０及び第２下地層２
２は、例えば、真空蒸着、スパッタリング及びイオンプ
レーディング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）のような
薄膜形成手段によって好ましく形成される。

【００１５】次に、上記第２下地層２２上に設けられる
磁性層１４について説明すると、該磁性層１４として
は、例えば、ＰＶＤにより形成された金属薄膜型の磁性
層を挙げることができる。該金属薄膜型の磁性層を形成
する材料としては、例えば、ＣｏＣｒ、ＣｏＮｉ、Ｃｏ
ＣｒＸ、ＣｏＣｒＰｔＸ、ＣｏＳｍ、ＣｏＳｍＸ、Ｃｏ
ＮｉＸ及びＣｏＷＸ（ここで、Ｘは、Ｔａ、Ｐｔ、Ａ
ｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｗ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｃａ、Ａｓ、
Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｓｂ及びＨ
ｆ等からなる群より選ばれる１種又は２種以上の金属を
示し、組成中同一元素の組み合わせは除く）等で表され
るＣｏを主成分とするＣｏ系の磁性合金等を好ましく挙
げることができる。使用に際しては、これらを単独で又
は２種以上を組み合わせて用いることができる。上記磁
性層１４の厚さは２０〜５０ｎｍであることが好まし
い。

【００１６】次いで、上記磁性層上に設けられる上記保
護層２４について説明すると、該保護層は、上記磁性層
１４を保護するために用いられるものである。上記保護
層は、耐摩耗性の観点から力学的強度の高い材料で形成
されていることが好ましく、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ等の金属の酸化
物（酸化ケイ素、酸化ジルコニウム等）；該金属の窒化
物（窒化ホウ素等）；該金属の炭化物（炭化ケイ素、炭
化タングステン等）；ダイヤモンドライクカーボン等の
カーボン（炭素）及びボロンナイトライド等からなる群
より選択される一種以上が用いられることが好ましい。
また、上記材料の中でも、カーボン、炭化ケイ素、炭化
タングステン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、窒化ホ
ウ素又はこれらの複合材料が好ましく、更に好ましくは
カーボンであり、中でも特にダイヤモンドライクカーボ
ン及びガラス状カーボンが好ましい。上記保護膜の厚さ
は、一般に５〜２５ｎｍであることが好ましい。

【００１７】而して、本発明の特徴である、上記保護層
２４上に設けられる上記潤滑剤層２６について説明する
と、上記潤滑剤層は、磁気記録媒体の走行性及び耐久性
を向上させるために用いられるものであり、例えば厚さ
が目的の厚さになるように潤滑剤を塗布する方法により
形成することができる。該潤滑剤としては、含フッ素系
潤滑剤を好適に用いることができる。該含フッ素系潤滑
剤としては、分子中に極性基を有するもの及び極性基を
有しないものの双方を単独で又は組み合わせて用いるこ
とができる。分子中に極性基を有する上記含フッ素系潤
滑剤としては、−（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n−（ＣＦ₂Ｏ）
_m−骨格を有し、末端に芳香族環又はＯＨ基を有し、且
つ分子量が２０００〜４０００であるものが好ましい。
具体例としては、フオンブリンＡＭ２００１、フオンブ
リンＺＤＯＬ（アジモント社）等が挙げられる。一方、
分子中に極性基を有しない上記含フッ素系潤滑剤として
は、ＣＦ₃−（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n−（ＣＦ₂Ｏ) _m−
ＣＦ₃で表わされ、分子量が２０００〜１００００であ
るものが好ましい。具体例としては、フオンブリンＺ
０３（アオジモント社）等が挙げられる。

【００１８】上記潤滑剤層２６について更に詳述する
と、該潤滑剤層２６は、、その平均膜厚が０．１〜４ｎ
ｍであり且つ水に対する接触角が５５°以上である。上
記潤滑剤層２６の平均膜厚は０．５〜２ｎｍであること
が好ましく、１〜１．５ｎｍであることが更に好まし
い。一方、上記潤滑剤層２６の水に対する接触角は５８
°以上であることが好ましく、分子末端が非極性基であ
る潤滑剤を使用する場合には６０〜７０°であることが
更に好ましい。上記潤滑剤層２６の平均膜厚が４ｎｍを
超えるとスティクションをおこす恐れがあり、０．１ｎ
ｍ未満であると十分な潤滑性能が得られずディスク表面
の耐摩耗性が悪化する。また、上記潤滑剤層２６の水に
対する接触角が５５°未満であると潤滑剤による被覆が
充分に行われず、ヘッド表面と保護膜表面が直接的に接
するので、耐摩耗性に劣る。なお、上記潤滑剤層２６の
水に対する接触角の値は、磁気記録媒体の表面に超純水
の水滴を垂らし、接触角測定器を用いて測定することが
できる。また、平均膜厚はＥＳＣＡによってＣ−ＦのＣ
（１Ｓ）ピーク強度より測定することができる。

【００１９】上記潤滑剤層２６の平均膜厚及び水に対す
る接触角を上記範囲にする方法としては、特に制限はな
いが、好ましくは後述する方法を用いることができる。

【００２０】また、本発明の磁気記録媒体においては、
上記潤滑剤層２６の上記保護層２４に対する被覆率は６
０％以上であることが好ましく、７０〜９９．５％であ
ることが更に好ましい。被覆率が６０％未満であるとヘ
ッドとディスクの保護膜との接触点のうち潤滑剤を介せ
ずに接する部分が増え、摩耗の進行が早まるので、６０
％以上とすることが好ましい。なお、上記被覆率の値
は、角度分解ＥＳＣＡの手法を用いてＣ（１Ｓ）ピーク
より測定することができる。

【００２１】上記潤滑剤層２６は、テクスチャー処理に
よる凹凸面の上に設けられていることが好ましい。上記
潤滑剤層２６をテクスチャー処理による凹凸面の上に設
けることにより、凹凸面の凸部から凹部へ分散するエネ
ルギーが平滑面に比べて低くなるため、潤滑剤層２６の
保護層２４に対する被覆率が高くなると共に磁気記録媒
体１０の表面とヘッドとの接触面積が小さくなり、ヘッ
ド吸着が低減するので、磁気記録媒体１０の耐久性が向
上する。また、磁気記録媒体１０の製造に際し、潤滑剤
層２６の保護層２４に対する被覆率が所望の値になるま
での時間を短くすることができる。尚、上記凹凸面は、
ＣＣＳ方式をとる磁気ディスク装置において用いられる
磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドと接触する領域に
のみ設けられていればよい。

【００２２】上記テクスチャー処理による凹凸面の形状
は、下記の条件（１）〜（６）を満たしていることが好
ましい。（１）最大突起高さから２５Åの深さで切ったときの山
の数（ＰＣ２５）が、５〜１００本／ｍｍ。（２）最大突起高さから５０Åの深さで切ったときの山
の数（ＰＣ５０）と上記ＰＣ２５との比（ＰＣ５０／Ｐ
Ｃ２５）が１〜３。（３）平均線におけるハイスポットカウント（ＨＳＣ）
と上記ＰＣ２５との比（ＨＳＣ／ＰＣ２５）が１〜４。（４）スキューネスが、１〜５。（５）最大突起高さが、６０〜２００Å。（６）最大突起高さから５０Åの深さでのベアリング比
が３％以下。上記テクスチャー処理による凹凸面の形状が、上記要件
（１）〜（６）を満たすことにより、ディスク面とヘッ
ドとの吸着がより一層低減される。

【００２３】上記テクスチャー処理による凹凸面は、そ
の形成方法には特に制限されないが、例えば、下記の方
法により形成することができる。即ち、上記非磁性基板
１２、上記第１下地層２０、上記第２下地層２２又は上
記磁性層１４の何れかの表面に直接凹凸面を形成する方
法、及び上記非磁性基板１２又は上記各層上に直接又は
別の層を介して凹凸膜を形成することによって凹凸面を
形成する方法等が挙げられる。上記の直接凹凸面を形成
する方法としては、例えば、上記非磁性基板１２の表面
を研磨又は研削する方法等が挙げられる。また、上記の
直接又は別の層を介して凹凸膜を形成することによって
凹凸面を形成する方法としては、Ａｌ又はＡｌ−Ｍ（Ｍ
はカーバイド形成能を有する金属である）からなる層
を、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）に
より上記非磁性基板１２の上に形成する方法が挙げられ
る。尚、凹凸面が形成された上記非磁性基板１２又は上
記各層の平均表面粗さ（Ｒａ）は１０〜１００Åである
ことが好ましい。

【００２４】本発明の磁気記録媒体は、例えば、磁気ド
ラム、磁気テープ、磁気カード及び磁気ディスク等とし
て有用であり、特に固定ディスク等の磁気ディスクとし
て有用である。

【００２５】次に、本発明の磁気記録媒体を製造するた
めの好ましい方法について説明する。本発明の磁気記録
媒体は、好ましくは、非磁性基板と、該非磁性基板上に
設けられた磁性層と、該磁性層上に設けられた保護層
と、該保護層上に設けられた潤滑剤層とを具備する磁気
記録媒体の製造方法において、上記潤滑剤層形成後の磁
気記録媒体を、密閉容器内で１日以上エージングするこ
とを特徴とする方法によって製造される。

【００２６】本発明の磁気記録媒体の製造方法において
は、密閉容器内でエージングを１日以上行う工程が重要
である。かかる工程によって、潤滑剤を塗布した直後の
潤滑剤層に存在する塊状の潤滑剤が次第に連続的なもの
に変化し、その結果上記厚さ及び接触角を有する潤滑剤
層が得られる。更には、上記潤滑剤層の上記保護層に対
する被覆率も６０％以上となる。従って、上記エージン
グの時間が１日未満であると潤滑剤が保護層表面を充分
に覆う前に、大気中の有機物等が保護膜上の活性点を覆
ってしまい、潤滑剤による被覆がさまたげられてしまう
ので好ましくない。上記エージングの時間は、好ましく
は３〜２０日であり、更に好ましくは５〜７日である。
また、上記エージングを密閉容器内で行う理由は、雰囲
気中の活性点を覆う因子を限定するためである。

【００２７】上記製造方法におけるエージングの際の密
閉容器内の雰囲気に特に制限はなく、例えば、空気、Ｃ
Ｈ₄、Ｈ₂及びＯ₂等を用いることができるが、好まし
くは不活性ガス雰囲気又は真空条件下で上記エージング
を行う。上記エージングを、不活性ガス雰囲気又は真空
条件下で行うことにより保護層表面の活性点が、空気中
の分子やイオンに覆われずに、潤滑剤分子との吸着をさ
またげないことが好ましい。上記不活性ガスとしては、
例えば、Ａｒ、Ｈｅ、Ｘｅ及びＮ₂等を用いることがで
きる。また、該不活性ガスは、上記密閉容器内に１〜７
６０Ｔｏｒｒの圧力に充填されることが潤滑剤の気化を
おさえ、且つ被覆を促進する点から好ましい。一方、上
記真空条件下とは、大気圧以下の圧力をいい、好ましい
圧力は１〜３８０Ｔｏｒｒである。

【００２８】また、上記製造方法におけるエージング
は、加熱処理しないで行うことが好ましい。加熱処理す
ると潤滑剤が揮発して所定の厚さの潤滑剤層の膜厚をコ
ントロールすることが困難になるからである。ここで、
「加熱処理しない」とは、上記エージングの際に上記密
閉容器を上記潤滑剤が揮発するような温度に積極的に加
熱しないことを意味する。上記エージングの際の特に好
ましい温度は、４０℃以下である。

【００２９】なお、上記エージングに先立つ上記潤滑剤
層の形成方法に特に制限はなく、例えば、上記潤滑剤層
の説明において例示したような潤滑剤を、ディップコー
ティングやスピンコーティング等により、上記保護層上
に塗布することによって、上記潤滑剤層を形成すること
ができる。

【００３０】以上、本発明の磁気記録媒体及びその製造
方法について詳細に説明したが、上記の説明以外に特に
詳述しなかった点については、従来の磁気記録媒体に関
する説明が適宜適用される。例えば、上記製造方法の説
明においては、潤滑剤層形成後の磁気記録媒体のエージ
ングを中心に説明したが、該エージング以外の工程に関
しては、公知の磁気記録媒体の製造方法と同様の方法を
特に制限なく採用することができる。

【００３１】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明は、かかる実施例に限定されるものでは
ない。

【００３２】〔実施例１〕図１に示す構成の磁気ディス
クを製造した。即ち、密度１．５ｇ／cm³のアモルファ
スカーボン基板（サイズ２．５”）を研磨し、その平均
表面粗さを０．５〜１．０ｎｍにした。該カーボン基板
を精密洗浄した後、パレットにロードし、４カソードを
有するインライン式スパッタリング装置にセットした。
カソードには、それぞれ４φ”サイズのＴｉ、Ｃｒ、Ｃ
ｏＣｒ₁₂Ｐｔ₆Ｂ₄、及びＣのターゲットを設置した。
次いで、スパッタチャンバー内を排気し５×１０^-7ｍＴ
ｏｒｒまで真空にし、上記アモルファスカーボン基板を
ヒーターにより２００℃まで加熱して、下記の条件下に
て順次各層の形成を行った。なお、スパッタ時のＡｒガ
ス圧は、各層の形成時すべて５ｍＴｏｒｒであった。

【００３３】（１）第１下地層・材料：Ｔｉ・基板バイアス電圧：−１００Ｖ・膜厚：５０ｎｍ（２）第２下地層・材料：Ｃｒ・基板バイアス電圧：−１００Ｖ・膜厚：５０ｎｍ（３）磁性層・材料：ＣｏＣｒ₁₂Ｐｔ₆Ｂ₄ ・基板バイアス電圧：−１００Ｖ・膜厚：３５ｎｍ（４）保護層・材料：Ｃ・基板バイアス電圧：−１００Ｖ・膜厚：１５ｎｍ

【００３４】上記保護層形成後、Ａｒガスを止め、上記
アモルファスカーボン基板が５０℃以下になるまで放置
した。その後、上記保護層上に、フオンブリンＺ−０３
（アオジモント社）をエージング後の厚さが２ｎｍとな
るようにディップコーディングして潤滑剤層を設け、図
１に示す構成の磁気ディスクを得た。このようにして得
られた磁気ディスクを強化ガラス製密閉容器内に移し、
容器内を１０ｍＴｏｒｒの真空度に保ち、室温（２０
℃）下で３日間エージングを行った。

【００３５】得られた磁気ディスクについて、下記〔磁
気ディスクの評価基準〕に従って、それぞれ評価を行っ
た。その結果を表１に示す。

【００３６】〔磁気ディスクの評価基準〕＜潤滑剤層の厚さ＞ＦＴ−ＩＲ分析装置を用い、ＲＡＳ
法により測定した。その際の検量線は、ＥＳＣＡで測定
した膜厚との相関により作成した。ＥＳＣＡの測定条件
を以下に示す。・測定条件・光電子取り出し角；３５° ・Ｘ線源；単色化Ａｌ−Ｋα線・Ｘ線出力；１５ｋＶ−２０ｍＡ（３００Ｗ）＜潤滑剤層の接触角＞磁気ディスク表面に超純水の水滴
を垂らし、５秒後に磁気ディスク表面の水滴の端及び頂
点を結ぶ線と磁気ディスク表面とのなす角度角を測定
し、その２倍の値を接触角とした。＜潤滑剤層の保護層に対する被覆率＞ＥＳＣＡにより保
護層のＣ（１Ｓ）ピーク（１）と潤滑剤層のＣ−Ｆ結合
由来Ｃ（１Ｓ）ピーク（２）とのエリア曲線∝Ｒ〔＝
（２）／（１）〕を、光電子取り出し角度２５〜９０°
の範囲で各々求め、別途求めた潤滑剤層の膜厚で各ｓｉ
ｎθ−Ｒプロットを行い、このシュミレーションより被
覆率を求めた。＜耐久性＞ＣＳＳテストを１０万回行った後の動摩擦係
数の上昇率をＣＳＳテスト開始前の動摩擦係数を基準と
して求め、評価を行った。評価基準は以下の通りであ
る。 ○：上昇率が１５０％未満である。 △：上昇率が１５０％以上２００％未満である。 ×：上昇率が２００％以上である。＜スティクション＞ＣＳＳテストを１０万回行った後
に、２時間停止し、その後で再起動したときの静摩耗係
数が、ＣＣＳテストを９万９千回〜１０万回行った場合
の静摩擦係数の平均値の１３０％を超えた場合を、ステ
ィクションありと判定した。

【００３７】〔実施例２〕実施例１におけるガラス製容
器内にＡｒガスを１０Ｔｏｒｒ導入した条件下でエージ
ングを行う以外は実施例１と同様に操作を行い、磁気デ
ィスクを得た。得られた磁気ディスクの評価を実施例１
と同様に行った。その結果を表１に示す。

【００３８】〔実施例３〕実施例１と同様のアモルファ
スカーボン基板上に、Ａｌ−Ｓｉ（１０ｗｔ％）をター
ゲットを用いたＡｌ＋Ｏ₂（１０％）の混合ガス雰囲気
中（圧力１０ｍＴｏｒｒ）中でのスパッタリングによ
り、厚さ８０ｎｍのＡｌ−Ｓｉ−Ｏ系合金からなる層を
形成した。尚、基板バイアス電圧は０Ｖで行った。次い
で、実施例１と同様に操作を行い、第１下地層及び第２
下地層を形成した。上記Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ系合金からなる
層を形成することにより、第２下地層上に、下記条件を
具備する凹凸面が形成された。・ＰＣ２５；１２本／ｍｍ・ＰＣ５０／ＰＣ２５；１．５・ＨＳＣ／ＰＣ２５；２．３・スキューネス；２．５・最大突起高さ；１６０Å ・最大突起高さから５０Åの深さでのベアリング比；
１．０％次いで、実施例１と同様に操作を行い、保護層及び潤滑
剤層を形成した。得られた磁気ディスクの評価を実施例
１と同様に行った。その結果を表１に示す。

【００３９】〔比較例１〕エージングを行わなかった以
外は実施例１と同様に操作を行い、磁気ディスクを得
た。得られた磁気ディスクの評価を実施例１と同様に行
った。その結果を表１に示す。

【００４０】〔比較例２〕実施例１における潤滑剤層の
厚さを５ｎｍとする以外は実施例１と同様に操作を行
い、磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクの評価
を実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。

【００４１】〔比較例３〕実施例１において潤滑剤層形
成後、エージングを行うのに代えて大気中にて８０℃で
１時間加熱処理を行う以外は実施例１と同様に操作を行
い、磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクの評価
を実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】表１に示す結果から明らかなように、潤滑
剤層形成後の磁気ディスクを密閉容器内で１日以上エー
ジングして製造された、潤滑剤層の平均膜厚が０．１〜
４ｎｍであり且つ水に対する接触角が５５°以上である
本発明の磁気ディスク（実施例１〜３）は、耐久性に優
れたものであることがわかる。これに対して、潤滑剤層
の平均膜厚が４ｎｍを超えるか、または潤滑剤層の接触
角が５５°未満である比較例１〜３の磁気ディスクは、
実施例１〜３の磁気ディスクよりも耐久性に劣るもので
ある。

【００４４】

【発明の効果】以上、詳述した通り、本発明の磁気記録
媒体は、潤滑剤層の平均膜厚を０．１〜４ｎｍとし、且
つ潤滑剤層の水に対する接触角を５５°以上とすること
により、耐久性に優れたものとなる。また、本発明の磁
気記録媒体の製造方法によれば、潤滑剤層形成後の磁気
記録媒体を、密閉容器内で１日以上エージングすること
により、耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の好ましい一実施形態の
構造を示す模式図である。

【符号の説明】

１０磁気記録媒体１２非磁性基板１４磁性層２０第１下地層２２第２下地層２４保護層２６潤滑剤層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板と、該非磁性基板上に設けら
れた磁性層と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保
護層上に設けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体
において、上記潤滑剤層は、その平均膜厚が０．１〜４ｎｍであり
且つ水に対する接触角が５５°以上であることを特徴と
する磁気記録媒体。
【請求項２】上記潤滑剤層の上記保護層に対する被覆
率が６０％以上である、請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】上記保護層がカーボンからなる、請求項
１又は２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】上記潤滑剤層が、テクスチャー処理によ
る凹凸面の上に設けられている、請求項１〜３の何れか
に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】非磁性基板と、該非磁性基板上に設けら
れた磁性層と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保
護層上に設けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体
の製造方法において、上記潤滑剤層形成後の磁気記録媒体を、密閉容器内で１
日以上エージングすることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
【請求項６】上記エージングを不活性ガス雰囲気又は
真空条件下で行う、請求項５記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【請求項７】上記エージングを加熱処理しないで行
う、請求項５又は６記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】上記保護層をカーボンから形成する、請
求項５〜７の何れかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】上記潤滑剤層を含フッ素系潤滑剤から形
成する、請求項５〜８の何れかに記載の磁気記録媒体の
製造方法。