JPH09171608A

JPH09171608A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH09171608A
Application number: JP33184595A
Authority: JP
Inventors: Fumi Tsujino; 扶美辻野
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-12-20
Filing date: 1995-12-20
Publication date: 1997-06-30

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気コアをパターニングするためのコア用マ
スクを高い寸法精度で形成し、これによって所定のトラ
ック幅を有しトラックプロファイルの良好な磁気コアを
形成する。【解決手段】磁気コアを形成する前工程で形成した材
料層２を囲むようにしてレジスト溜めパターンを形成し
た後、このレジスト溜めパターン内に平坦化用レジスト
４を充填し、この平坦化用レジストをマスク膜５で覆い
ながらエッチング加工を施すことでコア用マスク１０を
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気コアや導体コ
イルが薄膜プロセスによって形成される薄膜磁気ヘッド
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ハードディスク・ドライブ（駆
動装置）の記録再生ヘッドとしては、磁性金属薄膜を磁
気コアとして使用する磁気誘導型の薄膜磁気ヘッド（以
下、インダクティブヘッドと称する。）が用いられてい
る。

【０００３】このインダクティブヘッドは、図９
（ａ），（ｂ）で示すように、基板２１上に、下部磁気
コア２２とギャップ膜２３が形成され、この上にスパイ
ラル状の導体コイル層２４及び上部磁気コア２５が、間
に絶縁層２６を介して順次積層され、さらに上部磁気コ
ア２５上を覆う如く保護膜４５が形成されて構成され
る。このインダクティブヘッドでは、下部磁気コア２２
と上部磁気コア２５の間に形成されたギャップ膜２３に
よって、記録媒体と対向する面（磁気記録媒体摺動面）
Ｓに磁気ギャップｇが形成される。

【０００４】しかしながら、ハードディスクに記録され
る記録信号は益々短波長化し、上記インダクティブヘッ
ドでは短波長信号に対する再生感度が不十分であること
から、対応しきれなくなってきている。

【０００５】このため、最近では、記録用ヘッドとして
インダクティブヘッドを用い、信号再生用ヘッドとして
短波長感度に優れた磁気抵抗効果型ヘッド（以下、ＭＲ
ヘッドと称する。）を用いる複合型ヘッドが採用される
方向にある。

【０００６】このＭＲヘッドは、遷移金属に見られる磁
化の向きとその内部を流れる電流の向きのなす角によっ
て、電気抵抗値が変化する磁気抵抗効果現象を利用した
再生ヘッドである。

【０００７】すなわち、磁気記録媒体からの漏洩磁束を
ＭＲ磁性薄膜が受けると、その磁束により上記ＭＲ磁性
薄膜の磁化の向きが回転し、当該ＭＲ磁性薄膜内部に流
れる電流の向きに対して磁性量に応じた角度をもつよう
になる。それ故にＭＲ磁性薄膜の電気抵抗値は変化し、
この変化量に応じた電圧変化が電流を流しているＭＲ磁
性薄膜の両端の電極に現れるので電圧信号として磁気記
録信号を読み出せることになる。

【０００８】このＭＲヘッドとインダクティブヘッドを
備えた複合型薄膜磁気ヘッドは、具体的には、図１０
（ａ），（ｂ）に示すように、磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ド部（ＭＲヘッド部）Ａ上に磁気誘導型磁気ヘッド部
（インダクティブヘッド部）Ｂが積層され、さらにイン
ダクテイブヘッド部Ｂ上に覆う如く保護膜４６が形成さ
れて構成されている。

【０００９】このうちＭＲヘッド部Ａは、基板２７上に
下部シールド磁性層２８が形成され、この上にＭＲ磁性
薄膜よりなる磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）２９、バイ
アス導体３０、上部シールド磁性層３１が絶縁層３４を
介して積層されて構成されている。なお、ＭＲ素子２９
の両端部には、当該ＭＲ素子２９にセンス電流を通電す
るための前端電極３５と後端電極３６がそれぞれ積層さ
れている。このＭＲヘッド部Ａでは、磁気記録媒体摺動
面ＳにＭＲ素子２９の端面が露出されており、この端面
の側縁部によって再生ギャップｇ_Aが形成される。

【００１０】一方、インダクティブヘッド部Ｂは、ＭＲ
ヘッド部Ａの上部シールド磁性層３１に下部磁気コアの
機能を兼ねさせ、この下部磁気コア３１上にギャップ膜
３７が形成され、この上にスパイラル状の導体コイル３
８と上部磁気コア３９が間に絶縁体層４０を介して積層
されて構成される。このインダクティブヘッド部Ｂで
は、下部磁気コア３１と上部磁気コア３９の間に形成さ
れたギャップ膜３７によって、磁気記録媒体摺動面Ｓに
記録ギャップｇ_Bが形成される。

【００１１】ところで、このようなインダクティブヘッ
ドや複合型ヘッドは、スパッタリング法、メッキ法、フ
ォトリソグラフィ法を組合わせた薄膜プロセスによって
製造される。

【００１２】このうち、インダクティブヘッドあるいは
複合型磁気ヘッドのインダクティブヘッド部を構成する
下部磁気コア及び上部磁気コアは、いわゆるフレームメ
ッキ法で形成される。

【００１３】すなわち、フレームメッキ法で磁気コアを
形成するには、この磁気コアを形成すべき面の全面に、
メッキ下地層をスパッタリング法によって形成し、この
メッキ下地層上にフォトレジストを塗布することでレジ
スト膜を形成する。そして、このレジスト膜上に、磁気
コアの外形形状に対応したフレーム状のフォトマスクを
重ね、このフォトマスクの上からレジスト膜を露光す
る。その結果、フォトマスクが重ねられていない部分の
フォトレジストは可溶化し、フォトレジストが重ねられ
た部分のフォトレジストのみがこのフォトマスクのパタ
ーンに倣った形状、すなわち磁気コアの外形形状に対応
したフレーム状に残存する。

【００１４】そして、このフレーム状のレジスト膜をコ
ア用マスクとして、上記メッキ下地層上に電解メッキ法
によって磁性膜を析出させた後、フレーム状のコア用マ
スクと、このコア用マスクの周辺にある不要な磁性膜を
除去することにで磁気コアは形成されることになる。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、例えばイン
ダクティブヘッドでの上部磁気コアを形成するに際して
は、その下に、既に下部磁気コア、スパイラル状の導体
コイル、絶縁体層が形成されていることから、その形成
すべき面にはこれらの厚さの合計分だけ段差が生じてお
り、この段差を有した面に対してコアを形成しなければ
ならない。また、複合型ヘッドでは、下部磁気コアの下
に、さらにＭＲヘッド部の下部シールド磁性層、ＭＲ感
磁部、バイアス導体、絶縁体層等が形成されていること
から、インダクティブヘッド部の場合よりもさらに大き
な段差を有した面に上部磁気コアを形成しなければなら
ない。これらの段差は１０〜２０μｍ程度であり、この
ような段差を有する場合、特に磁気コアをパターニング
するためのコア用マスクを精度良く形成するのが困難に
なる。

【００１６】すなわち、段差を有する面に、フォトレジ
ストを塗布した場合、段差の上部と下部でレジスト膜の
厚さが異なってしまい、全体としてレジスト膜の厚さが
不均一になる。また、フォトマスクをフォトレジスト上
に重ねる際のフォーカシングが段差の上部と下部で異な
ってしまうため、フォトマスクの位置精度が損なわれ、
コアパターンのレジスト膜への再現性が低くなる。

【００１７】さらに、レジスト膜を露光するに際しても
以下のような問題が生じる。

【００１８】すなわち、レジスト膜の下側にはＮｉ−Ｆ
ｅ等の金属磁性材料よりなるメッキ下地層が形成されて
いるので、このメッキ下地層とレジスト膜の界面で反射
が起こり易い。露光用に入射させた光がこの界面で反射
した場合、入射光とともに反射光によってもレジストが
感光することになる。

【００１９】このとき、特に、この界面に段差がある
と、図１１に示すように、段差４１の両側にある斜面か
ら反射した反射光Ｌがフォトマスク４２の下側に回り込
む。その結果、フォトマスク４２のパターンよりも被露
光部の面積が広がり、これによってレジスト膜の幅が所
定の幅よりも狭くなったり、レジスト膜のエッジ形状が
悪化するといった不都合が生じる。

【００２０】コア用マスクの寸法精度がこのように低く
なると、当然、これによってパターニングされる上部磁
気コアの寸法精度も低いものになる。

【００２１】ここで、上部磁気コアにおいて、最も高い
寸法精度が要求されるのは、ヘッドのトラック幅ＷＴを
規制するところの、磁気記録媒体摺動面近傍（以下、ト
ラック部と称する）の形状である。すなわち、図１２に
上部磁気コアを上側から見た平面図を示すが、上部磁気
コアでは、このように磁気記録媒体摺動面Ｓ近傍の幅が
所定のトラック幅ＷＴとなるように幅が狭くなされるこ
とで、トラック部が形成されている。良好な記録再生特
性を得るには、このトラック部の形状が重要になる。

【００２２】ここで、図９（ｂ）及び図１０（ｂ）を見
ると、これらは磁気記録媒体摺動面側から見たトラック
部の理想的な形状を示しており、上部磁気コアのトラッ
ク部は、このように、所定のトラック幅ＷＴを有するこ
とは勿論のこと、幅が厚さ方向で一定であるのが理想的
である。

【００２３】しかし、上述の工程で形成されたトラック
部は、図１３に示すように、全体に所定のトラック幅Ｗ
Ｔよりも広い幅となり、しかもこの幅が上側にいくにつ
れて広がるといったようなトラックプロファイルになっ
ている。トラック部がこのようなプロファイルである
と、サイドフリンジングが増加し、実際の幅よりも実効
的なトラック幅はさらに広いものとなる。

【００２４】これまで、このような段差の影響に対して
は、経験的にフォトマスクと出来上がりのトラック幅と
の寸法シフト量を予測し、それに基づいてフォトマスク
を設計することで対処している。しかし、上部磁気コア
の前工程で形成される各材料層の段差は、製造時の諸コ
ンディションに左右されやすく、これを正確に予測する
のは難しい。このため、この方法で、所望のトラック幅
を得るのは非常に困難であり、公差を±０．５μｍ見込
んでヘッドを製造せざるを得ないのが実情である。

【００２５】薄膜磁気ヘッドに対しては、記録の高密度
化を目的として、益々トラック幅の狭小化が求められる
ようになっている。しかし、磁気コアのトラック部の寸
法精度がこのように低くなってしまうと、狭トラック幅
化を図るのが非常に困難になる。

【００２６】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、コア用マスクが高い寸法
精度で形成でき、所定のトラック幅を有しトラックプロ
ファイルの良好な磁気コアが形成できる薄膜磁気ヘッド
の製造方法を提供することを目的とする。

【００２７】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、磁気コ
アを形成する前工程で形成された各材料層を囲むように
してレジスト溜めパターンを形成する工程と、このレジ
スト溜めパターンで囲まれた空間に平坦化用レジスト材
を充填する工程と、この平坦化用レジスト材上に磁気コ
アのパターンに対応したマスク膜を形成する工程と、レ
ジスト溜めパターンと、マスク膜が形成された領域以外
の平坦化用レジストを除去する工程によって、磁気コア
をパターニングするためのコア用マスクを形成する。

【００２８】以上のような工程によると、磁気コアのト
ラック幅を比較的狭く設計した場合でも、コア用マスク
膜が高い寸法精度で形成され、これを反映して磁気コア
のトラック部が厚さ方向で均一に所定のトラック幅を有
して形成される。このようにして磁気コアが形成された
磁気ヘッドは、サイドフリンジングが小さく抑えられる
ので、記録媒体に対して所定のトラック幅で記録が行わ
れ、トラック方向での記録密度の向上が図れる。

【００２９】また、本発明で製造する薄膜磁気ヘッド
は、インダクティブヘッドであっても、ＭＲ（磁気抵抗
効果）型磁気ヘッドとインダクティブヘットよりなる複
合型薄膜磁気ヘッドであっても良い。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。なお、ここではインダクティブヘッドを製
造する場合を例にして説明する。

【００３１】本実施例で製造するインダクティブヘッド
は、非磁性基板上に下部磁気コア及びギャップ膜が形成
され、この上にスパイラル状の導体コイル層と上部磁気
コアが間に絶縁体層を介して順次積層されて構成されて
いる。

【００３２】このようなインダクティブヘッドを製造す
るには、Ａｌ−Ｔｉ−Ｃ系の焼結体等よりなる非磁性基
板上に、下部磁気コア、ギャップ膜、第１の絶縁体層、
スパイラル状の導体コイル層及び第２の絶縁体層を形成
する。これら各材料層は、通常のインダクティブヘッド
の製造工程に準じ、スパッタリング法、メッキ法、フォ
トリソグラフィ法等を組合わせた薄膜プロセスによって
形成する。これら各材料層２が形成された基板１の平面
図を図１（ａ）に、断面図を図１（ｂ）に示す。

【００３３】このようにして各材料層を形成した後、フ
レームメッキ法によって上部磁気コアを形成する。

【００３４】上部磁気コアを形成するには、まず、図２
（ａ），（ｂ）に示すように、上記第２の絶縁体層上に
Ｎｉ−Ｆｅ等よりなるメッキ下地膜６をスパッタリング
法等により成膜する。この膜厚は０．１μｍ程度が適当
である。

【００３５】次に、このメッキ下地膜６上に、前工程で
形成した各材料層２を囲むようなパターンのレジスト溜
めパターン３を形成する。このレジスト溜めパターン３
は、上記各材料層２によって生じた段差を平坦化するた
めの平坦化用レジストを充填するフレームとなるもので
ある。したがって、このレジスト溜めパターン３は、平
坦化すべき段差の周囲を５〜１５μｍ程度離れて囲むよ
うなパターンとし、また、その高さＨは、平坦化すべき
段差の高さｈと略同じとするのが望ましい。なお、この
高さＨの段差の高さｈに対するズレの許容量は、±１０
％あるいは±２μｍ以内のいずれか小さい方を採用す
る。

【００３６】このようにしてレジスト溜めパターン３を
形成した後、図３（ａ），（ｂ）に示すように、このレ
ジスト溜めパターン３の上から平坦化用レジスト４を塗
布する。レジストを塗布すると、レジスト溜めパターン
３内では、このパターンがレジストの流れに対する壁と
なることから、段差斜面のレジストが下に流れ落ちずに
溜まり、図３（ｂ）に示すような平坦な面が形成される
ことになる。なお、この平坦化用レジスト４は、後工程
でレジスト溜めパターンと同時にエッチングできるよう
にレジスト溜めパターンと同じレジスト材を用いるのが
望ましい。

【００３７】次に、このようにして平坦化された面に、
スパッタリング等によりマスク膜を成膜する。このマス
ク膜の材料は、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｃｒ、Ｔｉ等の無
機材料が用いられる。次いで、このマスク膜の上に、上
部磁気コアの外形形状に対応したフレーム状のレジスト
層（図示せず）を形成し、このレジスト層をマスクとし
て、イオンエッチングあるいは酸素ガスを用いた反応性
イオンエッチング（Ｏ₂−ＲＩＥ）等のエッチング処理
を施す。その結果、図４（ａ），（ｂ）に示すように、
マスク膜５が上部磁気の外形形状に対応してフレーム状
に成形される。

【００３８】そして、さらに、図５（ａ），（ｂ）に示
すように、マスク膜５が形成されていない領域の平坦化
用レジスト４及びレジスト溜めパターン３をＯ₂−ＲＩ
Ｅ等によって除去し、上部磁気コアの外形形状に対応し
たフレーム状のコア用マスク１０を成形する。なお、こ
のコア用マスク１０を成形する際のＯ₂−ＲＩＥでは、
異方性を高めるために、雰囲気のガス圧を低く設定する
のが望ましく、２Ｐａ以下とするのが良い。

【００３９】次に、平坦化用レジストを除去することで
露出したメッキ下地膜６上に、電解メッキ法によってＮ
ｉ−Ｆｅ等の磁性膜を上部磁気コアとして析出させる。
そして、フレーム状のコア用マスク１０を除去するとと
もにマスク膜周辺の不要な磁性膜及びメッキ下地膜を除
去することで、図６（ａ），（ｂ）に示すような上部磁
気コア７が形成される。

【００４０】このような上部磁気コアの形成工程では、
コア用マスクが、平坦化された面に形成されたマスク膜
とこれに基づいたエッチング加工によって形成されるの
で、前工程で形成された材料膜による段差の影響を受け
ずに、高い寸法精度で形成される。したがって、これに
よってパターニングされた上部磁気コアでも高い寸法精
度が得られ、磁気記録媒体摺動面近傍（トラック部）の
幅を比較的狭く設定した場合でも、このトラック部が厚
さ方向で均一に所定のトラック幅ＷＴを有して形成され
ることになる。

【００４１】そして、このようにしてインダクティブヘ
ッドが複数形成された非磁性基板は、図７に示すよう
に、図中ａ−ａ´線、ｂ−ｂ´線の位置で切断されるこ
とで、チップ毎８に切り出され、所定の外寸に研削加工
された後、コイル端子にリード線が半田付けされる。そ
して、これらヘッドチップ８は、図８に示すように、さ
らにサスペンション機構９に取り付けられることで、例
えばハードディスク用の磁気ヘッドとして使用される。
この磁気ヘッドでは、上部磁気コアのトラック部が精密
な形状で形成されていることから、記録媒体に対して所
定のトラック幅ＷＴで記録を行うことができ、記録媒体
に対するトラック方向での記録密度を向上させることが
可能である。

【００４２】なお、以上の製造方法では、上部磁気コア
をフレームメッキ法で形成しているが、上部磁気コア
は、当該上部磁気コアとなる磁性膜を全面形成した後、
これを所望のコア形状にパターニングすることで形成し
ても良い。

【００４３】すなわち、この場合、第２の絶縁膜上にメ
ッキ下地膜を形成した後、このメッキ下地膜上の全面に
上部磁気コアとなる磁性膜を電解メッキ法によって析出
させる。

【００４４】そして、この磁性膜上に、先に説明したの
と同じ工程でレジスト溜めパターンを形成し、この上か
ら平坦化用レジストを塗布することで平坦な面を形成す
る。次いで、この平坦化された面上に、上部磁気コアの
パターンに対応する領域を覆うようにマスク膜を形成
し、このマスク膜が形成された領域以外の平坦化用レジ
スト、レジスト溜めパターンをＯ₂−ＲＩＥ等によって
除去することでコア用マスクを形成する。

【００４５】そして、このコア用マスクに対応した領域
以外のメッキ膜、メッキ下地膜を除去することで上部磁
気コアは形成されることになる。

【００４６】この場合にも、上部磁気コアをパターニン
グするためのコア用マスクが、平坦化された面に形成さ
れたマスク膜と、このマスク膜に基づいたエッチング加
工によって形成されるので、前工程で形成された材料層
の段差の影響を受けずに、高い寸法精度で形成される。
したがって、これによってパターニングされた上部磁気
コアでも高い寸法精度が得られ、トラック部が厚さ方向
で均一に所定のトラック幅ＷＴを有して形成されること
になる。

【００４７】また、以上はインダクティブヘッドの製造
に本発明を適用した場合であるが、本発明は、インダク
ティブヘッドを記録用ヘッドとし、ＭＲヘッドを再生用
ヘッドとする複合型磁気ヘッドを製造する場合に適用し
ても良い。

【００４８】複合型ヘッドは、非磁性基板上に、ＭＲヘ
ッド部を構成する下部シールド層、ＭＲ素子、ＭＲ素子
にセンス電流を通電するための前端電極及び後端電極、
バイアス導体、上部シールド磁性層が間に絶縁体層を介
して積層され、この上に、インダクティブヘッド部を構
成する導体コイル層及び上部磁気コアが間に絶縁体層を
介して形成される。なお、この場合、ＭＲヘッドの上部
シールド磁性層は、インダクティブヘッドの下部磁気コ
アとしての機能も兼ねている。

【００４９】このような複合型ヘッドの上部磁気コアを
形成するに際しても、前工程で形成された材料層上に平
坦化用レジストを形成し、これをマスク膜で覆いながら
エッチング加工を施すことでコア用マスクを形成するよ
うにすると、このコア用マスクが高い寸法精度で形成さ
れる。したがって、これによってパターニングされる上
部磁気コアでも高い寸法精度が得られ、トラック部が厚
さ方向で均一に所定のトラック幅ＷＴを有して形成され
ることになる。

【００５０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、磁気コアを形成す
る前工程で形成した材料層を囲むようにしてレジスト溜
めパターンを形成した後、このレジスト溜めパターン内
に平坦化用レジストを充填し、この平坦化用レジストを
マスク膜で覆いながらエッチング加工を施すことでコア
用マスクを形成するので、磁気コアのトラック幅を比較
的狭く設計した場合でも、コア用マスク膜が高い寸法精
度で形成され、これを反映して上部磁気コアのトラック
部が厚さ方向で均一に所定のトラック幅を有して形成さ
れる。このようにして製造された磁気ヘッドでは、サイ
ドフリンジングが小さく抑えられるので、記録媒体に対
して所定のトラック幅で記録を行うことができ、トラッ
ク方向での記録密度を向上させることが可能である。ま
た、薄膜磁気ヘッドの歩留まり向上にも貢献できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】上部磁気コアの前工程で形成された材料層によ
って生じる段差の様子を模式的に示すものであり、
（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。

【図２】上部磁気コアの形成工程のうちレジスト溜めパ
ターン形成工程を模式的に示すものであり、（ａ）は平
面図であり、（ｂ）は断面図である。

【図３】平坦化用レジスト塗布工程を模式的に示すもの
であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図であ
る。

【図４】マスク膜形成工程を模式的に示すものであり、
（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。

【図５】コア用マスク形成工程を模式的に示すものであ
り、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。

【図６】形成された上部磁気コアを模式的に示すもので
あり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。

【図７】ヘッドチップの切り出し工程を示す斜視図であ
る。

【図８】ヘッドチップがサスペンション機構に取り付け
られた状態を示す斜視図である。

【図９】インダクティブヘッドを示すものであり、
（ａ）はインダクティブヘッドの断面図であり、（ｂ）
はインダクティブヘッドを磁気記録媒体摺動面側から見
た正面図である。

【図１０】複合型ヘッドを示すものであり、（ａ）は複
合型ヘッドの断面図であり、（ｂ）は複合型ヘッドを磁
気記録媒体摺動面側から見た正面図である。

【図１１】従来の製造方法において、露光用の光がフォ
トマスクの下側に回り込む様子を示す模式図である。

【図１２】インダクティブヘッドの上部磁気コアを上か
ら見た平面図である。

【図１３】従来の製造方法で形成された上部磁気コアの
トラック部の形状を示す模式図である。

【符号の説明】

１基板２磁気コアを形成する前工程で形成された材料層３レジスト溜めパターン４平坦化用レジスト５マスク膜７上部磁気コア１０コア用マスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気コアを形成する前工程で形成された
各材料層を囲むようにしてレジスト溜めパターンを形成
する工程と、このレジスト溜めパターンで囲まれた空間
に平坦化用レジスト材を充填する工程と、この平坦化用
レジスト材上に磁気コアのパターンに対応したマスク膜
を形成する工程と、レジスト溜めパターンと、マスク膜
が形成された領域以外の平坦化用レジストを除去する工
程によって、磁気コアをパターニングするためのコア用
マスクを形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
造方法。
【請求項２】コア用マスクの形状が、磁気コアの外形
形状に対応したフレーム状であることを特徴とする請求
項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】コア用マスクを成形する手法が、反応性
イオンエッチングであることを特徴とする請求項１記載
の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】製造される薄膜磁気ヘッドが、磁気抵抗
効果型薄膜磁気ヘッドと磁気誘導型薄膜磁気ヘッドより
なる複合型薄膜磁気ヘッドであることを特徴とする請求
項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。