JPH09171097A - Ｘ線分光用湾曲結晶 - Google Patents
Ｘ線分光用湾曲結晶Info
- Publication number
- JPH09171097A JPH09171097A JP7349368A JP34936895A JPH09171097A JP H09171097 A JPH09171097 A JP H09171097A JP 7349368 A JP7349368 A JP 7349368A JP 34936895 A JP34936895 A JP 34936895A JP H09171097 A JPH09171097 A JP H09171097A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- curved
- diffraction
- ray
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線分光用湾曲結晶によるＸ線の回折効率を
高め、回折像の収差を低減させる。 【解決手段】 Ｘ線分光用湾曲結晶は結晶板をローラン
ド円の直径を半径とする円弧に沿うよう湾曲させ、その
表面をローランド円に沿うよう研磨したものである。従
って従来の湾曲結晶の表面はその中央を除いて、回折格
子面と平行ではない。これが湾曲結晶の回折効率の低
下，収差の発生を招いていたので、湾曲させた結晶表面
を回折格子面が露出するように階段状に形成し、この段
階の角の所の包絡面がローランド円に沿うようにした。
高め、回折像の収差を低減させる。 【解決手段】 Ｘ線分光用湾曲結晶は結晶板をローラン
ド円の直径を半径とする円弧に沿うよう湾曲させ、その
表面をローランド円に沿うよう研磨したものである。従
って従来の湾曲結晶の表面はその中央を除いて、回折格
子面と平行ではない。これが湾曲結晶の回折効率の低
下，収差の発生を招いていたので、湾曲させた結晶表面
を回折格子面が露出するように階段状に形成し、この段
階の角の所の包絡面がローランド円に沿うようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は湾曲結晶を用いるＸ
線分光器の分光用湾曲結晶の形状に関するものである。
線分光器の分光用湾曲結晶の形状に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線分光用のヨハンソン型湾曲結晶は表
面が回折格子面となるように形成した結晶板をＸ線分光
器のローランド円の直径を半径とする円弧に沿うように
湾曲し、その湾曲面を上記ローランド円に沿うように研
摩したものである。このように形成された分光結晶を用
いるときは、幾何光学的にはローランド円周上の一点か
ら出て分光結晶に入射する特定の一波長のＸ線は全てグ
ラッグの反射条件を満足すると共に格子面に対し鏡面反
射の条件も満足させてローランド円周上の他の一点に無
収差で収束する。従って従来はこの幾何光学的な考慮の
みによって分光結晶を作っていた。
面が回折格子面となるように形成した結晶板をＸ線分光
器のローランド円の直径を半径とする円弧に沿うように
湾曲し、その湾曲面を上記ローランド円に沿うように研
摩したものである。このように形成された分光結晶を用
いるときは、幾何光学的にはローランド円周上の一点か
ら出て分光結晶に入射する特定の一波長のＸ線は全てグ
ラッグの反射条件を満足すると共に格子面に対し鏡面反
射の条件も満足させてローランド円周上の他の一点に無
収差で収束する。従って従来はこの幾何光学的な考慮の
みによって分光結晶を作っていた。
【０００３】しかし結晶に入射したＸ線の回折を考える
ときは、回折反射は結晶表面だけでなく、結晶内にＸ線
が進入して何層もの回折格子面で散乱されたＸ線の相互
干渉の結果として起こっているものなので、結晶に入射
したＸ線の屈折，吸収の影響を考える必要がある。図２
でＦは結晶表面で、水平の平行線Ｌが回折格子面、Ｉは
入射Ｘ線で、αは回折格子面に対する入射角である。同
図でＡは結晶表面が回折格子面と平行、Ｂ，Ｃは斜交し
ている。結晶内に入ったＸ線は屈折の結果、回折格子面
Ｌへの入射角は図示αとはわずか異なったものとなって
おり、この異いは図２のＡ，Ｂ，Ｃの各場合で異なって
いる。このため同一波長のＸ線でもブラッグの回折反射
の条件はＡ，Ｂ，Ｃの各場合で少しずつ異なり、Ａの場
合に対して丁度ブラッグの条件が成立っているとき、
Ｂ，Ｃの場合に対してはこの条件から少し外れてＸ線は
Ａの場合とは少し異なる方向に最も多く回折反射される
ことになり、その回折効率もブラッグの条件が成立して
いるときより低くなる。図２Ｄは湾曲結晶を示している
が、これでａの範囲が図２のＡに相当し、ｂの範囲がＢ
にｃの範囲がＣに相当するので、分光結晶の中央のａの
部分でブラッグの条件が成立しているとき、ｂ，ｃの部
分による回折反射Ｘ線は収差成分となるのである。
ときは、回折反射は結晶表面だけでなく、結晶内にＸ線
が進入して何層もの回折格子面で散乱されたＸ線の相互
干渉の結果として起こっているものなので、結晶に入射
したＸ線の屈折，吸収の影響を考える必要がある。図２
でＦは結晶表面で、水平の平行線Ｌが回折格子面、Ｉは
入射Ｘ線で、αは回折格子面に対する入射角である。同
図でＡは結晶表面が回折格子面と平行、Ｂ，Ｃは斜交し
ている。結晶内に入ったＸ線は屈折の結果、回折格子面
Ｌへの入射角は図示αとはわずか異なったものとなって
おり、この異いは図２のＡ，Ｂ，Ｃの各場合で異なって
いる。このため同一波長のＸ線でもブラッグの回折反射
の条件はＡ，Ｂ，Ｃの各場合で少しずつ異なり、Ａの場
合に対して丁度ブラッグの条件が成立っているとき、
Ｂ，Ｃの場合に対してはこの条件から少し外れてＸ線は
Ａの場合とは少し異なる方向に最も多く回折反射される
ことになり、その回折効率もブラッグの条件が成立して
いるときより低くなる。図２Ｄは湾曲結晶を示している
が、これでａの範囲が図２のＡに相当し、ｂの範囲がＢ
にｃの範囲がＣに相当するので、分光結晶の中央のａの
部分でブラッグの条件が成立しているとき、ｂ，ｃの部
分による回折反射Ｘ線は収差成分となるのである。
【０００４】図２の右肩のグラフは上述した所を別の形
で表わしたもので、図２のＡ，Ｂ，Ｃの各場合におい
て、或る波長のＸ線が最大効率で回折反射される入射角
の前後で入射角αを変化させたときの一方向から見た回
折Ｘ線強度のαに対する分布を示す。図示のように一般
にＡ，Ｂ，Ｃの順に最適入射角は大きくなり、回折Ｘ線
の分布の広がりが大きくなる。
で表わしたもので、図２のＡ，Ｂ，Ｃの各場合におい
て、或る波長のＸ線が最大効率で回折反射される入射角
の前後で入射角αを変化させたときの一方向から見た回
折Ｘ線強度のαに対する分布を示す。図示のように一般
にＡ，Ｂ，Ｃの順に最適入射角は大きくなり、回折Ｘ線
の分布の広がりが大きくなる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はＸ線分光用湾
曲結晶の各部で同じ最適入射角の条件が成立するように
して、回折反射線の収差をなくし、回折効率を高めよう
とするものである。
曲結晶の各部で同じ最適入射角の条件が成立するように
して、回折反射線の収差をなくし、回折効率を高めよう
とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】図１に示すように曲率半
径がローランド円の直径であるように湾曲させた分光用
結晶の表面を階段の段面が回折格子面であるように、か
つ階段の角の包絡線がローランド円に沿った円弧となっ
ているように階段状に形成した。
径がローランド円の直径であるように湾曲させた分光用
結晶の表面を階段の段面が回折格子面であるように、か
つ階段の角の包絡線がローランド円に沿った円弧となっ
ているように階段状に形成した。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は本発明をヨハンソン型分光
用結晶に適用したものを示す。図でｌが分光用結晶、Ｌ
が回折格子面であり、鎖線の円弧Ｒはローランド円であ
る。ローランド円上の一点から出て分光結晶に入射する
Ｘ線は分光結晶のどの部分でも回折格子面に対して入射
角αで入射し、かつ分光結晶どの部分でもＸ線の入射面
は回折格子面であるから、任意波長のＸ線に対して分光
結晶の中央でαが結晶表面に対する最適入射角であると
きは分光結晶の他の部分でも同じ最適入射角で、ローラ
ンド円とＸ線入射点，収束点の幾何学的関係により、分
光結晶のどの部分で回折反射されたＸ線もローランド円
上の同一点に到達し、Ｘ線収束の収差が低減され、回折
効率も向上する。
用結晶に適用したものを示す。図でｌが分光用結晶、Ｌ
が回折格子面であり、鎖線の円弧Ｒはローランド円であ
る。ローランド円上の一点から出て分光結晶に入射する
Ｘ線は分光結晶のどの部分でも回折格子面に対して入射
角αで入射し、かつ分光結晶どの部分でもＸ線の入射面
は回折格子面であるから、任意波長のＸ線に対して分光
結晶の中央でαが結晶表面に対する最適入射角であると
きは分光結晶の他の部分でも同じ最適入射角で、ローラ
ンド円とＸ線入射点，収束点の幾何学的関係により、分
光結晶のどの部分で回折反射されたＸ線もローランド円
上の同一点に到達し、Ｘ線収束の収差が低減され、回折
効率も向上する。
【０００８】分光用結晶の表面を上述したような階段状
に形成するには、研摩，エッチング等が用いられる。
に形成するには、研摩，エッチング等が用いられる。
【０００９】研摩によるときは、分光用湾曲結晶を真直
な状態に戻したときの結晶表面の形を計算し、階段の角
が計算した形に接するようにて、例えば各段の高さを１
０μｍとし、深さｎ×１０μｍの研摩を行う幅（ｎは整
数）を計算し、順次研摩幅を狭くしながら１μｍずつ研
摩して行き、全面の研摩を終わった後結晶を湾曲固定す
る。
な状態に戻したときの結晶表面の形を計算し、階段の角
が計算した形に接するようにて、例えば各段の高さを１
０μｍとし、深さｎ×１０μｍの研摩を行う幅（ｎは整
数）を計算し、順次研摩幅を狭くしながら１μｍずつ研
摩して行き、全面の研摩を終わった後結晶を湾曲固定す
る。
【００１０】化学エッチングによるときは、エッチング
速度が結晶の格子面によって異なることを利用する。分
光用結晶は湾曲させ所定の形即ちローランド円に沿うよ
う研摩した結晶をエッチングする。エッチングは回折格
子面に垂直の方向が遅く、その面に垂直の方向のエッチ
ングが速いような方法を選択する。図３Ａは機械研磨し
たままの面を示し、化学エッチングは試料表面の細かい
凹凸にたいし、先ず凸部を溶解し、その後溶解速度の速
い格子面を侵食するように進行する。そこでこの方法に
よると図３Ｂに示すように研摩された傾斜面は平滑にな
り、更にエッチングは全体として図で左右に進行して行
くことになるが、エッチングの左右方向への進行は段差
の小さい所が大きい所より速いので、小さな段差の所は
大きな段差の所に追いつき、エッチングの時間が経過す
るにつれ、図３Ｃのように階段が明瞭に形成されてく
る。更に時間をかけると、底が広くなるようにエッチン
グが進んで図３Ｄのように底が平になるように変形して
くるので、適当な時間の所でエッチングを止める。この
方法ではエッチングにより結晶表面が一方向に変形して
いく傾向があるから、この傾向を見込んでエッチング前
の形を所望の形より修正した形にしておくことが望まし
い。
速度が結晶の格子面によって異なることを利用する。分
光用結晶は湾曲させ所定の形即ちローランド円に沿うよ
う研摩した結晶をエッチングする。エッチングは回折格
子面に垂直の方向が遅く、その面に垂直の方向のエッチ
ングが速いような方法を選択する。図３Ａは機械研磨し
たままの面を示し、化学エッチングは試料表面の細かい
凹凸にたいし、先ず凸部を溶解し、その後溶解速度の速
い格子面を侵食するように進行する。そこでこの方法に
よると図３Ｂに示すように研摩された傾斜面は平滑にな
り、更にエッチングは全体として図で左右に進行して行
くことになるが、エッチングの左右方向への進行は段差
の小さい所が大きい所より速いので、小さな段差の所は
大きな段差の所に追いつき、エッチングの時間が経過す
るにつれ、図３Ｃのように階段が明瞭に形成されてく
る。更に時間をかけると、底が広くなるようにエッチン
グが進んで図３Ｄのように底が平になるように変形して
くるので、適当な時間の所でエッチングを止める。この
方法ではエッチングにより結晶表面が一方向に変形して
いく傾向があるから、この傾向を見込んでエッチング前
の形を所望の形より修正した形にしておくことが望まし
い。
【００１１】図４は本発明の一実施形態における分光用
結晶の加工順序を示す。結晶材料はＲＡＰ（Ｃ6 Ｈ4 Ｃ
ＯＯＲｂ）で１０×３８ｍｍであり、回折格子面は（０
０１）である。エッチング液は水アルコール混液であ
る。まずアルミニウム基板２を湾曲結晶の曲率に合わせ
て研磨し（Ａ）、しに上にパラフィンを接着剤としてＲ
ＡＰ単結晶の板を接着（Ｂ）する。ここでＲＡＰの分光
用結晶は所定の曲率で湾曲された状態となっている。こ
の状態でＲＡＰ結晶表面をローランド円に沿うように円
筒面に研磨する（Ｃ）。研磨後分光用結晶をそのまま上
記したエッチング溶液に浸漬（Ｄ）し、引上げたものを
直ちに純アルコールで洗う。ＲＡＰの化学エッチングに
寄与しているのは水でアルコールはエッチング抑制剤で
あり、アルコ−ル濃度でエッチング速度を調節する。
結晶の加工順序を示す。結晶材料はＲＡＰ（Ｃ6 Ｈ4 Ｃ
ＯＯＲｂ）で１０×３８ｍｍであり、回折格子面は（０
０１）である。エッチング液は水アルコール混液であ
る。まずアルミニウム基板２を湾曲結晶の曲率に合わせ
て研磨し（Ａ）、しに上にパラフィンを接着剤としてＲ
ＡＰ単結晶の板を接着（Ｂ）する。ここでＲＡＰの分光
用結晶は所定の曲率で湾曲された状態となっている。こ
の状態でＲＡＰ結晶表面をローランド円に沿うように円
筒面に研磨する（Ｃ）。研磨後分光用結晶をそのまま上
記したエッチング溶液に浸漬（Ｄ）し、引上げたものを
直ちに純アルコールで洗う。ＲＡＰの化学エッチングに
寄与しているのは水でアルコールはエッチング抑制剤で
あり、アルコ−ル濃度でエッチング速度を調節する。
【００１２】エッチングの最適時期は予め一定時間エッ
チングした分光用結晶を実際にＸ線分光器ぬ組込み波長
走査を行って、特定波長のＸ線の回折線の強度分布を測
定する作業をエッチング時間を変えて行い、回折線強度
分布の半値幅とピ−ク高さに関して最も良いエッチング
時間を決定しておいて、この決定された時間だけエッチ
ングを行うのである。このようにして得られた分光用結
晶の表面の走査型電子顕微鏡による像を調べると、等高
線状の段が見られ、その段差は１μｍ程度であった。
チングした分光用結晶を実際にＸ線分光器ぬ組込み波長
走査を行って、特定波長のＸ線の回折線の強度分布を測
定する作業をエッチング時間を変えて行い、回折線強度
分布の半値幅とピ−ク高さに関して最も良いエッチング
時間を決定しておいて、この決定された時間だけエッチ
ングを行うのである。このようにして得られた分光用結
晶の表面の走査型電子顕微鏡による像を調べると、等高
線状の段が見られ、その段差は１μｍ程度であった。
【００１３】図５は従来と本発明による分光用湾曲結晶
の性能の比較例を示す。比較に用いた結晶はＲＡＰによ
り上述したようにして作成されたもので１２．５×３８
ｍｍ、Ｘ線はＡｌＫα線（８．３４オングストローム）
で入射角αは７１．３°近辺に最適値がある。図のグラ
フの横軸は入射角、縦軸は回折Ｘ線強度である。図のカ
ーブはＸ線分光器で走査動作を行ったときの波長０．８
３４ｎｍの近辺のＡｌＫα線の回折強度で、分光結晶の
中心位置をその位置におけるＸ線の入射角で表わしたも
のである。図で３本の低い位置にあるカーブは従来型の
ヨハンソン型分光結晶を長さ方向に図２Ｄのｂ，ａ，に
相当する３領域に分割（考えの上で）したときの各部の
回折反射Ｘ線強度で、実線の高いカーブＪはこれら３本
の低いカーブの合成で従来の分光結晶によるＡｌＫα線
のピークプロファイルである。これに対して高い点線の
カーブＩが本発明による分光結晶によるピークプロファ
イルであって、低い３本のカーブのうち分光結晶の中央
部の回折反射Ｘ線強度を示すａを三重に重ねたものに相
当し、ピーク中心高さが高くなると共に半値幅も狭くな
り、回折効率の向上，収差の減少が現われていることが
判る。
の性能の比較例を示す。比較に用いた結晶はＲＡＰによ
り上述したようにして作成されたもので１２．５×３８
ｍｍ、Ｘ線はＡｌＫα線（８．３４オングストローム）
で入射角αは７１．３°近辺に最適値がある。図のグラ
フの横軸は入射角、縦軸は回折Ｘ線強度である。図のカ
ーブはＸ線分光器で走査動作を行ったときの波長０．８
３４ｎｍの近辺のＡｌＫα線の回折強度で、分光結晶の
中心位置をその位置におけるＸ線の入射角で表わしたも
のである。図で３本の低い位置にあるカーブは従来型の
ヨハンソン型分光結晶を長さ方向に図２Ｄのｂ，ａ，に
相当する３領域に分割（考えの上で）したときの各部の
回折反射Ｘ線強度で、実線の高いカーブＪはこれら３本
の低いカーブの合成で従来の分光結晶によるＡｌＫα線
のピークプロファイルである。これに対して高い点線の
カーブＩが本発明による分光結晶によるピークプロファ
イルであって、低い３本のカーブのうち分光結晶の中央
部の回折反射Ｘ線強度を示すａを三重に重ねたものに相
当し、ピーク中心高さが高くなると共に半値幅も狭くな
り、回折効率の向上，収差の減少が現われていることが
判る。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、上述したように分光結
晶によるＸ線の回折効率が向上して、分析感度が向上
し、収差の低減によって回折ピークの半値幅が小さくな
って分解能が向上する。
晶によるＸ線の回折効率が向上して、分析感度が向上
し、収差の低減によって回折ピークの半値幅が小さくな
って分解能が向上する。
【図１】本発明の一実施形態の分光用湾曲結晶の側面
図。
図。
【図２】分光結晶における結晶表面と回折格子面との三
種の角度関係を示す図。
種の角度関係を示す図。
【図３】分光結晶をエッチングする場合のエッチング進
行状態を模型的に示す図。
行状態を模型的に示す図。
【図４】本発明の一実施形態における分光結晶加工工程
を示す図。
を示す図。
【図５】本発明と従来例との比較を示すグラフ。
ｌ 分光用結晶 Ｌ 回折格子面 Ｆ 分光用結晶表面 Ｒ ローランド円
Claims (1)
- 【請求項１】 分光用結晶をＸ線分光器のローランド円
の直径を半径とする円弧に沿うように湾曲し、その表面
を各階段面が回折格子面であるように階段状に、かつそ
の階段の角の包絡線がローランド円に沿うように形成し
たことを特徴とするＸ線分光用湾曲結晶。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7349368A JPH09171097A (ja) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | Ｘ線分光用湾曲結晶 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7349368A JPH09171097A (ja) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | Ｘ線分光用湾曲結晶 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09171097A true JPH09171097A (ja) | 1997-06-30 |
Family
ID=18403290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7349368A Pending JPH09171097A (ja) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | Ｘ線分光用湾曲結晶 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09171097A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7301702B2 (en) | 2004-04-01 | 2007-11-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and optical system including the same |
| JP2014514737A (ja) * | 2011-03-16 | 2014-06-19 | カール ツァイス レーザー オプティックス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Ｅｕｖ投影露光装置のための反射光学構成要素を製造する方法及びこのタイプの構成要素 |
-
1995
- 1995-12-19 JP JP7349368A patent/JPH09171097A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7301702B2 (en) | 2004-04-01 | 2007-11-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and optical system including the same |
| CN100390572C (zh) * | 2004-04-01 | 2008-05-28 | 佳能株式会社 | 衍射光学元件和包括所述衍射光学元件的光学系统 |
| US7554735B2 (en) | 2004-04-01 | 2009-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffractive optical element and optical system including the same |
| US7612941B2 (en) | 2004-04-01 | 2009-11-03 | Canon Kabuhsiki Kaisha | Diffractive optical element and optical system including the same |
| JP2014514737A (ja) * | 2011-03-16 | 2014-06-19 | カール ツァイス レーザー オプティックス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Ｅｕｖ投影露光装置のための反射光学構成要素を製造する方法及びこのタイプの構成要素 |
| US9541685B2 (en) | 2011-03-16 | 2017-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for producing a reflective optical component for an EUV projection exposure apparatus and component of this type |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10151713B2 (en) | X-ray reflectometry apparatus for samples with a miniscule measurement area and a thickness in nanometers and method thereof | |
| KR101982379B1 (ko) | 고 종횡비 및 대 횡측 치수 구조물들을 위한 계측 시스템 및 방법 | |
| US6281974B1 (en) | Method and apparatus for measurements of patterned structures | |
| US6476920B1 (en) | Method and apparatus for measurements of patterned structures | |
| US4599741A (en) | System for local X-ray excitation by monochromatic X-rays | |
| US7187456B2 (en) | Method and apparatus for measurements of patterned structures | |
| JPH08184572A (ja) | 全反射ｘ線分析装置 | |
| US20230010858A1 (en) | Partially etched phase-transforming optical element | |
| JPH09171097A (ja) | Ｘ線分光用湾曲結晶 | |
| JP2940757B2 (ja) | Ｘ線回折分析装置 | |
| EP1037012B1 (en) | Method and apparatus for measurements of patterned structures | |
| TW202118992A (zh) | 用於檢測平面基板上之三維奈米結構的x光反射儀與其方法 | |
| JP2007515689A (ja) | 交互の多層スタックを持つ２次元回折格子ネットワーク、その製法そしてそれらのネットワークを備える分光器 | |
| JP2690036B2 (ja) | Ｘ線分光集光素子 | |
| US7109472B2 (en) | Scale for reflective photoelectric encoder and reflective photoelectric encoder | |
| JP2955142B2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| JP3217871B2 (ja) | Ｘ線分析装置および全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| McDavitt et al. | Silicon immersion gratings for very high-resolution infrared spectroscopy | |
| JP2000074648A (ja) | 基板の表面評価装置 | |
| Smith et al. | Phase-measurement interferometric microscopy of microlithographically fabricated platinum electrodes | |
| Protopopov et al. | X-ray scanner for the visualization of the spatial distribution of nanometer-scale roughness | |
| US20020003662A1 (en) | Pseudo-spherical stepped diffractor constructed under constant step width conditions (multi-stepped monochromator) | |
| EP0534535A1 (fr) | Dispositif incluant un miroir fonctionnant dans le domaine des rayons X ou des neutrons | |
| JP2561600B2 (ja) | Ｘ線用集光素子およびｘ線分析装置 | |
| Crozier et al. | Lithographically‐Fabricated SERS Substrates: Double Resonances, Nanogaps, and Beamed Emission |