JPH09165353A - 化合物の製造方法及びその中間体化合物類並びにそれらの製造方法 - Google Patents
化合物の製造方法及びその中間体化合物類並びにそれらの製造方法Info
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- JPH09165353A JPH09165353A JP8289185A JP28918596A JPH09165353A JP H09165353 A JPH09165353 A JP H09165353A JP 8289185 A JP8289185 A JP 8289185A JP 28918596 A JP28918596 A JP 28918596A JP H09165353 A JPH09165353 A JP H09165353A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 下記図式に従って順次反応させることか
らなる式(I) で表される化合物の製造方法及びその中間
体並びに中間体化合物の製造方法。 【化１】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル、フェニルカルボ
ニル、３，５−ジニトロフェニルカルボニル、C1-6アル
キルスルホニル、ハロC1-6アルキルスルホニル、ベンジ
ル、C1-6アルコキシC1-6アルキル等の脱離可能な保護
基、R1、R2、R5及びR6はC1-6アルキル又はフェニルを示
す。） 【効果】 発色性化合物の製造原料等となり得る式(I)
の化合物が効率よく製造できる。
らなる式(I) で表される化合物の製造方法及びその中間
体並びに中間体化合物の製造方法。 【化１】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル、フェニルカルボ
ニル、３，５−ジニトロフェニルカルボニル、C1-6アル
キルスルホニル、ハロC1-6アルキルスルホニル、ベンジ
ル、C1-6アルコキシC1-6アルキル等の脱離可能な保護
基、R1、R2、R5及びR6はC1-6アルキル又はフェニルを示
す。） 【効果】 発色性化合物の製造原料等となり得る式(I)
の化合物が効率よく製造できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、発色性化合物の製
造原料等となり得る下記一般式(I) で表される化合物の
製造方法及びその中間体並びに中間体化合物の製造方法
に関するものである。
造原料等となり得る下記一般式(I) で表される化合物の
製造方法及びその中間体並びに中間体化合物の製造方法
に関するものである。
【０００２】
【従来技術】本発明の製造方法により得られる一般式
(I) で表される化合物は特開平５−３２９０３号、同５
−８５９８３号及び同５−２７９２８９号公報等により
公知の発色性化合物を製造する際の原料化合物であり、
これらの公報にはその製造方法等が開示されている。
(I) で表される化合物は特開平５−３２９０３号、同５
−８５９８３号及び同５−２７９２８９号公報等により
公知の発色性化合物を製造する際の原料化合物であり、
これらの公報にはその製造方法等が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は更に工業
的に有利な製造方法を見いだすべく鋭意研究を重ねた結
果、本製造方法を見いだしたものであり、本製造方法の
一部の中間体化合物は文献未記載の新規化合物である。
的に有利な製造方法を見いだすべく鋭意研究を重ねた結
果、本製造方法を見いだしたものであり、本製造方法の
一部の中間体化合物は文献未記載の新規化合物である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式(X)
【化３０】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又はことな
っても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物をマロン酸と反応させ、一般式(IX)
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又はことな
っても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物をマロン酸と反応させ、一般式(IX)
【化３１】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じ。）で表される化合
物とし、該化合物(IX)を単離し又は単離せずして一般式
(VIII)
物とし、該化合物(IX)を単離し又は単離せずして一般式
(VIII)
【０００５】
【化３２】 Hal-COOR3 (VIII) （式中、R3はC1-6アルキル基又はフェニル基を示し、Ha
l はハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応さ
せ、一般式(VII)
l はハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応さ
せ、一般式(VII)
【化３３】 （式中、R 、R1、R2及びR3は前記に同じ。）で表される
化合物とし、該化合物(VII) を単離し又は単離せずして
還元反応を行い、一般式(VI)
化合物とし、該化合物(VII) を単離し又は単離せずして
還元反応を行い、一般式(VI)
【化３４】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じ。）で表される化合
物とし、該化合物(VI)を単離し又は単離せずしてハロゲ
ン化することにより一般式(V)
物とし、該化合物(VI)を単離し又は単離せずしてハロゲ
ン化することにより一般式(V)
【０００６】
【化３５】 （式中、R 、R1、R2及びHal は前記に同じ。）で表され
る化合物とし、該化合物(V) を単離し又は単離せずして
一般式(IV)
る化合物とし、該化合物(V) を単離し又は単離せずして
一般式(IV)
【化３６】 P(OR4)3 (IV) （式中、R4はC1-6アルキル基を示す。）で表される化合
物と反応させ、一般式(III)
物と反応させ、一般式(III)
【化３７】 （式中、R 、R1、R2及びR4は前記に同じ。）で表される
化合物とし、該化合物(III) を単離し又は単離せずして
一般式(II)
化合物とし、該化合物(III) を単離し又は単離せずして
一般式(II)
【０００７】
【化３８】 （式中、R は前記に同じくし、R5及びR6は同一又は異な
っても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
(I)
っても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
(I)
【化３９】 （式中、R1、R2、R5及びR6は前記に同じ。）で表される
化合物の製造方法よりなるものであり、またその中間体
並びに中間体化合物の製造方法に関するものである。
化合物の製造方法よりなるものであり、またその中間体
並びに中間体化合物の製造方法に関するものである。
【０００８】本発明の一般式で示される化合物の置換基
の定義で、『C1-6アルキル基』とは炭素原子数１〜６個
の直鎖状又は分枝状のアルキル基を示し、例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチ
ル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、ｎ−ヘキシル基等を示し、『ハロゲン原子』とは塩
素、臭素、沃素、フッ素等のハロゲン原子を示す。Ｒの
『脱離可能な保護基』中で、C1-6アルキルカルボニル基
とは、例えばアセチル基、エチルカルボニル基等を示
し、C1-6アルキルスルホニル基とは、例えばメチルスル
ホニル基を示し、ハロC1-6アルキルスルホニル基とは、
例えばトリフルオロメチルスルホニル基を示し、C1-6ア
ルコキシC1-6アルキル基とは、例えばメトキシメチル基
等を例示できるが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
の定義で、『C1-6アルキル基』とは炭素原子数１〜６個
の直鎖状又は分枝状のアルキル基を示し、例えばメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチ
ル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、ｎ−ヘキシル基等を示し、『ハロゲン原子』とは塩
素、臭素、沃素、フッ素等のハロゲン原子を示す。Ｒの
『脱離可能な保護基』中で、C1-6アルキルカルボニル基
とは、例えばアセチル基、エチルカルボニル基等を示
し、C1-6アルキルスルホニル基とは、例えばメチルスル
ホニル基を示し、ハロC1-6アルキルスルホニル基とは、
例えばトリフルオロメチルスルホニル基を示し、C1-6ア
ルコキシC1-6アルキル基とは、例えばメトキシメチル基
等を例示できるが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法は、例えば図式
的に示すと以下に示す通りである。
的に示すと以下に示す通りである。
【化４０】
【００１０】
【化４１】 （式中、R 、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びHal は前記に
同じ。）
同じ。）
【００１１】一般式(X) で表される化合物を不活性溶媒
の存在下又は不存在下及び塩基の存在下にマロン酸と反
応させて一般式(IX)で表される化合物とし、該化合物(I
X)を単離し、又は単離せずして一般式(VIII)で表される
化合物と反応させて一般式(VII) で表される化合物と
し、該化合物(VII) を不活性溶媒及び還元剤の存在下に
還元反応することにより一般式(VI)で表される化合物と
し、該化合物(VI)を単離し、又は単離せずしてハロゲン
化剤及び不活性溶媒の存在下にハロゲン化反応すること
により一般式(V) で表される化合物とし、該化合物(V)
を不活性溶媒の不存在下に一般式(IV)で表される化合物
と反応させることにより一般式(III) で表される化合物
とし、該化合物(III) を単離し、又は単離せずして一般
式(II)で表される化合物と塩基及び不活性溶媒の存在下
に反応させることにより一般式(I)で表される化合物を
製造することができる。
の存在下又は不存在下及び塩基の存在下にマロン酸と反
応させて一般式(IX)で表される化合物とし、該化合物(I
X)を単離し、又は単離せずして一般式(VIII)で表される
化合物と反応させて一般式(VII) で表される化合物と
し、該化合物(VII) を不活性溶媒及び還元剤の存在下に
還元反応することにより一般式(VI)で表される化合物と
し、該化合物(VI)を単離し、又は単離せずしてハロゲン
化剤及び不活性溶媒の存在下にハロゲン化反応すること
により一般式(V) で表される化合物とし、該化合物(V)
を不活性溶媒の不存在下に一般式(IV)で表される化合物
と反応させることにより一般式(III) で表される化合物
とし、該化合物(III) を単離し、又は単離せずして一般
式(II)で表される化合物と塩基及び不活性溶媒の存在下
に反応させることにより一般式(I)で表される化合物を
製造することができる。
【００１２】反応１．一般式(X) →一般式(IX) 本反応で使用する不活性溶媒は、本反応の進行を著しく
阻害しないものであれば良く、例えばメチルアルコー
ル、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルア
ルコール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ等のセロソルブ類、ジエチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の
アミド類、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ピコリン
等を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で
若しくは２種以上混合して使用することもできる。本反
応で使用する塩基はピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、ピペリジン、モルホリン等の有機塩基を
使用することができ、その使用量は一般式(X) で表され
る化合物に対して０．０１倍モル〜溶媒量の範囲から適
宜選択すれば良く、好ましくは２〜１０倍モルの範囲で
ある。
阻害しないものであれば良く、例えばメチルアルコー
ル、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルア
ルコール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ等のセロソルブ類、ジエチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等の鎖状又は環状エーテル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の
アミド類、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ピコリン
等を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で
若しくは２種以上混合して使用することもできる。本反
応で使用する塩基はピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリン、ピペリジン、モルホリン等の有機塩基を
使用することができ、その使用量は一般式(X) で表され
る化合物に対して０．０１倍モル〜溶媒量の範囲から適
宜選択すれば良く、好ましくは２〜１０倍モルの範囲で
ある。
【００１３】本反応は等モル反応であるので、各反応剤
を等モル使用すれば良いが、好ましくは一般式(X) で表
される化合物に対して２〜４倍モルのマロン酸を使用す
るのが良い。反応温度は室温〜使用する溶媒の沸点域の
範囲から適宜選択して行えば良く、好ましくは６０℃〜
８０℃の範囲である。反応時間は反応量、反応温度等に
より一定しないが、数分〜４８時間の範囲で行えば良
い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単
離し、必要に応じて精製等を行うことにより目的物を製
造することができる。又、反応終了後、反応系から目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
を等モル使用すれば良いが、好ましくは一般式(X) で表
される化合物に対して２〜４倍モルのマロン酸を使用す
るのが良い。反応温度は室温〜使用する溶媒の沸点域の
範囲から適宜選択して行えば良く、好ましくは６０℃〜
８０℃の範囲である。反応時間は反応量、反応温度等に
より一定しないが、数分〜４８時間の範囲で行えば良
い。反応終了後、目的物を含む反応系から常法により単
離し、必要に応じて精製等を行うことにより目的物を製
造することができる。又、反応終了後、反応系から目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００１４】反応２．一般式(IX)→一般式(VII) 本反応で使用する不活性溶媒は、本反応の進行を著しく
阻害しないものであれば良く、例えばジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖
状又は環状エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシドを
例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で若し
くは２種以上混合して使用することもできる。本反応で
使用する塩基は反応１に例示の有機塩基を使用すること
ができ、その使用量は一般式(IX)で表される化合物に対
して等モル以上使用すれば良く、好ましくは１〜１．５
倍モルの範囲である。
阻害しないものであれば良く、例えばジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、ジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の鎖
状又は環状エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシドを
例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で若し
くは２種以上混合して使用することもできる。本反応で
使用する塩基は反応１に例示の有機塩基を使用すること
ができ、その使用量は一般式(IX)で表される化合物に対
して等モル以上使用すれば良く、好ましくは１〜１．５
倍モルの範囲である。
【００１５】本反応は等モル反応であるので、各反応剤
を等モル使用すれば良いが、好ましくは一般式(IX)で表
される化合物に対して１〜１．５倍モルの一般式(VIII)
で表される化合物を使用するのが良い。反応温度は−２
０℃〜６０℃の範囲から適宜選択して行えば良く、好ま
しくは５℃〜３０℃の範囲である。反応時間は反応量、
反応温度等により一定しないが、数分〜４８時間の範囲
で行えば良い。反応終了後、反応１と同様に処理するこ
とにより、目的物を製造することができる。又、反応終
了後、反応系から目的物を単離せずに次の反応に供する
こともできる。
を等モル使用すれば良いが、好ましくは一般式(IX)で表
される化合物に対して１〜１．５倍モルの一般式(VIII)
で表される化合物を使用するのが良い。反応温度は−２
０℃〜６０℃の範囲から適宜選択して行えば良く、好ま
しくは５℃〜３０℃の範囲である。反応時間は反応量、
反応温度等により一定しないが、数分〜４８時間の範囲
で行えば良い。反応終了後、反応１と同様に処理するこ
とにより、目的物を製造することができる。又、反応終
了後、反応系から目的物を単離せずに次の反応に供する
こともできる。
【００１６】反応３．一般式(VII) →一般式(VI) 本反応で使用する不活性溶媒は、反応１に例示の不活性
溶媒の他に、ジグライム、水等を使用することができ、
これらの不活性溶媒は単独で若しくは２種以上混合して
使用することもできる。本反応で使用する還元剤として
は水素化トリメトキシホウ素ナトリウム（NaBH(OC
H3)3 ）、水素化ホウ素ナトリウム（NaBH4 ）、シアン
化水素化ホウ素ナトリウム（NaBH3CN ）、水素化ホウ素
リチウム（LiBH4 ）等を例示することができるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。還元剤の使用量
は一般式(VII) で表される化合物に対して等モル以上使
用すれば良い。
溶媒の他に、ジグライム、水等を使用することができ、
これらの不活性溶媒は単独で若しくは２種以上混合して
使用することもできる。本反応で使用する還元剤として
は水素化トリメトキシホウ素ナトリウム（NaBH(OC
H3)3 ）、水素化ホウ素ナトリウム（NaBH4 ）、シアン
化水素化ホウ素ナトリウム（NaBH3CN ）、水素化ホウ素
リチウム（LiBH4 ）等を例示することができるが、本発
明はこれらに限定されるものではない。還元剤の使用量
は一般式(VII) で表される化合物に対して等モル以上使
用すれば良い。
【００１７】反応温度は−７０℃〜８０℃の範囲から適
宜選択して行えば良く、好ましくは−２０℃〜３５℃の
範囲である。反応時間は反応量、反応温度等により一定
しないが、数分〜４８時間の範囲で行えば良い。反応終
了後、反応１と同様に処理することにより、目的物を製
造することができる。又、反応終了後、反応系から目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
宜選択して行えば良く、好ましくは−２０℃〜３５℃の
範囲である。反応時間は反応量、反応温度等により一定
しないが、数分〜４８時間の範囲で行えば良い。反応終
了後、反応１と同様に処理することにより、目的物を製
造することができる。又、反応終了後、反応系から目的
物を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００１８】反応４．一般式(VI)→一般式(V) 本反応で使用する不活性溶媒は、本反応の進行を著しく
阻害しないものであれば良く、例えばジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、エチレンジクロライド等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素類等を例示する
ことができ、これらの不活性溶媒は単独で若しくは２種
以上混合して使用することもでき、不活性溶媒を使用し
なくても良い。本反応で使用するハロゲン化剤は、例え
ば塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化
リン等の塩素化剤、三臭化リン、オキシ臭化リン等の臭
素化剤等を例示することができ、その使用量は一般式(V
I)で表される化合物に対して等モル以上使用すれば良
く、好ましくは１〜２．０倍モルの範囲である。
阻害しないものであれば良く、例えばジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、エチレンジクロライド等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ニトロベンゼン等の芳香族炭化水素類等を例示する
ことができ、これらの不活性溶媒は単独で若しくは２種
以上混合して使用することもでき、不活性溶媒を使用し
なくても良い。本反応で使用するハロゲン化剤は、例え
ば塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化
リン等の塩素化剤、三臭化リン、オキシ臭化リン等の臭
素化剤等を例示することができ、その使用量は一般式(V
I)で表される化合物に対して等モル以上使用すれば良
く、好ましくは１〜２．０倍モルの範囲である。
【００１９】反応温度は−４０℃〜８０℃の範囲から適
宜選択して行えば良く、好ましくは０℃〜４０℃の範囲
である。反応時間は反応量、反応温度等により一定しな
いが、数分〜４８時間の範囲で行えば良い。反応終了
後、反応１と同様に処理することにより、目的物を製造
することができる。又、反応終了後、反応系から目的物
を単離せずに次の反応に供することもできる。
宜選択して行えば良く、好ましくは０℃〜４０℃の範囲
である。反応時間は反応量、反応温度等により一定しな
いが、数分〜４８時間の範囲で行えば良い。反応終了
後、反応１と同様に処理することにより、目的物を製造
することができる。又、反応終了後、反応系から目的物
を単離せずに次の反応に供することもできる。
【００２０】５．一般式(V) →一般式(III) 本反応では必ずしも不活性溶媒の使用を必要とせず、反
応剤の一般式(IV)で表される化合物を一般式(V) で表さ
れる化合物に対して等モル以上使用すれば良く、好まし
くは１．１〜４倍モルの範囲で使用するのが良い。反応
温度は６０℃〜２００℃の範囲から適宜選択して行えば
良く、好ましくは８０℃〜１９０℃の範囲である。反応
時間は反応量、反応温度等により一定しないが、数分〜
４８時間の範囲で行えば良い。反応終了後、反応１と同
様に処理することにより、目的物を製造することができ
る。又、反応終了後、反応系から目的物を単離せずに次
の反応に供することもできる。
応剤の一般式(IV)で表される化合物を一般式(V) で表さ
れる化合物に対して等モル以上使用すれば良く、好まし
くは１．１〜４倍モルの範囲で使用するのが良い。反応
温度は６０℃〜２００℃の範囲から適宜選択して行えば
良く、好ましくは８０℃〜１９０℃の範囲である。反応
時間は反応量、反応温度等により一定しないが、数分〜
４８時間の範囲で行えば良い。反応終了後、反応１と同
様に処理することにより、目的物を製造することができ
る。又、反応終了後、反応系から目的物を単離せずに次
の反応に供することもできる。
【００２１】反応６．一般式(III) →一般式(I) 本反応で使用する不活性溶媒は、本反応の進行を著しく
阻害しないものであれば良く、例えば反応１で例示の不
活性溶媒の他に、ヘキサメチルホスホロアミド（ＨＭＰ
Ａ）、水等を例示することができ、これらの不活性溶媒
は単独で若しくは２種以上混合して使用することもでき
る。本反応で使用する塩基は、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリ等のアルカリ金属原子の水酸化物、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメ
メキシド、カリウムエトキシド、ナトリウム−ｔ−ブト
キシド等のアルコラート類、水素化ナトリウム等のアル
カリ金属原子の水素化物等を使用することができ、その
使用量は一般式(III) で表される化合物に対して等モル
以上、好ましくは３〜１０倍モルの範囲である。
阻害しないものであれば良く、例えば反応１で例示の不
活性溶媒の他に、ヘキサメチルホスホロアミド（ＨＭＰ
Ａ）、水等を例示することができ、これらの不活性溶媒
は単独で若しくは２種以上混合して使用することもでき
る。本反応で使用する塩基は、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリ等のアルカリ金属原子の水酸化物、ナト
リウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメ
メキシド、カリウムエトキシド、ナトリウム−ｔ−ブト
キシド等のアルコラート類、水素化ナトリウム等のアル
カリ金属原子の水素化物等を使用することができ、その
使用量は一般式(III) で表される化合物に対して等モル
以上、好ましくは３〜１０倍モルの範囲である。
【００２２】本反応は等モル反応であるので、各反応剤
を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に
使用することもできる。反応温度は−７０℃〜使用する
溶媒の沸点域の範囲から適宜選択して行えば良く、好ま
しくは０℃〜４０℃の範囲である。反応時間は反応量、
反応温度等により一定しないが、数分〜４８時間の範囲
で行えば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常
法により単離し、必要に応じて精製等を行うことにより
目的物を製造することができる。
を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に
使用することもできる。反応温度は−７０℃〜使用する
溶媒の沸点域の範囲から適宜選択して行えば良く、好ま
しくは０℃〜４０℃の範囲である。反応時間は反応量、
反応温度等により一定しないが、数分〜４８時間の範囲
で行えば良い。反応終了後、目的物を含む反応系から常
法により単離し、必要に応じて精製等を行うことにより
目的物を製造することができる。
【００２３】本製造方法の出発原料である４−アセトキ
シ−３，５−ジメトキシベンズアルデヒドは特開平５−
２７９２８９号公報に記載の製造方法により製造するこ
とができる。以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
シ−３，５−ジメトキシベンズアルデヒドは特開平５−
２７９２８９号公報に記載の製造方法により製造するこ
とができる。以下に本発明の代表的な実施例を例示する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
実施例１． ４−アセトキシ−３，５−ジメチトキシケ
イ皮酸の製造。
イ皮酸の製造。
【化４２】
【００２５】３００ｍｌのナス型フラスコに４−アセト
キシ−３，５−ジメトキシベンズアルデヒド４８ｇ
（０．２１モル）、マロン酸４３．７ｇ（０．２１×２
モル）、ピリジン３４ｇ（２．０５モル）及びピペリジ
ン２ｇ（０．１１モル）（０．１１モル）を加え、水浴
温６０℃（内温５３−５５℃）で３．５時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ塩酸をｐＨ４−
５に調整し、析出した結晶を濾集し、乾燥することによ
り目的物３９．１ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．１９９．５−２００．５℃ 収率
７０％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 2.35(s.3H), 3.87(s.6H), 6.40(d.J=15.9Hz,1H), 6.80
(s.2H),7.72(d.J=15.9Hz,1H).
キシ−３，５−ジメトキシベンズアルデヒド４８ｇ
（０．２１モル）、マロン酸４３．７ｇ（０．２１×２
モル）、ピリジン３４ｇ（２．０５モル）及びピペリジ
ン２ｇ（０．１１モル）（０．１１モル）を加え、水浴
温６０℃（内温５３−５５℃）で３．５時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ塩酸をｐＨ４−
５に調整し、析出した結晶を濾集し、乾燥することによ
り目的物３９．１ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．１９９．５−２００．５℃ 収率
７０％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 2.35(s.3H), 3.87(s.6H), 6.40(d.J=15.9Hz,1H), 6.80
(s.2H),7.72(d.J=15.9Hz,1H).
【００２６】実施例２． ４−アセトキシ−３，５−ジ
メトキシシンナモイル エチル カ−ボナ−トの製造。
メトキシシンナモイル エチル カ−ボナ−トの製造。
【化４３】
【００２７】５００ｍｌの三角フラスコに４−アセトキ
シ−３，５−ジメトキシケイ皮酸４５．９ｇ（０．１７
２モル）、テトラヒドロフラン３５０ｍｌ及びトリエチ
ルアミン１８．３ｇ（０．１７２×１．０５モル）を加
えて溶解し、該溶液にクロロ炭酸エチル１９．６ｇ
（０．１７２×１．０５モル）を５０ｍｌのテトラヒド
ロフランに溶解した溶液を１０℃以下の温度で滴下し、
滴下終了後に室温下で１時間反応を行った。反応終了
後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過し、テトラ
ヒドロフランで洗浄し、濾液及び洗浄液を乾燥後、減圧
下に濃縮することによりことにより目的物５１．８ｇを
得た。 物性：ｍ．ｐ．９４−９５℃ 収率８９％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 1.40(t.J=10.6Hz,3H), 2.35(s.3H), 3.86(s.6H), 4.38
(q.J=10.6Hz,2H),6.37(d.J=23.7Hz,2H), 6.79(s,2H),
7.76(d.J=23.7Hz,2H).
シ−３，５−ジメトキシケイ皮酸４５．９ｇ（０．１７
２モル）、テトラヒドロフラン３５０ｍｌ及びトリエチ
ルアミン１８．３ｇ（０．１７２×１．０５モル）を加
えて溶解し、該溶液にクロロ炭酸エチル１９．６ｇ
（０．１７２×１．０５モル）を５０ｍｌのテトラヒド
ロフランに溶解した溶液を１０℃以下の温度で滴下し、
滴下終了後に室温下で１時間反応を行った。反応終了
後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過し、テトラ
ヒドロフランで洗浄し、濾液及び洗浄液を乾燥後、減圧
下に濃縮することによりことにより目的物５１．８ｇを
得た。 物性：ｍ．ｐ．９４−９５℃ 収率８９％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 1.40(t.J=10.6Hz,3H), 2.35(s.3H), 3.86(s.6H), 4.38
(q.J=10.6Hz,2H),6.37(d.J=23.7Hz,2H), 6.79(s,2H),
7.76(d.J=23.7Hz,2H).
【００２８】実施例３． ２，６−ジメトキシ−４−
（３−ヒドロキシ−１−プロペニル）フェニル アセタ
ートの製造。 ３−１
（３−ヒドロキシ−１−プロペニル）フェニル アセタ
ートの製造。 ３−１
【化４４】
【００２９】４−アセトキシ−３，５−ジメトキシシン
ナモイル エチル カーボナート５８．２ｇ（０．１７
２モル）及びテトラヒドロフラン３５０ｍｌを１Ｌ三角
フラスコに入れて溶解し、該溶液に冷却下３０℃以下で
水素化ホウ素ナトリウム９．８ｇ（０．１７２×１．５
モル）を１４０ｍｌの水に溶解させた溶液を滴下し、滴
下終了後１０〜２０℃の温度下で３時間反応を行った。
反応終了後、反応液を分液して有機層を単離し、テトラ
ヒドロフランを減圧下に留去して残渣に酢酸エチル５０
０ｍｌを加えて水洗し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧下に留去することに
より目的物４１．２ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．９２−９４℃ 収率 ９５％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 2.34(s.3H), 3.83(s.6H), 4.33(d.J=5.4Hz,2H),6.31(d
t.J=15.9,5.4Hz,1H), 6.63(s,2H), 6.56(d.J=15.9Hz,1
H).
ナモイル エチル カーボナート５８．２ｇ（０．１７
２モル）及びテトラヒドロフラン３５０ｍｌを１Ｌ三角
フラスコに入れて溶解し、該溶液に冷却下３０℃以下で
水素化ホウ素ナトリウム９．８ｇ（０．１７２×１．５
モル）を１４０ｍｌの水に溶解させた溶液を滴下し、滴
下終了後１０〜２０℃の温度下で３時間反応を行った。
反応終了後、反応液を分液して有機層を単離し、テトラ
ヒドロフランを減圧下に留去して残渣に酢酸エチル５０
０ｍｌを加えて水洗し、酢酸エチル層を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧下に留去することに
より目的物４１．２ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．９２−９４℃ 収率 ９５％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 2.34(s.3H), 3.83(s.6H), 4.33(d.J=5.4Hz,2H),6.31(d
t.J=15.9,5.4Hz,1H), 6.63(s,2H), 6.56(d.J=15.9Hz,1
H).
【００３０】３−２
【化４５】
【００３１】５００ｍｌの三角フラスコに４−アセトキ
シ−３，５−ジメトキシケイ皮酸４５．９ｇ（０．１７
２モル）、テトラヒドロフラン３５０ｍｌ及びトリエチ
ルアミン１８．３ｇ（０．１７２×１．０５モル）を加
えて溶解し、該溶液にクロロ炭酸エチル１９．６ｇ
（０．１７２×１．０５モル）を５０ｍｌのテトラヒド
ロフランに溶解した溶液を１０℃以下の温度で滴下し、
滴下終了後に室温下で１時間反応を行った。反応終了
後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過し、テトラ
ヒドロフランで洗浄し、濾液及び洗浄液を得た。得られ
た濾液及び洗浄液を１Ｌ三角フラスコに入れ、冷却下３
０℃以下で水素化ホウ素ナトリウム９．８ｇ（０．１７
２×１．５モル）を１４０ｍｌの水に溶解させた溶液を
滴下し、滴下終了後１０〜２０℃の温度下で３時間反応
を行った。反応終了後、反応液を分液して有機層を単離
し、テトラヒドロフランを減圧下に留去して残渣に酢酸
エチル５００ｍｌを加え、酢酸エチル層を水洗及び無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧下に留去
することにより目的物３９．５ｇを得た。（収率 ９１
％）
シ−３，５−ジメトキシケイ皮酸４５．９ｇ（０．１７
２モル）、テトラヒドロフラン３５０ｍｌ及びトリエチ
ルアミン１８．３ｇ（０．１７２×１．０５モル）を加
えて溶解し、該溶液にクロロ炭酸エチル１９．６ｇ
（０．１７２×１．０５モル）を５０ｍｌのテトラヒド
ロフランに溶解した溶液を１０℃以下の温度で滴下し、
滴下終了後に室温下で１時間反応を行った。反応終了
後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過し、テトラ
ヒドロフランで洗浄し、濾液及び洗浄液を得た。得られ
た濾液及び洗浄液を１Ｌ三角フラスコに入れ、冷却下３
０℃以下で水素化ホウ素ナトリウム９．８ｇ（０．１７
２×１．５モル）を１４０ｍｌの水に溶解させた溶液を
滴下し、滴下終了後１０〜２０℃の温度下で３時間反応
を行った。反応終了後、反応液を分液して有機層を単離
し、テトラヒドロフランを減圧下に留去して残渣に酢酸
エチル５００ｍｌを加え、酢酸エチル層を水洗及び無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧下に留去
することにより目的物３９．５ｇを得た。（収率 ９１
％）
【００３２】実施例４． ４−（３−クロロ−１−プロ
ペニル）−２，６−ジメトキシフェニル アセタートの
製造。
ペニル）−２，６−ジメトキシフェニル アセタートの
製造。
【化４６】
【００３３】２００ｍｌの丸底フラスコに２，６−ジメ
トキシ−４−（３−ヒドロキシ−１−プロペニル）フェ
ニル アセタート５．１ｇ（０．０２モル）及びトルエ
ン２５ｍｌを加えて溶解し、該溶液に塩化チオニル２．
５ｇ（０．０２×１．０５モル）を加えて２５−３０℃
で３時間反応を行った。反応終了後、反応溶媒のトルエ
ンを４０℃以下の温度で減圧下に留去し、得られた残渣
にトルエン２５ｍｌを加え、同様にして留去することに
より目的物４．９ｇを得た。 物性：粘稠油状物 収率 ９０％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 2.34(s.3H), 3.84(s.6H), 4.23-4.25(m.2H), 6.21-6.35
(m.1H),6.55-6.58(m.1H), 6.63(s.2H).
トキシ−４−（３−ヒドロキシ−１−プロペニル）フェ
ニル アセタート５．１ｇ（０．０２モル）及びトルエ
ン２５ｍｌを加えて溶解し、該溶液に塩化チオニル２．
５ｇ（０．０２×１．０５モル）を加えて２５−３０℃
で３時間反応を行った。反応終了後、反応溶媒のトルエ
ンを４０℃以下の温度で減圧下に留去し、得られた残渣
にトルエン２５ｍｌを加え、同様にして留去することに
より目的物４．９ｇを得た。 物性：粘稠油状物 収率 ９０％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 2.34(s.3H), 3.84(s.6H), 4.23-4.25(m.2H), 6.21-6.35
(m.1H),6.55-6.58(m.1H), 6.63(s.2H).
【００３４】実施例５． ジエチル ４−アセトキシ−
３，５−ジメトキシスチリルメタンスルホナートの製
造。
３，５−ジメトキシスチリルメタンスルホナートの製
造。
【化４７】
【００３５】４−（３−クロロ−１−プロペニル）−
２，６−ジメトキシフェニル アセタート５．４ｇ
（０．０２モル）をバス温８０℃に加温し、亜リン酸ト
リエチル３．６５ｇ（０．０２×１．１モル）を加えて
均一な溶液とし、バス温１１０℃で１時間、１３０℃で
２時間及び１５０℃で３時間反応を行った。反応終了
後、反応系を８０℃まで冷却し、減圧下に過剰の亜リン
酸トリエチル、副生成物等を留去することにより目的物
６．３ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．９４−９６℃ 収率 ８５％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 1.33(t.J=4.5Hz,6H), 2.34(s.3H),2.76(ddd.JP.H.H =2
2.4, 5.1, 15.8Hz,2H), 3.83(s.6H), 4.08-4.18(m.4H),
6.09-6.17(m.1H), 6.47(dd,J=5.1, 15.8Hz,1H), 6.60
(s.2H).
２，６−ジメトキシフェニル アセタート５．４ｇ
（０．０２モル）をバス温８０℃に加温し、亜リン酸ト
リエチル３．６５ｇ（０．０２×１．１モル）を加えて
均一な溶液とし、バス温１１０℃で１時間、１３０℃で
２時間及び１５０℃で３時間反応を行った。反応終了
後、反応系を８０℃まで冷却し、減圧下に過剰の亜リン
酸トリエチル、副生成物等を留去することにより目的物
６．３ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．９４−９６℃ 収率 ８５％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 1.33(t.J=4.5Hz,6H), 2.34(s.3H),2.76(ddd.JP.H.H =2
2.4, 5.1, 15.8Hz,2H), 3.83(s.6H), 4.08-4.18(m.4H),
6.09-6.17(m.1H), 6.47(dd,J=5.1, 15.8Hz,1H), 6.60
(s.2H).
【００３６】実施例６． ４，４’−（１，３−ブタジ
エン−１，４−ジイル）ビス−２，６−ジメトキシフェ
ノールの製造。
エン−１，４−ジイル）ビス−２，６−ジメトキシフェ
ノールの製造。
【化４８】
【００３７】ジエチル ４−アセトキシ−３，５−ジメ
トキシスチリルメタンスルホナート７．４ｇ（０．０２
モル）に４−アセトキシ−３，５−ジメトキシベンズア
ルデヒド４．２ｇ（０．０２×０．９５モル）及びジメ
チルホルムアミド６０ｍｌを加えて攪拌下に溶解し、該
溶液に、水酸化カリウム３．８ｇ（０．０２×５×１／
０．９６モル）を水３ｇに溶かした溶液を１０℃以下で
加え、室温下に１時間反応を行った。反応終了後、反応
液に水６０ｍｌを加えて攪拌し、次いで氷冷下に塩酸を
加えて酸性とし、析出する結晶を濾集し、得られた結晶
を十分に水洗し、減圧下に乾燥することにより目的物
３．０ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．１９９−２０１℃ 収率 ５１．４％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 3.93(s.12H), 5.57(s.2H), 6.50-6.62(m.2H), 6.67(s.4
H),6.74-6.86(m.2H).
トキシスチリルメタンスルホナート７．４ｇ（０．０２
モル）に４−アセトキシ−３，５−ジメトキシベンズア
ルデヒド４．２ｇ（０．０２×０．９５モル）及びジメ
チルホルムアミド６０ｍｌを加えて攪拌下に溶解し、該
溶液に、水酸化カリウム３．８ｇ（０．０２×５×１／
０．９６モル）を水３ｇに溶かした溶液を１０℃以下で
加え、室温下に１時間反応を行った。反応終了後、反応
液に水６０ｍｌを加えて攪拌し、次いで氷冷下に塩酸を
加えて酸性とし、析出する結晶を濾集し、得られた結晶
を十分に水洗し、減圧下に乾燥することにより目的物
３．０ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．１９９−２０１℃ 収率 ５１．４％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 3.93(s.12H), 5.57(s.2H), 6.50-6.62(m.2H), 6.67(s.4
H),6.74-6.86(m.2H).
【００３８】参考例． ４，４’−（２−ブテン−１，
４−ジイリデン）ビス（２，６−ジメトキシ）−２，５
−シクロヘキサジエン−１−オンの製造。
４−ジイリデン）ビス（２，６−ジメトキシ）−２，５
−シクロヘキサジエン−１−オンの製造。
【化４９】
【００３９】２００ｍｌマイヤーフラスコに４，４’−
（１，３−ブタジエン−１，４−ジイル）ビス−２，６
−ジメトキシフェノール３．６ｇ（０．０１モル）及び
テトラヒドロフラン７５ｍｌを加えバス温６０℃で溶解
し、該溶液にクロラニル２．４５ｇ（０．０１×１．２
モル）を加えて同温度で１時間反応を行った。反応終了
後、反応液を室温まで冷却し、析出する結晶を濾集し、
酢酸エチルで洗浄後、減圧下に乾燥することにより目的
物２．４ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．２２４−２２６℃ 収率 ６７．３
％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 3.85(s.6H), 3.91(s.6H), 6.32(d.J=1.8Hz,2H), 6.75
(d,J=1.8,2H),6.79-6.93(m,2H), 7.18-7.32(m.2H). ＶＩＳ λmax ５１８ｎｍ
（１，３−ブタジエン−１，４−ジイル）ビス−２，６
−ジメトキシフェノール３．６ｇ（０．０１モル）及び
テトラヒドロフラン７５ｍｌを加えバス温６０℃で溶解
し、該溶液にクロラニル２．４５ｇ（０．０１×１．２
モル）を加えて同温度で１時間反応を行った。反応終了
後、反応液を室温まで冷却し、析出する結晶を濾集し、
酢酸エチルで洗浄後、減圧下に乾燥することにより目的
物２．４ｇを得た。 物性：ｍ．ｐ．２２４−２２６℃ 収率 ６７．３
％1 H-NMR[CDCl3/TMS, δ値(ppm)] 3.85(s.6H), 3.91(s.6H), 6.32(d.J=1.8Hz,2H), 6.75
(d,J=1.8,2H),6.79-6.93(m,2H), 7.18-7.32(m.2H). ＶＩＳ λmax ５１８ｎｍ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 57/48 2115−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 57/48 59/64 2115−4Ｈ 59/64 68/00 68/00 Ｚ 69/96 69/96 Ｚ 309/64 309/64 Ｃ０７Ｆ 9/40 9450−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 9/40 Ｂ Ｃ０９Ｂ 23/00 Ｃ０９Ｂ 23/00 Ｈ
Claims (11)
- 【請求項１】 一般式(X) 【化１】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）で
表される化合物をマロン酸と反応させ、一般式(IX) 【化２】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じ。）で表される化合
物とし、該化合物(IX)を単離し又は単離せずして一般式
(VIII) 【化３】 Hal-COOR3 (VIII) （式中、R3はC1-6アルキル基又はフェニル基を示し、Ha
l はハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応さ
せ、一般式(VII) 【化４】 （式中、R 、R1、R2及びR3は前記に同じ。）で表される
化合物とし、該化合物(VII) を単離し又は単離せずして
還元反応を行い、一般式(VI) 【化５】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じ。）で表される化合
物とし、該化合物(VI)を単離し又は単離せずしてハロゲ
ン化することにより一般式(V) 【化６】 （式中、R 、R1、R2及びHal は前記に同じ。）で表され
る化合物とし、該化合物(V) を単離し又は単離せずして
一般式(IV) 【化７】 P(OR4)3 (IV) （式中、R4はC1-6アルキル基を示す。）で表される化合
物と反応させ、一般式(III) 【化８】 （式中、R 、R1、R2及びR4は前記に同じ。）で表される
化合物とし、該化合物(III) を単離し又は単離せずして
一般式(II) 【化９】 （式中、R は前記に同じくし、R5及びR6は同一又は異な
っても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
(I) 【化１０】 （式中、R1、R2、R5及びR6は前記に同じ。）で表される
化合物の製造方法。 - 【請求項２】 一般式(IX) 【化１１】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）で
表される化合物。 - 【請求項３】 一般式(X) 【化１２】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）で
表される化合物をマロン酸と反応させることを特徴とす
る一般式(IX) 【化１３】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じ。）で表される化合
物の製造方法。 - 【請求項４】 一般式(VII) 【化１４】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1、R2及びR3は同一又は異
なっても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示
す。）で表される化合物。 - 【請求項５】 一般式(IX) 【化１５】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）で
表される化合物を一般式(VIII) 【化１６】 Hal-COOR3 (VIII) （式中、R3はC1-6アルキル基又はフェニル基を示し、Ha
l はハロゲン原子を示す。）で表される化合物と反応さ
せることを特徴とする一般式(VII) 【化１７】 （式中、R 、R1、R2及びR3は前記に同じ。）で表される
化合物の製造方法。 - 【請求項６】 一般式(VII) 【化１８】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1、R2及びR3は同一又は異
なっても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示
す。）で表される化合物を還元することを特徴とする一
般式(VI) 【化１９】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じ。）で表される化合
物の製造方法。 - 【請求項７】 一般式(V) 【化２０】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示し、Hal
はハロゲン原子を示す。）で表される化合物。 - 【請求項８】 一般式(VI) 【化２１】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）で
表される化合物をハロゲン化することを特徴とする一般
式(V) 【化２２】 （式中、R 、R1及びR2は前記に同じくし、Hal はハロゲ
ン原子を示す。）で表される化合物の製造方法。 - 【請求項９】 一般式(III) 【化２３】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示し、R4は
C1-6アルキル基を示す。）で表される化合物。 - 【請求項１０】 一般式(V) 【化２４】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示し、Hal
はハロゲン原子を示す。）で表される化合物を一般式(I
V) 【化２５】 P(OR4)3 (IV) （式中、R4はC1-6アルキル基を示す。）で表される化合
物と反応させることを特徴とする一般式(III) 【化２６】 （式中、R 、R1、R2及び及びR4は前記に同じ。）で表さ
れる化合物の製造方法。 - 【請求項１１】 一般式(III) 【化２７】 （式中、R はC1-6アルキルカルボニル基、フェニルカル
ボニル基、３，５−ジニトロフェニルカルボニル基、C
1-6アルキルスルホニル基、ハロC1-6アルキルスルホニ
ル基、ベンジル基又はC1-6アルコキシC1-6アルキル基等
の脱離可能な保護基を示し、R1及びR2は同一又は異なっ
ても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示し、R4は
C1-6アルキル基を示す。）で表される化合物を一般式(I
I) 【化２８】 （式中、R は前記に同じくし、R5及びR6は同一又は異な
っても良く、C1-6アルキル基又はフェニル基を示す。）
で表される化合物と反応させることを特徴とする一般式
(I) 【化２９】 （式中、R1、R2、R5及びR6は前記に同じ。）で表される
化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8289185A JPH09165353A (ja) | 1995-10-12 | 1996-10-11 | 化合物の製造方法及びその中間体化合物類並びにそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-290502 | 1995-10-12 | ||
| JP29050295 | 1995-10-12 | ||
| JP8289185A JPH09165353A (ja) | 1995-10-12 | 1996-10-11 | 化合物の製造方法及びその中間体化合物類並びにそれらの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09165353A true JPH09165353A (ja) | 1997-06-24 |
Family
ID=26557499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8289185A Pending JPH09165353A (ja) | 1995-10-12 | 1996-10-11 | 化合物の製造方法及びその中間体化合物類並びにそれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09165353A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006045548A2 (en) * | 2004-10-26 | 2006-05-04 | Consiglio Nazionale Delle Ricerche | Process for the synthesis of ethylene-bis(p-methylenequinones) and corresponding butadiene phenols |
| JP2010520243A (ja) * | 2007-03-06 | 2010-06-10 | コグニス・アイピー・マネージメント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | シナピン酸の誘導体の使用およびそのような誘導体を含んでなる組成物 |
-
1996
- 1996-10-11 JP JP8289185A patent/JPH09165353A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006045548A2 (en) * | 2004-10-26 | 2006-05-04 | Consiglio Nazionale Delle Ricerche | Process for the synthesis of ethylene-bis(p-methylenequinones) and corresponding butadiene phenols |
| WO2006045548A3 (en) * | 2004-10-26 | 2006-08-31 | Consiglio Nazionale Ricerche | Process for the synthesis of ethylene-bis(p-methylenequinones) and corresponding butadiene phenols |
| JP2010520243A (ja) * | 2007-03-06 | 2010-06-10 | コグニス・アイピー・マネージメント・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | シナピン酸の誘導体の使用およびそのような誘導体を含んでなる組成物 |
| US8580775B2 (en) | 2007-03-06 | 2013-11-12 | Cognis Ip Management Gmbh | Use of derivatives of sinapinic acid and compositions comprising such derivatives |
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