JPH09159964A - 半導体露光装置用の照明装置 - Google Patents
半導体露光装置用の照明装置Info
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- JPH09159964A JPH09159964A JP7345566A JP34556695A JPH09159964A JP H09159964 A JPH09159964 A JP H09159964A JP 7345566 A JP7345566 A JP 7345566A JP 34556695 A JP34556695 A JP 34556695A JP H09159964 A JPH09159964 A JP H09159964A
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- prism
- incident
- outgoing
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コヒーレント長が長い光源に対し光路差生起
手段を大型にせずにスペックルを防止でき、光学薄膜の
施された個所を低減できる照明装置を提供する。 【解決手段】 入射ビーム１はプリズム３の入出射面２
に角度θで入射する。入射ビーム１は入射面２の光学薄
膜等の手段により反射光と屈折光５とに所定の比率で分
割される。屈折光５はプリズム中を進行し、薄膜のない
反射面６，８で全反射し反射面７で反射して入射位置２
ａの近傍に戻ってくる。戻ってきた周回光は、最初の反
射光に平行でプリズム３の外部に向かう出射光とプリズ
ム中に進行する反射光とに分割される。入出射面２でプ
リズム内に反射された反射光は再びプリズム中の周回を
繰り返す。入射ビーム１のほぼ全てが反射光と後続する
出射光として合流し出射ビーム４となる。出射ビームの
各出射光の通過した光路長の間の差は可干渉距離の二分
の一以上とされているのでスペックルが低減される。
手段を大型にせずにスペックルを防止でき、光学薄膜の
施された個所を低減できる照明装置を提供する。 【解決手段】 入射ビーム１はプリズム３の入出射面２
に角度θで入射する。入射ビーム１は入射面２の光学薄
膜等の手段により反射光と屈折光５とに所定の比率で分
割される。屈折光５はプリズム中を進行し、薄膜のない
反射面６，８で全反射し反射面７で反射して入射位置２
ａの近傍に戻ってくる。戻ってきた周回光は、最初の反
射光に平行でプリズム３の外部に向かう出射光とプリズ
ム中に進行する反射光とに分割される。入出射面２でプ
リズム内に反射された反射光は再びプリズム中の周回を
繰り返す。入射ビーム１のほぼ全てが反射光と後続する
出射光として合流し出射ビーム４となる。出射ビームの
各出射光の通過した光路長の間の差は可干渉距離の二分
の一以上とされているのでスペックルが低減される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板製造に
用いられる半導体露光装置用の照明装置を含む、光を照
射して基板上に塗布されたフォトレジストに所望パター
ンを転写して素子を作成する露光装置用の照明装置に関
し、特に光源としてレーザを採用するとともに、光源と
照明対象物との間に光路差生起手段を配置した照明装置
に関する。
用いられる半導体露光装置用の照明装置を含む、光を照
射して基板上に塗布されたフォトレジストに所望パター
ンを転写して素子を作成する露光装置用の照明装置に関
し、特に光源としてレーザを採用するとともに、光源と
照明対象物との間に光路差生起手段を配置した照明装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の照明装置は、光源として
コヒーレンス度の低い水銀ランプ等を採用していたの
で、スペックルによる照明の不均一性の問題が発生する
ことは稀であった。しかし、例えば近年の半導体装置の
集積度の向上に伴って、更なる微細な加工を行わなけれ
ばならず、照明装置の光源も短波長のものに移行せざる
を得なくなり、最近では２４８ｎｍ以下の波長をもつエ
キシマレーザを利用する装置も投入されている。しか
し、このような紫外波長域においては、屈折型対物レン
ズに使用できる硝材が限定され、色消しが困難になり、
レンズの開口率を上げるためには、エキシマレーザ等の
光源波長幅を狭窄化することが必要となった。この光源
波長幅の狭窄化が進むと必然的に時間的コヒーレンスは
長くなり、干渉縞やスペックルが、照明の均一化の障害
になり易くなった。そこで、この問題を解決するため
に、種々の光路差生起手段が提案されることとなった
（例えば、特開昭６０−２４７６４３号公報、特開昭６
１−１６９８１５号公報、特開昭６３−２２１３１号公
報、特開昭６３−２１６３３８号公報、特開平１−２９
０２７６号公報に開示された発明）。
コヒーレンス度の低い水銀ランプ等を採用していたの
で、スペックルによる照明の不均一性の問題が発生する
ことは稀であった。しかし、例えば近年の半導体装置の
集積度の向上に伴って、更なる微細な加工を行わなけれ
ばならず、照明装置の光源も短波長のものに移行せざる
を得なくなり、最近では２４８ｎｍ以下の波長をもつエ
キシマレーザを利用する装置も投入されている。しか
し、このような紫外波長域においては、屈折型対物レン
ズに使用できる硝材が限定され、色消しが困難になり、
レンズの開口率を上げるためには、エキシマレーザ等の
光源波長幅を狭窄化することが必要となった。この光源
波長幅の狭窄化が進むと必然的に時間的コヒーレンスは
長くなり、干渉縞やスペックルが、照明の均一化の障害
になり易くなった。そこで、この問題を解決するため
に、種々の光路差生起手段が提案されることとなった
（例えば、特開昭６０−２４７６４３号公報、特開昭６
１−１６９８１５号公報、特開昭６３−２２１３１号公
報、特開昭６３−２１６３３８号公報、特開平１−２９
０２７６号公報に開示された発明）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の半導体露
光装置等に用いられるエキシマレーザ光源は、元来コヒ
ーレント長の短い光であったが、紫外波長域での高開口
レンズにおいて色消しが困難であるという事情から、光
源波長幅の狭窄化が必要になり、その狭窄化によって光
の時間的コヒーレント長が長くなっているわけである。
また、Ｎｄ：ＹＡＧを代表とするネオジミウムレーザの
第４，第５高調波を光源とすると、光源波長幅を極めて
狭い範囲に狭窄化することが容易に可能となる。これら
光源を、使用しようとする場合、どちらにしても、時間
的コヒーレント長が長くなるために、この光を空間分割
して一様な照明を得ようとしても、干渉やスペックルが
発生して一様化できないため、コヒーレント長の低減が
まず必要になる。こうした光源からの光をコヒーレンス
の低い照明に転換するためには光路差生起手段がある
が、コヒーレント長の長い光に対しては、より大きな光
路差の生起を必要とするために、従来示されているよう
な平行平板等の方式では大型化してしまう。また、波長
が短波長化するに従って、耐久力を有するコーティング
材料の選択が困難になるため、コーティング面をできる
限り減らすことが光路差生起手段の耐久力向上のために
は必要であり、コストの低減にもつながる。
光装置等に用いられるエキシマレーザ光源は、元来コヒ
ーレント長の短い光であったが、紫外波長域での高開口
レンズにおいて色消しが困難であるという事情から、光
源波長幅の狭窄化が必要になり、その狭窄化によって光
の時間的コヒーレント長が長くなっているわけである。
また、Ｎｄ：ＹＡＧを代表とするネオジミウムレーザの
第４，第５高調波を光源とすると、光源波長幅を極めて
狭い範囲に狭窄化することが容易に可能となる。これら
光源を、使用しようとする場合、どちらにしても、時間
的コヒーレント長が長くなるために、この光を空間分割
して一様な照明を得ようとしても、干渉やスペックルが
発生して一様化できないため、コヒーレント長の低減が
まず必要になる。こうした光源からの光をコヒーレンス
の低い照明に転換するためには光路差生起手段がある
が、コヒーレント長の長い光に対しては、より大きな光
路差の生起を必要とするために、従来示されているよう
な平行平板等の方式では大型化してしまう。また、波長
が短波長化するに従って、耐久力を有するコーティング
材料の選択が困難になるため、コーティング面をできる
限り減らすことが光路差生起手段の耐久力向上のために
は必要であり、コストの低減にもつながる。
【０００４】本発明の目的は、コヒーレント長が長い光
源を用いても光路差生起手段を大型化させずにスペック
ルの発生を防止でき、コーティングの個所を極力減らし
て耐久性を向上できる照明装置を提供することにある。
源を用いても光路差生起手段を大型化させずにスペック
ルの発生を防止でき、コーティングの個所を極力減らし
て耐久性を向上できる照明装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決しようとする手段】上記目的を達成するた
めに、コヒーレント光源と、コヒーレント光源からの入
射ビームを複数のビームに分割し、分割した各ビームに
異なる光路長を与え、異なる光路長を通過した各ビーム
を再度適宜に集めて出射ビームを形成する光路差生起手
段とを有し、光路差生起手段が形成した出射ビームを用
いて照明対象を照明する、本発明の露光装置用の照明装
置において、前記光路差生起手段は、ビームに関わらな
い面を除いたとき、中心軸に直交する横断面が四角形以
上の多角形をなす柱状のプリズムであり、中心軸に平行
な一側面が入出射面とされ、入出射面の一部には部分透
過膜が施され、入出射面の入射位置に入射された入射ビ
ームが、入出射面において、プリズム外に向かう反射光
と、プリズム内に向かう屈折光とに分割され、屈折光は
プリズム内を進行し、反射手段の施されていない中心軸
に平行な側面では全反射され、反射手段の施された中心
軸に平行な側面では反射されて周回し、入出射面の入射
位置より所定距離離れた位置に戻り、プリズム外に向か
う出射光と、プリズム内に向かう反射光とに分割され、
プリズム内に向かう反射光により周回動作が繰り返さ
れ、入出射面からの反射光と複数の出射光とからなる出
射ビームを形成する。
めに、コヒーレント光源と、コヒーレント光源からの入
射ビームを複数のビームに分割し、分割した各ビームに
異なる光路長を与え、異なる光路長を通過した各ビーム
を再度適宜に集めて出射ビームを形成する光路差生起手
段とを有し、光路差生起手段が形成した出射ビームを用
いて照明対象を照明する、本発明の露光装置用の照明装
置において、前記光路差生起手段は、ビームに関わらな
い面を除いたとき、中心軸に直交する横断面が四角形以
上の多角形をなす柱状のプリズムであり、中心軸に平行
な一側面が入出射面とされ、入出射面の一部には部分透
過膜が施され、入出射面の入射位置に入射された入射ビ
ームが、入出射面において、プリズム外に向かう反射光
と、プリズム内に向かう屈折光とに分割され、屈折光は
プリズム内を進行し、反射手段の施されていない中心軸
に平行な側面では全反射され、反射手段の施された中心
軸に平行な側面では反射されて周回し、入出射面の入射
位置より所定距離離れた位置に戻り、プリズム外に向か
う出射光と、プリズム内に向かう反射光とに分割され、
プリズム内に向かう反射光により周回動作が繰り返さ
れ、入出射面からの反射光と複数の出射光とからなる出
射ビームを形成する。
【０００６】また、本発明においては、前記入射ビーム
はレーザ光であり、前記出射ビームを形成する反射光と
複数の出射光とは、互いに平行でほぼ等間隔に隣接する
ようにされ、前記出射ビームを形成する反射光と複数の
出射光との間の光路長差は、レーザ光の可干渉距離の少
くとも二分の一、望ましくは可干渉距離を越えている。
はレーザ光であり、前記出射ビームを形成する反射光と
複数の出射光とは、互いに平行でほぼ等間隔に隣接する
ようにされ、前記出射ビームを形成する反射光と複数の
出射光との間の光路長差は、レーザ光の可干渉距離の少
くとも二分の一、望ましくは可干渉距離を越えている。
【０００７】また、前記プリズムの横断面の前記多角形
は、平行四辺形であり、前記入出射面の前記部分透過膜
は、反射光および複数の出射光からなる出射ビームの光
量分布が一様になるように形成された光学薄膜であり、
前記入出射面に対向する側面には、高反射の光学薄膜が
施され、他の２つの側面には光学薄膜は施されておらず
全反射を行うようにされ、前記屈折光が最初に到達する
全反射を行う側面と前記入出射面とがなす角度は鋭角で
ある。なお、光学薄膜の代わりに光学薄膜を施したミラ
ーを密着して取り付けてもよい。
は、平行四辺形であり、前記入出射面の前記部分透過膜
は、反射光および複数の出射光からなる出射ビームの光
量分布が一様になるように形成された光学薄膜であり、
前記入出射面に対向する側面には、高反射の光学薄膜が
施され、他の２つの側面には光学薄膜は施されておらず
全反射を行うようにされ、前記屈折光が最初に到達する
全反射を行う側面と前記入出射面とがなす角度は鋭角で
ある。なお、光学薄膜の代わりに光学薄膜を施したミラ
ーを密着して取り付けてもよい。
【０００８】さらに、本発明の照明装置において、光路
差生起手段は、中心軸に直交する横断面が多角形をなす
柱状のプリズムであり、中心軸に平行ななにも施されて
いない一つの側面が入射面とされ、部分透過膜が施され
た他のもう一つの側面が出射面とされ、入射面に入射さ
れた入射ビームが、屈折してプリズム内を進行し、入射
面を除く反射手段の施されていない中心軸に平行な側面
では全反射され、反射手段の施された中心軸に平行な側
面では反射されて周回するとともに、到達位置を所定距
離ずつずらせつつ出射面に到達する毎に、プリズム外に
向かう出射光と、プリズム内に向かう反射光とに分割さ
れ、プリズム内に向かう反射光により周回動作が繰り返
され、周回動作により出射面から出射される複数の出射
光から出射ビームを形成するようにしてもよい。
差生起手段は、中心軸に直交する横断面が多角形をなす
柱状のプリズムであり、中心軸に平行ななにも施されて
いない一つの側面が入射面とされ、部分透過膜が施され
た他のもう一つの側面が出射面とされ、入射面に入射さ
れた入射ビームが、屈折してプリズム内を進行し、入射
面を除く反射手段の施されていない中心軸に平行な側面
では全反射され、反射手段の施された中心軸に平行な側
面では反射されて周回するとともに、到達位置を所定距
離ずつずらせつつ出射面に到達する毎に、プリズム外に
向かう出射光と、プリズム内に向かう反射光とに分割さ
れ、プリズム内に向かう反射光により周回動作が繰り返
され、周回動作により出射面から出射される複数の出射
光から出射ビームを形成するようにしてもよい。
【０００９】また、前記プリズムの横断面の前記多角形
は、長方形の一角を若干直線で切り取った五角形であ
り、切り取った部分が前記入射面とされ光学薄膜は施さ
れておらず、前記出射面の前記部分透過膜は、複数の出
射光からなる出射ビームの光量分布が一様になるように
形成された光学薄膜であり、前記出射面に隣接する側面
には、光学薄膜は施されておらず全反射を行うようにさ
れ、前記出射面に対向し前記入射面に隣接する側面には
高反射の光学薄膜が施されている。
は、長方形の一角を若干直線で切り取った五角形であ
り、切り取った部分が前記入射面とされ光学薄膜は施さ
れておらず、前記出射面の前記部分透過膜は、複数の出
射光からなる出射ビームの光量分布が一様になるように
形成された光学薄膜であり、前記出射面に隣接する側面
には、光学薄膜は施されておらず全反射を行うようにさ
れ、前記出射面に対向し前記入射面に隣接する側面には
高反射の光学薄膜が施されている。
【００１０】このように本発明の照明装置においては、
入射ビームの一部あるいはほぼ全体が、プリズムの中を
繰り返し周回光として周回させられ、周回する光が順次
到達位置をずらせつつ出射面に到達する毎に、周回する
光から分割した出射光を出射する。出射面からプリズム
外に向けられた複数の出射光および反射光は、適宜に並
べられて出射ビームとして用いられるが、出射面から外
に向けられた各出射光のプリズム内を通過した光路長の
間の差は、それぞれ可干渉距離の少なくとも二分の一を
越えるようにされている。
入射ビームの一部あるいはほぼ全体が、プリズムの中を
繰り返し周回光として周回させられ、周回する光が順次
到達位置をずらせつつ出射面に到達する毎に、周回する
光から分割した出射光を出射する。出射面からプリズム
外に向けられた複数の出射光および反射光は、適宜に並
べられて出射ビームとして用いられるが、出射面から外
に向けられた各出射光のプリズム内を通過した光路長の
間の差は、それぞれ可干渉距離の少なくとも二分の一を
越えるようにされている。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態例につい
て説明する。図１は本発明の照明装置の第１の実施例に
用いられる光路差生起手段の原理構成を示す断面図であ
る。本実施例における光路差生起手段は、断面が図１で
示されるように、長さｘ，ｙの隣り合う２辺の挟む角が
Ａ（この例では鋭角）である平行四辺形になるように形
成されたプリズム３である。このプリズム３の図１にお
ける右側面には、高反射の光学薄膜が施され、左側面
（入射面）には、反射率が適宜に調節された光学薄膜
（部分透過膜）が施され、上面と下面とには光学薄膜は
施されていない。
て説明する。図１は本発明の照明装置の第１の実施例に
用いられる光路差生起手段の原理構成を示す断面図であ
る。本実施例における光路差生起手段は、断面が図１で
示されるように、長さｘ，ｙの隣り合う２辺の挟む角が
Ａ（この例では鋭角）である平行四辺形になるように形
成されたプリズム３である。このプリズム３の図１にお
ける右側面には、高反射の光学薄膜が施され、左側面
（入射面）には、反射率が適宜に調節された光学薄膜
（部分透過膜）が施され、上面と下面とには光学薄膜は
施されていない。
【００１２】入射ビーム１は、ビーム幅Ｗのほぼ平行光
であり、入出射面２の入射位置２ａにおいて角度θでプ
リズム３に入射する。入射ビーム１は、必要に応じて入
出射面２に施された光学薄膜により、反射光（出射ビー
ム４の構成要素となる）と屈折光５とに予め定めれた所
望の比率で分割される。屈折光５は、プリズム３の中を
進行し、反射面６で全反射し、反射面７で反射し、反射
面８で全反射して、入射ビーム１の入射位置２ａの近傍
の位置に戻ってくる。入射位置２ａの近傍に戻ってきた
周回光は、プリズムの対向面が平行に加工されているの
で、反射光４に平行でプリズム３の外部に向かう出射光
と、プリズム３の内部に進行する反射光とに分割され
る。この出射光と反射光との分割比は、入出射面２に施
された光学薄膜によって決定される。周回光のうち入出
射面２で反射された反射光は、再びプリズム３の中を、
屈折光５が進行した進行路に平行に進行し、反射面６，
７，８で全反射あるいは反射され、前の周回光の戻り位
置の近傍に戻ってきて、再び出射光と反射光とに分割さ
れる。このように反射光の周回および周回光の分割が順
次繰り返され、入射ビーム１のほぼ全てが、プリズム３
の外方に向かう反射光とそれに後続する出射光として合
流し出射ビーム４となる。
であり、入出射面２の入射位置２ａにおいて角度θでプ
リズム３に入射する。入射ビーム１は、必要に応じて入
出射面２に施された光学薄膜により、反射光（出射ビー
ム４の構成要素となる）と屈折光５とに予め定めれた所
望の比率で分割される。屈折光５は、プリズム３の中を
進行し、反射面６で全反射し、反射面７で反射し、反射
面８で全反射して、入射ビーム１の入射位置２ａの近傍
の位置に戻ってくる。入射位置２ａの近傍に戻ってきた
周回光は、プリズムの対向面が平行に加工されているの
で、反射光４に平行でプリズム３の外部に向かう出射光
と、プリズム３の内部に進行する反射光とに分割され
る。この出射光と反射光との分割比は、入出射面２に施
された光学薄膜によって決定される。周回光のうち入出
射面２で反射された反射光は、再びプリズム３の中を、
屈折光５が進行した進行路に平行に進行し、反射面６，
７，８で全反射あるいは反射され、前の周回光の戻り位
置の近傍に戻ってきて、再び出射光と反射光とに分割さ
れる。このように反射光の周回および周回光の分割が順
次繰り返され、入射ビーム１のほぼ全てが、プリズム３
の外方に向かう反射光とそれに後続する出射光として合
流し出射ビーム４となる。
【００１３】光路差生起手段がプリズムである場合、紫
外域で透過率の高い材料は限定される。例えば、プリズ
ムが合成石英である場合、一例として真空中での波長が
２１３ｎｍの入射ビームに対しては、屈折率ｎがほぼ
１．５３５であり、１周回だけ周回数の異なる出射光の
間の光路長差△は、下記の式（１）で与えられる。
外域で透過率の高い材料は限定される。例えば、プリズ
ムが合成石英である場合、一例として真空中での波長が
２１３ｎｍの入射ビームに対しては、屈折率ｎがほぼ
１．５３５であり、１周回だけ周回数の異なる出射光の
間の光路長差△は、下記の式（１）で与えられる。
【００１４】 △＝２ｎ[ ｘ｛sin Ａ−cos （Ａ−θ’）sin θ’｝／cos θ’＋ｙsin θ’] ・・・・（１） ここで、θ’はスネルの法則である下記の式（２）を解
くことで与えられる。
くことで与えられる。
【００１５】sin θ＝ｎsin θ’ ・・・・・・（２） 例えば、光源のコヒーレント長が１００ｍｍである場
合、△を１００ｍｍ以上にしておけば、１周回だけ周回
数の異なる出射光同士（反射光と出射光を含む）の可干
渉度を低下させることができる。
合、△を１００ｍｍ以上にしておけば、１周回だけ周回
数の異なる出射光同士（反射光と出射光を含む）の可干
渉度を低下させることができる。
【００１６】図２は、図１の入出射面２における入射ビ
ーム１の入射位置２ａの近傍を拡大して示す図である。
反射光４に各周回光の出射光が合流する際に、各出射光
の位置が（４）式で与えられるｗずつずれ、この値ｗが
式（３）に示すように入射ビーム幅Ｗにほぼ等しくなる
ようにプリズムと入射角とを設定しておけば、出射ビー
ム４を構成するように並べられた反射光および出射光の
光量分布を比較的容易に一様化し易い。条件式は、
ーム１の入射位置２ａの近傍を拡大して示す図である。
反射光４に各周回光の出射光が合流する際に、各出射光
の位置が（４）式で与えられるｗずつずれ、この値ｗが
式（３）に示すように入射ビーム幅Ｗにほぼ等しくなる
ようにプリズムと入射角とを設定しておけば、出射ビー
ム４を構成するように並べられた反射光および出射光の
光量分布を比較的容易に一様化し易い。条件式は、
【００１７】Ｗ≒ｗ ・・・・ （３） 但し、 ｗ＝２｛ｙ−ｘcos （Ａ−θ’）／cos θ’｝cos θ ・・・・（４） である。式（４）において△＞１００ｍｍとなる数値例
としては、 Ａ＝８０度 ｘ＝３４ｍｍ ｙ＝２５ｍｍ θ＝４５度 とすれば、△＝１１８ｍｍを得る。このとき値ｗは、
２．４ｍｍとなるので、ビーム幅Ｗを約２．４ｍｍとす
ると好都合である。上記の条件のうち入射角θは、４５
度である必要はないが、入射角θが４５度のときに、出
射ビーム４は、入射ビーム１と９０度をなすので、光路
設計が容易になるという利点を有する。△は可干渉距離
と同程度かそれ以上であることが望ましいが、可干渉距
離のおおよそ二分の一以上であれば、効果が認められ
る。
としては、 Ａ＝８０度 ｘ＝３４ｍｍ ｙ＝２５ｍｍ θ＝４５度 とすれば、△＝１１８ｍｍを得る。このとき値ｗは、
２．４ｍｍとなるので、ビーム幅Ｗを約２．４ｍｍとす
ると好都合である。上記の条件のうち入射角θは、４５
度である必要はないが、入射角θが４５度のときに、出
射ビーム４は、入射ビーム１と９０度をなすので、光路
設計が容易になるという利点を有する。△は可干渉距離
と同程度かそれ以上であることが望ましいが、可干渉距
離のおおよそ二分の一以上であれば、効果が認められ
る。
【００１８】本実施例において、反射面６，８における
入射角は、約５２．６度となり、全反射の臨界角４０．
７度を越えているので、反射面６，８における反射は、
全反射となり、光量のロスが低減される。反射面７にお
いては、高反射の光学薄膜が施されているものとした
が、高反射の光学薄膜が施されたミラーを密着させて光
量の低減を防ぐようにしてもよい。同様に、入出射面２
においては、部分透過膜を施すこととしたが、部分透過
膜の施されたミラーを入射ビームを避けて入出射面２に
密着させ、周回光の出射光と反射光との分割を行い、こ
の行程を複数回繰り返すことで光路差のある複数の出射
光（入射ビームの反射光を含む）から構成される可干渉
度の低下した光束を得る。
入射角は、約５２．６度となり、全反射の臨界角４０．
７度を越えているので、反射面６，８における反射は、
全反射となり、光量のロスが低減される。反射面７にお
いては、高反射の光学薄膜が施されているものとした
が、高反射の光学薄膜が施されたミラーを密着させて光
量の低減を防ぐようにしてもよい。同様に、入出射面２
においては、部分透過膜を施すこととしたが、部分透過
膜の施されたミラーを入射ビームを避けて入出射面２に
密着させ、周回光の出射光と反射光との分割を行い、こ
の行程を複数回繰り返すことで光路差のある複数の出射
光（入射ビームの反射光を含む）から構成される可干渉
度の低下した光束を得る。
【００１９】次に本発明の第２の実施例について図３お
よび図４を参照して説明する。図３は本発明の照明装置
の第２の実施例に用いられる光路差生起手段の原理構成
を示す断面図である。本実施例における光路差生起手段
は、断面が図３で示されるように、長さｘ，ｙの隣り合
う２辺の挟む角が直角である長方形であるが、その一角
が入射ビーム用の入射面１２として切り取られた形状に
なるように形成されたプリズム１３である。このプリズ
ム１３の図３における左側面には、高反射の光学薄膜が
施され、右側面（出射面）には、反射率が適宜に調節さ
れた光学薄膜（部分透過膜）が施され、上面と下面とに
は光学薄膜は施されていない。
よび図４を参照して説明する。図３は本発明の照明装置
の第２の実施例に用いられる光路差生起手段の原理構成
を示す断面図である。本実施例における光路差生起手段
は、断面が図３で示されるように、長さｘ，ｙの隣り合
う２辺の挟む角が直角である長方形であるが、その一角
が入射ビーム用の入射面１２として切り取られた形状に
なるように形成されたプリズム１３である。このプリズ
ム１３の図３における左側面には、高反射の光学薄膜が
施され、右側面（出射面）には、反射率が適宜に調節さ
れた光学薄膜（部分透過膜）が施され、上面と下面とに
は光学薄膜は施されていない。
【００２０】本実施例の場合、入射ビーム１１は、例え
ばｐ偏光であって、入射面１２に対してブリュースター
角で入射される。この場合、入射面１２における反射は
ゼロとなる。具体的には、入射ビーム１１に対するプリ
ズムの屈折率が１．５３５のとき、ビーム幅Ｗのｐ偏光
である入射ビーム１１を約５７度で入射面１２に入射さ
せることで、コーティングがなくとも入射面１２の反射
をゼロにできる。入射ビーム１１は、プリズム１３に入
射後、プリズム１３の中を進行し、反射面１６に対して
全反射の臨界角を越えて入射するので反射面１６で全反
射する。全反射したビームは、出射面１７に対し全反射
の臨界角を越えないように入射した位置で、出射光と反
射光とに分割される。この出射光と反射光との分割比
は、出射面１７に施された光学薄膜によって決定され
る。出射光は出射位置からプリズム１３の外部に向か
い、出射面１７で反射された反射光は、プリズム１３内
を進行して、反射面１８に対して全反射の臨界角を越え
て入射するので、反射面１８で全反射する。反射面１８
で全反射したビームは、プリズム１３内を進行し反射面
１９に対し全反射の臨界角を越えないように入射する
が、高反射の光学薄膜に反射され、プリズム１３内を進
行し、反射面１６で全反射され、出射面１７の出射位置
の近傍に戻ってくる。出射位置の近傍に戻ってきたこの
周回光は、再び出射光と反射光とに分割される。分割さ
れた出射光は、１周回前の出射光と平行にプリズム１３
の外部に向かい、反射光はプリズム１３内を更に進行
し、同様な動作を繰り返す。
ばｐ偏光であって、入射面１２に対してブリュースター
角で入射される。この場合、入射面１２における反射は
ゼロとなる。具体的には、入射ビーム１１に対するプリ
ズムの屈折率が１．５３５のとき、ビーム幅Ｗのｐ偏光
である入射ビーム１１を約５７度で入射面１２に入射さ
せることで、コーティングがなくとも入射面１２の反射
をゼロにできる。入射ビーム１１は、プリズム１３に入
射後、プリズム１３の中を進行し、反射面１６に対して
全反射の臨界角を越えて入射するので反射面１６で全反
射する。全反射したビームは、出射面１７に対し全反射
の臨界角を越えないように入射した位置で、出射光と反
射光とに分割される。この出射光と反射光との分割比
は、出射面１７に施された光学薄膜によって決定され
る。出射光は出射位置からプリズム１３の外部に向か
い、出射面１７で反射された反射光は、プリズム１３内
を進行して、反射面１８に対して全反射の臨界角を越え
て入射するので、反射面１８で全反射する。反射面１８
で全反射したビームは、プリズム１３内を進行し反射面
１９に対し全反射の臨界角を越えないように入射する
が、高反射の光学薄膜に反射され、プリズム１３内を進
行し、反射面１６で全反射され、出射面１７の出射位置
の近傍に戻ってくる。出射位置の近傍に戻ってきたこの
周回光は、再び出射光と反射光とに分割される。分割さ
れた出射光は、１周回前の出射光と平行にプリズム１３
の外部に向かい、反射光はプリズム１３内を更に進行
し、同様な動作を繰り返す。
【００２１】本実施例の場合、出射面１７に施されてい
る光学薄膜である部分透過膜は、最初の反射時に反射率
が高く、順次反射回数が増加する毎に反射率が低下する
ような空間配置とされている。この空間配置により、複
数の出射光から構成される出射ビームの各出射光は、ほ
ぼ一定のパワーまたは強度を持つようになり、半導体露
光装置の露光等の照明に用いるのに有利である。反射面
１９においては、高反射の光学薄膜が施されているもの
としたが、高反射の光学薄膜が施されたミラーを密着さ
せて光量の低減を防ぐようにしてもよい。同様に、出射
面１７においては、部分透過膜を施すこととしたが、部
分透過膜の施されたミラーを最後の出射光を避けて出射
面１７に密着させてもよい。このように、プリズム１３
の３面１２，１６，１８は無コーティングであることに
より、紫外レーザに対しての耐久性が高い。また、他の
２面ではコーティングを使用するもののミラーを密着さ
せる方法を採れば、プリズム本体の損傷はさらに一段と
低減される。
る光学薄膜である部分透過膜は、最初の反射時に反射率
が高く、順次反射回数が増加する毎に反射率が低下する
ような空間配置とされている。この空間配置により、複
数の出射光から構成される出射ビームの各出射光は、ほ
ぼ一定のパワーまたは強度を持つようになり、半導体露
光装置の露光等の照明に用いるのに有利である。反射面
１９においては、高反射の光学薄膜が施されているもの
としたが、高反射の光学薄膜が施されたミラーを密着さ
せて光量の低減を防ぐようにしてもよい。同様に、出射
面１７においては、部分透過膜を施すこととしたが、部
分透過膜の施されたミラーを最後の出射光を避けて出射
面１７に密着させてもよい。このように、プリズム１３
の３面１２，１６，１８は無コーティングであることに
より、紫外レーザに対しての耐久性が高い。また、他の
２面ではコーティングを使用するもののミラーを密着さ
せる方法を採れば、プリズム本体の損傷はさらに一段と
低減される。
【００２２】次に図４および図５を参照して、出射光の
各ビームの可干渉度がどのように低下されているかにつ
いて説明する。図４，図５は、図３のプリズム１３の入
射位置１２ａの近傍および出射位置の近傍を示す拡大図
である。
各ビームの可干渉度がどのように低下されているかにつ
いて説明する。図４，図５は、図３のプリズム１３の入
射位置１２ａの近傍および出射位置の近傍を示す拡大図
である。
【００２３】ビーム幅Ｗの入射ビーム１１が図４で示さ
れる入射面１２の入射位置１２ａから入射角θでプリズ
ム１３に入射する。入射した入射ビーム１１は、屈折角
φで屈折し、プリズム１３の中を進行し、上述したよう
にプリズム１３の中で周回するとともに出射面１７で順
次分割され、出射面１７から出射される。このとき、周
回数が１周回だけ異なるビーム間の光路長差△は、下記
の式（５）で与えられる。
れる入射面１２の入射位置１２ａから入射角θでプリズ
ム１３に入射する。入射した入射ビーム１１は、屈折角
φで屈折し、プリズム１３の中を進行し、上述したよう
にプリズム１３の中で周回するとともに出射面１７で順
次分割され、出射面１７から出射される。このとき、周
回数が１周回だけ異なるビーム間の光路長差△は、下記
の式（５）で与えられる。
【００２４】 △＝２ｎ[ ｘcos θ’＋ｙsin θ’] ・・・・・・・・（５） プリズムが合成石英製である場合、一例として真空中で
の波長が２１３ｎｍの入射ビームに対しては屈折率ｎが
ほぼ１．５３５である。スネルの法則は、 sin θ＝ｎsin φ ・・・・・・・・・（６） であり、図３において、 θ’＝（π／２）−ｃ−φ ・・・・・（７） となっている。ここで、ｃは、図４で示された、反射面
と、特別に形成された入射面とのなす角度である。
の波長が２１３ｎｍの入射ビームに対しては屈折率ｎが
ほぼ１．５３５である。スネルの法則は、 sin θ＝ｎsin φ ・・・・・・・・・（６） であり、図３において、 θ’＝（π／２）−ｃ−φ ・・・・・（７） となっている。ここで、ｃは、図４で示された、反射面
と、特別に形成された入射面とのなす角度である。
【００２５】次に、図４および図５に詳細に示すよう
に、出射面１７で複数の出射光が合流して出射ビームを
形成する際、各出射光の出射位置が（９）、（１０）式
で与えられるｗずつずれるとして、この値が出射光の幅
Ｗ”にほぼ等しくなるようにプリズムと入射角の大きさ
を設計しておくと、並べられた複数の出射光からなる出
射ビーム１４の光量分布を比較的容易に一様化し易い。
このための条件は式（８）で与えられ、
に、出射面１７で複数の出射光が合流して出射ビームを
形成する際、各出射光の出射位置が（９）、（１０）式
で与えられるｗずつずれるとして、この値が出射光の幅
Ｗ”にほぼ等しくなるようにプリズムと入射角の大きさ
を設計しておくと、並べられた複数の出射光からなる出
射ビーム１４の光量分布を比較的容易に一様化し易い。
このための条件は式（８）で与えられ、
【００２６】 Ｗ”＝Ｗ≒ｗ ・・・・・・・・・・・・・・（８） 但し、 ｗ＝２｛ｘcot （ｃ＋φ）−ｙ｝cos θ” ・・・・・・・（９） cos （ｃ＋φ）＝ｎsin θ” ・・・・・・・・・・（１０） である。さらに、入射ビームと出射ビームとのなす角を
９０度にすることは必要でないが、光路設計上望ましい
ので、このための条件を求めておくと、 tan ｃ＝｛ｎ（ｎ−１）｝／（ｎ＋１） ・・・・・・・（１１） を満たす角度ｃにプリズム入射面を形成することが条件
になる。一例としてプリズムが合成石英製である場合、
真空中での波長が２１３ｎｍの入射ビームに対してはｎ
＝１．５３５であるから、ｃ＝１７．９５度となる。
９０度にすることは必要でないが、光路設計上望ましい
ので、このための条件を求めておくと、 tan ｃ＝｛ｎ（ｎ−１）｝／（ｎ＋１） ・・・・・・・（１１） を満たす角度ｃにプリズム入射面を形成することが条件
になる。一例としてプリズムが合成石英製である場合、
真空中での波長が２１３ｎｍの入射ビームに対してはｎ
＝１．５３５であるから、ｃ＝１７．９５度となる。
【００２７】各ビーム間の光路長差△が、△＞１００ｍ
ｍとなるための数値例としては、 ｘ＝３３ｍｍ ｙ＝２３ｍｍ θ＝５７度 として、△＝１２３ｍｍ、θ”＝２０．３度を得る。入
射ビーム等の幅に関しては出射光の幅と周回ずれ量がほ
ぼ等しくなるようにすると、Ｗ”＝Ｗ≒ｗ＝２．５ｍｍ
となる。この場合も、△は可干渉距離と同程度またはそ
れ以上であることが望ましいが、可干渉距離のおおよそ
二分の一以上であれば効果が認められる。
ｍとなるための数値例としては、 ｘ＝３３ｍｍ ｙ＝２３ｍｍ θ＝５７度 として、△＝１２３ｍｍ、θ”＝２０．３度を得る。入
射ビーム等の幅に関しては出射光の幅と周回ずれ量がほ
ぼ等しくなるようにすると、Ｗ”＝Ｗ≒ｗ＝２．５ｍｍ
となる。この場合も、△は可干渉距離と同程度またはそ
れ以上であることが望ましいが、可干渉距離のおおよそ
二分の一以上であれば効果が認められる。
【００２８】以上、本発明の実施例を示したが、本発明
はこの実施例および実施例に示された数値に限られたも
のでなく、材質、形状、寸法、角度、偏光等さまざまな
応用例を含むものとする。
はこの実施例および実施例に示された数値に限られたも
のでなく、材質、形状、寸法、角度、偏光等さまざまな
応用例を含むものとする。
【００２９】
【発明の効果】本発明の照明装置は以上説明したように
構成されているので以下に述べるような効果を奏する。 （１）入射ビームが、光路差生起手段であるプリズムの
中を繰り返し周回させられるので、長い光路長差を生起
できるのに拘わらず、光路差生起手段を小型とすること
ができる。 （２）光を周回させるのに、できるだけ全反射を行わせ
ることにより、光学薄膜を施す面が少なくなり、耐久性
を向上させることができる。 （３）光学薄膜を施す代わりに、光学薄膜を施したミラ
ーを用いることにより、交換が容易になる。 （４）上記の小型化や光学薄膜数の低減から大幅なコス
ト低減がもたらされる。
構成されているので以下に述べるような効果を奏する。 （１）入射ビームが、光路差生起手段であるプリズムの
中を繰り返し周回させられるので、長い光路長差を生起
できるのに拘わらず、光路差生起手段を小型とすること
ができる。 （２）光を周回させるのに、できるだけ全反射を行わせ
ることにより、光学薄膜を施す面が少なくなり、耐久性
を向上させることができる。 （３）光学薄膜を施す代わりに、光学薄膜を施したミラ
ーを用いることにより、交換が容易になる。 （４）上記の小型化や光学薄膜数の低減から大幅なコス
ト低減がもたらされる。
【図１】本発明の照明装置の第１の実施例に用いられる
光路差生起手段の原理構成を示す断面図である。
光路差生起手段の原理構成を示す断面図である。
【図２】図１の入出射面２における入射ビーム１の入射
位置の近傍を拡大して示す拡大断面図である。
位置の近傍を拡大して示す拡大断面図である。
【図３】本発明の照明装置の第２の実施例に用いられる
光路差生起手段の原理構成を示す断面図である。
光路差生起手段の原理構成を示す断面図である。
【図４】図３のプリズム１３の入射位置の近傍を拡大し
て示す拡大断面図である。
て示す拡大断面図である。
【図５】図３のプリズム１３の出射位置の近傍を拡大し
て示す拡大断面図である。
て示す拡大断面図である。
１、１１ 入射ビーム ２ 入出射面 ３、１３ プリズム ４、１４ 出射ビーム ５、１５ 屈折光 ６、７、８、１６、１８，１９ 反射面 １２ 入射面 １７ 出射面
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５２７
Claims (21)
- 【請求項１】 コヒーレント光源と、 コヒーレント光源からの入射ビームを複数のビームに分
割し、分割した各ビームに異なる光路長を与え、異なる
光路長を通過した各ビームを再度適宜に集めて出射ビー
ムを形成する光路差生起手段とを有し、 光路差生起手段が形成した出射ビームを用いて照明対象
を照明する露光装置用の照明装置において、 前記光路差生起手段は、ビームに関わらない面を除いた
とき、中心軸に直交する横断面が四角形以上の多角形を
なす柱状のプリズムであり、中心軸に平行な一側面が入
出射面とされ、 前記入出射面の一部には部分透過膜が施され、 前記入出射面の入射位置に入射された入射ビームが、入
出射面において、プリズム外に向かう反射光と、プリズ
ム内に向かう屈折光とに分割され、 前記屈折光はプリズム内を進行し、反射手段の施されて
いない中心軸に平行な側面では全反射され、反射手段の
施された中心軸に平行な側面では反射されて周回し、入
出射面の入射位置より所定距離離れた位置に戻り、プリ
ズム外に向かう出射光と、プリズム内に向かう反射光と
に分割され、 前記プリズム内に向かう反射光により周回動作が繰り返
され、入出射面からの反射光と複数の出射光とからなる
出射ビームを形成する、 ことを特徴とする照明装置。 - 【請求項２】 前記入射ビームはレーザ光であり、前記
出射ビームを形成する反射光と複数の出射光とは、互い
に平行でほぼ等間隔に隣接するようにされ、前記出射ビ
ームを形成する反射光と複数の出射光との間の光路長差
は、レーザ光の可干渉距離の二分の一を越えている請求
項１記載の照明装置。 - 【請求項３】 前記多角形は、四角形である請求項１記
載の照明装置。 - 【請求項４】 前記プリズムの横断面の前記多角形は、
平行四辺形であり、前記入出射面の前記部分透過膜は、
反射光および複数の出射光からなる出射ビームの光量分
布が一様になるように形成された光学薄膜であり、前記
入出射面に対向する側面には、高反射の光学薄膜が施さ
れ、他の２つの側面には光学薄膜は施されておらず全反
射を行うようにされた請求項１または２記載の照明装
置。 - 【請求項５】 前記プリズムの横断面の前記多角形は、
平行四辺形であり、前記入出射面の前記部分透過膜は、
反射光および複数の出射光からなる出射ビームの光量分
布が一様になるように光学薄膜が形成され、前記入出射
面に密着して取り付けられた部分透過ミラーであり、前
記入出射面に対向する側面には、高反射の光学薄膜が施
された高反射ミラーが密着して取り付けられ、他の２つ
の側面には光学薄膜は施されておらず全反射を行うよう
にされた請求項１または２記載の照明装置。 - 【請求項６】 前記プリズム内の周回光は、周回毎に２
回の全反射を行う請求項３ないし５のいずれか１項記載
の照明装置。 - 【請求項７】 前記入射ビームはｐ偏光であり、入出射
面にブリュースター角で入射する請求項１ないし６のい
ずれか１項記載の照明装置。 - 【請求項８】 前記プリズムは、合成石英から形成され
ている請求項１ないし７のいずれか１項記載の照明装
置。 - 【請求項９】 前記プリズムは、水晶、ＭｇＦ２、また
はＣａＦ２から形成されている請求項１ないし７のいず
れか１項記載の照明装置。 - 【請求項１０】 前記コヒーレント光源は、ネオジウム
レーザＹＡＧの第４高調波または第５高調波である請求
項１ないし９のいずれか１項記載の照明装置。 - 【請求項１１】 前記入射ビームと出射ビームとがなす
角度は、９０度である請求項１ないし１０のいずれか１
項記載の照明装置。 - 【請求項１２】 コヒーレント光源と、 コヒーレント光源からの入射ビームを複数のビームに分
割し、分割した各ビームに異なる光路長を与え、異なる
光路長を通過した各ビームを再度適宜に集めて出射ビー
ムを形成する光路差生起手段とを有し、 光路差生起手段が形成した出射ビームを用いて照明対象
を照明する露光装置用の照明装置において、 前記光路差生起手段は、ビームに関わらない面を除いた
とき、中心軸に直交する横断面が四角形以上の多角形を
なす柱状のプリズムであり、中心軸に平行ななにも施さ
れていない一つの側面が入射面とされ、部分透過膜が施
された他のもう一つの側面が出射面とされ、 前記入射面に入射された入射ビームが、屈折してプリズ
ム内を進行し、入射面を除く反射手段の施されていない
中心軸に平行な側面では全反射され、反射手段の施され
た中心軸に平行な側面では反射されて周回するととも
に、到達位置を所定距離ずつずらせつつ出射面に到達す
る毎に、プリズム外に向かう出射光と、プリズム内に向
かう反射光とに分割され、 前記プリズム内に向かう反射光により周回動作が繰り返
され、周回動作により出射面から出射される複数の出射
光から出射ビームを形成する、 ことを特徴とする照明装置。 - 【請求項１３】 前記入射ビームはレーザ光であり、前
記出射ビームを形成する複数の出射光は、互いに平行で
ほぼ等間隔に隣接するようにされ、前記出射ビームを形
成する複数の出射光の間の光路長差は、レーザ光の可干
渉距離の二分の一を越えている請求項１２記載の照明装
置。 - 【請求項１４】 前記多角形は、五角形である請求項１
２記載の照明装置。 - 【請求項１５】 前記プリズムの横断面の前記多角形
は、平行四辺形の一角を若干直線で切り取った五角形で
あり、切り取った部分が前記入射面とされ光学薄膜は施
されておらず、前記出射面の前記部分透過膜は、複数の
出射光からなる出射ビームの光量分布が一様になるよう
に形成された光学薄膜であり、前記出射面に隣接する側
面には、光学薄膜は施されておらず全反射を行うように
され、前記出射面に対向し前記入射面に隣接する側面に
は高反射の光学薄膜が施されている請求項１２または１
３記載の照明装置。 - 【請求項１６】 前記プリズムの横断面の前記多角形
は、平行四辺形の一角を若干直線で切り取った五角形で
あり、切り取った部分が前記入射面とされ光学薄膜は施
されておらず、前記出射面の前記部分透過膜は、複数の
出射光からなる出射ビームの光量分布が一様になるよう
に光学膜が形成され、密着して取り付けられた部分透過
ミラーであり、前記出射面に隣接する側面には、光学薄
膜は施されておらず全反射を行うようにされ、前記出射
面に対向し前記入射面に隣接する側面には高反射の光学
薄膜が施されたミラーが密着して取り付けられている請
求項１２または１３記載の照明装置。 - 【請求項１７】 前記プリズムの横断面の前記多角形
は、長方形の一角を若干直線で切り取った五角形である
請求項１５または１６記載の照明装置。 - 【請求項１８】 前記プリズム内の周回光は、周回毎に
２回の全反射を行う請求項１５または１６記載の照明装
置。 - 【請求項１９】 前記入射ビームはｐ偏光であり、入出
射面にブリュースター角で入射する請求項１２ないし１
８のいずれか１項記載の照明装置。 - 【請求項２０】 前記プリズムは、合成石英、水晶、Ｍ
ｇＦ２、ＣａＦ２のうちの一つから形成されている請求
項１２ないし１８のいずれか１項記載の照明装置。 - 【請求項２１】 前記コヒーレント光源は、ネオジムレ
ーザの第４高調波または第５高調波である請求項１２な
いし２０のいずれか１項記載の照明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34556695A JP3734105B2 (ja) | 1995-12-08 | 1995-12-08 | 半導体露光装置用の照明装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34556695A JP3734105B2 (ja) | 1995-12-08 | 1995-12-08 | 半導体露光装置用の照明装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09159964A true JPH09159964A (ja) | 1997-06-20 |
| JP3734105B2 JP3734105B2 (ja) | 2006-01-11 |
Family
ID=18377460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34556695A Expired - Fee Related JP3734105B2 (ja) | 1995-12-08 | 1995-12-08 | 半導体露光装置用の照明装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3734105B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6674514B2 (en) | 2000-03-16 | 2004-01-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system in exposure apparatus |
| WO2007132508A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | 照明装置 |
| JP2008522421A (ja) * | 2004-12-01 | 2008-06-26 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 投影露光系、ビーム伝送系及び光ビームの生成方法 |
| JP2009512883A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-26 | アブ−アジール、ナイェフ・エム | レーザ・スペックルを低減する方法および装置 |
| KR100911738B1 (ko) * | 2007-08-30 | 2009-08-10 | 한국광기술원 | 조립식 레이저 반점 감소장치 |
| US7670027B2 (en) | 2006-01-31 | 2010-03-02 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Laser illuminator |
| CN116609036A (zh) * | 2023-05-15 | 2023-08-18 | 南方科技大学 | 一种ar光波导均匀性的测量方法和测量装置 |
-
1995
- 1995-12-08 JP JP34556695A patent/JP3734105B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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