JPH09155273A - 回転式基板処理装置の処理液供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的に位置決めする機構を付加することに
より、処理液供給手段の位置合わせ精度を高めるととも
にその精度を維持することができる。 【解決手段】 処理液供給ノズル１の筒軸７に支持され
て、揺動駆動部１８による揺動時にそのノズル先端部２
と同方向に揺動する揺動部材２０と、揺動部材２０の下
面に突出形成された突起部２１と、突起部２１を受け入
れる開口部２５を有し、これに突起部２１が係合した際
に、ノズル先端部２が基板の回転中心の鉛直上に一致す
る位置に配設された位置規制部材２６とにより構成され
る位置決め機構を備える。突起部２１が開口部２５に係
合することにより、ノズル先端部２が回転中心に精密位
置合わせされる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、回転可能に支持さ
れた、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液
晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板等の基
板に対してフォトレジスト液、SOG(Spin On Glass)液、
ポリイミド液などの処理液を供給する回転式基板処理装
置の処理液供給装置に係り、特に揺動手段によりその処
理液供給手段を移動して吐出位置に位置合わせを行う技
術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、回
転可能に支持された基板に対してフォトレジスト液を処
理液として供給する処理液供給ノズルを、揺動駆動部に
より所定の軸芯を中心にしてその基板の回転中心付近の
上方の吐出位置にその先端部が位置するように揺動移動
して、処理液を供給する回転式基板処理装置の処理液供
給装置がある。上記の揺動駆動部は、例えば、ギヤやベ
ルトなどを介してモータにより処理液供給ノズルを揺動
駆動するように構成されている。このように構成された
装置では、例えば、基板を停止させた状態あるいは基板
を低速で回転させつつ、処理液供給ノズルの先端部から
所定量のフォトレジスト液をそのほぼ回転中心付近に供
給し、その後に基板を高速回転させることにより、余分
なフォトレジスト液を振り切ってその基板の上面全体に
所望膜厚のフォトレジスト被膜を形成するようになって
いる。

【０００３】ところで、基板上面のほぼ回転中心付近に
供給されたフォトレジスト液は、供給された直後には平
面視でほぼ円形を保っているが、その後に大きく形状を
変えつつもほぼ同心円状に基板周縁に向けて拡がってゆ
く。そして、フォトレジスト液が基板の上面全体を覆っ
た時点において、その供給を停止し、基板の回転数を高
めて余分なフォトレジスト液を振り切って所望膜厚の被
膜を得る処理を施すようになっている。その所定量のフ
ォトレジスト液は、製品基板とは異なるが製品基板と同
じ径を有する、製品基板とほぼ同様の上面状態の基板
（いわゆるダミー基板）を用いて、上記と同様の回転処
理を施し、フォトレジスト液が供給開始された時点から
それが基板上面全体を完全に覆った時点までを観察し
て、その供給時間（以下、被覆所要時間と称する）を処
理プログラム（レシピーとも呼ばれる）に設定すること
によって決定されるようになっている。

【０００４】このような処理液の一例であるフォトレジ
スト液は、絶縁膜や保護膜として利用されるSOG(Spin O
n Glass)液やポリイミド液と同様に、それらの組成上、
現像液やリンス液などに比較して非常に高価であるの
で、その供給量は必要最小限に抑えることが求められて
いる。これは処理液がフォトレジスト液である場合に
は、特に省レジスト化技術とも呼ばれ、近年の基板の大
口径化に伴ってフォトレジスト液の供給量が増大してい
るという事情もあって非常に重要視されている技術であ
る。

【０００５】この省レジスト化技術を達成する１つの手
法としては、処理液供給ノズルの先端部を、基板の回転
中心の鉛直線上に正確に一致させる手法がある。つま
り、上述したように基板の回転中心付近に供給されたフ
ォトレジスト液は、平面視でほぼ円形を保ったまま基板
周縁に向かって拡がってゆき、基板の上面全体を覆うこ
とになるが、処理液供給ノズルの先端部が、基板の回転
中心の鉛直線上に正確に一致していない場合には、その
拡がりに偏りが生じて被覆所要時間が長くなり、その結
果として、供給するフォトレジスト液の量が必要以上に
多くなる。このような事態を避けるために、処理液供給
ノズルの先端部と回転中心とのずれ（以下、位置合わせ
精度と称する）を、基板を順次に処理する場合の繰り返
しの位置合わせ精度も含めて約±０．１ｍｍ以下という
非常に高い精度で行うことが求められている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来装置では、次のような問題点がある。すな
わち、処理液供給ノズルは、その軸芯を中心にして揺動
駆動部により揺動移動されるが、上述したように揺動駆
動部はある程度の遊びが存在するギヤやベルトなどを介
してモータにより駆動されているので、その遊びが存在
する基端部からある長さを有する先端部では位置合わせ
精度を±０．１ｍｍ以下という高い精度にすることが困
難であるという問題点がある。また、揺動駆動部のギヤ
の磨耗やベルトの伸びなどに起因する経時変化によりそ
の精度を維持することにも困難が生じている。したがっ
て、上述したような省レジスト化技術を推進する上での
障害となっている。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、機械的に位置決めする機構を付加する
ことにより、処理液供給手段の位置合わせ精度を高める
とともにその精度を維持することができる回転式基板処
理装置の処理液供給装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の回転式基板処理装置の処理液供給
装置は、回転可能に支持された基板に対して処理液を供
給する処理液供給手段を、揺動手段により所定の軸芯を
中心にして前記基板の回転中心付近の上方の吐出位置に
その先端部が位置するように揺動移動して、処理液を供
給する回転式基板処理装置の処理液供給装置において、
前記揺動手段が前記処理液供給手段を揺動した際に、前
記処理液供給手段の先端部が前記基板の回転中心の鉛直
上に一致するように位置決めする位置決め機構を備えて
いることを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項２に記載の回転式基板処理装
置の処理液供給装置は、請求項１に記載の回転式基板処
理装置の処理液供給装置において、前記位置決め機構
は、前記処理液供給手段の軸芯と同軸に支持されてお
り、前記揺動手段による揺動時に処理液供給手段の先端
部と同方向に揺動する揺動部材と、前記揺動部材の下面
に突出形成された突起部と、前記突起部を受け入れる開
口部を有し、その開口部に前記突起部が係合した際に、
前記処理液供給手段の先端部が前記基板の回転中心の鉛
直上に一致する位置に配設された位置規制部材と、から
構成されていることを特徴するものである。

【００１０】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。回転可能に支持された基板に対して処理液を供給す
る処理液供給手段は、揺動手段によりその所定の軸芯を
中心にして基板の回転中心付近の上方の吐出位置にま
で、その先端部が位置するように揺動移動される。この
揺動移動は、揺動手段に遊びが存在するため粗位置合わ
せとなる。その際に、処理液供給手段の先端部の位置
は、位置決め機構によって基板の回転中心の鉛直上に一
致するように機械的に位置決めされるので、揺動手段の
位置決め精度に係わらず、確実にその先端部の位置を基
板の回転中心の鉛直線上に一致させることができる。つ
まり、揺動手段による粗位置合わせの後に、位置決め機
構による精密位置合わせを行って、位置合わせ精度を高
めることができる。

【００１１】また、請求項２に記載の発明の作用は次の
とおりである。処理液供給手段は、揺動手段によってそ
の先端部が基板の回転中心付近の上方の吐出位置に移動
されることにより、粗位置合わせがなされる。このとき
処理液供給手段の軸芯と同軸に支持された揺動部材は、
処理液供給手段の先端部と同じ方向に揺動し、揺動部材
の下面に突出形成された突起部が位置規制部材に形成さ
れた開口に係合する。位置規制部材は、その開口部に突
起部が係合した際に、処理液供給手段の先端部が基板の
回転中心の鉛直線上に一致する位置に配設されているの
で、揺動手段の位置決め精度に係わらず、確実に処理液
供給手段の先端部を基板の回転中心の鉛直線上に一致さ
せるように、精密位置合わせを行うことができる。した
がって、位置合わせ精度を高めることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は本発明に係る回転式基板処理
装置の処理液供給装置の要部を示す側面図であり、図２
はその平面図である。なお、処理の対象として半導体ウ
エハを例に採って以下に説明するが、これを基板と称し
て説明する。

【００１３】図中、符号１は、フォトレジスト液を基板
に対して供給する処理液供給ノズルである。この処理液
供給ノズル１は、そのノズル先端部２が下方に向けられ
ている。ノズル先端部２には、フォトレジスト液を貯留
している図示しない処理液タンクに一端側が接続された
チューブ３の他端側が接続されている。ノズル先端部２
の上部には、屈曲自在の蛇腹部４を介して剛性を有する
金属パイプ５が接続されている。金属パイプ５および蛇
腹部４の内部には、恒温水が流通するようになってお
り、チューブ３内部のフォトレジスト液を一定の温度に
保持するようになっている。金属パイプ５は、ノズル先
端部２とは反対側を支持ブロック６に接続されている。
なお、ノズル先端部２と、チューブ３と、蛇腹部４と、
金属パイプ５と、支持ブロック６と、から構成される処
理液供給ノズル１は、本発明における処理液供給手段に
相当するものである。

【００１４】支持ブロック６は、その基端部の下面に金
属製の筒軸７が連結されている。筒軸７の上方には、筒
軸７の外周面と摺動して軸芯Ｐにて回動自在に支持する
回転支持体９が取り付けられ、回転支持体９はガイドレ
ール１０に連結されている。ガイドレール１０は、リニ
アガイドなどの摺動部材を介して装置フレーム１１（位
置固定）に取り付けられている。すなわち、処理液供給
ノズル１は、筒軸７と、回転支持体９と、ガイドレール
１０とともに装置フレーム１１に対して昇降可能に構成
されている。筒軸７の下方には、筒軸７を昇降するため
の昇降支持部１２が配設され、昇降支持部１２には直列
に連結された一対のエアシリンダ１３ａ，１３ｂのう
ち、上側のエアシリンダ１３ａのロッドが連動連結され
ている。下側のエアシリンダ１３ｂのロッドは、位置固
定の装置フレームに連結されている。さらに昇降支持部
１２には電動モータ１５が取り付けられ、筒軸７の外周
面に形成された筒軸ギヤ１６と電動モータ１５との間に
タイミングベルト１７が掛け渡されている。これらによ
り構成されている揺動駆動部１８は、その構造上ある程
度の遊びを有するものである。なお、電動モータ１５
と、筒軸ギヤ１６と、タイミングベルト１７とにより構
成されている揺動駆動部１８は、本発明における揺動手
段に相当する。

【００１５】筒軸ギヤ１６の上方であって筒軸７の外周
面の一部位には、揺動部材２０が配設されている。この
揺動部材２０の先端部付近には、下方側が尖鋭に形成さ
れた突起部２１が配設されている。処理液供給ノズル１
が揺動駆動部１８により揺動駆動されて、そのノズル先
端部２が基板Ｗの回転中心の鉛直線上に一致するように
移動された際に、同じ方向に揺動される揺動部材２０の
突起部２１の下方には、突起部２１の進入を許容する開
口部２５を形成された位置規制部材２６が配設されてい
る。この位置規制部材２６が配設される装置フレーム上
の位置は、図示しないスピンチャックの回転中心、すな
わち基板Ｗの回転中心および処理液供給ノズル１などの
機械的な寸法により計算して得られる位置である。ま
た、図３に示すように、突起部２１は、円柱状の胴部２
１ａと、その下面に尖鋭に形成された下向き円錐形状の
尖鋭部２１ｂとによって構成されている。位置規制部材
２６は、開口部２５を形成された円柱部２７ａと、この
円柱部２７ａの底部に形成された鍔部２７ｂとによって
構成されている。鍔部２７ｂには、位置規制部材２６を
装置フレームに固定するための、平面視長穴形状の取り
付け穴２７ｃが形成されており、この取り付け穴２７ｃ
にネジ２７ｄを取り付けられることにより固定されるよ
うになっている。なお、位置規制部材２６は、ネジ２７
ｄを緩めることによりその水平方向の位置を若干調整す
ることができるようになっている。突起部２１の胴部２
１ａと位置規制部材２６の開口部２５とは、その擦り合
わせによって位置決めを行うので、それぞれの外径寸法
と内径寸法とは可能な限り高い精度で加工を行うことが
好ましく、さらに容易に磨耗してそれぞれの寸法が変化
しないように硬度を高めておくことが好ましい。なお、
突起部２１を形成された揺動部材２０と、開口部２５を
形成された位置規制部材２６とは、本発明における位置
決め機構に相当するものである。

【００１６】なお、上述した揺動部材２０については、
ノズル先端部２と基板Ｗの回転中心の位置合わせ精度を
より高めるために、装置内で許容できる範囲内で可能な
限りその長さを長くする方が好ましい。

【００１７】上述した一対のエアシリンダ１３ａ，１３
ｂの双方のロッドが収縮されている場合、つまり、処理
液供給ノズル１が基板Ｗの周囲に離れ、下降高さＬに相
当する待機位置にある場合には、そのノズル先端部２
を、湿潤雰囲気に保持してフォトレジスト液の固化を防
止するための乾燥防止カップ２８に緩挿されている。ま
た、処理液供給ノズル１の先端部付近には、位置規制部
材２６によってノズル先端部２の位置が精度的に調整し
きれない時の為に、補助的な位置調整部３０が配設され
ている。

【００１８】次に、図４の斜視図を参照して、位置調整
部３０について説明する。金属パイプ５の、蛇腹部４と
の接続境界付近には、保持部材３１がネジ３１ａにより
取り付けられている。保持部材３１の下部には、台形状
の垂下部３２が形成されている。この垂下部材３２の下
面には、図示しないガイドが取り付けられており、この
ガイドに沿ってＲ２の方向に移動可能に、第１の移動部
材３３が取り付けられている。第１の移動部材３３は、
その下面からロックネジ３３ａをねじ込まれて垂下部材
３２に対してその位置を固定されるようになっている。
第１の移動部材３３の下面には、図示しないガイドが配
設されており、このガイドに沿ってＲ３の方向に移動可
能に、ノズル先端部２の上方を環状の支持部で支持する
第２の移動部材３４が取り付けられている。また、第２
の移動部材３４は、その下面からロックネジ３４ｂをね
じ込まれることにより、その位置を第１の移動部材３３
に対して固定されるようになっている。

【００１９】このように構成されている位置調整部３０
は、第１の移動部材３３を直線的に調節することによ
り、処理液供給ノズル１のノズル先端部２の平面位置を
Ｒ２方向に補正（調節）することができ、また、第２の
移動部材３４を直線的に進退調節することにより、ノズ
ル先端部２の平面位置をＲ２方向に補正（調節）するこ
とができるようになっている。なお、鉛直方向に対する
ノズル先端部２の位置をこのようにして調節する際に
は、金属パイプ５とノズル先端部２とが屈曲自在の蛇腹
部４により接続されているので、自由度高く調節を行う
ことができる。

【００２０】次に、上述したように構成された装置にお
いて、主として装置の導入立ち上げ時に行われる各部の
調整について説明する。なお、以下に説明する調整作業
は、基本的には、装置の導入立ち上げ時に一度だけ行え
ばよく、複数枚の基板を順次に処理するごとに行う必要
はないものである。なお、図３においては、図１におけ
る処理液供給ノズル１の鉛直方向の各高さＬ，Ｄ，Ｈに
対応させて、揺動部材２０の尖鋭部２１ｂの下端部の各
高さをそれぞれ（Ｌ），（Ｄ），（Ｈ）として示してい
る。

【００２１】＜第１の調整＞まず、図３に示すように、
位置規制部材２６の装置フレームに対する位置を調整す
る。この位置規制部材２６の取り付け位置は、上述した
ように予め設計寸法によって決められてはいるが、実際
には、組立誤差などによりその開口部２５に揺動部材２
０の胴部２１ａが係合した際に、ノズル先端部２が基板
Ｗの回転中心の鉛直線上に正確に一致するとは限らな
い。したがって、次のようにして調整を行ってそれらの
位置合わせを正確に行っておく。まず、位置規制部材２
６のネジ２７ｄを緩めておき、揺動部材２０の突起部２
１が下降してくる際に水平方向に押されることによっ
て、位置規制部材２６の位置が容易に水平方向に移動す
るようにしておく。次いで一対のエアシリンダ１３ａ，
１３ｂのロッドを伸長させ、処理液供給ノズル１を下降
高さＬから上限高さＨにまで一度に上昇させる（図１を
参照）。そして、図２に示すように、揺動駆動部１８を
駆動して処理液供給ノズル１を軸芯Ｐ周りで基板Ｗの回
転中心に向けて揺動駆動する。その後に、一対のエアシ
リンダ１３ａ，１３ｂのうち、長いストロークを有する
上側のエアシリンダ１３ａのロッドを収縮させる。この
動作により、処理液供給ノズル１は、上限高さＨから吐
出高さＤにまで下降する。すると、揺動部材２０の突起
部２１は、いまのところ位置を固定されていない位置規
制部材２６の開口部２５内に進入しつつ、尖鋭部２１ｂ
によりその水平方向の位置を動かしながら係合する。そ
して、図示しないスピンチャックに予め載置させていた
基板Ｗ（一般的にはダミー基板）を回転させ、処理液供
給ノズル１から適宜の量のフォトレジスト液を供給す
る。

【００２２】この時、基板Ｗ上面を観察して、供給され
たフォトレジスト液が基板Ｗの周縁部に向かって同心円
状にほぼ均等に拡がってゆくか否かを確認する。もし、
このときに同心円状に拡がらず、偏りが生じているよう
であれば、再び位置規制部材２６の位置を微調整する。
その後再び上記のようにしてフォトレジスト液を供給し
て偏りなく同心円状に拡がるようになるまで供給・調整
を繰り返し行う。その結果、フォトレジスト液が基板Ｗ
の回転中心から周縁部に向けてほぼ同心円状に均等に拡
がって行くようになった場合には、この時点において位
置規制部材２６のネジ２７ｄをねじ込んでその位置を固
定する。

【００２３】＜第２の調整＞しかしながら、上述の調整
のみでは回転中心を一致させることが困難な場合があ
る。これは、処理液供給ノズル１の長さよりも揺動部材
２０の長さが極端に短いため、その比率に応じてその位
置合わせ精度がノズルの位置合わせ精度に対して数倍程
度の非常に高い位置合わせ精度を要することに起因し、
例えば、処理液供給ノズル１の軸芯Ｐからノズル先端部
２までの長さと揺動部材２０の長さの比率が１０：１で
ある場合には、ノズル先端部２で要求される位置合わせ
精度を約０．１ｍｍとすると、その１／１０である約
０．０１ｍｍもの位置合わせ精度を要求されることにな
る。これほどの位置合わせ精度は、ネジ２７ｄをねじ込
むことによってもずれる恐れもある。したがって、今回
の第２の調整は、位置規制部材２６の位置を調整するの
ではなく、位置調整部３０だけで調整を行うようにす
る。なお、位置規制部材２６の調整のみで位置併せが完
了した場合には、以下の調整を再び行う必要はない。

【００２４】まず、上述したようにして処理液供給ノズ
ル１を下降高さＬから上限高さＨにまで上昇させ、揺動
駆動部１８を駆動することによりノズル先端部２を基板
Ｗの回転中心に揺動移動させる。次いで吐出高さＤにま
でノズル先端部２を下降させると、揺動部材２０の突起
部２１は〔位置を固定されている〕位置規制部材２６の
開口部２５に係合し、位置規制部材２６によってノズル
先端部２の位置が規制される。この状態でフォトレジス
ト液を処理液供給ノズル１から基板Ｗに対して供給し、
同心円状に拡がって行くことを確認する。そのようにな
っていない場合には、ロックネジ３３ａ，３４ｂを緩め
て、位置調整部３０を介してフォトレジスト液が同心円
状に拡がってゆくように各方向Ｒ２，Ｒ３の角度を調節
する。そして、同心円状に拡がるようになった場合に
は、各ネジにより位置調整部３０を固定する。なお、開
口部２５に係合する突起部２１は、その先端部の尖鋭部
２１ｂが円錐状に形成されているので、図５に示すよう
に、揺動駆動機構１８の遊びによりその進入軸が多少ず
れたとしても、上限高さ（Ｈ）から吐出高さ（Ｄ）に下
降する際に開口部２５に確実に案内されるようになって
いる。したがって、揺動駆動部１８の遊びなどを勘案し
て突起部２１ｂの進入軸がずれたとしても確実に開口部
２５に案内されるように、開口部２５の内径および突起
部２１ｂの外径あるいは尖鋭部２１ｂの頂点角度などを
決定するようにする。

【００２５】このようにして処理液供給ノズル１が揺動
された際に、ノズル先端部２が基板Ｗの回転中心の鉛直
線上に正確に一致するように調節しておく。なお、装置
の組立誤差などが非常にわずかである場合には、上記の
＜第１の調整＞を省略して、位置規制部材２６の位置を
設計値に基づき予め固定しておいて、上記の＜第２の調
整＞だけを行うようにしてもよい。

【００２６】そして、上記のように＜第１の調整＞およ
び＜第２の調整＞を施して製品基板Ｗを処理する際に
は、次のようにして動作する。

【００２７】まず、一対のエアシリンダ１３ａ，１３ｂ
のロッドが伸長され、処理液供給ノズル１が下降高さＬ
から上限高さＨにまで一度に上昇される。次いで、揺動
駆動部１８により、軸芯Ｐを回転中心として処理液供給
ノズル１が揺動駆動され、そのノズル先端部２が基板Ｗ
の回転中心の鉛直上に粗位置合わせされる。エアシリン
ダ１３ａのロッドだけが収縮されて、処理液供給ノズル
１が上限高さＨから吐出高さＤにまで下降される。この
とき、揺動部材２０の突起部２１は、その尖鋭部２１ｂ
から位置規制部材２６の開口部２５に進入し、その胴部
２１ａと開口部２５とが係合することにより、処理液供
給ノズル１のノズル先端部２の位置が精密位置合わせさ
れる（図３を参照）。上述したように、位置規制部材２
６の位置は、処理液供給ノズル１のノズル先端部２が基
板Ｗの回転中心の鉛直線上に正確に一致するように調節
されているので、ノズル先端部２の位置を回転中心の鉛
直線上に正確に一致させることができる。また、揺動駆
動部１８は、筒軸ギヤ１６と、タイミングベルト１７
と、電動モータ１５によって構成されているので、ある
程度の遊びがあるが、その遊びに起因する位置合わせの
ずれは位置規制部材２６と突起部２１との係合によって
補償されることになる。したがって、処理液供給ノズル
１を往復揺動させて順次に基板を処理するような場合に
おいても、その繰り返しにおける位置合わせ精度も向上
させることができる。また、揺動駆動部１８が磨耗や伸
びによってその遊びが変動したとしても、位置規制部材
２６と揺動部材２０による機械的な位置合わせを行って
いるので、その変動の影響も受けることなく位置合わせ
精度を維持することができる。

【００２８】このようにしてノズル先端部２と基板Ｗの
回転中心との位置合わせ精度を高めることができるの
で、フォトレジスト液を正確に基板Ｗの回転中心に供給
することができ、フォトレジスト液が基板Ｗの周縁部に
向かって拡がってゆく際のむらがなくなって被覆所要時
間を短縮することができる。その結果、無駄なフォトレ
ジスト液が供給されることを抑制でき、省レジスト化技
術に好適な装置を提供することが可能となる。その結
果、基板に対するフォトレジスト液の供給量を低減する
ことができ、半導体装置の製造コストを低減することが
可能となる。また、その位置合わせ精度を維持すること
ができるので、複数枚の基板を順次に処理する場合にお
いて、各基板にそれぞれ均一な処理を施すことができ
る。

【００２９】なお、位置規制部材２６は、突起部２１の
進入位置が大きくずれた場合でも、確実にその開口部２
５に案内できるように図６のように構成してもよい。す
なわち、位置規制部材２６の開口部２５の上部に、すり
鉢状の案内部２５ａを形成する。このように開口部２５
の内径より広い開口を有する案内部２５ａを形成するこ
とにより、この図に示すように水平方向に大きく突起部
２１の進入軸がずれたとしても確実に開口部２５に突起
部２１を案内することができ、胴部２１ａと開口部２５
との係合によりノズル先端部２の位置を正確に〔精密〕
位置合わせすることが可能となる。このような構成は、
例えば、揺動駆動部１８により処理液供給ノズル１を繰
り返し揺動駆動した際に、そのノズル先端部２の位置が
大きくばらつくような装置において、そのばらつきをす
り鉢状の案内部２５ａにより補償することができて特に
有効となる。

【００３０】また、上述した突起部２１は、その胴部２
１ａの外径と、位置規制部材２６の開口部２５の内径と
の擦り合わせにより位置決めを行っているが、胴部２１
ａの寸法加工精度が悪い場合には、それらの〔精密〕位
置合わせ精度が悪化するので図７のように構成してもよ
い。すなわち、胴部４１ａの下部にほぼ真円に加工され
た球状部４１ｂを固着して突起部４１を構成する。球状
部４１ｂは、ほぼ正確に真円に形成された鋼球が市販さ
れているので、これを用いることにより容易に位置規制
部材２６との良好な位置合わせ精度を確保することがで
き、所要の精密位置合わせ精度を容易に得ることができ
る。

【００３１】また、本発明の位置決め機構としては、上
記の他に図８の平面図に示すような構成でも可能であ
る。なお、この図は、既に処理液供給ノズル１が吐出高
さＤにまで下降された状態を平面図で示している。すな
わち、揺動部材２０は、処理液供給ノズル１と同方向に
揺動する円形部５１を先端部に形成され、位置規制部材
２６は、アクチュエータ５７によって構成される。アク
チュエータ５７は、位置固定の固定片５７ａと、揺動部
材２０の円形部５１の位置を規制する可動片５７ｂとを
備えている。処理液供給ノズル１が吐出位置に揺動移動
されると、揺動部材２０も同方向に揺動する。そして、
揺動部材２０の円形部５１が固定片５７ａの付近にて停
止あるは、固定片５７ａに当接して停止する。揺動部材
２０が固定片５７ａに当接して停止した場合は、そのノ
ズル先端部２が回転中心の鉛直線上に一致しているが、
固定片５７ａ付近で停止した場合は、そのノズル先端部
２が基板の鉛直線上からずれている。このような場合で
も、可動片５７ｂが固定片５７ａに向けて移動されるこ
とにより、その位置が固定片５７ａに当接する状態で規
制される。したがって、ずれを補正してノズル先端部２
を基板の回転中心の鉛直線上に一致するようにすること
ができる。

【００３２】また、本発明の位置決め手段に相当する揺
動部材２０および位置決め部材２６としては、上述した
ような構成に限定されるものではなく、ノズル先端部２
の位置を基板Ｗの回転中心の鉛直線上に正確に一致させ
ることができる構成であれば種々の変形実施が可能であ
る。

【００３３】なお、この実施例では、処理液供給ノズル
１が１つだけ備えられている装置を例に採って説明した
が、処理液供給ノズル１を複数本備えている装置であっ
ても、本発明を適用することができる。その場合には、
各処理液供給ノズル１ごとに揺動部材２０および位置規
制部材２６を配設すればよい。

【００３４】また、上記の実施例では、処理液としてフ
ォトレジスト液を例にとって説明したが、絶縁膜や保護
膜として利用されるSOG(Spin On Glass)液やポリイミド
液などを供給する場合であっても本発明を適用すること
ができる。

【００３５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、処理液供給手段の先端部の位
置は、位置決め機構によって基板の回転中心の鉛直上に
一致するように機械的に位置決めされるので、揺動手段
の位置決め精度に係わらず、確実にその先端部の位置を
基板の回転中心の鉛直線上に一致させることができる。
つまり、揺動手段による粗位置合わせの後に、位置決め
機構による精密位置合わせを行うことにより、処理液供
給手段の位置合わせ精度を高めることができる。また、
揺動手段の経時変化によりその粗位置合わせ精度が変動
したとしても、位置決め機構の精密位置合わせによりそ
の変動を補償することができるので、高めた位置合わせ
精度を維持することができる。その結果、基板に対する
処理液の供給量を低減することができ、半導体装置の製
造コストを低減することが可能となる。

【００３６】また、請求項２に記載の発明によれば、位
置規制部材は、その開口部に突起部が係合した際に、処
理液供給手段の先端部が基板の回転中心の鉛直線上に一
致する位置に配設されているので、揺動手段の位置決め
精度に係わらず、確実に処理液供給手段の先端部を基板
の回転中心の鉛直線上に一致させるように、精密位置合
わせを行うことができる。したがって、処理液供給手段
の位置合わせ精度を高めることができる。また、揺動手
段の経時変化による粗位置合わせ精度が変動しても、位
置決め機構の精密位置合わせによりその変動を補償する
ことができるので、高めた位置合わせ精度を維持するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例に係る回転式基板処理装置の処理液供給
装置の要部を示す側面図である。

【図２】実施例に係る回転式基板処理装置の処理液供給
装置の要部を示す平面図である。

【図３】揺動部材と位置規制部材の動作説明図である。

【図４】位置調整部を示す斜視図である。

【図５】揺動部材と位置規制部材の動作説明図である。

【図６】位置規制部材の変形例を示す一部切欠側面図で
ある。

【図７】突起部の変形例を示す一部切欠側面図である。

【図８】位置規制部材の変形例を示す平面図である。

【符号の説明】

１ … 処理液供給ノズル ２ … ノズル先端部 １５ … 電動モータ １８ … 揺動駆動部 ２０ … 揺動部材 ２１ … 突起部 ２１ａ … 胴部 ２１ｂ … 尖鋭部 ２５ … 開口部 ２６ … 位置規制部材 ２７ａ … 円柱部 ２７ｂ … 鍔部 ３０ … 位置調整部 ３１ … 保持部材 ３１ａ … ネジ ３２ … 垂下部材 ３３ … 第１の移動部材 ３３ａ … ロックネジ ３４ … 第２の移動部材 ３４ｂ … ロックネジ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転可能に支持された基板に対して処理
   液を供給する処理液供給手段を、揺動手段により所定の
   軸芯を中心にして前記基板の回転中心付近の上方の吐出
   位置にその先端部が位置するように揺動移動して、処理
   液を供給する回転式基板処理装置の処理液供給装置にお
   いて、 前記揺動手段が前記処理液供給手段を揺動した際に、前
   記処理液供給手段の先端部が前記基板の回転中心の鉛直
   上に一致するように位置決めする位置決め機構を備えて
   いることを特徴とする回転式基板処理装置の処理液供給
   装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転式基板処理装置の
   処理液供給装置において、前記位置決め機構は、 前記処理液供給手段の軸芯と同軸に支持されており、前
   記揺動手段による揺動時に処理液供給手段の先端部と同
   方向に揺動する揺動部材と、 前記揺動部材の下面に突出形成された突起部と、 前記突起部を受け入れる開口部を有し、その開口部に前
   記突起部が係合した際に、前記処理液供給手段の先端部
   が前記基板の回転中心の鉛直上に一致する位置に配設さ
   れた位置規制部材と、 から構成されていることを特徴する回転式基板処理装置
   の処理液供給装置。