JPH09148480A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH09148480A
JPH09148480A JP7303146A JP30314695A JPH09148480A JP H09148480 A JPH09148480 A JP H09148480A JP 7303146 A JP7303146 A JP 7303146A JP 30314695 A JP30314695 A JP 30314695A JP H09148480 A JPH09148480 A JP H09148480A
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    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Abstract

(57)【要約】 【課題】マザーボードに実装した状態でも回路動作の良
否を点検することが可能なBGAを提供する。 【解決手段】少なくとも第1面及び第1面と反対の第2
面に導体が設けられ該導体の少なくとも一部が絶縁性皮
膜で被われた配線基板と、該配線基板の一面に搭載され
た半導体素子と、該半導体素子と該導体の少なくとも一
部を被う絶縁性樹脂と、該配線基板の第1面に設けられ
た球形端子群とを含んで成り、該半導体素子の電極群と
該球形端子群とを電気的に接続する電気径路群が形成さ
れた半導体装置において、該第2面に設けられ該電気径
路と同電位の該導体の一部または全部が該絶縁性皮膜あ
るいは該絶縁性樹脂で被われていない。第2面に設けら
れ絶縁性皮膜で被われていない導体の部分にオシロスコ
ープのプローブを当てて電気信号の波形を観測すること
により回路動作の良否を点検することが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体パッケージに
関し、特にボール・グリッド・アレイ(BallGri
d Array。以下、BGAと記す)と称されるパッ
ケージに関する。
【0002】
【従来の技術】図4は従来のBGAの断面図で、例えば
日経BP社刊「日経エレクトロニクス」1994年2月
14日(no.601)号の61ページに同様のものが
記載されている。配線基板1上面中央部には、半導体素
子2が搭載され接着剤で配線基板上のダイパツド11に
固定されている。配線基板下面には、半田ボールで成る
複数の球形電極3が設けられている。配線基板の両面に
は、金属膜でできた配線群があり、上面の配線4と下面
の配線5とは配線基板端部近傍に設けられた導電性の貫
通孔(バイアホール)6aにより接続されている。配線
群は絶縁性皮膜であるソルダーレジスト10で被われて
いる。半導体素子の能動面上の電極パッドは、配線基板
上面の配線4の内端と金属細線7で接続されている。前
記球形電極3は前記配線基板下面の配線5の内端と接続
している。また、半導体素子は外力から保護されるよう
絶縁性の樹脂8で被われている。
【0003】図5は従来のキヤビテイーダウンタイプの
BGAの断面図である。配線基板1は多層基板であり一
部は内層まで削除されデバイスホールを形成している。
デバイスホールの底部には内層の一部であるダイパッド
11があり、半導体素子2が接着剤でこのダイパツド1
1に固定されている。配線基板下面には、半田ボールで
成る複数の球形電極3が設けられている。配線基板1は
多層基板であり、上下の外層及び内層二層には金属膜で
できた配線群があり、内層の配線13と下面の円形電極
15とは配線基板に設けられた導電性の貫通孔(バイア
ホール)6aにより接続されている。外層の配線群は絶
縁性皮膜であるソルダーレジスト10で被われている。
半導体素子の能動面上の電極パッドは、配線基板内層の
配線13がデバイスホール内に露出した内端と金属細線
7で接続されている。前記球形電極3は前記配線基板下
面の円形電極15と接続している。また、半導体素子は
外力から保護されるよう絶縁性の樹脂8で被われてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図4、図5のどちらの
BGAも、実使用時には前記BGA配線基板とは別のよ
り大きな配線基板(以下、マザーボードと記す)に設け
た金属電極に半田ペーストをスクリーン印刷等で添着
し、その上にBGAを前記球形電極の先端が前記半田ペ
ースト層内に入り込むように置いたのち加熱して接続す
る。BGAの球形電極として半田ボールが用いられる場
合が多いが、このような場合は半田ペーストの代わりに
フラックスだけを用いることもできる。
【0005】このようにBGAをマザーボードに実装し
た状態ではBGAの球形電極はマザーボードに隠れてし
まっているし、BGA基板上面の配線もソルダーレジス
ト10、絶縁性樹脂8で被われているため、例えばオシ
ロスコープのプローブを当てて電源電圧を点検したり、
電気信号の波形を見て回路動作の良否を点検することは
不可能である。また、点検用の電極をマザーボード上に
設けることはコストアップになるし、小型化を求められ
る携帯型電子機器においては事実上不可能な事が多い。
【0006】本発明の目的はかかる課題を解決し、BG
Aをマザーボードに実装した状態でもBGA端子の電気
信号の波形をオシロスコープ等で見て回路動作の良否を
点検することが可能なBGAを提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による請求項1記
載の半導体装置は、少なくとも第1面及び第1面と反対
の第2面に導体が設けられ該導体の少なくとも一部が絶
縁性皮膜で被われた配線基板と、該配線基板の一面に搭
載された半導体素子と、該半導体素子と該導体の少なく
とも一部を被う絶縁性樹脂と、該配線基板の第1面に設
けられた球形端子群とを含んで成り、該半導体素子の電
極群と該球形端子群とを電気的に接続する電気径路群が
形成された半導体装置において、該第2面に設けられ該
電気径路と同電位の該導体の一部または全部が該絶縁性
皮膜あるいは該絶縁性樹脂で被われていないことを特徴
とする。
【0008】また請求項2記載の半導体装置は、請求項
1記載の半導体装置において、該半導体素子が該配線基
板の第2面に搭載されたことを特徴とする。
【0009】また請求項3記載の半導体装置は、請求項
1記載の半導体装置において、該半導体素子が該配線基
板の第1面、第2面の中間の第3面に搭載されたことを
特徴とする。
【0010】
【作用】本発明による半導体装置にあっては、BGAの
配線基板の上面(BGA端子と反対の面)にBGA端子
と電気的に接続した電気径路の一部あるいは電気径路と
同電位の導体が絶縁物に被われることなく露出されてい
るので、BGAをマザーボードに実装した状態でもオシ
ロスコープのプローブを当てて電源電圧を点検したり、
電気信号の波形を見て回路動作の良否を点検することが
可能である。
【0011】
【発明の実施の形態】図1、図2は本発明の第1の実施
例で、図1は半導体装置を上から見た平面図である。図
1において、1は配線基板、4は配線基板上面の配線
(導体)、8は封止樹脂、10はソルダーレジストであ
る。ただし、配線基板上面の配線4、ソルダーレジスト
10は全体の四分の一だけ描いてある。他の四分の三は
パッケージ中心を中心として90度ずつ回転した図形で
ある。また、封止樹脂で隠れた部分は描いてない。図2
は半導体装置を図1のA−Aで切断した断面図である。
1は配線基板、2は半導体素子、3は球形電極、4は配
線基板上面の配線、5は配線基板下面の配線(導体)、
6aはバイアホール、7は金属細線、8は封止樹脂、1
0はソルダーレジスト、11はダイパッドである。本パ
ッケージでは、金属細線7、配線基板上面の配線4、バ
イアホール6a、配線基板下面の配線5が半導体素子か
ら球形電極に至る電気径路を形成している。BGAの配
線基板1の上面にはこの電気径路の一部である配線4の
一部がソルダーレジスト10、封止樹脂などの絶縁物に
被われることなく露出されている。
【0012】本実施例の半導体装置は以下のように製造
した。
【0013】(1)プリント配線基板を用意する。この
基板上面中央部には四角形のダイパッドがあり、ダイパ
ッドの周囲には金属配線(導体)が設けられ、ダイパッ
ド近傍から基板端部に設けられたバイアホールに至って
いる。基板下面にはマトリックス状に円形の電極(導
体)が設けられ、前記バイアホールから前記円形電極ま
で金属配線が走っている。バイアホールの内壁には銅メ
ッキが施され、バイアホールの両端(基板の上面及び下
面)には金属の同心円状の電極(導体)が設けられ、基
板上面及び下面の金属配線と内壁銅メッキとの接続を確
かにしている。こうして基板上面のダイパッド近傍から
基板下面の円形電極に至る電気径路を形成している。ソ
ルダレジストは、ダイパッド、上面の同心円状電極、下
面の円形電極を除いた基板上下両面に施されている。
【0014】(2)次いで、ダイパッドに銀ペーストを
塗布し半導体素子を搭載し175℃・1時間乾燥し固着
した。
【0015】(3)次いで、半導体素子の能動面に設け
られたパッド電極と基板上面の金属配線の内端とを金属
細線で接続した。金属細線としては直径30μmの金線
を用い超音波併用熱圧着法で接続した。
【0016】(4)次いで、前記基板をモールド金型に
装填し、トランスフアーモールド法により半導体素子を
被う様に樹脂で封止した。モールド工程の詳細は日経B
P社1993年刊行の「VLSIパッケージング技術
(下)」31ページから40ページに述べられているの
で参照されたい。但し、本発明で実施したのは片側モー
ルドであるので、金型のキャビテイは半導体素子のある
上型だけに設けられている。
【0017】(5)次いで、基板下面の円形電極にフラ
ックスを塗布し、半田ボールを搭載したのち加熱溶融し
て半田ボールを取り付けた。この時、半田ボールは概略
球の一部を切断した形で円形電極に接着する。
【0018】図3は本発明の第2の実施例の断面図で、
キヤビテイーダウンタイプのBGAである。図3におい
て、1は配線基板、2は半導体素子、3は球形電極、1
4は配線基板上面の円形電極(導体)、15は配線基板
下面の円形電極(導体)、6a、6bはバイアホール、
7は金属細線、8は封止樹脂、10はソルダーレジス
ト、11はダイパッド、13は配線基板内面の配線(導
体)である。本パッケージでは、金属細線7、配線基板
内面の配線13、バイアホール6a、配線基板下面の円
形電極15が半導体素子から球形電極に至る電気径路を
形成している。BGAの配線基板1の上面にはこの電気
径路とバイアホール6aにより接続された円形電極14
がソルダーレジスト10、封止樹脂などの絶縁物に被わ
れることなく露出されている。円形電極14は電気的導
体であるバイアホール6aにより接続されることにより
前記電気径路と同電位になっている。
【0019】本実施例の半導体装置は以下のように製造
した。
【0020】(1)プリント配線基板を用意する。この
基板1は多層基板であり、一部は内層まで削除されデバ
イスホールを形成している。デバイスホールの底部には
内層の一部であり半導体素子が搭載されるダイパッド1
1がある。ダイパッドの周囲には内層2層を使った金属
配線13が設けられ、ダイパッド近傍からバイアホール
6aに至っている。バイアホールはマトリックス状に配
置されており、バイアホールの内壁には銅メッキが施さ
れ、中は樹脂で充填され、下端には円形の電極15が設
けられている。バイアホールの上端にも下端と同様に金
属の円形電極14が設けられている。こうしてダイパッ
ド近傍から基板下面の円形電極に至る電気径路を形成し
ている。基板上面には放熱用金属層12が設けられ、放
熱用バイアホール6bによりダイパッド11と接続され
ている。ソルダーレジストは、基板上面の円形電極1
4、放熱用金属層12、基板下面の円形電極15、デバ
イスホールを除いた基板上下両面に施されている。
【0021】(2)次いで、ダイパッドに銀ペーストを
塗布し半導体素子を搭載し175℃・1時間乾燥し固着
した。
【0022】(3)次いで、半導体素子の能動面に設け
られたパッド電極と基板内層に設けられた金属配線の内
端とを金属細線で接続した。金属細線としては直径30
μmの金線を用い超音波併用熱圧着法で接続した。
【0023】(4)次いで、液状エポキシ樹脂をデバイ
スホール内に充填し、半導体素子、金属細線が隠れるま
で塗布したのち150℃・1時間乾燥し封止した。
【0024】(5)次いで、基板下面の円形電極にフラ
ックスを塗布し、半田ボールを搭載したのち加熱溶融し
て半田ボールを取り付けた。この時、半田ボールは概略
球の一部を切断した形で円形電極に接着する。
【0025】前記の第1の実施例、第2の実施例のいず
れでも、半導体素子の能動面に設けられたパッド電極と
基板に設けられた金属配線の内端とを金属細線で接続し
た例を示したが、半田バンプを用いたフリップチップ接
続、金バンプと導電性接着剤による接続あるいは異方性
導電膜による接続でもよい。
【0026】
【発明の効果】本発明による半導体装置にあっては、B
GAの配線基板の上面にBGA端子と電気的に接続した
電気径路の一部が絶縁物に被われることなく露出されて
いるので、BGAをマザーボードに実装した状態でもテ
スターを用いて電源電圧を点検したり、オシロスコープ
のプローブを当てて電気信号の波形を見て回路動作の良
否を点検することが可能である。特にマザーボードの回
路が正しく動作しない場合にその原因を解明するときに
は大いに威力を発揮する。ことに携帯電話やノート型パ
ーソナルコンピュータなどの携帯型電子機器ではマザー
ボードを小さくする事が必須であるので、マザーボード
に点検用の電極を設ける余裕がなく、本発明のBGAは
このような用途に用いる多端子パッケージとして極めて
好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例で、半導体装置を上から
見た平面図。
【図2】本発明の第1の実施例で、半導体装置を図1の
A−Aで切断した断面図。
【図3】本発明の第2の実施例で、半導体装置の断面
図。
【図4】第1の従来例で、半導体装置の断面図。
【図5】第2の従来例で、半導体装置の断面図。
【符号の説明】
1…配線基板 2…半導体素子 3…球形電極 4…絶縁基板上面の配線 5…絶縁基板下面の配線 6a,6b…バイアホール 7…金属細線 8…封止樹脂 10…ソルダーレジスト 11…ダイパッド 12…放熱用金属層 13…内層の金属配線 14…基板上面の円形電極 15…基板下面の円形電極

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくとも第1面及び第1面と反対の第2
    面に導体が設けられ該導体の少なくとも一部が絶縁性皮
    膜で被われた配線基板と、該配線基板の一面に搭載され
    た半導体素子と、該半導体素子と該導体の少なくとも一
    部を被う絶縁性樹脂と、該配線基板の第1面に設けられ
    た球形端子群とを含んで成り、該半導体素子の電極群と
    該球形端子群とを電気的に接続する電気径路群が形成さ
    れた半導体装置において、該第2面に設けられ該電気径
    路と同電位の該導体の一部または全部が該絶縁性皮膜あ
    るいは該絶縁性樹脂で被われていないことを特徴とする
    半導体装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の半導体装置において、該半
    導体素子が該配線基板の第2面に搭載されたことを特徴
    とする半導体装置。
  3. 【請求項3】請求項1記載の半導体装置において、該半
    導体素子が該配線基板の第1面、第2面の中間の第3面
    に搭載されたことを特徴とする半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100308899B1 (ko) * 1998-12-29 2001-11-15 마이클 디. 오브라이언 반도체패키지및그제조방법
KR20020085603A (ko) * 2001-05-09 2002-11-16 주식회사 실리콘 테크 피씨 마더보드를 이용한 반도체 소자 테스트시의 부팅불량 처리장치
KR100400672B1 (ko) * 1999-08-24 2003-10-08 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지용 회로기판

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