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JPH09138981A - Production of stamper for optical disk - Google Patents

Production of stamper for optical disk

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Publication number
JPH09138981A
JPH09138981A JP29855795A JP29855795A JPH09138981A JP H09138981 A JPH09138981 A JP H09138981A JP 29855795 A JP29855795 A JP 29855795A JP 29855795 A JP29855795 A JP 29855795A JP H09138981 A JPH09138981 A JP H09138981A
Authority
JP
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Application
Patent type
Prior art keywords
master
disk
stamper
layer
subjected
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP29855795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Furuyama
和雄 古山
Original Assignee
Sony Disc Technol:Kk
株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To decrease the number of stages for production and to improve a yield by subjecting the surface of a glass master disk formed with pits after cutting and development processing to a curing treatment, then, further forming a protective film thereon and peeling a stamper after directly molding this stamper by using this master disks as a casting mold.
SOLUTION: The substrate 11 cut out to a disk shape from a square glass square plate is subjected to precision polishing then to washing. After a photoresist is applied thereon, this resist is irradiated with a laser and is subjected to development processing, by which the glass master disk 1 formed with the pits is formed. This master disk 1 is heat treated to cure the photoresist layer 12 to bring the layer 12 and the substrate 11 into tight contact with each other; thereafter, the master disk is subjected to a sputtering treatment, by which the chromium oxide layer 13 of the protective layer is formed. Next, the surface of the layer 13 is subjected to an electroplating treatment of nickel and the stamper 2 is directly molded by using the master disk 1 as the casting mold. Thereafter, the stamper is released from the master disk 1. As a result, the stage for forming the master and mother master disk is saved without destroying the pits in the state for peeling the stamper 2. The cost is thus reduced and the yield is improved.
COPYRIGHT: (C)1997,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクを製造するのに用いられるスタンパを製造する光ディスク用スタンパの製造方法に関する。 The present invention relates to relates to a method of manufacturing a stamper for an optical disc to produce a stamper for use to manufacture an optical disk.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年において、データを記録する記録媒体として光学的ディスク状記録媒体いわゆる光ディスクが広く用いられている。 BACKGROUND OF THE INVENTION Recently, optical disk recording medium called an optical disc is widely used as a recording medium for recording data. この光ディスクの表面は、ピットとグルーブとで形成されている。 The surface of the optical disc is formed with the pits and grooves.

【0003】そこで、このピット及びグルーブを光ディスクの表面に形成するために、原盤となるスタンパが作成される。 [0003] Therefore, in order to form the pits and grooves on the surface of the optical disk, the stamper is created as a master. このスタンパを作成するとともに当該スタンパを用いて光ディスクを作成する具体的な工程は、図4 Specific steps of creating an optical disk by using the stamper together to create this stamper, 4
に示すように、ガラス原盤生成工程としてのステップS As shown in step S as glass master generating process
120と、マスタ原盤生成工程としてのステップS12 120, the step S12 as a master master generating process
1と、マザ原盤生成工程としてのステップS122と、 1, and the step S122 of the motherboard master producing step,
スタンパ生成工程としてのステップS123と、スタンパ整形工程としてのステップS114と、光ディスク形成工程としてのステップS115とから成っている。 And Step S123 as a stamper generation step, a step S114 as a stamper shaping step consists of a step S115 serving as a disc forming process.

【0004】上記ステップS120では、ステップS1 [0004] At the step S120, step S1
00でカッティングされたガラス原盤に対して、ステップS101にてフォトレジストを塗布し露光後、現像処理が行われ、ステップS102にて現像処理して得られたガラス原盤の表面が銀メッキ処理等のプリメタライズ処理が行われ、ガラス原盤が作成される。 00 against cutting glass master in, after coating and exposing the photoresist in step S101, the development process is performed, the surface of the glass master obtained by development processing, such as silver plating process at step S102 Purimetaraizu process is performed, the glass master is created. このガラス原盤を、図5に示す。 The glass master is shown in FIG. 図5において、ガラス原盤103 5, the glass master 103
は、基板100にフォトレジスト層101が形成され、 The photoresist layer 101 is formed on the substrate 100,
さらに、上から銀メッキ層102が形成されたものである。 Moreover, in which silver plating layer 102 from above is formed.

【0005】上記ステップS121では、ステップS1 [0005] At the step S121, step S1
03で上記ガラス原盤103の表面に、例えばニッケルによる電気メッキ処理等のマスタ原盤用メッキ処理が施される。 03 on the surface of the glass master 103, for example, the master stamper for plating treatment such as electroplating treatment by nickel is subjected. ステップS104にて、図6に示すように、このメッキ処理により生成された層を剥離してマスタ原盤110が得られ、さらに、ステップS105にてこの剥離されたマスタ原盤110が洗浄される。 In step S104, as shown in FIG. 6, the master stamper 110 is obtained by peeling a layer produced by the plating process, further, the stripped master master 110 is cleaned at step S105.

【0006】また、上記ステップS122では、ステップS106にて上記マスタ原盤110の表面に保護膜が成膜され、ステップS107にてこの保護膜の上から、 Further, in the step S122, the protective film on the surface of the master stamper 110 is deposited at step S106, from the top of the protective layer in step S107,
例えばニッケルによる電気メッキ処理等のマザ原盤用メッキ処理が施される。 For example, a plating process for Mothers master, such as an electric plating by nickel is subjected. ステップS108にて、図7に示すように、このメッキ処理により生成された層を剥離してマザ原盤111が得られ、さらに、ステップS109 In step S108, as shown in FIG. 7, motherboard master 111 is obtained by peeling a layer produced by the plating process, further, step S109
にてこの剥離されたマザ原盤111が洗浄される。 Mothers master 111 which is the peeling is washed with. なお、ステップS108にてマザ原盤111が剥離されて残ったマスタ原盤110は、このステップS122で再度使用され、第2、第3のマザ原盤が作成される。 Incidentally, the master stamper 110 Mothers master 111 remained are peeled at step S108 is again used in this step S122, the second, third motherboard master is created.

【0007】上記ステップS123では、ステップS1 [0007] In the step S123, step S1
10にて、上記マザ原盤111の表面に保護膜が成膜され、ステップS111にてこの保護膜の上から例えばニッケルによる電気メッキ処理等のスタンパ用メッキ処理が行われる。 At 10, the surface protective film of the motherboard master 111 is deposited, a stamper for plating treatment such as electroplating process by, for example, from nickel on the protective film at step S111 is performed. ステップS112にて、図8に示すように、このメッキ処理により生成された層を剥離してスタンパ112が得られる。 In step S112, as shown in FIG. 8, the stamper 112 is obtained by peeling a layer produced by the plating process. ステップS113では、このスタンパ112の洗浄が行われる。 In step S113, the cleaning of the stamper 112 is performed. なお、ステップS11 It should be noted that the step S11
2にてスタンパ112が剥離されて残ったマザ原盤11 Mothers master 11 to the stamper 112 remained been peeled by 2
1は、上記マスタ原盤110と同様に、このステップS 1, similar to the master stamper 110, the step S
123で再度使用され、第2、第3のスタンパが作成される。 123 again being used, the second, third stamper is created.

【0008】ステップS114では、上記スタンパ11 [0008] In step S114, the stamper 11
2の形状が整えられ、ステップS115では、該スタンパ112を用いて圧縮成型法や射出成型法やいわゆる2 2 shape furnished, in step S115, compression molding method or an injection molding method using the stamper 112 and the so-called 2
P(photo polymarization)法等により光ディスクが成型される。 Optical disc is molded by P (photo polymarization) method.

【0009】 [0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来において、光ディスクを成型する際に用いられるスタンパは、 [SUMMARY OF THE INVENTION Incidentally, in the conventional stamper used in molding the optical disk,
ガラス原盤を鋳型にして直接作成されるのではなく、ガラス原盤を鋳型にしてマスタ原盤、このマスタ原盤を鋳型にしてマザ原盤が作成され、最後にこのマザ原盤を鋳型にして作成される。 The glass master rather than being created directly as a template, a master stamper and a glass master as a template, motherboard master by the master stamper in a mold is created, is finally created with the motherboard master as a template.

【0010】従って、電気メッキを行う工程が3回必要となり時間が掛かるため、コストが高くなる原因となっていた。 [0010] Therefore, since the process is necessary and will take a long time 3 times to perform the electroplating, it has been a cause of cost increases.

【0011】そこで、歩留まりの改善と、スタンパ作成工程の削減とを図るため、上記ガラス原盤を鋳型にして直接スタンパを作成することが試みられているが、ガラス原盤の表面をメッキ処理してスタンパを得ようとすると、スタンパを剥離する工程でガラス原盤の表面のピットが破壊されるため、1つのガラス原盤から複数のスタンパを作成することが不可能であった。 [0011] In order to achieve the improvement of yield, and reduction of the stamper producing step, although it has been attempted to create a direct stamper and the glass master as a template, the surface of the glass master disk by plating stamper an attempt to obtain a because the pits of the surface of the glass master is destroyed in the process of peeling off the stamper, it was not possible to create a plurality of stampers from a single glass master.

【0012】そこで、本発明は、上述の実情に鑑みてなされたものであり、スタンパを作成するのに工程数が削減され、歩留まりが改善される光ディスク用スタンパの製造方法を提供することを目的とする。 [0012] The present invention has been made in view of the circumstances described above, aims to provide the number of steps is reduced to create a stamper, a method of manufacturing an optical disc stamper for the yield is improved to.

【0013】 [0013]

【課題を解決するための手段】本発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法は、カッティング処理後、フォトレジストを塗布して露光した後現像処理したガラス原盤に対し、上記フォトレジストを硬化させる硬化工程と、 Manufacturing method of the optical disc stamper of the present invention SUMMARY OF] after cutting processing, to the glass master on which a developing treatment after exposure by applying a photoresist, hardening step of hardening the photoresist When,
上記硬化工程にて処理したガラス原盤の表面を保護するための保護膜を形成する保護膜形成工程と、上記保護膜形成工程にて形成された保護膜の上にスタンパを形成するスタンパ形成工程と、上記スタンパ形成工程にて形成されたスタンパを上記ガラス原盤から剥離する剥離工程とを有することを特徴とすることで、上述した問題を解決する。 A protective film forming step of forming a protective film for protecting the surface of the glass master disk treated by the curing step, a stamper forming step of forming a stamper on the protective film formed by the protective film forming step , a stamper formed by the stamper formation step by; and a peeling step of peeling from the glass master, to solve the problems described above.

【0014】上記光ディスク用スタンパの製造方法によれば、光ディスク成型用のスタンパを作成するのに、硬化工程にて、カッティング処理してピットを作成したガラス原盤に対して例えば熱処理を施すことで表面に塗布されているフォトレジストが硬化される。 According to the method of manufacturing a stamper for the optical disk, the surface to create a stamper for optical disk molding at the curing step, by carrying out, for example, an heat treatment on the glass master on which to create the pits and cut processing the photoresist is cured, which is applied to. 保護膜形成工程にて、上記硬化工程にて処理されたガラス原盤の表面に保護膜が形成される。 With the protective film forming step, the protective film on the surface of the glass master, which is processed in the curing step is formed. また、上記スタンパ形成工程にて、上記保護膜形成工程にて保護膜が表面に形成されたガラス原盤を鋳型にして、例えば電気メッキ処理を施しスタンパが作成される。 Further, in the above stamper forming step, the protective film at the protective film forming step by a glass master formed on a surface on the mold, the stamper subjected to electroplating process is created, for example. 剥離工程にて、上記スタンパ形成工程にて形成されたスタンパが、上記ガラス原盤から剥離され取り出される。 At stripping step, a stamper formed by the stamper forming step is taken out are peeled off from the glass master.

【0015】 [0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法の具体例について、図面を参照しながら説明する。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a specific example of a manufacturing method of the optical disc stamper of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】上記光ディスク用スタンパの製造方法は、 [0016] The method of manufacturing a stamper for the optical disk,
図1に示すように、カッティング処理後、フォトレジストを塗布して露光した後現像処理したガラス原盤に対し、上記フォトレジストを硬化させる硬化工程としてのステップS3と、上記硬化工程にて処理したガラス原盤の表面を保護するための保護膜を形成する保護膜形成工程としてのステップS11と、上記保護膜形成工程にて形成された保護膜の上にスタンパを形成するスタンパ形成工程としてのステップS6と、上記スタンパ形成工程にて形成されたスタンパを上記ガラス原盤から剥離する剥離工程としてのステップS7とを有することを特徴としている。 As shown in FIG. 1, the glass after cutting processing, to the glass master on which a developing treatment after exposure by applying a photoresist, and step S3 as a curing step of curing the photoresist were treated in the curing process and step S11 as a protective film forming step of forming a protective film for protecting the surface of the master, the step S6 in the stamper formation step of forming a stamper on the protective film formed by the protective film forming step , and a stamper formed by the stamper forming step is characterized by having a step S7 as peeling step of peeling from the glass master.

【0017】上記光ディスク用スタンパの製造方法によれば、現像後ピットが形成されたガラス原盤の表面を硬化処理し、さらに、保護膜を成膜することで、ガラス原盤を鋳型にして直接スタンパを成型してもスタンパを剥離する工程で上記ピットが破壊される虞がない。 According to the manufacturing method of the optical stamper disk, the surface of the glass master for developing post-pits are formed and cured, further, by forming the protective film, the direct stamper and a glass master as a template It is molded in a process of peeling off the stamper the pits there is no possibility to be destroyed. すなわち、従来はスタンパを作成するのに、マスタ原盤及びマザ原盤を作成するための電気メッキ工程がそれぞれ余分に必要であったが、これらマスタ原盤及びマザ原盤を作成する工程が省略されるため、スタンパ作成工程の削減化を図ることが可能である。 That is, although the conventional create a stamper, since the electric plating process to create a master stamper and motherboard master disc was the additionally required respectively, the step of creating these master master and motherboard master is omitted, it is possible to achieve reduction of the stamper creation process. 従って、コスト削減及び歩留まりの改善化を図ることが可能である。 Therefore, it is possible to improve in cost reduction and yield.

【0018】ここで、上記光ディスク用スタンパの製造方法において、ステップS12でガラス原盤が作成され、ステップS13で当該ガラス原盤を鋳型にしてスタンパが作成されて、ステップS9でこのスタンパの形状が整えられ、ステップS10で当該スタンパを鋳型にして光ディスクが作成される。 [0018] Here, in the manufacturing method of the optical stamper disk, glass master is created in step S12, the stamper and the glass master as a template is created in step S13, the shape of the stamper furnished in step S9 , an optical disc is created by the stamper to the mold in step S10. なお、以下に示すように、 It should be noted that, as shown in the following,
ステップS12はステップS1乃至S5、ステップS1 Step S12 is the step S1 to S5, step S1
3はステップS6乃至S8の工程からそれぞれ成っている。 3 is made from each step of the step S6 to S8.

【0019】ステップS1にて、ガラス原盤の基板が、 [0019] In step S1, a substrate of glass master,
例えば酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び硅酸を主成分とするガラスの角板から円盤状に切り出され、精密研磨されて洗浄される。 For example, sodium oxide, cut into a disk shape from the corner plate of glass whose main component is calcium oxide and silicates, are cleaned are precisely polished.

【0020】ステップS2では、ステップS1にて切り出された基板の表面に、先ず、硅素系溶剤例えば3− [0020] In step S2, the surface of the substrate cut out at step S1, first, silicon-based solvent such as 3-
(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリエトキシ硅素(3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane )が塗布され、続いて、露光転写用のフォトレジストが塗布される。 (2-aminoethylamino) propyltriethoxysilane silicon (3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane) is applied, followed by photoresist for exposure transfer is applied. この硅素系溶剤の化学式は、 NH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si(OCH 33である。 Chemical formula of the silicon-based solvent, NH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3. ここで、この硅素系溶剤をフォトレジストと基板との間に塗布することで、互いの密着強度を効果的に上げることができる。 Here, by applying the silicon-based solvent between the photoresist and the substrate, it is possible to increase the adhesion strength of each other effectively. なお、ここで、ジプロポキシ−ジアセチルアセトネートチタン(titanium dipropoxy-dia Here, dipropoxy - diacetylacetonate titanium (titanium dipropoxy-dia
cetylacetonate)で代表されるチタン系溶剤を用いても上記密着強度を上げることができるが、但し硅素系溶剤を用いた場合よりも密着強度は劣る。 Even using titanium-based solvent typified by Cetylacetonate) can increase the adhesion strength, except adhesion strength than with the silicon-based solvent is inferior. また、このチタン系溶剤の化学式は、 (C 37 O) 2 Ti(C 5722である。 The chemical formula of the titanium-based solvent is a (C 3 H 7 O) 2 Ti (C 5 H 7 O 2) 2.

【0021】また、このフォトレジストを塗布した基板に対して、例えばヘリウム−カドミウム(He−Cd) Further, the substrate coated with the photoresist, such as helium - cadmium (He-Cd)
レーザやアルゴン(Ar)レーザを集光させて形成されるスポットが照射される。 Spot formed by focusing the laser or argon (Ar) laser is irradiated. レーザ照射後、現像液に浸漬して露光部分が除去されて、ガラス原盤が作成される。 After laser irradiation, immersed in an exposed portion in the developing solution is removed, the glass master is created.
なお、この露光軌跡に応じて、ピットが形成される。 Incidentally, according to the exposure locus, pits are formed. また、このとき、フォトレジスト層は、例えば1500オングストローム程度の厚みを有する薄膜になる。 At this time, the photoresist layer is, for example, a thin film having a thickness of about 1500 angstroms. また、 Also,
この段階で、形成されたフォトレジスト層の欠陥検出処理が行われ、欠陥が検出されなかったガラス原盤に対して、続くステップにて所定の処理がなされ、欠陥が検出されたガラス原盤についてはフォトレジスト層を剥がして再度このステップS2の処理が行われる。 At this stage, the defect detection process of the photoresist layer which is formed is performed, the glass master on which the defect is not detected, the subsequent predetermined processing is performed in step, photo for a glass master disc defect is detected processing in step S2 again stripped resist layer is performed.

【0022】ステップS3では、ステップS2で現像処理されたガラス原盤を150℃で30分程度加熱する熱処理が行われる。 [0022] In step S3, the heat treatment for heating about 30 minutes developed glass master at 0.99 ° C. in step S2 is performed. ここで、ガラス原盤を加熱することで、上記フォトレジスト層に混在している有機系のガスを抜くことができ、フォトレジストと基板との間の密着強度を上げることができる。 Here, by heating the glass master, it is possible to pull out the organic gas are mixed in the photoresist layer, it is possible to increase the adhesion strength between the photoresist and the substrate.

【0023】また、ステップS11は、ステップS4、 [0023] In addition, step S11, step S4,
S5から成り、ここでは上記フォトレジストの表面を保護する金属保護膜が作成される。 It consists S5, wherein the metal protective film for protecting the surface of the photoresist is created.

【0024】ステップS4では、例えばクロムを用いたスパッタリング処理が行われ、上記フォトレジストが形成するピットに沿って、クロム薄膜が形成される。 [0024] In step S4, for example, a sputtering process using chromium done along the pit in which the photoresist is formed, the thin chromium film is formed. ここで、金属保護膜は、クロム薄膜に限らず、ニッケル薄膜や硅素薄膜でもよい。 Here, the metal protective film is not limited to the chromium thin film, or a nickel thin film and a silicon thin film. 続いて、ステップS5では、このクロム薄膜の表面に対して酸化処理が施される。 Subsequently, in step S5, the oxidation treatment is performed on the surface of the thin chromium film. この酸化処理として、過マンガン酸水溶液による処理、過酸化水素水による処理、陽極酸化等の電解処理、酸素雰囲気下で酸素ガスのプラズマを立ててこの酸素プラズマを反応させるプラズマ処理等が挙げられる。 As the oxidation treatment, treatment with permanganic acid aqueous solution, treatment with hydrogen peroxide solution, electrolytic treatment or anodizing, plasma treatment or the like make a plasma of the oxygen gas in an oxygen atmosphere reacting the oxygen plasma and the like. これら何れかの酸化処理により、クロム薄膜は、酸化クロムになり酸化クロム膜が形成される。 These either oxidation, chromium thin film, chromium oxide film becomes a chromium oxide is formed. ここで、ステップS4でニッケルを用いた場合は、酸化ニッケル膜が形成され、硅素を用いた場合は、酸化硅素膜が形成される。 Here, the case of using nickel in the step S4, the nickel oxide film is formed, in the case of using silicon, silicon oxide film is formed. これら酸化膜は、非常に堅いことが知られており、上記フォトレジスト層の表面を効果的に保護する。 These oxide films are known to be very stiff, effectively protects the surface of the photoresist layer.

【0025】以上、ステップS1乃至S5で、ガラス原盤が作成される。 [0025] As described above, in steps S1 to S5, the glass master is created. ここで、図2は、ステップS12を経て表面に上記酸化膜が形成されたガラス原盤を示す図である。 Here, FIG. 2 is a diagram showing a glass master having the oxide film formed on the surface through the step S12. 図2において、ガラス原盤1は、基板11上にフォトレジスト層12が露光処理及び現像処理により形成され、さらに、酸化クロム層13が形成されたものである。 2, the glass master disk 1, a photoresist layer 12 is formed by an exposure process and a development process on the substrate 11, further, in which the chromium oxide layer 13 is formed.

【0026】続いて、ステップS6では、上記ガラス原盤1に例えばニッケルを用いた電気メッキ処理を施して、上記ガラス原盤1を鋳型にしたスタンパが直接形成される。 [0026] Then, in step S6, is subjected to an electroplating process using, for example, nickel on the glass master disk 1, the stamper was the glass master 1 to the template is formed directly.

【0027】ステップS7では、このスタンパを上記ガラス原盤1から剥離する剥離処理が行われる。 [0027] In step S7, the peeling process for peeling the stamper from the glass master disc 1 is performed. ここで、 here,
ガラス原盤1の表面にフォトレジストにより形成されるピットは、上記酸化クロム膜13により保護されているため、スタンパを剥離しても破壊される虞がない。 Pits formed by a photoresist on the surface of the glass master 1, because it is protected by the chromium oxide film 13, there is no possibility to be destroyed even if peeling off the stamper. 従って、このガラス原盤1を鋳型にして、第2、第3のスタンパの作成が可能である。 Therefore, the glass master 1 as a template, second, it is possible to create a third stamper. また、従来において、ガラス原盤を鋳型としたマスタ原盤と、該マスタ原盤を鋳型としたマザ原盤とを作成しなくても、ガラス原盤1を鋳型にして直接スタンパの形成が可能になるため、スタンパ形成工程数の削減化が可能になる。 Further, conventionally, a master stamper in which the glass master as a template, without the master master creates a motherboard master plate as a template, because the glass master disk 1 allows the formation of a direct stamper in the mold, the stamper forming process reducing the number of reduction is possible.

【0028】また、さらに、ステップS8において、ステップS7で剥離されたスタンパの表面が洗浄される。 Further, Further, in step S8, the peeled surface of the stamper in step S7 is cleaned.

【0029】以上、ステップS6乃至S8で、スタンパが作成される。 The above, in step S6 to S8, the stamper is created. ここで、図3は、上記ステップS7での剥離処理の工程を模式的に示した図である。 Here, FIG. 3 is a diagram schematically showing a peeling process step in the step S7. 図3では、 In Figure 3,
ガラス原盤1の表面に形成されたスタンパ2が剥離されている。 Stamper 2 formed on the surface of the glass master 1 is peeled off.

【0030】次に、ステップS9では、ステップS8で得られた洗浄処理済のスタンパの形状が整えられる。 Next, in step S9, it is trimmed shape of cleaning the processed stamper obtained in step S8. ここでは、例えば信号面の裏面が研磨される。 Here, for example, the rear surface of the signal surface is polished. この裏面研磨は、例えば射出成型法により該スタンパを鋳型にして光ディスクを作成する際に、この裏面の凹凸が光ディスクの信号面に転写されるのを防ぐ目的で行われ、また、 The back side polishing, for example, the stamper by injection molding to create an optical disk as a template, unevenness of the back surface is carried out in order to prevent from being transferred to the signal surface of the optical disc, also,
例えば2乗平均値のルートで0.4〜0.2μm程度の研磨精度で行われる。 For example carried out in 0.4~0.2μm about polishing precision at the root of the mean square value. 研磨処理後、続いて洗浄処理され、さらに、射出成型機の金型の取付寸法に合わせて内外径の加工を行う。 After polishing is followed by washing processing, further performs processing of inner and outer diameters to fit the mounting dimensions of the mold of an injection molding machine. この内外径加工後、スタンパに対して超音波洗浄が行われる。 After the inner and outer diameter processing, ultrasonic cleaning is performed on the stamper. この超音波洗浄後、スタンパの欠陥検出が行われ、欠陥が検出されなかったスタンパが、続く工程で用いられる。 After the ultrasonic cleaning, defect detection of the stamper is performed, the stamper a defect is not detected, is used in the subsequent step.

【0031】ステップS10では、例えば射出成型法による光ディスクの形成が行われる。 [0031] In step S10, for example, formed of an optical disc according to an injection molding method is performed. また、光ディスクの形成法として、前記2P法や圧縮成形法を用いてもよい。 Further, as a formation method of an optical disc, it may be used the 2P method or the compression molding.

【0032】 [0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法によれば、現像後ピットが形成されたガラス原盤の表面を硬化処理し、さらに、保護膜を成膜することで、ガラス原盤を鋳型にして直接スタンパを成型してもスタンパを剥離する工程で上記ピットが破壊される虞がない。 As described in the foregoing, according to the manufacturing method of the optical disc stamper of the present invention, the surface of the glass master for developing post-pits are formed and cured, further to a protective film in, there is no possibility that the pits are destroyed in the process of peeling off the stamper be molded directly stamper and the glass master as a template. すなわち、従来はスタンパを作成するのに、マスタ原盤及びマザ原盤を作成するための電気メッキ工程がそれぞれ余分に必要であったが、これらマスタ原盤及びマザ原盤を作成する工程が省略されるため、スタンパ作成工程の削減化を図ることが可能である。 That is, although the conventional create a stamper, since the electric plating process to create a master stamper and motherboard master disc was the additionally required respectively, the step of creating these master master and motherboard master is omitted, it is possible to achieve reduction of the stamper creation process. 従って、コスト削減及び歩留まりの改善化を図ることが可能である。 Therefore, it is possible to improve in cost reduction and yield.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法の具体的な構成を示すフローチャートである。 1 is a flowchart showing a specific structure of a manufacturing method of the optical disc stamper of the present invention.

【図2】上記光ディスク用スタンパの製造方法の初期の工程を模式的に示す図である。 2 is a diagram schematically showing the initial step of the method of manufacturing a stamper for the optical disc.

【図3】上記光ディスク用スタンパの製造方法の図2に示した工程の次の工程を模式的に示す図である。 3 is a diagram schematically showing a step subsequent to the step shown in FIG. 2 of the method for manufacturing a stamper for the optical disc.

【図4】従来の光ディスク用スタンパの製造方法の構成を示すフローチャートである。 4 is a flowchart showing a configuration of a conventional method for manufacturing a stamper for an optical disk.

【図5】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の第1の工程を模式的に示す図である。 5 is a diagram schematically showing a first step of the method for manufacturing the stamper above conventional optical disc.

【図6】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の第2の工程を模式的に示す図である。 6 is a diagram schematically showing a second step of the method for manufacturing the stamper above conventional optical disc.

【図7】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の第3の工程を模式的に示す図である。 7 is a diagram schematically showing a third step of the manufacturing method of the conventional stamper for an optical disk.

【図8】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の第4の工程を模式的に示す図である。 8 is a diagram schematically showing a fourth step of the method for manufacturing the stamper above conventional optical disc.

【符号の説明】 1 ガラス原盤 2 スタンパ 11 基板 12 フォトレジスト層 13 酸化クロム層 [Description of symbols] 1 glass master 2 stamper 11 substrate 12 the photoresist layer 13 of chromium oxide layer

Claims (4)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 カッティング処理後、フォトレジストを塗布して露光した後現像処理したガラス原盤に対し、 上記フォトレジストを硬化させる硬化工程と、 上記硬化工程にて処理したガラス原盤の表面を保護するための保護膜を形成する保護膜形成工程と、 上記保護膜形成工程にて形成された保護膜の上にスタンパを形成するスタンパ形成工程と、 上記スタンパ形成工程にて形成されたスタンパを上記ガラス原盤から剥離する剥離工程とを有することを特徴とする光ディスク用スタンパの製造方法。 After 1. A cutting processing, to the glass master on which a developing treatment after exposure by applying a photoresist, and hardening step of hardening the photoresist, to protect the surface of the glass master disk treated with the curing process protective film forming step and, a stamper forming step of forming a stamper on the protective film formed by the protective film forming step, the glass stamper formed in the stamper formation step of forming a protective film for method of manufacturing a stamper for optical disc and having a peeling step of peeling from the master.
  2. 【請求項2】 上記ガラス原盤は、上記フォトレジストと基板との間に硅素系溶剤が塗布されて形成されたものであることを特徴とする請求項1記載の光ディスク用スタンパの製造方法。 Wherein the glass master disk, optical disc manufacturing method for a stamper according to claim 1, wherein the silicon-based solvent is one which is formed by applying between the photoresist and the substrate.
  3. 【請求項3】 上記保護膜形成工程は、金属薄膜を形成する金属薄膜形成工程と、 上記金属薄膜形成工程にて形成された金属薄膜の表面を酸化処理する酸化処理工程とを有することを特徴とする請求項1記載の光ディスク用スタンパの製造方法。 Wherein said protective film forming step, characterized in that it has a metal thin film forming step of forming a metal thin film, an oxidation treatment step of oxidizing the surface of the metal thin film formed by the metal thin film formation process the optical disc manufacturing method for a stamper according to claim 1,.
  4. 【請求項4】 上記金属薄膜形成工程で形成される金属薄膜は、クロム薄膜であることを特徴とする請求項3記載の光ディスク用スタンパの製造方法。 4. A metal thin film formed by the metal thin film forming step, claim 3 optical disc manufacturing method of a stamper, wherein the chromium thin film.
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