JPH09138981A - Production of stamper for optical disk - Google Patents
Production of stamper for optical diskInfo
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- JPH09138981A JPH09138981A JP29855795A JP29855795A JPH09138981A JP H09138981 A JPH09138981 A JP H09138981A JP 29855795 A JP29855795 A JP 29855795A JP 29855795 A JP29855795 A JP 29855795A JP H09138981 A JPH09138981 A JP H09138981A
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- stamper
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクを製造
するのに用いられるスタンパを製造する光ディスク用ス
タンパの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a stamper for an optical disc, which is used to manufacture a stamper used for producing an optical disc.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年において、データを記録する記録媒
体として光学的ディスク状記録媒体いわゆる光ディスク
が広く用いられている。この光ディスクの表面は、ピッ
トとグルーブとで形成されている。2. Description of the Related Art In recent years, an optical disc-shaped recording medium, that is, an optical disc has been widely used as a recording medium for recording data. The surface of this optical disk is formed by pits and grooves.
【０００３】そこで、このピット及びグルーブを光ディ
スクの表面に形成するために、原盤となるスタンパが作
成される。このスタンパを作成するとともに当該スタン
パを用いて光ディスクを作成する具体的な工程は、図４
に示すように、ガラス原盤生成工程としてのステップＳ
１２０と、マスタ原盤生成工程としてのステップＳ１２
１と、マザ原盤生成工程としてのステップＳ１２２と、
スタンパ生成工程としてのステップＳ１２３と、スタン
パ整形工程としてのステップＳ１１４と、光ディスク形
成工程としてのステップＳ１１５とから成っている。Therefore, in order to form the pits and the grooves on the surface of the optical disc, a stamper serving as a master is prepared. A specific process of making this stamper and making an optical disc using the stamper will be described with reference to FIG.
As shown in FIG.
120 and step S12 as a master master disk production process.
1 and step S122 as a mother master disk production process,
The process includes step S123 as a stamper generation process, step S114 as a stamper shaping process, and step S115 as an optical disk forming process.
【０００４】上記ステップＳ１２０では、ステップＳ１
００でカッティングされたガラス原盤に対して、ステッ
プＳ１０１にてフォトレジストを塗布し露光後、現像処
理が行われ、ステップＳ１０２にて現像処理して得られ
たガラス原盤の表面が銀メッキ処理等のプリメタライズ
処理が行われ、ガラス原盤が作成される。このガラス原
盤を、図５に示す。図５において、ガラス原盤１０３
は、基板１００にフォトレジスト層１０１が形成され、
さらに、上から銀メッキ層１０２が形成されたものであ
る。In step S120, step S1
The glass master cut in 00 is coated with a photoresist in step S101, exposed, and then developed, and the surface of the glass master obtained by the development in step S102 is subjected to silver plating or the like. Premetallization processing is performed and a glass master is created. This glass master is shown in FIG. In FIG. 5, the glass master 103
Forms a photoresist layer 101 on the substrate 100,
Further, the silver plating layer 102 is formed from above.
【０００５】上記ステップＳ１２１では、ステップＳ１
０３で上記ガラス原盤１０３の表面に、例えばニッケル
による電気メッキ処理等のマスタ原盤用メッキ処理が施
される。ステップＳ１０４にて、図６に示すように、こ
のメッキ処理により生成された層を剥離してマスタ原盤
１１０が得られ、さらに、ステップＳ１０５にてこの剥
離されたマスタ原盤１１０が洗浄される。In step S121, step S1
In 03, the surface of the glass master 103 is subjected to a master master plating treatment such as electroplating with nickel. In step S104, as shown in FIG. 6, the layer generated by the plating process is peeled off to obtain the master master 110, and in step S105, the peeled master master 110 is washed.
【０００６】また、上記ステップＳ１２２では、ステッ
プＳ１０６にて上記マスタ原盤１１０の表面に保護膜が
成膜され、ステップＳ１０７にてこの保護膜の上から、
例えばニッケルによる電気メッキ処理等のマザ原盤用メ
ッキ処理が施される。ステップＳ１０８にて、図７に示
すように、このメッキ処理により生成された層を剥離し
てマザ原盤１１１が得られ、さらに、ステップＳ１０９
にてこの剥離されたマザ原盤１１１が洗浄される。な
お、ステップＳ１０８にてマザ原盤１１１が剥離されて
残ったマスタ原盤１１０は、このステップＳ１２２で再
度使用され、第２、第３のマザ原盤が作成される。In step S122, a protective film is formed on the surface of the master master 110 in step S106. In step S107, the protective film is formed on the protective film.
For example, a plating process for a mother master such as an electroplating process using nickel is performed. In step S108, as shown in FIG. 7, the layer generated by this plating process is peeled off to obtain a mother master 111, and further, step S109.
The separated mother master 111 is washed at. The master master 110 remaining after the mother master 111 has been peeled off in step S108 is reused in step S122, and second and third mother masters are created.
【０００７】上記ステップＳ１２３では、ステップＳ１
１０にて、上記マザ原盤１１１の表面に保護膜が成膜さ
れ、ステップＳ１１１にてこの保護膜の上から例えばニ
ッケルによる電気メッキ処理等のスタンパ用メッキ処理
が行われる。ステップＳ１１２にて、図８に示すよう
に、このメッキ処理により生成された層を剥離してスタ
ンパ１１２が得られる。ステップＳ１１３では、このス
タンパ１１２の洗浄が行われる。なお、ステップＳ１１
２にてスタンパ１１２が剥離されて残ったマザ原盤１１
１は、上記マスタ原盤１１０と同様に、このステップＳ
１２３で再度使用され、第２、第３のスタンパが作成さ
れる。In step S123, step S1
At 10, a protective film is formed on the surface of the mother master 111, and at step S111, stamper plating such as electroplating with nickel is performed on the protective film. At step S112, as shown in FIG. 8, the stamper 112 is obtained by peeling off the layer generated by this plating process. In step S113, the stamper 112 is cleaned. Note that step S11
Mother master 11 left after the stamper 112 was peeled off in 2
1 is the same as the master master 110, and this step S
It is used again at 123 to create the second and third stampers.
【０００８】ステップＳ１１４では、上記スタンパ１１
２の形状が整えられ、ステップＳ１１５では、該スタン
パ１１２を用いて圧縮成型法や射出成型法やいわゆる２
Ｐ（photo polymarization）法等により光ディスクが成
型される。In step S114, the stamper 11 is
The shape of No. 2 is adjusted, and in step S115, the stamper 112 is used to perform compression molding, injection molding, or so-called 2
An optical disc is molded by the P (photo polymarization) method or the like.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来におい
て、光ディスクを成型する際に用いられるスタンパは、
ガラス原盤を鋳型にして直接作成されるのではなく、ガ
ラス原盤を鋳型にしてマスタ原盤、このマスタ原盤を鋳
型にしてマザ原盤が作成され、最後にこのマザ原盤を鋳
型にして作成される。By the way, conventionally, the stamper used when molding an optical disk is
It is not directly made by using the glass master as a mold, but a master master is made by using the glass master as a mold, a mother master is made by making this master master as a mold, and finally this mother master is made as a mold.
【００１０】従って、電気メッキを行う工程が３回必要
となり時間が掛かるため、コストが高くなる原因となっ
ていた。Therefore, the process of performing electroplating is required three times, which takes time, resulting in an increase in cost.
【００１１】そこで、歩留まりの改善と、スタンパ作成
工程の削減とを図るため、上記ガラス原盤を鋳型にして
直接スタンパを作成することが試みられているが、ガラ
ス原盤の表面をメッキ処理してスタンパを得ようとする
と、スタンパを剥離する工程でガラス原盤の表面のピッ
トが破壊されるため、１つのガラス原盤から複数のスタ
ンパを作成することが不可能であった。Therefore, in order to improve the yield and reduce the stamper preparation process, it has been attempted to directly form the stamper by using the above glass master as a mold. However, the surface of the glass master is plated and the stamper is formed. However, it is impossible to form a plurality of stampers from one glass master because the pits on the surface of the glass master are destroyed in the step of peeling the stamper.
【００１２】そこで、本発明は、上述の実情に鑑みてな
されたものであり、スタンパを作成するのに工程数が削
減され、歩留まりが改善される光ディスク用スタンパの
製造方法を提供することを目的とする。Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a stamper for an optical disk in which the number of steps for manufacturing the stamper is reduced and the yield is improved. And
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明に係る光ディスク
用スタンパの製造方法は、カッティング処理後、フォト
レジストを塗布して露光した後現像処理したガラス原盤
に対し、上記フォトレジストを硬化させる硬化工程と、
上記硬化工程にて処理したガラス原盤の表面を保護する
ための保護膜を形成する保護膜形成工程と、上記保護膜
形成工程にて形成された保護膜の上にスタンパを形成す
るスタンパ形成工程と、上記スタンパ形成工程にて形成
されたスタンパを上記ガラス原盤から剥離する剥離工程
とを有することを特徴とすることで、上述した問題を解
決する。A method of manufacturing an optical disk stamper according to the present invention includes a curing step of curing a photoresist on a glass master that has been coated with photoresist, exposed, and developed after cutting. When,
A protective film forming step of forming a protective film for protecting the surface of the glass master processed in the curing step, and a stamper forming step of forming a stamper on the protective film formed in the protective film forming step. The above-mentioned problem is solved by having a peeling step of peeling the stamper formed in the stamper forming step from the glass master.
【００１４】上記光ディスク用スタンパの製造方法によ
れば、光ディスク成型用のスタンパを作成するのに、硬
化工程にて、カッティング処理してピットを作成したガ
ラス原盤に対して例えば熱処理を施すことで表面に塗布
されているフォトレジストが硬化される。保護膜形成工
程にて、上記硬化工程にて処理されたガラス原盤の表面
に保護膜が形成される。また、上記スタンパ形成工程に
て、上記保護膜形成工程にて保護膜が表面に形成された
ガラス原盤を鋳型にして、例えば電気メッキ処理を施し
スタンパが作成される。剥離工程にて、上記スタンパ形
成工程にて形成されたスタンパが、上記ガラス原盤から
剥離され取り出される。According to the above-mentioned method for manufacturing an optical disk stamper, in order to create a stamper for molding an optical disk, the surface of the stamper is subjected to a cutting process to form pits in the curing step by, for example, heat treatment. The photoresist applied to the substrate is cured. In the protective film forming step, a protective film is formed on the surface of the glass master processed in the curing step. Further, in the stamper forming step, the glass master having the protective film formed on the surface in the protective film forming step is used as a template to perform electroplating, for example, to form a stamper. In the peeling step, the stamper formed in the stamper forming step is peeled from the glass master and taken out.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光ディスク用
スタンパの製造方法の具体例について、図面を参照しな
がら説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A specific example of a method for manufacturing an optical disk stamper according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１６】上記光ディスク用スタンパの製造方法は、
図１に示すように、カッティング処理後、フォトレジス
トを塗布して露光した後現像処理したガラス原盤に対
し、上記フォトレジストを硬化させる硬化工程としての
ステップＳ３と、上記硬化工程にて処理したガラス原盤
の表面を保護するための保護膜を形成する保護膜形成工
程としてのステップＳ１１と、上記保護膜形成工程にて
形成された保護膜の上にスタンパを形成するスタンパ形
成工程としてのステップＳ６と、上記スタンパ形成工程
にて形成されたスタンパを上記ガラス原盤から剥離する
剥離工程としてのステップＳ７とを有することを特徴と
している。The method of manufacturing the above stamper for optical disks is as follows.
As shown in FIG. 1, step S3 as a curing step for curing the photoresist on a glass master that has been coated with a photoresist, exposed, and developed after the cutting treatment, and the glass treated by the curing step. Step S11 as a protective film forming step of forming a protective film for protecting the surface of the master, and step S6 as a stamper forming step of forming a stamper on the protective film formed in the protective film forming step. And a step S7 as a peeling step of peeling the stamper formed in the stamper forming step from the glass master.
【００１７】上記光ディスク用スタンパの製造方法によ
れば、現像後ピットが形成されたガラス原盤の表面を硬
化処理し、さらに、保護膜を成膜することで、ガラス原
盤を鋳型にして直接スタンパを成型してもスタンパを剥
離する工程で上記ピットが破壊される虞がない。すなわ
ち、従来はスタンパを作成するのに、マスタ原盤及びマ
ザ原盤を作成するための電気メッキ工程がそれぞれ余分
に必要であったが、これらマスタ原盤及びマザ原盤を作
成する工程が省略されるため、スタンパ作成工程の削減
化を図ることが可能である。従って、コスト削減及び歩
留まりの改善化を図ることが可能である。According to the above-described method for manufacturing an optical disk stamper, the surface of the glass master having the pits formed after development is subjected to a curing treatment and a protective film is further formed to directly form the stamper using the glass master as a mold. Even if it is molded, there is no risk of the pits being destroyed in the step of peeling the stamper. That is, in the past, in order to create a stamper, an extra electroplating process for creating a master master and a mother master was required respectively, but since the process of creating these master master and mother master is omitted, It is possible to reduce the stamper creation process. Therefore, it is possible to reduce the cost and improve the yield.
【００１８】ここで、上記光ディスク用スタンパの製造
方法において、ステップＳ１２でガラス原盤が作成さ
れ、ステップＳ１３で当該ガラス原盤を鋳型にしてスタ
ンパが作成されて、ステップＳ９でこのスタンパの形状
が整えられ、ステップＳ１０で当該スタンパを鋳型にし
て光ディスクが作成される。なお、以下に示すように、
ステップＳ１２はステップＳ１乃至Ｓ５、ステップＳ１
３はステップＳ６乃至Ｓ８の工程からそれぞれ成ってい
る。Here, in the method for manufacturing an optical disk stamper, a glass master is prepared in step S12, a stamper is prepared using the glass master as a mold in step S13, and the shape of the stamper is adjusted in step S9. In step S10, an optical disc is created using the stamper as a mold. In addition, as shown below,
Step S12 includes steps S1 to S5 and step S1.
Step 3 includes steps S6 to S8.
【００１９】ステップＳ１にて、ガラス原盤の基板が、
例えば酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び硅酸を主成
分とするガラスの角板から円盤状に切り出され、精密研
磨されて洗浄される。In step S1, the substrate of the glass master is
For example, a rectangular plate made of glass containing sodium oxide, calcium oxide and silicic acid as main components is cut into a disk shape, precision-polished and washed.
【００２０】ステップＳ２では、ステップＳ１にて切り
出された基板の表面に、先ず、硅素系溶剤例えば３−
（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリエトキシ硅素
（3-(2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane ）が
塗布され、続いて、露光転写用のフォトレジストが塗布
される。この硅素系溶剤の化学式は、 ＮＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3 である。ここで、この硅素系溶剤をフォトレジストと基
板との間に塗布することで、互いの密着強度を効果的に
上げることができる。なお、ここで、ジプロポキシ−ジ
アセチルアセトネートチタン（titanium dipropoxy-dia
cetylacetonate）で代表されるチタン系溶剤を用いても
上記密着強度を上げることができるが、但し硅素系溶剤
を用いた場合よりも密着強度は劣る。また、このチタン
系溶剤の化学式は、 （Ｃ3Ｈ7Ｏ）2Ｔｉ（Ｃ5Ｈ7Ｏ2）2 である。In step S2, a silicon-based solvent such as 3-
(2-Aminoethylamino) propyltriethoxysilicone (3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane) is applied, and then a photoresist for exposure transfer is applied. The chemical formula of this silicon-based solvent is NH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 . Here, by applying this silicon-based solvent between the photoresist and the substrate, the mutual adhesion strength can be effectively increased. In addition, here, titanium dipropoxy-diacetylacetonate (titanium dipropoxy-dia
The adhesion strength can be increased by using a titanium solvent represented by cetylacetonate), but the adhesion strength is inferior to the case where a silicon solvent is used. The chemical formula of this titanium-based solvent is (C 3 H 7 O) 2 Ti (C 5 H 7 O 2 ) 2 .
【００２１】また、このフォトレジストを塗布した基板
に対して、例えばヘリウム−カドミウム（Ｈｅ−Ｃｄ）
レーザやアルゴン（Ａｒ）レーザを集光させて形成され
るスポットが照射される。レーザ照射後、現像液に浸漬
して露光部分が除去されて、ガラス原盤が作成される。
なお、この露光軌跡に応じて、ピットが形成される。ま
た、このとき、フォトレジスト層は、例えば１５００オ
ングストローム程度の厚みを有する薄膜になる。また、
この段階で、形成されたフォトレジスト層の欠陥検出処
理が行われ、欠陥が検出されなかったガラス原盤に対し
て、続くステップにて所定の処理がなされ、欠陥が検出
されたガラス原盤についてはフォトレジスト層を剥がし
て再度このステップＳ２の処理が行われる。For the substrate coated with this photoresist, for example, helium-cadmium (He-Cd) is used.
A spot formed by focusing a laser or an argon (Ar) laser is irradiated. After the laser irradiation, the exposed portion is removed by immersing it in a developing solution to form a glass master.
It should be noted that pits are formed according to the exposure locus. At this time, the photoresist layer becomes a thin film having a thickness of, for example, about 1500 angstrom. Also,
At this stage, a defect detection process of the formed photoresist layer is performed, and a predetermined process is performed in a subsequent step on the glass master disc for which no defect is detected. The resist layer is peeled off, and the process of step S2 is performed again.
【００２２】ステップＳ３では、ステップＳ２で現像処
理されたガラス原盤を１５０℃で３０分程度加熱する熱
処理が行われる。ここで、ガラス原盤を加熱すること
で、上記フォトレジスト層に混在している有機系のガス
を抜くことができ、フォトレジストと基板との間の密着
強度を上げることができる。In step S3, a heat treatment is performed to heat the glass master disk developed in step S2 at 150 ° C. for about 30 minutes. Here, by heating the glass master, the organic gas mixed in the photoresist layer can be released, and the adhesion strength between the photoresist and the substrate can be increased.
【００２３】また、ステップＳ１１は、ステップＳ４、
Ｓ５から成り、ここでは上記フォトレジストの表面を保
護する金属保護膜が作成される。In addition, step S11 includes steps S4,
A metal protective film for protecting the surface of the photoresist is formed by S5.
【００２４】ステップＳ４では、例えばクロムを用いた
スパッタリング処理が行われ、上記フォトレジストが形
成するピットに沿って、クロム薄膜が形成される。ここ
で、金属保護膜は、クロム薄膜に限らず、ニッケル薄膜
や硅素薄膜でもよい。続いて、ステップＳ５では、この
クロム薄膜の表面に対して酸化処理が施される。この酸
化処理として、過マンガン酸水溶液による処理、過酸化
水素水による処理、陽極酸化等の電解処理、酸素雰囲気
下で酸素ガスのプラズマを立ててこの酸素プラズマを反
応させるプラズマ処理等が挙げられる。これら何れかの
酸化処理により、クロム薄膜は、酸化クロムになり酸化
クロム膜が形成される。ここで、ステップＳ４でニッケ
ルを用いた場合は、酸化ニッケル膜が形成され、硅素を
用いた場合は、酸化硅素膜が形成される。これら酸化膜
は、非常に堅いことが知られており、上記フォトレジス
ト層の表面を効果的に保護する。In step S4, a sputtering process using, for example, chromium is performed to form a chromium thin film along the pits formed by the photoresist. Here, the metal protective film is not limited to the chromium thin film, but may be a nickel thin film or a silicon thin film. Then, in step S5, the surface of this chromium thin film is subjected to an oxidation treatment. Examples of this oxidation treatment include treatment with an aqueous solution of permanganate, treatment with hydrogen peroxide solution, electrolytic treatment such as anodic oxidation, and plasma treatment in which plasma of oxygen gas is raised in an oxygen atmosphere to react this oxygen plasma. By any of these oxidation treatments, the chromium thin film becomes chromium oxide and a chromium oxide film is formed. Here, when nickel is used in step S4, a nickel oxide film is formed, and when silicon is used, a silicon oxide film is formed. These oxide films are known to be very hard and effectively protect the surface of the photoresist layer.
【００２５】以上、ステップＳ１乃至Ｓ５で、ガラス原
盤が作成される。ここで、図２は、ステップＳ１２を経
て表面に上記酸化膜が形成されたガラス原盤を示す図で
ある。図２において、ガラス原盤１は、基板１１上にフ
ォトレジスト層１２が露光処理及び現像処理により形成
され、さらに、酸化クロム層１３が形成されたものであ
る。As described above, the glass master is prepared in steps S1 to S5. Here, FIG. 2 is a diagram showing a glass master having the oxide film formed on the surface thereof through step S12. In FIG. 2, the glass master 1 has a photoresist layer 12 formed on a substrate 11 by an exposure process and a development process, and further has a chromium oxide layer 13 formed thereon.
【００２６】続いて、ステップＳ６では、上記ガラス原
盤１に例えばニッケルを用いた電気メッキ処理を施し
て、上記ガラス原盤１を鋳型にしたスタンパが直接形成
される。Subsequently, in step S6, the glass master 1 is subjected to electroplating using nickel, for example, to directly form a stamper using the glass master 1 as a mold.
【００２７】ステップＳ７では、このスタンパを上記ガ
ラス原盤１から剥離する剥離処理が行われる。ここで、
ガラス原盤１の表面にフォトレジストにより形成される
ピットは、上記酸化クロム膜１３により保護されている
ため、スタンパを剥離しても破壊される虞がない。従っ
て、このガラス原盤１を鋳型にして、第２、第３のスタ
ンパの作成が可能である。また、従来において、ガラス
原盤を鋳型としたマスタ原盤と、該マスタ原盤を鋳型と
したマザ原盤とを作成しなくても、ガラス原盤１を鋳型
にして直接スタンパの形成が可能になるため、スタンパ
形成工程数の削減化が可能になる。In step S7, a peeling process for peeling this stamper from the glass master 1 is performed. here,
Since the pits formed by the photoresist on the surface of the glass master 1 are protected by the chromium oxide film 13, there is no risk of damage even if the stamper is peeled off. Therefore, it is possible to make second and third stampers by using this glass master 1 as a mold. In addition, conventionally, it is possible to directly form a stamper using the glass master 1 as a mold without making a master master using a glass master as a mold and a mother master using the master master as a mold. It is possible to reduce the number of forming steps.
【００２８】また、さらに、ステップＳ８において、ス
テップＳ７で剥離されたスタンパの表面が洗浄される。Further, in step S8, the surface of the stamper peeled in step S7 is cleaned.
【００２９】以上、ステップＳ６乃至Ｓ８で、スタンパ
が作成される。ここで、図３は、上記ステップＳ７での
剥離処理の工程を模式的に示した図である。図３では、
ガラス原盤１の表面に形成されたスタンパ２が剥離され
ている。As described above, the stamper is created in steps S6 to S8. Here, FIG. 3 is a diagram schematically showing the peeling process in step S7. In FIG.
The stamper 2 formed on the surface of the glass master 1 is peeled off.
【００３０】次に、ステップＳ９では、ステップＳ８で
得られた洗浄処理済のスタンパの形状が整えられる。こ
こでは、例えば信号面の裏面が研磨される。この裏面研
磨は、例えば射出成型法により該スタンパを鋳型にして
光ディスクを作成する際に、この裏面の凹凸が光ディス
クの信号面に転写されるのを防ぐ目的で行われ、また、
例えば２乗平均値のルートで０．４〜０．２μｍ程度の
研磨精度で行われる。研磨処理後、続いて洗浄処理さ
れ、さらに、射出成型機の金型の取付寸法に合わせて内
外径の加工を行う。この内外径加工後、スタンパに対し
て超音波洗浄が行われる。この超音波洗浄後、スタンパ
の欠陥検出が行われ、欠陥が検出されなかったスタンパ
が、続く工程で用いられる。Next, in step S9, the shape of the stamper which has been cleaned and obtained in step S8 is adjusted. Here, for example, the back surface of the signal surface is polished. This back surface polishing is performed for the purpose of preventing the unevenness of the back surface from being transferred to the signal surface of the optical disk when an optical disk is produced using the stamper as a mold by, for example, an injection molding method.
For example, the root mean square value is used and the polishing accuracy is about 0.4 to 0.2 μm. After the polishing process, the cleaning process is subsequently performed, and the inner and outer diameters are processed according to the mounting dimensions of the mold of the injection molding machine. After this inner and outer diameter processing, the stamper is subjected to ultrasonic cleaning. After this ultrasonic cleaning, defect detection of the stamper is performed, and the stamper in which no defect is detected is used in the subsequent process.
【００３１】ステップＳ１０では、例えば射出成型法に
よる光ディスクの形成が行われる。また、光ディスクの
形成法として、前記２Ｐ法や圧縮成形法を用いてもよ
い。In step S10, an optical disc is formed by, for example, an injection molding method. Further, the 2P method or the compression molding method may be used as a method for forming an optical disc.
【００３２】[0032]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光デ
ィスク用スタンパの製造方法によれば、現像後ピットが
形成されたガラス原盤の表面を硬化処理し、さらに、保
護膜を成膜することで、ガラス原盤を鋳型にして直接ス
タンパを成型してもスタンパを剥離する工程で上記ピッ
トが破壊される虞がない。すなわち、従来はスタンパを
作成するのに、マスタ原盤及びマザ原盤を作成するため
の電気メッキ工程がそれぞれ余分に必要であったが、こ
れらマスタ原盤及びマザ原盤を作成する工程が省略され
るため、スタンパ作成工程の削減化を図ることが可能で
ある。従って、コスト削減及び歩留まりの改善化を図る
ことが可能である。As described above, according to the method of manufacturing an optical disk stamper of the present invention, the surface of the glass master having the pits after development is subjected to a curing treatment, and a protective film is further formed. Even if the stamper is directly molded using the glass master as a mold, there is no possibility that the pits will be destroyed in the step of peeling the stamper. That is, in the past, in order to create a stamper, an extra electroplating process for creating a master master and a mother master was required respectively, but since the process of creating these master masters and mother masters is omitted, It is possible to reduce the stamper creation process. Therefore, it is possible to reduce the cost and improve the yield.
【図１】本発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法
の具体的な構成を示すフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing a specific configuration of a method of manufacturing an optical disk stamper according to the present invention.
【図２】上記光ディスク用スタンパの製造方法の初期の
工程を模式的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing an initial step of a method for manufacturing the optical disk stamper.
【図３】上記光ディスク用スタンパの製造方法の図２に
示した工程の次の工程を模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a step subsequent to the step shown in FIG. 2 of the method for manufacturing the optical disk stamper.
【図４】従来の光ディスク用スタンパの製造方法の構成
を示すフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart showing a configuration of a conventional method for manufacturing an optical disk stamper.
【図５】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の
第１の工程を模式的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a first step of the above-mentioned conventional method for manufacturing an optical disk stamper.
【図６】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の
第２の工程を模式的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a second step of the above-mentioned conventional method for manufacturing an optical disk stamper.
【図７】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の
第３の工程を模式的に示す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing a third step of the conventional method for manufacturing an optical disk stamper.
【図８】上記従来の光ディスク用スタンパの製造方法の
第４の工程を模式的に示す図である。FIG. 8 is a diagram schematically showing a fourth step of the conventional method for manufacturing an optical disk stamper.
【符号の説明】 １ ガラス原盤 ２ スタンパ １１ 基板 １２ フォトレジスト層 １３ 酸化クロム層[Explanation of reference numerals] 1 glass master 2 stamper 11 substrate 12 photoresist layer 13 chromium oxide layer
Claims (4)
塗布して露光した後現像処理したガラス原盤に対し、 上記フォトレジストを硬化させる硬化工程と、 上記硬化工程にて処理したガラス原盤の表面を保護する
ための保護膜を形成する保護膜形成工程と、 上記保護膜形成工程にて形成された保護膜の上にスタン
パを形成するスタンパ形成工程と、 上記スタンパ形成工程にて形成されたスタンパを上記ガ
ラス原盤から剥離する剥離工程とを有することを特徴と
する光ディスク用スタンパの製造方法。1. A glass master that is coated with a photoresist, exposed, and developed after cutting, and a curing step of curing the photoresist, and protecting the surface of the glass master treated in the curing step. A protective film forming step of forming a protective film for forming a stamper, a stamper forming step of forming a stamper on the protective film formed in the protective film forming step, and a stamper formed in the stamper forming step A method of manufacturing a stamper for an optical disc, comprising a peeling step of peeling from a master.
と基板との間に硅素系溶剤が塗布されて形成されたもの
であることを特徴とする請求項１記載の光ディスク用ス
タンパの製造方法。2. The method for manufacturing a stamper for an optical disc according to claim 1, wherein the glass master is formed by applying a silicon-based solvent between the photoresist and the substrate.
する金属薄膜形成工程と、 上記金属薄膜形成工程にて形成された金属薄膜の表面を
酸化処理する酸化処理工程とを有することを特徴とする
請求項１記載の光ディスク用スタンパの製造方法。3. The protective film forming step includes a metal thin film forming step of forming a metal thin film, and an oxidation treatment step of oxidizing the surface of the metal thin film formed in the metal thin film forming step. The method for manufacturing an optical disk stamper according to claim 1.
薄膜は、クロム薄膜であることを特徴とする請求項３記
載の光ディスク用スタンパの製造方法。4. The method of manufacturing a stamper for an optical disk according to claim 3, wherein the metal thin film formed in the metal thin film forming step is a chromium thin film.
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|---|---|---|---|
| JP29855795A JPH09138981A (en) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | Production of stamper for optical disk |
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
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Family
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| JP (1) | JPH09138981A (en) |
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