JPH08255383A - Direct recording medium for optical disk and its production - Google Patents

Direct recording medium for optical disk and its production

Info

Publication number
JPH08255383A
JPH08255383A JP8769494A JP8769494A JPH08255383A JP H08255383 A JPH08255383 A JP H08255383A JP 8769494 A JP8769494 A JP 8769494A JP 8769494 A JP8769494 A JP 8769494A JP H08255383 A JPH08255383 A JP H08255383A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical disk
substrate
recording medium
resist layer
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8769494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yubi
啓 由尾
Kazuo Furuyama
和雄 古山
Nobuyuki Hirayama
信之 平山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Disc Technology Inc filed Critical Sony Disc Technology Inc
Priority to JP8769494A priority Critical patent/JPH08255383A/en
Publication of JPH08255383A publication Critical patent/JPH08255383A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE: To make it possible to rapidly and easily produce a direct recording medium for optical disks as a metal mold for molding the optical disks by forming a negative resist layer on one surface of a substrate and exposing and recording optical disk signals, then developing the negative resist layer and curing the layer. CONSTITUTION: The negative resist layer 2 is formed on one surface A side of an extremely smoothly formed metal 1 and the desired optical disk signals are exposed on the negative resist layer 2 and thereafter, the negative resist layer 2 is developed. As a result, the projecting pits 2a consisting of the remaining negative resist are formed of the patterns based on the optical disk signals on the mirror finished surface 1A of the substrate 1. In succession, the respective projecting pits 2A are cured by a prescribed method, such as irradiation with UV or heat treatment. As a result, a stamper 3 arranged with the cured projecting pits 2B on the mirror finished surface 1A of the substrate 1 in the patterns meeting the optical disk signals is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1、図3〜図5) 作用(図1、図3〜図5) 実施例 (1)第1実施例(図1及び図2) (2)第2実施例(図1〜図5) (3)他の実施例(図1〜図5) 発明の効果[Table of Contents] The present invention will be described in the following order. Field of Industrial Application Conventional Technology Problem to be Solved by the Invention Means for Solving the Problem (FIGS. 1, 3 to 5) Action (FIGS. 1, 3 to 5) Example (1) First Example (FIGS. 1 and 2) (2) Second Example (FIGS. 1 to 5) (3) Other Example (FIGS. 1 to 5)

【0002】[0002]

【産業上の利用分野】本発明は光デイスク用直接記録媒
体及びその製造方法に関し、例えば光デイスク成形時の
スタンパとして使用する光デイスク用直接記録媒体及び
その製造方法に適用して好適なものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a direct recording medium for an optical disk and a method for manufacturing the same, and is suitable for application to a direct recording medium for an optical disk used as a stamper for molding an optical disk and a method for manufacturing the same. is there.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来光デイスク用のスタンパは、以下の
工程により製造されている。すなわち、まず使用済のガ
ラス板から残存ニツケル及び残存レジスト等を除去し、
その表面を研磨することによりガラス板を再生した後
(第1の工程)、当該ガラス板を超音波洗浄等の方法で
洗浄することにより表面に残存している研磨剤等を除去
する(第2の工程)。次いでこのガラス板(以下、この
状態のガラス板を洗浄済ガラス板と呼ぶ)を種々の方法
により乾燥させた後その表面にレジストを塗布すること
によりレジスト層を形成する(第3の工程)。続いてこ
のガラス板(以下、この状態のガラス板をレジスト塗布
済ガラス板と呼ぶ)のレジスト層に所望の光デイスク信
号を露光記録した後(第4の工程)、これを現像するこ
とにより当該レジスト層に上述の光デイスク信号に応じ
た凹凸パターンを形成する(第5の工程)。
2. Description of the Related Art Conventional stampers for optical disks are manufactured by the following steps. That is, first, remove residual nickel and residual resist from the used glass plate,
After the glass plate is regenerated by polishing the surface (first step), the glass plate is washed by a method such as ultrasonic cleaning to remove the polishing agent and the like remaining on the surface (second step). Process). Next, this glass plate (hereinafter, the glass plate in this state is referred to as a cleaned glass plate) is dried by various methods and then a resist is applied to the surface thereof to form a resist layer (third step). Subsequently, a desired optical disk signal is exposed and recorded on the resist layer of this glass plate (hereinafter, the glass plate in this state is referred to as a resist-coated glass plate) (fourth step), and then developed to develop An uneven pattern corresponding to the above-mentioned optical disc signal is formed on the resist layer (fifth step).

【0004】続いてレジスト層の表面にスパツタリン
グ、蒸着又は無電解メツキ法等の手法により薄い金属層
を形成(メタライゼーシヨン)した後(第6の工程)、
この金属層の上面に所定の厚さになるまでメツキを施す
(電鋳)ことによりメツキ層を形成する(第7の工
程)。さらにこの後金属層とメツキ層とでなる部分(以
下、これをスタンパ部と呼ぶ)をガラス板から引き剥が
した後、当該スタンパ部のピツト面に付着しているレジ
スト等を洗い流し、乾燥させ、余分な部分をプレスで除
去する等の後工程を行う(第8の工程)。これによりス
タンパを得ることができる。
Subsequently, a thin metal layer is formed (metallization) on the surface of the resist layer by a method such as sputtering, vapor deposition or electroless plating (sixth step),
A plating layer is formed by performing plating (electroforming) on the upper surface of the metal layer until a predetermined thickness is obtained (seventh step). Furthermore, after this, after peeling off the portion consisting of the metal layer and the plating layer (hereinafter referred to as the stamper portion) from the glass plate, the resist and the like adhering to the pit surface of the stamper portion are washed away and dried, A post-process such as removing an extra portion with a press is performed (eighth process). Thereby, a stamper can be obtained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところがスタンパは、
上述のように製造工程が非常に長く、多くの設備を必要
とするために、製造するに際しての設備投資額が多額に
なり、またこれに付随してクリーンルーム面積も広く必
要になる問題があつた。またスタンパは、製造時におけ
る原料費、ランニングコスト及び時間等を多く必要とす
るために単価が高くなる問題があつた。さらにスタンパ
は、製造工程が個々に難しく、また各製造工程において
経験及びノウハウを必要とするために、製造が難しい問
題があつた。
[Problems to be Solved by the Invention]
As described above, the manufacturing process is very long and requires a lot of equipment, so the amount of capital investment for manufacturing becomes large, and the clean room area needs to be widened accordingly. . Further, the stamper has a problem that the unit price becomes high because it requires a lot of raw material cost, running cost, time and the like at the time of manufacturing. Further, the stamper has a problem that it is difficult to manufacture because the manufacturing process is individually difficult and experience and know-how are required in each manufacturing process.

【0006】かかる課題を解決する1つの手段として、
従来、ガラス原盤上にSiO2層及びレジスト層を順次形成
し、当該レジスト層に所望の光デイスク信号を露光記録
した後これを現像すると共に、この後ガラス原盤上に残
存するレジストをマスクとしてSiO2層をエツジングした
後、残存レジストをSiO2層上から除去し、SiO2層に形成
された上述の光デイスク信号に基づく微小な凹凸パター
ンを2P法で透明板に写し取ることによりスタンパを形
成する方法が提案されている(特開平3-65327号公
報)。この方法によれば、少ない工程でスタンパを製造
することができる利点がある。
As one means for solving such a problem,
Conventionally, a SiO 2 layer and a resist layer are sequentially formed on a glass master, and a desired optical disk signal is exposed and recorded on the resist layer and then developed, and thereafter, the resist remaining on the glass master is used as a mask for SiO. after Etsujingu two layers, the remaining resist is removed from the SiO 2 layer is formed over the stamper by Utsushitoru minute uneven pattern based on the above-described optical disc signal formed on the SiO 2 layer to the transparent plate by the 2P method A method has been proposed (JP-A-3-65327). According to this method, there is an advantage that the stamper can be manufactured in a small number of steps.

【0007】しかしなからこの方法を用いてスタンパを
製造しようとする場合、ガラス原盤上のSiO2層をエツジ
ングする工程に必要な設備が必要になると共に、SiO2
を所定の深さにエツジングする制御が難しく、このため
スタンパを廉価でかつ簡易には製造し難い問題があつ
た。また一般的に透明板は熱伝導率が高く、従つて上述
のような透明板からなるスタンパを用いて光デイスクを
インジエクシヨン成形しようとする場合には、光デイス
クを1枚成形するごとにスタンパを冷やすための時間が
多くかかるために、結果的に光デイスクの製造時間を短
縮し難い問題がある。
However, when manufacturing a stamper using this method, the equipment required for the step of etching the SiO 2 layer on the glass master is required, and the SiO 2 layer is etched to a predetermined depth. However, it is difficult to manufacture the stamper inexpensively and easily. In general, a transparent plate has a high thermal conductivity. Therefore, when an optical disk is to be molded by using the stamper made of the transparent plate as described above, the stamper is formed for each optical disk. Since it takes a lot of time to cool, there is a problem that it is difficult to shorten the manufacturing time of the optical disk as a result.

【0008】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、短時間でかつ簡易に製造し得る光デイスク成形用の
金型としての光デイスク用直接記録媒体及びその製造方
法を提案しようとするものである。
The present invention has been made in consideration of the above points, and it is an object of the present invention to propose a direct recording medium for an optical disk as a mold for optical disk molding which can be easily manufactured in a short time and a manufacturing method thereof. To do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、光デイスク成形用の金型として使
用する、所望の光デイスク信号が記録された光デイスク
用直接記録媒体において、一面が極めて平滑に形成され
た基板1、23と、基板1、23の一面1A、23A側
において、光デイスク信号に基づく微小な凹凸パターン
を形成する樹脂層2B、22Aとを設けた。
In order to solve the above problems, according to the present invention, one side of a direct recording medium for an optical disc, on which a desired optical disc signal is recorded, which is used as a mold for optical disc molding, is used. Substrates 1 and 23 formed to be extremely smooth and resin layers 2B and 22A for forming minute concave and convex patterns based on optical disc signals were provided on the surfaces 1A and 23A of the substrates 1 and 23.

【0010】また本発明においては、樹脂層2B、22
Aは、硬化されたレジスト樹脂又は2Pレジン樹脂でな
るようにした。
Further, in the present invention, the resin layers 2B, 22
A was made of a cured resist resin or 2P resin resin.

【0011】さらに本発明においては、基板1、23
は、金属板でなるようにした。
Further, in the present invention, the substrates 1 and 23
Is made of a metal plate.

【0012】さらに本発明においては、光デイスク成形
用の金型として使用する光デイスク用直接記録媒体の製
造方法において、一面1Aが極めて平滑形成された基板
1の一面1A側にネガレジストを塗布することによりネ
ガレジスト層2を形成する第1の工程と、ネガレジスト
層2に所望の光デイスク信号を露光記録した後、ネガレ
ジスト層2を現像する第2の工程と、現像後、基板1上
のネガレジスト層2を硬化させる第3の工程とでなるよ
うにした。
Further, in the present invention, in the method for manufacturing a direct recording medium for an optical disk used as a mold for optical disk molding, a negative resist is applied to the one surface 1A side of the substrate 1 whose one surface 1A is extremely smooth. The first step of forming the negative resist layer 2 by doing so, the second step of exposing and recording a desired optical disk signal on the negative resist layer 2, and then developing the negative resist layer 2, and the substrate after the development. And the third step of hardening the negative resist layer 2 of.

【0013】さらに本発明においては、基板1は、金属
板と、金属板の一面に設けられた、基板の一面を形成す
る樹脂層とでなるようにした。
Further, in the present invention, the substrate 1 is composed of a metal plate and a resin layer which is provided on one surface of the metal plate and forms one surface of the substrate.

【0014】さらに本発明においては、第1の工程は、
基板1の一面1Aに、ネガレジスト層2と基板1の一面
1Aとの密着力を向上させる表面処理を施す工程を備え
るようにした。
Further, in the present invention, the first step is
The one surface 1A of the substrate 1 is provided with a step of performing a surface treatment for improving the adhesion between the negative resist layer 2 and the one surface 1A of the substrate 1.

【0015】さらに本発明においては、第3の工程は、
硬化されたネガレジスト層2の表面と、硬化されたネガ
レジスト層2の間から露出する基板1の一面1Aとに、
光デイスクの成形時に光デイスクを光デイスク用直接記
録媒体3から離型させ易くする離型剤からなる離型剤層
を形成する工程を備えるようにした。
Furthermore, in the present invention, the third step is
On the surface of the cured negative resist layer 2 and the one surface 1A of the substrate 1 exposed between the cured negative resist layers 2,
A step of forming a release agent layer made of a release agent that facilitates the release of the optical disc from the direct recording medium 3 for the optical disc at the time of molding the optical disc is provided.

【0016】さらに本発明においては、光デイスク成形
用の金型として使用する光デイスク用直接記録媒体の製
造方法において、所定形状の原盤20の一面20A側に
ポジレジストを塗布することによりポジレジスト層21
を形成する第1の工程と、ポジレジスト層21に所望の
光デイスク信号を露光記録した後、ポジレジスト層21
を現像すると共に、この後原盤20上に光デイスク信号
に基づくパターンで残存するポジレジスト層21を硬化
させる第2の工程と、一面23Aが極めて平滑に形成さ
れた基板23の一面23Aを原盤20の一面20A側に
柔軟な硬度可変型樹脂22を介して密着させた後、硬度
可変型樹脂22を硬化させることにより、原盤20上の
ポトレジスト層21のパターンを硬度可変型樹脂22に
転写する第3の工程と、基板23及び硬度可変型樹脂2
2を一体に原盤20から離型させる第4の工程とでなる
ようにした。
Further, in the present invention, in a method for manufacturing a direct recording medium for an optical disk used as a mold for optical disk molding, a positive resist is applied to one surface 20A of the master 20 having a predetermined shape to form a positive resist layer. 21
After the first step of forming a positive resist layer 21 and a desired optical disc signal is exposed and recorded on the positive resist layer 21,
And the second step of curing the positive resist layer 21 remaining on the master 20 in a pattern based on the optical disc signal, and the one surface 23A of the substrate 23 on which the one surface 23A is extremely smooth. First, the pattern of the photoresist layer 21 on the master 20 is transferred to the variable hardness resin 22 by adhering it to the one surface 20A side through the flexible variable hardness resin 22 and then curing the variable hardness resin 22. Step 3, substrate 23 and variable hardness resin 2
The second step is to integrally release 2 from the master 20, and the fourth step is performed.

【0017】さらに本発明においては、原盤20は、ガ
ラス板でなるようにした。
Further, in the present invention, the master 20 is made of a glass plate.

【0018】さらに本発明においては、基板23は、金
属板と、金属板の一面に設けられ、基板の一面を形成す
る樹脂層とでなるようにした。
Further, in the present invention, the substrate 23 is composed of a metal plate and a resin layer provided on one surface of the metal plate and forming one surface of the substrate.

【0019】さらに本発明においては、第3の工程は、
基板23の一面23Aにポジレジスト層21と基板23
の一面23Aとの密着力を向上させる表面処理を施す工
程を備えるようにした。
Further, in the present invention, the third step is
The positive resist layer 21 and the substrate 23 are provided on the one surface 23A of the substrate 23.
The step of performing a surface treatment for improving the adhesion with the one surface 23A is provided.

【0020】さらに本発明においては、第2の工程は、
硬化されたポジレジスト層21の表面と、硬化されたポ
ジレジスト層21の間から露出する基板20の一面20
Aとに、光デイスクの成形時に光デイスクを光デイスク
用直接記録媒体24から離型させ易くする離型剤からな
る離型剤層を形成する工程を備えるようにした。
Further, in the present invention, the second step is
One surface 20 of the substrate 20 exposed between the surface of the cured positive resist layer 21 and the cured positive resist layer 21.
A is provided with a step of forming a release agent layer made of a release agent that facilitates release of the optical disc from the direct recording medium 24 for the optical disc during molding of the optical disc.

【0021】さらに本発明においては、光デイスク成形
用の金型として使用する光デイスク用直接記録媒体の製
造方法において、所定形状の基板1、20、23の一面
1A、20A、23Aに所望の光デイスク信号に基づく
微小な凹凸パターンを形成する第1の工程と、基板1、
20、23の一面1A、20A、23Aに光デイスク成
形時に光デイスクを基板1、20、23から離型させ易
くする離型剤からなる離型剤層を形成する第2の工程と
を備えるようにした。
Further, according to the present invention, in a method for manufacturing a direct recording medium for an optical disc used as a mold for optical disc molding, desired light is applied to one surface 1A, 20A, 23A of the substrates 1, 20, 23 having a predetermined shape. A first step of forming a minute concavo-convex pattern based on a disk signal, the substrate 1,
A second step of forming a release agent layer made of a release agent on one surface 1A, 20A, 23A of 20, 23, which facilitates release of the optical disk from the substrates 1, 20, 23 during optical disk molding. I chose

【0022】[0022]

【作用】一面1Aが極めて平滑形成された基板1の一面
1A側にネガレジスト層2を形成し、当該ネガレジスト
層2に所望の光デイスク信号を露光記録した後、ネガレ
ジスト層2を現像し、この後基板1上のネガレジスト層
2を硬化させるようにして光デイスク成形用の金型とし
て使用する光デイスク用直接記録媒体3を製造するよう
にしたことにより、従来に比べて短い工程で短時間で当
該光デイスク直接記録媒体3を製造することができる。
The negative resist layer 2 is formed on the one surface 1A side of the substrate 1 on which the one surface 1A is extremely smooth, the desired optical disc signal is exposed and recorded on the negative resist layer 2, and then the negative resist layer 2 is developed. After that, the negative resist layer 2 on the substrate 1 is cured to manufacture the optical disk direct recording medium 3 used as a mold for optical disk molding. The optical disk direct recording medium 3 can be manufactured in a short time.

【0023】また原盤の一面20A側にポジレジスト層
21を形成し、当該ポジレジスト層21に所望の光デイ
スク信号を露光記録した後、ポジレジスト層21を現像
すると共に、この後原盤20の一面20A上に残存する
ポジレジスト層21を硬化させ、この後一面23Aが極
めて平滑に形成された基板23の一面23Aを原盤20
の一面20A側に柔軟な硬度可変型樹脂22を介して密
着させた後、硬度可変型樹脂22を硬化させることによ
り、原盤20上のポトレジスト層21のパターンを硬度
可変型樹脂22に転写し、さらにこの後基板23及び硬
度可変型樹脂22を一体に原盤20から離型させるよう
にして光デイスク成形用の金型として使用する光デイス
ク直接記録媒体23を製造するようにしたことにより、
従来に比べて短い工程で短時間で当該光デイスク用直接
記録媒体23を製造することができる。
Further, a positive resist layer 21 is formed on one surface 20A of the master disk, a desired optical disk signal is exposed and recorded on the positive resist layer 21, and then the positive resist layer 21 is developed. The positive resist layer 21 remaining on the 20A is cured, and then the one surface 23A of the substrate 23 on which the one surface 23A is extremely smooth is formed.
After being adhered to the one surface 20A side through the flexible hardness variable resin 22, the variable hardness resin 22 is cured to transfer the pattern of the photoresist layer 21 on the master 20 to the variable hardness resin 22, Further, after that, the substrate 23 and the variable hardness resin 22 are integrally released from the master 20 to manufacture the optical disk direct recording medium 23 used as a mold for optical disk molding.
The direct recording medium 23 for an optical disk can be manufactured in a shorter time and with a shorter process than in the past.

【0024】[0024]

【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0025】(1)第1実施例 図1(A)〜図1(C)を用いて第1実施例による光デ
イスク用スタンパの製造工程を説明する。まず、光デイ
スク用スタンパを製造するに際して、一面1Aが極めて
平滑(鏡面)に形成された基板(以下、これを鏡面基板
と呼ぶ)1を製作する。実際上鏡面基板1は、通常のプ
ロセスに従つて作られた洗浄済ガラス板又はレジスト塗
布済ガラス板にメタライゼーシヨン、電鋳を順次行うこ
とにより鏡面状の一面をもつマスタスタンパ(鏡面マス
タスタンパ)を作成し、当該鏡面マスタスタンパを用い
て通常通りの手順に従つてマザースタンパ(鏡面マザー
スタンパ)を製作することにより当該鏡面マザースタン
パを用いて多数製作することができる。
(1) First Embodiment A manufacturing process of an optical disk stamper according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 (A) to 1 (C). First, when manufacturing a stamper for an optical disk, a substrate 1 having one surface 1A formed extremely smooth (mirror surface) (hereinafter referred to as mirror surface substrate) 1 is manufactured. In practice, the mirror-like substrate 1 is a master stamper (mirror-like master) having a mirror-like one surface by sequentially performing metallization and electroforming on a cleaned glass plate or a resist-coated glass plate made by a normal process. By making a stamper) and using the mirror surface master stamper in accordance with the usual procedure to manufacture a mother stamper (mirror surface mother stamper), it is possible to manufacture a large number of the mirror surface mother stamper.

【0026】続いてこのようにして製作された鏡面基板
1の鏡面1Aに、ネガレジストを塗布することによりネ
ガレジスト層2を形成する(図1(A))。この場合鏡
面基板1の鏡面1Aには、予めネガレジストとの間の密
着力を向上させ得るような所定の表面処理を施してお
き、これによりこの後ネガレジスト層2が鏡面基板1の
鏡面1Aから不用意に剥がれないようにしておく。続い
てこのネガレジスト層2に所望の光デイスク信号を露光
記録した後、これを現像する。これにより鏡面基板1の
鏡面1A上に、上述の光デイスク信号に基づくパターン
で残存ネガレジストからなる凸ピツト2Aを形成する。
(図1(B))。
Then, a negative resist layer 2 is formed by applying a negative resist to the mirror surface 1A of the mirror-finished substrate 1 thus manufactured (FIG. 1A). In this case, the mirror surface 1A of the mirror substrate 1 has been subjected to a predetermined surface treatment in advance so as to improve the adhesion between the mirror substrate 1 and the negative resist. So that it doesn't come off accidentally. Subsequently, a desired optical disc signal is exposed and recorded on the negative resist layer 2 and then developed. Thus, the convex pits 2A made of the remaining negative resist are formed on the mirror surface 1A of the mirror substrate 1 in a pattern based on the above-mentioned optical disc signal.
(FIG. 1 (B)).

【0027】続いてこの各凸ピツト2Aを、紫外線照射
又は120 〔°〕以上での加熱処理等の所定の手法により
硬化させる。これにより図1(C)のような、硬化され
た凸ピツト(以下、これを硬化凸ピツトと呼ぶ)2Bが
上述の光デイスク信号に応じたパターンで鏡面基板1の
鏡面1A上に配列してなるスタンパ3を得ることができ
る。さらにこの後、必要に応じてスタンパ3のピツト面
3A全面に離型剤を塗布して極めて薄い離型剤層を形成
する。これによりこのスタンパ3Aを用いて光デイスク
をインジエクシヨン成形する際に、当該成形された光デ
イスクをスタンパ3から容易に離型させることができる
ようになる。
Subsequently, each of the convex pits 2A is cured by a predetermined method such as ultraviolet irradiation or heat treatment at 120 [°] or more. As a result, the cured convex pits (hereinafter referred to as curing convex pits) 2B as shown in FIG. 1C are arranged on the mirror surface 1A of the mirror substrate 1 in a pattern corresponding to the above-mentioned optical disc signal. The stamper 3 can be obtained. After that, a release agent is applied to the entire pit surface 3A of the stamper 3 as needed to form an extremely thin release agent layer. As a result, when the optical disk is subjected to the injection molding using the stamper 3A, the molded optical disk can be easily released from the stamper 3.

【0028】実際上スタンパ3のピツト面3A全面に極
めて薄い離型剤層を形成する工程は、例えば図2のよう
なスタンパ加工装置10を用いることにより行うことが
できる。すなわちこのスタンパ加工装置10では、加工
対象のスタンパ3をターンテーブル11上に載せるよう
にしてセツトするようになされている。この場合ターン
テーブル11の上方位置には窒素ブローノズル12が配
設されると共に、窒素ブローノズル12はヒータ13を
有する離型剤ガス発生器14連結され、かつ離型剤ガス
発生器14は容器内部15に供給される窒素ガス中に離
型剤ガスを微量含ませた後、これを窒素ブローノズル1
2に送出するようになされている。
Actually, the step of forming an extremely thin release agent layer on the entire pit surface 3A of the stamper 3 can be performed by using the stamper processing apparatus 10 as shown in FIG. 2, for example. That is, in this stamper processing apparatus 10, the stamper 3 to be processed is set by placing it on the turntable 11. In this case, a nitrogen blow nozzle 12 is arranged above the turntable 11, the nitrogen blow nozzle 12 is connected to a release agent gas generator 14 having a heater 13, and the release agent gas generator 14 is a container. After a slight amount of release agent gas is included in the nitrogen gas supplied to the inside 15, the nitrogen gas is supplied to the nitrogen blow nozzle 1.
It is designed to be sent out to 2.

【0029】これによりこのスタンパ加工装置10で
は、ターンテーブル11を回転させながら窒素ブローノ
ズル12から窒素ガスを吹き出すことにより当該ターン
テーブル11上に載せられたスタンパ3のピツト面3A
に離型剤ガスを微量含む窒素ガスを吹きつけることがで
き、かくして当該ピツト面3A上に昇華又は凝縮によつ
て離型剤を薄く均一に塗布し得るようになされている。
As a result, in this stamper processing apparatus 10, the pit surface 3A of the stamper 3 mounted on the turntable 11 is blown by blowing nitrogen gas from the nitrogen blow nozzle 12 while rotating the turntable 11.
Nitrogen gas containing a slight amount of the releasing agent gas can be blown onto the surface of the pit 3A, and thus the releasing agent can be applied thinly and uniformly on the pit surface 3A by sublimation or condensation.

【0030】以上の方法によれば、鏡面基板1上にネガ
レジスト層2を形成し、当該ネガレジスト層2に所望の
光デイスク信号を露光記録後、これを現像することによ
り鏡面基板1の鏡面1Aに当該光デイスク信号に基づく
凹凸パターンでネガレジストからなる凸ピツト2Bを形
成すると共に、この後この凸ピツト2Bを所定の手法を
用いて硬化させてスタンパ3を製造するようにしたこと
により、スタンパ3を製造するために従来行われていた
多くの工程を省略することができる。従つてスタンパ3
の製作時間を大幅に短縮することができ、かくして短時
間で簡易にスタンパ3を製造することができる。
According to the above method, the negative resist layer 2 is formed on the mirror substrate 1, the desired optical disc signal is exposed and recorded on the negative resist layer 2, and then the negative resist layer 2 is developed to develop the mirror surface of the mirror substrate 1. By forming the convex pits 2B made of a negative resist in the concave-convex pattern based on the optical disc signal on 1A, and then curing the convex pits 2B by a predetermined method to manufacture the stamper 3, Many steps conventionally performed for manufacturing the stamper 3 can be omitted. Therefore, Stamper 3
The manufacturing time can be greatly shortened, and thus the stamper 3 can be easily manufactured in a short time.

【0031】またスタンパ3を製作するために従来行わ
れていたほとんどの工程を省略することができることに
より、スタンパ3を製作するための設備及びクリーンル
ーム面積を少なくすることができ、かくしてスタンパ3
を製作するに際しての設備投資額を大幅に削減すること
ができると共に、スタンパ3を製作するためのランニン
グコストを削減することができる。
Further, since most of the steps which have been conventionally performed for manufacturing the stamper 3 can be omitted, the equipment and clean room area for manufacturing the stamper 3 can be reduced, and thus the stamper 3 can be reduced.
It is possible to drastically reduce the amount of capital investment for manufacturing the stamper, and to reduce the running cost for manufacturing the stamper 3.

【0032】さらにスタンパ3のピツト面3A全面に離
型剤層を形成するようにしたことにより、当該スタンパ
3を用いて光デイスクをインジエクシヨン成形する際
に、当該成形された光デイスクをスタンパ3から容易に
離型させることができ、かくして光デイスクのスタンパ
3からの離型性を大幅に改善させることができる。
Further, since the release agent layer is formed on the entire pit surface 3A of the stamper 3, when the optical disk is subjected to the ink injection molding using the stamper 3, the molded optical disk is removed from the stamper 3. It can be easily released from the mold, and thus the releasability of the optical disc from the stamper 3 can be greatly improved.

【0033】(2)第2実施例 図3(A)〜図4(B)を用いて第2実施例による光デ
イスク用スタンパの製造工程を説明する。まず図3
(A)に示すように、一面が極めて平滑に形成されたガ
ラス板20の鏡面20A上にポジレジストを塗布するこ
とによりポジレジスト層21を形成する。次いで図3
(A)に示すように、このポジレジスト層21に所望の
光デイスク信号を露光記録した後、これを現像すること
によりガラス板20上に当該光デイスク信号に応じた凹
凸パターンで残存ポジレジスト層からなる凸ピツト21
Aを形成する。
(2) Second Embodiment A manufacturing process of an optical disk stamper according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 3 (A) to 4 (B). First, Fig. 3
As shown in (A), the positive resist layer 21 is formed by applying a positive resist on the mirror surface 20A of the glass plate 20 whose one surface is extremely smooth. Then Fig. 3
As shown in (A), after a desired optical disc signal is exposed and recorded on the positive resist layer 21, it is developed to form a residual positive resist layer on the glass plate 20 in an uneven pattern corresponding to the optical disc signal. Convex pit 21 consisting of
Form A.

【0034】以上の工程までは、通常のマスタリングプ
ロセスに従つて行う。続いて図3(C)に示すように、
ガラス板20上の各凸ピツト20Aを紫外線照射又は12
0 〔°〕以上での加熱処理等の所定の手法により硬化さ
せる(以下、この硬化された凸ピツト20Aを硬化凸ピ
ツト20Bと呼ぶ)。続いて図4(A)に示すように、
このガラス板20の鏡面20Aに架橋タイプのUVレジ
ン22を所定量供給した後、例えば第1実施例の鏡面基
板1(図1(A))と同様のプロセスにより形成された
鏡面基板23をUVレジン液22を介してガラス板20
の鏡面20AにUVレジン22に気泡が生じないように
密着させる。この場合鏡面基板23のガラス板20との
対向面(以下、この面を下面と呼ぶ)22Aには、UV
レジン22との密着力を高めるために予め所定の表面処
理を施しておく。
The above steps are performed according to a normal mastering process. Then, as shown in FIG.
Each convex pit 20A on the glass plate 20 is irradiated with ultraviolet rays or 12
It is cured by a predetermined method such as heat treatment at 0 ° or more (hereinafter, the cured convex pit 20A is referred to as a cured convex pit 20B). Then, as shown in FIG.
After a predetermined amount of the cross-linking type UV resin 22 is supplied to the mirror surface 20A of the glass plate 20, for example, the mirror surface substrate 23 formed by the same process as the mirror surface substrate 1 (FIG. 1A) of the first embodiment is subjected to UV. Glass plate 20 through resin solution 22
The UV resin 22 is brought into close contact with the mirror surface 20A of the above so as not to generate bubbles. In this case, the surface of the mirror-like substrate 23 facing the glass plate 20 (hereinafter, this surface is referred to as the lower surface) 22A has UV light.
A predetermined surface treatment is performed in advance in order to enhance the adhesion with the resin 22.

【0035】次いで、UVレジン22にガラス板20を
通して紫外線を照射することによりこのUVレジン22
を硬化させる(以下、この硬化したUVレジン22を硬
化UVレジン22Aと呼ぶ)。これによりUVレジン2
2にガラス板20上の凹凸パターンを転写する。さらに
この後鏡面基板23を硬化UVレジン22Aと共にガラ
ス板20から引き剥がす。これにより図4(B)のよう
な鏡面基板23と硬化UVレジン22Aとでなるスタン
パ24を得ることができる。
Next, the UV resin 22 is irradiated with ultraviolet rays through the glass plate 20 so that the UV resin 22 is
Is cured (hereinafter, this cured UV resin 22 is referred to as a cured UV resin 22A). This makes the UV resin 2
The uneven pattern on the glass plate 20 is transferred to 2. After that, the mirror-finished substrate 23 is peeled off from the glass plate 20 together with the cured UV resin 22A. As a result, the stamper 24 including the mirror-like substrate 23 and the cured UV resin 22A as shown in FIG. 4B can be obtained.

【0036】さらにこの後必要に応じて第1実施例と同
様にして硬化UVレジン22Aの表面でなるスタンパ2
4のピツト面24A全面に離型剤を塗布して極めて薄い
離型剤層を形成する。これによりこのスタンパ24を用
いて光デイスクをインジエクシヨン成形する際に、当該
成形された光デイスクのスタンパ24からの離型性を向
上させることができる。
After that, if necessary, the stamper 2 made of the surface of the cured UV resin 22A is formed in the same manner as in the first embodiment.
A release agent is applied to the entire pit surface 24A of No. 4 to form an extremely thin release agent layer. This makes it possible to improve the releasability of the molded optical disk from the stamper 24 when the optical disk is molded by using the stamper 24.

【0037】ここで鏡面基板23をUVレジン22を介
してガラス板20の鏡面20Aに気泡が生じないように
密着させる手法としては、図5に示すように、現像乾燥
したガラス板20の中心に所定量(例えば0.5 〜5〔m
l〕)のUVレジン液22を注下した後、鏡面基板23
を所定の手法によりガラス板20側へ向けて膨らませ
(例えば鏡面基板23の上側から空気圧をかける、又は
鏡面基板23の下側を減圧する等)、この状態でガラス
板20をゆつくりと鏡面基板23に押し付けることによ
り行う、いわゆる2P法を用いれば良い。
Here, as a method for bringing the mirror-like substrate 23 into close contact with the mirror surface 20A of the glass plate 20 via the UV resin 22 so as not to generate bubbles, as shown in FIG. Predetermined amount (eg 0.5-5 [m
l)) UV resin solution 22 is poured, and then a mirror-like substrate 23
Is expanded toward the glass plate 20 side by a predetermined method (for example, air pressure is applied from the upper side of the mirror-like substrate 23, or the lower side of the mirror-like substrate 23 is depressurized). The so-called 2P method, which is performed by pressing it against 23, may be used.

【0038】また鏡面基板23の下面とUVレジン22
との密着力を高めるために当該鏡面基板23の下面に施
す表面処理としては、当該下面を洗浄後、0.05〜5
〔%〕の範囲でアルコール、MIBK、乳酸エチル等の所定
の溶剤にアミノエトキシシラン、エポキシエトキシシラ
ン等のシランカツプリング等の溶剤を溶かすことにより
形成した密着力向上剤をスピンコートした後必要に応じ
て100 〜200 〔°〕で10〜30分程度ベーキングする方法
を用いれば良い。
The lower surface of the mirror substrate 23 and the UV resin 22
The surface treatment to be performed on the lower surface of the mirror-like substrate 23 in order to enhance the adhesion with
Within the range of [%], it is necessary after spin coating an adhesion improver formed by dissolving a solvent such as silane coupling such as aminoethoxysilane or epoxyethoxysilane in a predetermined solvent such as alcohol, MIBK or ethyl lactate. Depending on the case, a method of baking at 100 to 200 [°] for about 10 to 30 minutes may be used.

【0039】実際上実験によれば、鏡面基板23として
表面が鏡面状に形成されたニツケル板(鏡面ニツケル
板)を用い、当該鏡面ニツケル板に上述のようにして形
成したガラス板20上の凹凸パターンを2P法で転写し
た結果、この凹凸パターンを形成する硬化凸ピツト21
Bにダメージを与えずにきれいにガラス板20上の凹凸
パターンを転写することができた。この場合この鏡面ニ
ツケル板上に形成されたピツト形状は、通常の電鋳によ
り形成されたニツケル製のスタンパのピツト形状とほぼ
同等の精度が得られることが確認できた。
According to an actual experiment, a nickel plate having a mirror-like surface (mirror surface nickel plate) is used as the mirror substrate 23, and the unevenness on the glass plate 20 formed on the mirror surface nickel plate as described above is used. As a result of transferring the pattern by the 2P method, the cured convex pits 21 that form this concave and convex pattern.
The uneven pattern on the glass plate 20 could be transferred cleanly without damaging B. In this case, it has been confirmed that the pit shape formed on the mirror-like nickel plate has almost the same accuracy as the pit shape of the nickel-made stamper formed by ordinary electroforming.

【0040】またこのようにして製造したスタンパ24
を用いてインジエクシヨン成形により光デイスクを成形
した結果、インジエクシヨン成形時における条件を従来
の条件から変更しなくても正常な光デイスクを成形する
ことができた。この場合2Pレジン層と成形デイスクと
の離型性は実用上充分な程度に良好であり、また鏡面ニ
ツケル板と2Pレジン層との間の密着性も実用上充分な
程度に良好であつた。
Further, the stamper 24 manufactured in this way
As a result of molding an optical disk by in-molding using, it was possible to mold a normal optical disk without changing the conditions at the time of in-mold molding from the conventional conditions. In this case, the releasability between the 2P resin layer and the molding disk was good enough for practical use, and the adhesion between the mirror surface nickel plate and the 2P resin layer was also good enough for practical use.

【0041】以上の工程によれば、ガラス板20上にポ
ジレジスト層21を形成し、当該ポジレジスト層21に
所望の信号を露光記録後、現像し、残存するポジレジス
トを硬化させると共に、この結果としてガラス板20上
に形成される当該光デイスク信号に基づく凹凸パターン
を2P法を用いて鏡面基板23上に転写するようにして
スタンパ24を製造するようにしたことにより、スタン
パ24を製造するために従来行われていた多くの工程を
省略することができる。従つて第1実施例の場合と同様
にスタンパ24の製作時間を大幅に短縮することがで
き、かくして短時間で簡易にスタンパ24を製造するこ
とができる。
According to the above steps, the positive resist layer 21 is formed on the glass plate 20, and after the desired signal is recorded on the positive resist layer 21 by exposure and recording, the positive resist layer 21 is developed to cure the remaining positive resist, and As a result, the stamper 24 is manufactured by transferring the concavo-convex pattern based on the optical disk signal formed on the glass plate 20 onto the mirror-like substrate 23 using the 2P method. Therefore, many steps that have been conventionally performed can be omitted. Therefore, as in the case of the first embodiment, the manufacturing time of the stamper 24 can be greatly shortened, and thus the stamper 24 can be easily manufactured in a short time.

【0042】またスタンパ24を製作するために従来行
われていたほとんどの工程を省略することができること
により、スタンパ24を製作するための設備及びクリー
ンルーム面積を少なくすることができ、かくしてスタン
パ24を製作するに際しての設備投資額を大幅に削減す
ることができると共に、スタンパ24を製作するための
ランニングコストを削減することができる。
Further, since most of the steps conventionally performed for manufacturing the stamper 24 can be omitted, the equipment and clean room area for manufacturing the stamper 24 can be reduced, thus manufacturing the stamper 24. It is possible to significantly reduce the amount of capital investment required when performing, and to reduce the running cost for manufacturing the stamper 24.

【0043】(3)他の実施例 なお上述の第1及び第2実施例においては、通常のプロ
セスに従つて作られた洗浄済ガラス板又はレジスト塗布
済ガラス板にメタライゼーシヨン、電鋳を順次行うこと
により鏡面マスタスタンパを作成し、当該鏡面マスタス
タンパを用いて通常通りの手順により鏡面マザースタン
パし、当該鏡面マザースタンパを用いて鏡面基板1、2
3を製作するようにした場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、例えば市販の磨きステンレス板を所定
形状に打ち抜くことによりステンレス原盤を形成し、当
該ステンレス原盤の上面に樹脂層を形成した後、当該樹
脂層に紫外線を照射して全面を硬化させることにより形
成するようにしても良い。
(3) Other Embodiments In the above-mentioned first and second embodiments, a cleaned glass plate or a resist-coated glass plate manufactured by a normal process is subjected to metallization and electroforming. To produce a mirror surface master stamper, perform a mirror surface mother stamper in the usual procedure using the mirror surface master stamper, and use the mirror surface mother stamper to produce the mirror substrate 1 or 2.
However, the present invention is not limited to this. For example, a commercially available polished stainless steel plate is punched into a predetermined shape to form a stainless master plate, and a resin layer is formed on the upper surface of the stainless master plate. After that, the resin layer may be formed by irradiating the resin layer with ultraviolet rays to cure the entire surface.

【0044】またこの場合、ステンレス板の代わりに銅
板又は黄銅板等の他の金属板、又はこの板状部材を用い
るようにしても良い。さらにこのとき金属板上に塗布す
る樹脂としては、安い低解像度用で良く、要は、続く工
程において塗布される高解像度のネガレジストに侵され
ないタイプ(例えばPAV水溶液等)の塗料であれば、
その素材はどのようなものであつても良い。
Further, in this case, instead of the stainless steel plate, another metal plate such as a copper plate or a brass plate, or this plate member may be used. Further, at this time, as the resin to be applied on the metal plate, a cheap low-resolution resin may be used.
The material may be any material.

【0045】また上述の第2実施例においては、鏡面基
板23と2Pレジンとの密着力を増加させるための手法
として、鏡面基板23の表面を洗浄後、鏡面基板23の
ガラス板20との対向面に0.05〜5〔%〕の範囲でアル
コール、MIBK、乳酸エチル等の所定の溶剤にアミノエト
キシシラン、エポキシエトキシシラン等のシランカツプ
リング等の溶剤を溶かすことにより形成した密着力向上
剤をスピンコートするようにした場合について述べた
が、本発明はこれに限らず、0.05〜5〔%〕の範囲でア
ルコール、MIBK、乳酸エチル等の所定の溶剤にタイタニ
ウム、アセトアセトネートのようなチタンカツプリング
剤やHMDS(ヘキサメチルジシラザン)等の溶剤を溶かす
ことにより形成した密着力向上剤を鏡面基板20上の表
面に塗布するようにしても良い。
In the second embodiment described above, as a method for increasing the adhesion between the mirror-like substrate 23 and the 2P resin, the surface of the mirror-like substrate 23 is cleaned and then the glass plate 20 of the mirror-like substrate 23 is opposed. Spin an adhesion improver formed by dissolving a solvent such as silane coupling such as aminoethoxysilane or epoxyethoxysilane in a predetermined solvent such as alcohol, MIBK or ethyl lactate in the range of 0.05 to 5% on the surface. The case of coating is described, but the present invention is not limited to this, and titanium caps such as titanium and acetoacetonate may be used in a predetermined solvent such as alcohol, MIBK, ethyl lactate in the range of 0.05 to 5%. Even if an adhesiveness improver formed by dissolving a solvent such as a ring agent or HMDS (hexamethyldisilazane) is applied to the surface of the mirror-like substrate 20. There.

【0046】さらにこの他の手法として、0.05〜5
〔%〕の範囲でアルコール、MIBK、乳酸エチル等の所定
の溶剤にタイタニウム、アセトアセトネートのようなチ
タンカツプリング剤やHMDS(ヘキサメチルジシラザン)
等の溶剤を溶かすことにより形成した密着力向上剤を2
Pレジン中に加えておく方法や、鏡面基板20を構成す
る金属板の表面を、真空中でボンバード、逆スパツタ又
はプラズマクリーニング等により清浄化してからCr
(クロム)やTi (チタン)等の金属を薄くつける方法
なども用いることができる。
Further, as another method, 0.05 to 5
Within a range of [%], titanium coupling agents such as titanium and acetoacetonate or HMDS (hexamethyldisilazane) can be added to a specified solvent such as alcohol, MIBK, ethyl lactate, etc.
Adhesion improver formed by dissolving solvent such as 2
A method of adding Cr to the P resin or cleaning the surface of the metal plate forming the mirror substrate 20 in a vacuum by bombarding, reverse sputtering or plasma cleaning, and then Cr.
A method of thinning a metal such as (chrome) or Ti (titanium) can also be used.

【0047】さらに上述の第1及び第2実施例において
は、スタンパ3、24のピツト面3A、24Aに離型剤
を塗布する手段として、スタンパ3、24をターンテー
ブル11で回転させながら、当該スタンパ3、24の上
面に離型剤を微量含む窒素ガスを吹きつけるようにした
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、スタン
パ3、24をターンテーブル11で回転させながら、当
該スタンパの上面に離型剤濃度が0.01〜1.0 〔%〕程度
の薄い溶剤を塗布するようにしても良い。
Further, in the above-mentioned first and second embodiments, as means for applying the mold release agent to the pit surfaces 3A, 24A of the stampers 3, 24, while rotating the stampers 3, 24 with the turntable 11, The case where the nitrogen gas containing a slight amount of the release agent is blown onto the upper surfaces of the stampers 3 and 24 has been described, but the present invention is not limited to this, and the stampers 3 and 24 are rotated by the turntable 11 while the stampers 3 and 24 are rotated. A thin solvent having a release agent concentration of about 0.01 to 1.0 [%] may be applied to the upper surface of the.

【0048】この場合特に第2実施例では、スタンパ2
4を形成した後で当該スタンパ24のピツト面24Aに
離型剤層を形成するのではなく、ガラス板20上の凸ピ
ツト21Aを硬化させた後で硬化凸ピツト21Bの表面
及び露出するガラス板20の鏡面20Aに上述の離型剤
を微量含む窒素ガスを吹きつけることによりこの部分に
離型剤層を形成するようにしても良い。
In this case, particularly in the second embodiment, the stamper 2
4 is not formed on the pit surface 24A of the stamper 24, but the convex pits 21A on the glass plate 20 are cured and then the surface of the cured convex pits 21B and the exposed glass plate. The mold release agent layer may be formed in this portion by blowing nitrogen gas containing a small amount of the above-mentioned mold release agent onto the mirror surface 20A of 20.

【0049】このようにすることによつてこの後の工程
においてガラス板20上の硬化凸ピツト21Bを傷めず
にスタンパ24をガラス板20から離型させることがで
きるため、現像済のガラス板20を用いて何枚でも2P
法によりスタンパ24を製造し得るようにすることがで
きると共に、製造されたスタンパ24の表面にもこの離
型剤が転写されることにより光デイスクのインジエクシ
ヨン成形時における当該スタンパ24からの離型性を改
善することができる。またこの場合、離型剤層を形成す
る手段としては、ポジレジスト層21Bを侵さないもの
であれば溶剤をスピンコートするようにしても良い。
By doing so, the stamper 24 can be released from the glass plate 20 without damaging the cured convex pits 21B on the glass plate 20 in the subsequent steps, so that the developed glass plate 20 is released. Use any number of 2P
The stamper 24 can be manufactured by the method, and the mold release property is transferred to the surface of the manufactured stamper 24, so that the mold releasability from the stamper 24 at the time of injection molding of the optical disc is increased. Can be improved. Further, in this case, as a means for forming the release agent layer, a solvent may be spin-coated as long as it does not attack the positive resist layer 21B.

【0050】さらに上述の第2実施例においては、ガラ
ス板20上の残存ポジレジスト層21Aの凹凸パターン
を写し取る手段として何も添加されてないUVレジン2
2を用いるようにした場合について述べたが、本発明は
これに限らず、例えばシリカ、アルミナ等の微粒子が添
加されたUVレジン22を用いるようにしても良い。こ
れによりこの後の工程で紫外線硬化されるUVレジン2
2の強度を高めることができる。
Further, in the above-mentioned second embodiment, as a means for copying the uneven pattern of the residual positive resist layer 21A on the glass plate 20, no UV resin 2 is added.
Although the case where 2 is used has been described, the present invention is not limited to this, and the UV resin 22 to which fine particles such as silica and alumina are added may be used. As a result, the UV resin 2 is cured by UV in the subsequent steps.
2 can be increased in strength.

【0051】またUVレジン22中に離型剤を添加する
ようにしても良く、このようにすることにより光デイス
ク成形時における当該光デイスクのスタンパからの離型
性を向上させることができる。さらにはUVレジン22
の代わりに、2液反応タイプのエポキシ樹脂や、UV及
び熱硬化型の複合型タイプ等、種々の硬度可変型の樹脂
等を用いることができる。。
A release agent may be added to the UV resin 22. By doing so, the releasability of the optical disc from the stamper can be improved during optical disc molding. Furthermore, UV resin 22
Instead of, a two-liquid reaction type epoxy resin, various types of resins with variable hardness such as a composite type of UV and thermosetting type can be used. .

【0052】さらに上述の第2実施例においては、ポジ
レジストを塗布する原盤としてガラス板20を用いるよ
うにした場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、要は、極めて平滑な一面をもつものであればこの他
のものを用いても良い。
Further, in the above-mentioned second embodiment, the case where the glass plate 20 is used as the master for applying the positive resist has been described, but the present invention is not limited to this, and the point is that an extremely smooth surface is used. Any other one may be used as long as it has it.

【0053】さらに上述の第1及び第2実施例において
は、光デイスクの成形時に当該光デイスクをスタンパか
ら離型させ易くする手段として、スタンパのピツト面3
A、23Aに離型剤からなる離型剤層を形成する方法を
スタンパ3、23に適用するようにした場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、この他種々の方法によ
り形成された種々の光デイスク用スタンパ又は光デイス
ク製造用金型に適用することができる。
Further, in the above-described first and second embodiments, the pit surface 3 of the stamper is used as a means for easily releasing the optical disc from the stamper when molding the optical disc.
The case where the method of forming the release agent layer made of the release agent on A and 23A is applied to the stampers 3 and 23 has been described, but the present invention is not limited to this, and other various methods may be used. The present invention can be applied to various stampers for optical discs or molds for producing optical discs.

【0054】さらに上述の第1及び第2実施例において
は、本発明をスタンパ3、24の製造に適用するように
した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、こ
の他種々の光デイスク製造用金型の製造に適用すること
ができる。
Further, in the above-mentioned first and second embodiments, the case where the present invention is applied to the manufacture of the stampers 3 and 24 has been described, but the present invention is not limited to this, and various other light beams are also used. It can be applied to the manufacture of molds for manufacturing disks.

【0055】[0055]

【発明の効果】上述のように本発明によれば、一面が極
めて平滑形成された基板の一面側にネガレジスト層を形
成し、当該ネガレジスト層に所望の光デイスク信号を露
光記録した後、ネガレジスト層を現像し、この後基板上
のネガレジスト層を硬化させるようにして光デイスク用
直接記録媒体を製造するようにしたことにより、従来に
比べて短い工程で短時間に光デイスク成形用の金型とし
て使用する光デイスク用直接記録媒体を製造することが
でき、かくして短時間でかつ簡易に製造し得る、光デイ
スク成形用の金型としての光デイスク用直接記録媒体及
びその製造方法を実現できる。
As described above, according to the present invention, a negative resist layer is formed on one surface side of a substrate whose one surface is extremely smooth, and after the desired optical disk signal is exposed and recorded on the negative resist layer, By developing the negative resist layer and then curing the negative resist layer on the substrate to produce a direct recording medium for an optical disk, it is possible to form an optical disk in a shorter time in a shorter step than in the conventional method. A direct recording medium for an optical disk which can be manufactured as a mold for an optical disk, which can be manufactured in a short time and easily, and a method for manufacturing the same. realizable.

【0056】また原盤の一面側にポジレジスト層を形成
し、当該ポジレジスト層に所望の光デイスク信号を露光
記録した後、ポジレジスト層を現像すると共に、この後
原盤の一面上に残存するポジレジスト層を硬化させ、こ
の後一面が極めて平滑に形成された基板の一面を原盤の
一面側に柔軟な硬度可変型樹脂を介して密着させた後、
硬度可変型樹脂を硬化させることにより、原盤上のポト
レジスト層のパターンを硬度可変型樹脂に転写し、さら
にこの後基板及び硬度可変型樹脂を一体に原盤から離型
させるようにして光デイスク成形用の金型として使用す
る光デイスク用直接記録媒体を製造するようにしたこと
により、従来に比べて短い工程で短時間で当該光デイス
ク用直接記録媒体を製造することができ、かくして短時
間でかつ簡易に製造し得る、光デイスク成形用の金型と
しての光デイスク用直接記録媒体及びその製造方法を実
現できる。
Further, a positive resist layer is formed on one side of the master, and after the desired optical disc signal is exposed and recorded on the positive resist layer, the positive resist layer is developed and the positive resist remaining on the one side of the master thereafter. After curing the resist layer, and then closely adhering one surface of the substrate whose one surface is extremely smooth to one surface of the master through a flexible hardness variable resin,
By curing the variable-hardness resin, the pattern of the photoresist layer on the master is transferred to the variable-hardness resin, and then the substrate and variable-hardness resin are integrally released from the master for optical disc molding. By producing the optical disk direct recording medium used as a mold of, it is possible to produce the optical disk direct recording medium in a shorter time and in a shorter step than in the past, and thus in a short time and It is possible to realize a direct recording medium for an optical disc, which can be easily manufactured, as a mold for optical disc molding, and a manufacturing method thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例による光デイスク用スタンパの製造
工程の説明に供する側面図である。
FIG. 1 is a side view for explaining a manufacturing process of an optical disk stamper according to a first embodiment.

【図2】スタンパ加工装置の構成を示す略線図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a stamper processing device.

【図3】第2実施例による光デイスク用スタンパの製造
工程の説明に供する略線図である。
FIG. 3 is a schematic diagram used for explaining a manufacturing process of an optical disk stamper according to a second embodiment.

【図4】第2実施例による光デイスク用スタンパの製造
工程の説明に供する略線図である。
FIG. 4 is a schematic diagram used to describe a manufacturing process of an optical disk stamper according to a second embodiment.

【図5】2P法の説明に供する略線図である。FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the 2P method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、23……鏡面基板、1A、20A……鏡面、2……
ネガレジスト層、2A、21A……凸ピツト、2B、2
1B……硬化凸ピツト、3、24……スタンパ、21…
…ポジレジスト層、22……UVレジン。
1, 23 ... Mirror surface substrate, 1A, 20A ... Mirror surface, 2 ...
Negative resist layer, 2A, 21A ... Convex pits, 2B, 2
1B ... Curing convex pit, 3, 24 ... Stamper, 21 ...
… Positive resist layer, 22 …… UV resin.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光デイスク成形用の金型として使用する、
所望の光デイスク信号が記録された光デイスク用直接記
録媒体において、 一面が極めて平滑に形成された基板と、 上記基板の上記一面側において、上記光デイスク信号に
基づく微小な凹凸パターンを形成する樹脂層とを具える
ことを特徴とする光デイスク用直接記録媒体。
1. A mold used for optical disk molding,
In a direct recording medium for an optical disc on which a desired optical disc signal is recorded, a substrate having one surface formed extremely smooth, and a resin for forming a minute uneven pattern based on the optical disc signal on the one surface side of the substrate A direct recording medium for an optical disk, which comprises a layer.
【請求項2】上記樹脂層は、硬化されたレジスト樹脂又
は2Pレジン樹脂でなることを特徴とする請求項1に記
載の光デイスク用直接記録媒体。
2. The direct recording medium for an optical disk according to claim 1, wherein the resin layer is made of a hardened resist resin or 2P resin resin.
【請求項3】上記基板は、金属板でなることを特徴とす
る請求項1に記載の光デイスク用直接記録媒体。
3. The direct recording medium for an optical disk according to claim 1, wherein the substrate is a metal plate.
【請求項4】光デイスク成形用の金型として使用する光
デイスク用直接記録媒体の製造方法において、 一面が極めて平滑形成された基板の上記一面側にネガレ
ジストを塗布することによりネガレジスト層を形成する
第1の工程と、 上記ネガレジスト層に所望の光デイスク信号を露光記録
した後、上記ネガレジスト層を現像する第2の工程と、 上記現像後、上記基板上の上記ネガレジスト層を硬化さ
せる第3の工程とを具えることを特徴とする光デイスク
用直接記録媒体の製造方法。
4. A method of manufacturing a direct recording medium for an optical disk used as a mold for optical disk molding, wherein a negative resist layer is formed by applying a negative resist on the one surface side of a substrate having one surface formed extremely smooth. A first step of forming, a second step of exposing and recording a desired optical disc signal on the negative resist layer, and then developing the negative resist layer, and a step of developing the negative resist layer on the substrate after the developing. And a third step of curing. A method for manufacturing a direct recording medium for an optical disk, which comprises:
【請求項5】上記基板は、 金属板と、 上記金属板の一面に設けられた、上記基板の上記一面を
形成する樹脂層とでなることを特徴とする請求項4に記
載の光デイスク用直接記録媒体の製造方法。
5. The optical disc according to claim 4, wherein the substrate comprises a metal plate and a resin layer provided on one surface of the metal plate and forming the one surface of the substrate. Direct recording medium manufacturing method.
【請求項6】上記第1の工程は、 上記基板の上記一面に、上記ネガレジスト層と上記基板
の上記一面との密着力を向上させる表面処理を施す工程
を具えることを特徴とする請求項4に記載の光デイスク
用直接記録媒体の製造方法。
6. The first step comprises the step of subjecting the one surface of the substrate to a surface treatment for improving the adhesion between the negative resist layer and the one surface of the substrate. Item 5. A method for manufacturing a direct recording medium for an optical disk according to item 4.
【請求項7】上記第3の工程は、 硬化させた上記ネガレジスト層の表面と、硬化させた上
記ネガレジスト層の間から露出する上記基板の上記一面
とに、上記光デイスクの成形時に上記光デイスクを上記
光デイスク用直接記録媒体から離型させ易くする離型剤
からなる離型剤層を形成する工程を具えることを特徴と
する請求項4に記載の光デイスク用直接記録媒体の製造
方法。
7. The third step comprises: forming a surface of the cured negative resist layer and a surface of the substrate exposed from between the cured negative resist layer, at the time of molding the optical disk. The direct recording medium for an optical disk according to claim 4, further comprising a step of forming a release agent layer made of a release agent that facilitates releasing the optical disk from the direct recording medium for the optical disk. Production method.
【請求項8】光デイスク成形用の金型として使用する光
デイスク用直接記録媒体の製造方法において、 所定形状の原盤の一面側にポジレジストを塗布すること
によりポジレジスト層を形成する第1の工程と、 上記ポジレジスト層に所望の光デイスク信号を露光記録
した後、上記ポジレジスト層を現像すると共に、この後
上記原盤の上記一面上に上記光デイスク信号に基づくパ
ターンで残存する上記ポジレジスト層を硬化させる第2
の工程と、 一面が極めて平滑に形成された基板の上記一面を上記原
盤の上記一面側に柔軟な硬度可変型樹脂を介して密着さ
せた後、上記硬度可変型樹脂を硬化させることにより、
上記原盤上の上記ポトレジスト層の上記パターンを上記
硬度可変型樹脂に転写する第3の工程と、 上記基板及び上記硬度可変型樹脂を一体に上記原盤から
離型させる第4の工程とを具えることを特徴とする光デ
イスク用記録媒体の製造方法。
8. A method for manufacturing a direct recording medium for an optical disc used as a mold for optical disc molding, wherein a positive resist is applied to one surface of a master having a predetermined shape to form a positive resist layer. And a step of exposing and recording a desired optical disc signal on the positive resist layer, developing the positive resist layer, and thereafter leaving the positive resist on the one surface of the master in a pattern based on the optical disc signal. Second hardening layer
And the one surface of the substrate having one surface formed extremely smooth is adhered to the one surface side of the master through the flexible hardness variable resin, and then the hardness variable resin is cured,
The method further comprises a third step of transferring the pattern of the photoresist layer on the master to the variable hardness resin, and a fourth step of releasing the substrate and the variable hardness resin integrally from the master. A method of manufacturing a recording medium for an optical disc, comprising:
【請求項9】上記原盤は、ガラス板でなることを特徴と
する請求項8に記載の光デイスク用直接記録媒体の製造
方法。
9. The method for manufacturing a direct recording medium for an optical disk according to claim 8, wherein the master is a glass plate.
【請求項10】上記基板は、 金属板と、 上記金属板の一面に設けられ、上記基板の上記一面を形
成する樹脂層とでなることを特徴とする請求項8に記載
の光デイスク用直接記録媒体の製造方法。
10. The optical disk direct optical disk according to claim 8, wherein the substrate comprises a metal plate and a resin layer provided on one surface of the metal plate and forming the one surface of the substrate. Recording medium manufacturing method.
【請求項11】上記第3の工程は、 上記基板の上記一面に上記ポジレジスト層と上記基板の
上記一面との密着力を向上させる表面処理を施す工程を
具えることを特徴とする請求項8に記載の光デイスク用
直接記録媒体の製造方法。
11. The third step includes the step of subjecting the one surface of the substrate to a surface treatment for improving the adhesion between the positive resist layer and the one surface of the substrate. 8. A method for manufacturing a direct recording medium for an optical disc according to item 8.
【請求項12】上記第2の工程は、 硬化させた上記ポジレジスト層の表面と、硬化させた上
記ポジレジスト層の間から露出する上記基板の上記一面
とに、上記光デイスクの成形時に上記光デイスクを上記
光デイスク用直接記録媒体から離型させ易くする離型剤
からなる離型剤層を形成する工程を具えることを特徴と
する請求項8に記載の光デイスク用直接記録媒体の製造
方法。
12. In the second step, the surface of the cured positive resist layer and the one surface of the substrate exposed between the cured positive resist layers are formed at the time of molding the optical disk. 9. The direct recording medium for an optical disk according to claim 8, further comprising a step of forming a release agent layer made of a release agent that facilitates releasing the optical disk from the direct recording medium for the optical disk. Production method.
【請求項13】光デイスク成形用の金型として使用する
光デイスク用直接記録媒体の製造方法において、 所定形状の基板の一面に所望の光デイスク信号に基づく
微小な凹凸パターンを形成する第1の工程と、 上記基板の上記一面に上記光デイスク成形時に上記光デ
イスクを上記基板から離型させ易くする離型剤からなる
離型剤層を形成する第2の工程とを具えることを特徴と
する光デイスク用直接記録媒体の製造方法。
13. A method of manufacturing a direct recording medium for an optical disc used as a mold for optical disc molding, wherein a fine concave-convex pattern based on a desired optical disc signal is formed on one surface of a substrate having a predetermined shape. And a second step of forming a release agent layer made of a release agent on the one surface of the substrate for facilitating the release of the optical disk from the substrate during the optical disk molding. A method for manufacturing a direct recording medium for an optical disk.
JP8769494A 1994-03-31 1994-03-31 Direct recording medium for optical disk and its production Pending JPH08255383A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8769494A JPH08255383A (en) 1994-03-31 1994-03-31 Direct recording medium for optical disk and its production

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8769494A JPH08255383A (en) 1994-03-31 1994-03-31 Direct recording medium for optical disk and its production

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08255383A true JPH08255383A (en) 1996-10-01

Family

ID=13922041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8769494A Pending JPH08255383A (en) 1994-03-31 1994-03-31 Direct recording medium for optical disk and its production

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08255383A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005153223A (en) * 2003-11-21 2005-06-16 Toppan Printing Co Ltd Mold for optical part and its manufacturing method
WO2005088628A1 (en) * 2004-03-12 2005-09-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Process for producing stamper for direct mastering, and stamper produced by such process and optical disc

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005153223A (en) * 2003-11-21 2005-06-16 Toppan Printing Co Ltd Mold for optical part and its manufacturing method
WO2005088628A1 (en) * 2004-03-12 2005-09-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Process for producing stamper for direct mastering, and stamper produced by such process and optical disc

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3006199B2 (en) Optical disc manufacturing method
CN100429700C (en) Mask forming method and information recording medium manufacturing method
JP3577903B2 (en) Method of manufacturing mold for resin plate and method of manufacturing resin plate
JPH08255383A (en) Direct recording medium for optical disk and its production
JP2001234383A (en) Method for manufacturing stamper
JPH09138981A (en) Production of stamper for optical disk
JPH0337842A (en) Production of stamper for information recording medium
JPH01301880A (en) Production of stamper for substrate of optical disk
JPH04355229A (en) Production of resin stamper and pattern transfer method using this stamper
JP2004062981A (en) Manufacturing method of stamper for manufacturing optical disk, stamper for manufacturing optical disk, and manufacturing method of optical disk
JPS59180801A (en) Production of stamper disk
JP3221627B2 (en) Manufacturing method of stamper for optical disk
JPH01316231A (en) Manufacture of substrate for information recording medium
JPH0963130A (en) Stamper for manufacturing optical recording carrier and its production
JP2003067985A (en) Metal die for molding optical disk and optical disk made by using it
JP2004358923A (en) Method for manufacturing original metal plate for resin molding and original metal plate
JPH10228674A (en) Disk substrate
JPS63275053A (en) Production of stamper
JPH01251452A (en) Manufacture of optical disk substrate
JPH04259937A (en) Production of stamper for producing information recording medium
JPH01107338A (en) Production of stamper for optical disk
JPH0376037A (en) Production of information recording medium
JPH01251449A (en) Manufacture of optical disk substrate
JPS61163342A (en) Method for removing photoresist
JPH1139732A (en) Production of casting mold for production of resin plate and production of resin plate