JPH09136227A

JPH09136227A - Ｘｙテーブル

Info

Publication number: JPH09136227A
Application number: JP7296937A
Authority: JP
Inventors: Minoru Hirota; 実広田; Katsutoshi Uemi; 克利上見; Akihiro Inada; 明弘稲田
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1995-11-15
Filing date: 1995-11-15
Publication date: 1997-05-27
Anticipated expiration: 2015-11-15
Also published as: JP3292643B2

Abstract

(57)【要約】【目的】下テーブル上における上テーブルの移動に伴
う荷重位置の変化を考慮して下レール群を配置させるこ
とにより、下テーブルの撓みや振動が防止できる高信頼
性のＸＹテーブルを提供する。【構成】Ｙテーブル（下テーブル）１４を摺動自在に
支持するＹ軸レール（下レール）群として、該Ｙテーブ
ル１４の両側縁部を支持する一対のＹ軸主レール１５
と、これら一対のＹ軸主レール１５間に位置するセンタ
ーレール（Ｙ軸補助レール）１６とを設ける構成とし
た。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、搭載した被加工物に対
してレーザ光等による加工を施す際に、上テーブルと下
テーブルを互いに直交する２方向へ直線移動させること
によって加工形状の設定を行い、且つ各テーブルとこれ
を支持するレールとの間に圧縮空気を供給して滑らかな
テーブル移動を可能にしているＸＹテーブルに関する。

【０００２】

【従来の技術】レーザ加工機等に装備されるＸＹテーブ
ルは、通常、吸着テーブル等を介して被加工物が搭載さ
れるＸテーブル（上テーブル）と、このＸテーブルを摺
動自在に支持する一対のＸ軸レール（上レール）と、こ
れらのＸ軸レールに沿ってＸテーブルを往復直線移動さ
せるリニアモータ等の第１の駆動手段と、これらのＸ軸
レールを載置したＹテーブル（下テーブル）と、Ｘ軸レ
ールと直交する方向に延びてＹテーブルを摺動自在に支
持する一対のＹ軸レール（下レール）と、これらのＹ軸
レールに沿ってＹテーブルを往復直線移動させるリニア
モータ等の第２の駆動手段とを備えて概略構成されてお
り、Ｘテーブルと各Ｘ軸レール間、およびＹテーブルと
各Ｙ軸レール間にはそれぞれ、テーブル側に設けたエア
ーノズルから圧縮空気が供給されるようになっている。
すなわち、このように各テーブルとこれを支持するレー
ルとの間に圧縮空気を送り込んでエアーギャップを形成
することにより、各テーブルをレールに沿って移動させ
る際の摩擦力を大幅に低減することができるので、被加
工物をＸ軸方向およびＹ軸方向へ円滑に移送することが
可能となる。

【０００３】なお、かかるＸＹテーブルを用いて被加工
物にミクロン単位の精密な加工を行うためには、温度変
化に伴う膨張や収縮の影響を極力排除しなければならな
いので、ＸテーブルやＹテーブル、Ｘ軸レール、Ｙ軸レ
ール等の材料としては、機械的強度に優れて熱膨張係数
の小さいグラナイトなどの石材が好適とされている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のＸ
Ｙテーブルにおいて、比較的大面積の被加工物にも対応
できるようにするためには、Ｘテーブル（上テーブル）
やＹテーブル（下テーブル）を相応の大きさに設定して
おく必要があるが、その場合、大形化により重量の増し
たＸテーブルがＹテーブルの中央部を撓めてしまう虞が
ある。つまり、Ｙテーブルは、その移動方向に沿う両側
縁部が一対のＹ軸レール（下レール）により支持されて
いるので、このＹテーブル上の中央部付近に重いＸテー
ブルが位置すると、一対のＹ軸レール間でＹテーブルに
撓みが生じやすくなる。なお、Ｙテーブルを厚く設計す
ればこのような撓みを回避することも可能ではあるが、
そうなるとＹテーブルが過度に重くなりすぎてリニアモ
ータ等の駆動手段による正確な位置制御が困難になって
しまうので、好ましくない。

【０００５】また、ＸテーブルがＹテーブル上の側縁部
に位置しているときには、その下方に配置されている一
方のＹ軸レールにＸテーブルの荷重が集中し、このＹ軸
レールの上面とＹテーブルとの間のエアーギャップが狭
まることから、他方のＹ軸レールの上面とＹテーブルと
の間のエアーギャップが逆に広くなってしまう。そし
て、Ｙ軸レールの上面側のエアーギャップが広くなりす
ぎると、該Ｙ軸レールの側面に向けて吹き出されて下方
へ排出されるべき圧縮空気が上方の広いエアーギャップ
へ流入して不規則な空気流が生成されやすくなることか
ら、この上方のエアーギャップが小刻みに変動してしま
い、これがＹテーブルに振動を生起する要因となってい
た。

【０００６】本発明はかかる従来技術の課題に鑑みてな
されたもので、その目的は、下テーブルの撓みや振動が
防止できる高信頼性のＸＹテーブルを提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上述した目的
は、被加工物が搭載される上テーブルと、該上テーブル
を移動自在に支持する上レール群と、該上レール群に沿
って前記上テーブルを往復直線移動させる第１の駆動手
段と、前記上レール群を載置した下テーブルと、前記上
レール群と直交する方向に延びて前記下テーブルを移動
自在に支持する下レール群と、該下レール群に沿って前
記下テーブルを往復直線移動させる第２の駆動手段と、
前記上テーブルと前記上レール群との間、および前記下
テーブルと前記下レール群との間にそれぞれ、摩擦力低
減用の圧縮空気を供給するノズルとを備え、前記下レー
ル群を、前記下テーブルを支持する少なくとも２本の主
レールと、これら主レール間に位置する少なくとも１本
の補助レールとにより構成することによって達成され
る。

【０００８】

【作用】下テーブルを支持する少なくとも２本の主レー
ルだけでなく、両主レール間に位置する補助レールにて
下テーブルの中央部を支持する構成にしておけば、上テ
ーブルが下テーブル上の中央部付近に位置しても、補助
レールが上テーブルの荷重を受け止めるので下テーブル
に撓みが生じる虞はなく、また、上テーブルが下テーブ
ル上の側縁部に位置しても、この上テーブルの荷重を一
方の主レールと補助レールとが分散して受け止めるの
で、残りの主レールの上面と下テーブルとの間のエアー
ギャップが不所望に広がることはない。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１ないし図９に基
づいて説明する。ここで、図１は本実施例に係るＸＹテ
ーブルの正面図、図２は一部を図示省略した該ＸＹテー
ブルの側面図、図３は該ＸＹテーブルを含むレーザ加工
機の全体側面図、図４は該レーザ加工機を覆う安全カバ
ーの図３に対応する個所の側面図、図５は図１，２に示
すＸＹテーブルに組み込まれているＹ軸リニアモータの
側面図、図６は該ＸＹテーブルのうちのＸテーブルの脚
部を示す断面図、図７は図６に示すＸテーブルの脚部の
エアー吹き出し面を示す平面図、図８は該ＸＹテーブル
のうちの吸着テーブルを示す平面図、図９は図８に示す
吸着テーブルの支持構造を示す説明図である。

【００１０】本実施例に係るＸＹテーブルは、図３に示
すレーザ加工機に採用したものである。すなわち、この
レーザ加工機は、レーザ発振器５から供給されたレーザ
ビーム（ＹＡＧレーザ）をレンズ群やビームスプリッタ
等からなる光学系で導いて被加工物に照射させる加工機
本体１と、搭載した被加工物（ガラス基板）をリニアモ
ータにより互いに直交する２方向へ移送可能なＸＹテー
ブル２と、これら加工機本体１およびＸＹテーブル２を
載置した定盤（ベース盤）３と、この定盤３を載置した
除振台４とによって概略構成されており、図３に鎖線で
示すカバーフレーム６を支持枠とする安全カバー７（図
４参照）が、このレーザ加工機や真空ポンプ８等を覆っ
ている。なお、図１中の符号２１は加工機本体１を載置
する光学定盤を示しており、この光学定盤２１は支柱２
２を介して定盤３に支持されている。

【００１１】そして、ＸＹテーブル２は、底面中央部に
設けた軸穴９ａや真空ポンプ８に連通された多数の吸着
孔９ｂを有し、搭載した被加工物を吸着孔９ｂ群を介し
ての空気の吸引により吸着固定することができる吸着テ
ーブル９と、この吸着テーブル９の前記軸穴９ａに円柱
状の支軸１０ａを挿入して該吸着テーブル９を回動可能
に支持するＸテーブル１０と、このＸテーブル１０を摺
動自在に支持する一対の平行なＸ軸レール部１１ａを両
側縁に設けてなる断面形状が凹状の支持台１１と、この
支持台１１の内側に設置され前記Ｘ軸レール部１１ａに
沿ってＸテーブル１０を往復直線移動させるＸ軸リニア
モータ１２と、Ｘテーブル１０の位置データを検出する
Ｘ軸リニアエンコーダ１３と、支持台１１を載置したＹ
テーブル１４と、前記Ｘ軸レール部１１ａと直交する方
向に延びてＹテーブル１４を摺動自在に支持する３本の
Ｙ軸レール１５，１６と、これらＹ軸レール群１５，１
６に沿ってＹテーブル１４を往復直線移動させるＹ軸リ
ニアモータ１７と、Ｙテーブル１４の位置データを検出
するＹ軸リニアエンコーダ１８とによって主に構成され
ている。ただし、Ｘテーブル１０と各Ｘ軸レール部１１
ａ間、およびＹテーブル１４と各Ｙ軸レール１５，１６
間にはそれぞれ、テーブル側に設けたエアーノズルから
圧縮空気を吹き出すことによりエアーギャップが形成さ
れ、これらのエアーギャップで摩擦力を低減することに
より、被加工物がＸ軸方向およびＹ軸方向へ円滑に移送
できるようになっている。

【００１２】なお、温度変化に伴う膨張や収縮の影響を
極力排除するため、本実施例では、吸着テーブル９、Ｘ
テーブル１０、支持台１１、Ｙテーブル１４、およびＹ
軸レール群１５，１６等の材料となる石材して、インデ
ィアンブラックと称されるグラナイトを用い、且つ、定
盤３の材料となる石材として、ラステンバーグと称され
るグラナイトを用いている。

【００１３】さて、このようなＸＹテーブル２を備えた
前記レーザ加工機は、ＸＹテーブル２を駆動制御するこ
とによって、吸着テーブル９上に搭載した被加工物を水
平面内において高い位置精度で移動させることができる
ので、加工機本体１の光学系の先端部（対物レンズ）か
ら照射されるスポット状のレーザビーム（ビームスポッ
ト）に対して、この被加工物を所定の軌跡で移動させる
ことにより、ビーム照射による所望の加工パターンが被
加工物に描画できるようになっている。具体的には、フ
ルカラー表示の液晶表示素子の製造工程で、ガラス基板
上に一方向に延びるストライプ状の透明電極と該電極上
に積層させたカラーフィルタとを形成したものを、被加
工物として吸着テーブル９上に搭載し、この被加工物を
ＸＹテーブル２で適宜移送しながら加工機本体１にてビ
ームスポットを照射することにより、カラーフィルタを
その長手方向と直交する方向に一定のピッチ間隔で除去
することができる。

【００１４】なお、ＸＹテーブル２に組み込まれている
リニアモータ１２，１７は、重量物を駆動するため強い
磁力を発生するので、本実施例では、周辺に配置されて
いるモニター用のＣＲＴや測定機に対してリニアモータ
１２，１７の磁力が悪影響を及ぼさないようにするた
め、主に強磁性体からなる安全カバー７でレーザ加工機
をすっぽり覆っている。すなわち、この安全カバー７は
図３，４に示すように、支持枠であるカバーフレーム６
に鉄板や消磁板等を取り付けてなるもので、具体的に
は、図４のア部はＳＵＳ３０４のステンレス板を取着し
た個所で、イ部とウ部はＳＵＳ３０４のステンレス板の
内側にＳＵＳ４３０の消磁板を付設して消磁効果を高め
た２層構造の個所で、このうちウ部は開閉可能な両開き
カバーとなっていて、さらにエ部は、着色アクリル板の
外側をウ部と同じ構成にした３層構造の個所となってい
る。このように、消磁効果を有する安全カバー７でレー
ザ加工機を覆い、しかもリニアモータ１２，１７の近傍
で強い磁力が予想される個所は２層構造にして消磁効果
を高めておけば、リニアモータ１２，１７の磁力が周辺
機器に悪影響を及ぼす虞がなくなり、ウ部の両開きカバ
ーを開けることにより加工機本体１の光学系の調整も容
易に行える。また、レーザビームが被加工物に正しく照
射されているかどうかを直接確認する際には、エ部の両
開きカバーを開ければ、着色アクリル板を介して安全に
目視確認が行える。

【００１５】次に、本実施例に係るＸＹテーブルの詳細
な構成について説明する。

【００１６】図８に示すように、吸着テーブル９の上面
には、真空ポンプ８に連通された多数の吸着孔９ｂが設
けてあり、これらの吸着孔９ｂ群を介して真空ポンプ８
で空気を吸引することにより、吸着テーブル９は搭載し
た被加工物を吸着固定することができる。

【００１７】また、図９に示すように、この吸着テーブ
ル９の底面中央部には、Ｘテーブル１０の支軸１０ａを
挿入するための軸穴９ａが設けてあり、支軸１０ａの周
囲の軸回りギャップ、つまり支軸１０ａの外壁面と軸穴
９ａの内壁面との間には、この軸回りギャップの間隙よ
りも若干大きい樹脂球（樹脂スペーサ）１９ａをグリー
スに多数混合させてなる間隙維持剤１９が充填させてあ
る。ただし、支軸１０ａはステンレス製の凸状体であ
り、軸穴９ａの内壁部もステンレス製の軸受構造に形成
してある。この支軸１０ａは、間隙維持剤１７を介して
吸着テーブル９を回動可能に支持しており、吸着テーブ
ル９上に吸着固定した被加工物をＸテーブル１０に対し
て高精度に位置決めする際には、図２に示すモータ２０
を駆動させることにより、吸着テーブル９は支軸１０ａ
を回動中心として適宜回動させることができる。そし
て、この軸回りギャップの間隙が１５〜１６μｍである
のに対し、間隙維持剤１９は充填前の直径が２０μｍの
樹脂球１９ａを分散させているので、充填後は各樹脂球
１９ａが押し潰された状態で軸回りギャップに分散され
ることになり、よって厳しい寸法管理を行わなくとも該
軸回りギャップの間隙は常に均一に保たれ、吸着テーブ
ル９の回動中心近傍にはガタが発生しないようになって
いる。なお、吸着テーブル９を回動させる位置決めが完
了したなら、Ｘテーブル１０が上面側のエアーノズルか
ら空気を吸引して該吸着テーブル９を吸着固定できるよ
うになっている。

【００１８】このＸテーブル１０は、図２に示すよう
に、一対の平行なＸ軸レール部１１ａを有する支持台１
１に摺動自在に支持されており、この支持台１１の内側
には、Ｘテーブル１０をＸ軸レール部１１ａに沿って往
復移動させるためのＸ軸リニアモータ１２が設置されて
いる。なお、支持台１１は断面凹状を成し、その両側面
にＸ軸レール部１１ａとなる凸条を有している。Ｘテー
ブル１０は両側面にＸ軸レール部１１ａを嵌める受け部
１０ｃを有し、Ｘ軸レール部１１ａの上、下面及び外側
面でＸテーブル１０を支持している。リニアモータ１２
は、Ｘテーブル１０に一体化させたコイル１２ａや、Ｘ
軸レール部１１ａと平行に延びる磁石１２ｂおよびヨー
ク１２ｃ等によって構成されるもので、Ｘ軸リニアエン
コーダ１３から出力されるＸテーブル１０の位置データ
に基づき、可動部であるコイル１２ａを介して該Ｘテー
ブル１０の位置制御を行う。また、このＸ軸リニアエン
コーダ１３は、発光素子および受光素子をＸテーブル１
０に一体化させて検出部１３ａを構成し、一方のＸ軸レ
ール１１ａに固定した目盛部（リニアスケール）１３ｂ
に発光素子の光を照射して反射光を受光素子にて捕捉す
るというものであり、移動中のＸテーブル１０の位置が
リアルタイムに検出できるようになっている。

【００１９】そして本実施例では、支持台１１の両側縁
に設けた一対の平行なＸ軸レール部１１ａによってＸテ
ーブル１０を摺動自在に支持する構成にしてあるので、
これら一対のＸ軸レール部１１ａに対して高い平行度を
付与することが容易であるとともに、この支持台１１を
Ｙテーブル１４上に設置する際に該レール部１１ａ群の
位置精度を容易に高めることができる。しかも本実施例
では、Ｘ軸リニアモータ１２が生起する磁気駆動力の作
用点Ｐが、該リニアモータ１２により駆動されるＸテー
ブル１０の重心と略合致させてあるので、このＸテーブ
ル１０が起動時や停止時にガタを起こす虞がなくなっ
て、加工精度の向上が図れるようになっている。

【００２０】次に、支持台１１を載置しているＹテーブ
ル１４の支持構造や駆動方法等について述べると、この
Ｙテーブル１４は、その両側縁部が一対のＹ軸主レール
１５によって摺動自在に支持され、且つ中央部がセンタ
ーレール（Ｙ軸補助レール）１６によって摺動自在に支
持されており、一対のＹ軸リニアモータ１７がこれらＹ
軸レール群１５，１６に沿ってＹテーブル１４を往復移
動させるようになっている。なお、Ｙ軸主レール１５及
びセンターレール１６は、頂面１５ａ及び頂面１５ａに
連なる両側面の突部１５ｂとからなる断面凸形状となっ
ている。そして、Ｙテーブル１４は、両側縁部に突部１
５ｂを嵌める受け部１４ａを有し、受け部１４ａと頂面
１５ａ及び突部１５ｂとで支持されている。一対のリニ
アモータ１７はいずれも、図５に示すように、Ｙテーブ
ル１４に一体化させたコイル１７ａや、Ｙ軸レール群１
５，１６と平行に延びる磁石１７ｂおよびヨーク１７ｃ
等によって構成されるもので、これら一対のリニアモー
タ１７が共に、Ｙ軸リニアエンコーダ１８から出力され
るＹテーブル１４の位置データに基づき、可動部である
コイル１７ａを介して該Ｙテーブル１４の位置制御を行
う。また、このＹ軸リニアエンコーダ１８は、発光素子
および受光素子をＹテーブル１４の略中央部に一体化さ
せて検出部１８ａを構成し、センターレール１６に固定
した目盛部（リニアスケール）１８ｂに発光素子の光を
照射して反射光を受光素子にて捕捉するというものであ
り、移動中のＹテーブル１４の位置がリアルタイムに検
出できるようになっている。

【００２１】すなわち、本実施例では、Ｙテーブル１４
の両側縁部を支持する一対のＹ軸主レール１５だけでな
く、両主レール１５間に位置するセンターレール１６に
よって該Ｙテーブル１４の中央部を支持する構成にして
あるので、Ｘテーブル１０がＹテーブル１４上の中央部
付近に位置しても、センターレール１６がＸテーブル１
０の荷重を受け止めるのでＹテーブル１４に撓みが生じ
る虞はなく、また、Ｘテーブル１０がＹテーブル１４上
の側縁部に位置しても、Ｘテーブル１０の荷重を一方の
Ｙ軸主レール１５とセンターレール１６とが分散して受
け止めるので、残りのＹ軸主レール１５の上面とＹテー
ブル１４との間のエアーギャップが不所望に広がること
はない。なお、図１中の矢印はＹテーブル１４が吹き出
す圧縮空気を示したもので、この矢印からもわかるよう
に、各Ｙ軸主レール１５の上面および両側面とＹテーブ
ル１０との間にエアーギャップが形成され、且つセンタ
ーレール１６の上面とＹテーブル１０との間にエアーギ
ャップが形成される。

【００２２】また、本実施例では、Ｙテーブル１４の位
置データを検出するＹ軸リニアエンコーダ１８の検出部
１８ａが、このＹテーブル１４と一体にセンターレール
１６の近傍を往復直線移動する個所に設置してあるの
で、この検出部１８ａにて検出されるＹテーブル１４の
位置データは、該Ｙテーブル１４の両側縁部を支持して
いる一対のＹ軸主レール１５との相対位置を平均したも
のになるので、搭載されている被加工物の実際の位置変
化を正確に把握することができる。そして、このよう
に、１台のＹ軸リニアエンコーダ１８の検出結果に基づ
く位置制御を、２台のＹ軸リニアモータ１７が同期して
行うようにしてあると、一方のリニアモータ１７に位置
制御されたＹテーブル１４が他方のリニアモータ１７の
位置制御で姿勢を変化させるという現象が発生しなくな
るので、移送した被加工物の位置ずれが回避できて加工
精度が向上する。

【００２３】ここで、Ｘテーブル１０やＹテーブル１４
がＸ軸レール部１１ａ群やＹ軸レール群１５，１６に向
けて圧縮空気を吹き出すエアー吹き出し面の形状につい
て、図６，７を参照しつつ説明する。なお、これらの図
ではＸテーブル１０の脚部のエアー吹き出し面（レール
対向面）１０ｂを示しているが、Ｘテーブル１０のうち
Ｘ軸レール部１１ａ群の上面と対向する面や、Ｙテーブ
ル１４のうちＹ軸主レール１５群の上面（頂面１５ａ）
や両側面（突部１５ｂ）と対向する面、あるいはセンタ
ーレール１６の上面（頂面１５ａ）と対向する面も、ほ
ぼ同形状のエアー吹き出し面となっている。さて、図示
したＸテーブル１０のエアー吹き出し面１０ｂには、多
数のエアーノズル１０ｃが露出させてあるだけでなく、
隣り合うエアーノズル１０ｃどうしの間を横切って延び
る排気溝１０ｄが設けてあるので、エアーノズル１０ｃ
を介してエアーギャップ内へ供給された圧縮空気は、比
較的ギャップの間隙が広いこれらの排気溝１０ｄを通っ
て流れようとし、その結果、圧縮空気の排出流路が安定
したものとなる。特に、Ｙテーブル１４のエアー吹き出
し面に同様の排気溝を設けて圧縮空気の排出流路の安定
化を図っていることから、Ｙテーブル１４上でのＸテー
ブル１０の移動によっていずれか一方のＹ軸主レール１
５の上面側のエアーギャップが若干広くなったときに
も、そこへ他所から多量の圧縮空気が流入して不規則な
空気流が生成されてしまう虞はなく、それゆえエアーギ
ャップ内での不規則な空気流に起因する振動の発生を回
避することが可能となっている。

【００２４】なお、本実施例ではエアー吹き出し面に、
隣り合うエアーノズルどうしの間を横切って延びる排気
溝を設けた場合について例示しているが、各エアーノズ
ルの周囲に設ける排気溝の平面形状を、該エアーノズル
を略中心とする方形、あるいは田字形に設定することに
より、圧縮空気の排出流路を一層安定させることもでき
る。

【００２５】次いで、本実施例におけるＹ軸レール群１
５，１６の取り付け構造について述べる。Ｙテーブル１
４を摺動自在に支持する一対のＹ軸主レール１５とセン
ターレール１６は、いずれも、定盤３の上面に設けた取
付溝３ａ内にレール底部を挿入することにより、この取
付溝３ａの内壁面にて幅方向に位置決めされるように設
計してあるので、Ｙテーブル１４上に支持されたＸテー
ブル１０の移動に伴って各レール１５，１６に対し幅方
向に外力が加わったとしても、定盤３に位置規制される
ため、これらのレール１５，１６が位置ずれを起こす心
配はない。

【００２６】また、本実施例では前述したように、ＸＹ
テーブル２の構成要素である吸着テーブル９、Ｘテーブ
ル１０、支持台１１、Ｙテーブル１４、Ｙ軸レール群１
５，１６等の材料に、熱膨張係数が小さくて機械的強度
が特に高い石材として知られるインディアンブラック
（グラナイトの一種）を選択しているので、使用時に大
きな引っ張り力や圧縮力、曲げ応力などが加わるＸＹテ
ーブル２の各構成要素の耐久性が向上し、長期間使用し
ても各テーブル１０，１４や支持台１１や各レール群１
５，１６に亀裂等の損傷が生じにくくなっている。しか
も、装置の土台で面積が大きい定盤３の材料には、熱膨
張係数が特に小さい石材として知られるラステンバーグ
（グラナイトの一種）を選択しているので、大面積の定
盤３であっても温度変化に伴う膨張量や収縮量は極めて
少ない。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるＸＹ
テーブルは、下テーブルの両側縁部を移動自在に支持す
る少なくとも２本の主レールと、これら主レール間に位
置して下テーブルを移動自在に支持する補助レール（例
えばセンターレール）とが設けてあるので、上テーブル
が下テーブル上の中央部付近に位置しても該下テーブル
に撓みが生じる虞がなくなり、また、上テーブルが下テ
ーブル上の一方の側縁部に位置しても、他方の側でエア
ーギャップが不所望に広くならないことから該下テーブ
ルの振動発生が防止でき、それゆえ、被加工物の大面積
化に対応できる高信頼性が得られるという優れた効果を
奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係るＸＹテーブルの正面図である。

【図２】一部を図示省略した該ＸＹテーブルの側面図で
ある。

【図３】該ＸＹテーブルを含むレーザ加工機の全体側面
図である。

【図４】該レーザ加工機を覆う安全カバーの図３に対応
する個所の側面図である。

【図５】図１，２に示すＸＹテーブルに組み込まれてい
るＹ軸リニアモータの側面図である。

【図６】該ＸＹテーブルのうちのＸテーブルの脚部を示
す断面図である。

【図７】図６に示すＸテーブルの脚部のエアー吹き出し
面を示す平面図である。

【図８】該ＸＹテーブルのうちの吸着テーブルを示す平
面図である。

【図９】図８に示す吸着テーブルの支持構造を示す説明
図である。

【符号の説明】

１加工機本体２ＸＹテーブル３定盤（ベース盤）９吸着テーブル１０Ｘテーブル（上テーブル）１１支持台１１ａＸ軸レール部１２Ｘ軸リニアモータ（第１の駆動手段）１３Ｘ軸リニアエンコーダ１４Ｙテーブル（下テーブル）１５Ｙ軸主レール１６センターレール（Ｙ軸補助レール）１７Ｙ軸リニアモータ（第２の駆動手段）１８Ｙ軸リニアエンコーダ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被加工物が搭載される上テーブルと、該
上テーブルを移動自在に支持する上レール群と、該上レ
ール群に沿って前記上テーブルを往復直線移動させる第
１の駆動手段と、前記上レール群を載置した下テーブル
と、前記上レール群と直交する方向に延びて前記下テー
ブルを移動自在に支持する下レール群と、該下レール群
に沿って前記下テーブルを往復直線移動させる第２の駆
動手段と、前記上テーブルと前記上レール群との間、お
よび前記下テーブルと前記下レール群との間にそれぞ
れ、摩擦力低減用の圧縮空気を供給するノズルとを備
え、前記下レール群を、前記下テーブルを支持する少な
くとも２本の主レールと、これら主レール間に位置する
少なくとも１本の補助レールとにより構成したことを特
徴とするＸＹテーブル。
【請求項２】請求項１の記載において、前記下テーブ
ルの移動時に、前記主レールの上面および両側面と該テ
ーブルとの間に圧縮空気を供給し、且つ前記補助レール
の上面と該テーブルとの間に圧縮空気を供給するように
構成したことを特徴とするＸＹテーブル。
【請求項３】請求項１の記載において、断面凹状の支
持台を前記下テーブル上に設け、前記支持台の両側面に
凸条を設けて上レール群と成し、該上レール群とこれら
上レール群をそれぞれ嵌める前記上テーブルの受け部と
の間に圧縮空気を供給するように構成したことを特徴と
するＸＹテーブル。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載のＸ
Ｙテーブルを備えたことを特徴とするＸＹテーブル付き
加工機。
【請求項５】請求項４に記載の加工機がレーザ加工機
であることを特徴とするＸＹテーブル付き加工機。