JPH09134902A

JPH09134902A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH09134902A
Application number: JP31464995A
Authority: JP
Inventors: Yasumasa Shima; 泰正志摩
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1995-11-07
Filing date: 1995-11-07
Publication date: 1997-05-20

Abstract

(57)【要約】【課題】基板に供給する処理液の流量を正確に、か
つ、容易に制御することのできる基板処理装置を提供す
ることを目的とする。【解決手段】基板処理装置は、薬液ユニット１と、第
１スプレーユニット２と、超音波ユニット３と、第２ス
プレーユニット４の４つの処理ユニットを備える。処理
液は、流量制御弁８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄおよび流量計
９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄを介して各処理ユニット１、
２、３、４に供給される。これらの流量制御弁８ａ、８
ｂ、８ｃ、８ｄおよび流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ
は、制御部２０のＣＰＵ２２と接続されており、また、
このＣＰＵ２２には、表示手段としてのＣＲＴ２４と入
力手段としてのキーボード２５とが接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示パネル用ガラス基板等の基板に処理液を供給す
ることにより基板を処理する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板処理装置においては、例えば
タンクに貯留された処理液をポンプによりスプレーノズ
ルに供給し、この処理液をスプレーノズルより基板にス
プレーすることにより、基板を処理液で処理している。
そして、基板に供給する処理液の供給量を所望の値とす
るために、オペレータが処理液供給管路に設けられた流
量計を目視で確認し、流量制御弁を操作することにより
流量の調整を行っている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような流量の調整
は、処理を行う基板の種類やレシピが変更される度に行
う必要があるが、上記のようにオペレータによる作業で
あることから、流量の調整を忘れたり、調整後の流量に
オペレータの個人差による誤差が生じたりするという調
整ミスが生じる場合がある。特に、複数の処理ユニット
を列設することにより基板に複数の処理を行う基板処理
装置においては、調整箇所が複数あることから、上記調
整ミスは発生しやすい。このような調整ミスが発生する
と、基板に対する処理が不適切なものとなり、歩留まり
を下げる原因となる。

【０００４】また、複数の処理ユニットを列設すること
により基板に複数の処理を行う基板処理装置は、例えば
数メートル程度の大きさを有することから、オペレータ
が各処理ユニットの流量を調整するためには、各処理ユ
ニット毎にその流量調整部まで移動して作業を行う必要
があり、作業が煩雑なものとなるとともに、オペレータ
の移動によりパーティクルが発生する原因にもなる。

【０００５】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたものであり、基板に供給する処理液の流量を正確
に、かつ、容易に制御することのできる基板処理装置を
提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明に係る基板処理
装置は、基板に処理液を供給することにより基板を処理
する複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットに
供給すべき処理液の流量値を入力する単一の入力手段
と、前記複数の処理ユニットに処理液を供給する複数の
処理液供給手段と、前記処理液供給手段により前記処理
ユニットに供給される処理液の流量値を検出する複数の
流量検出手段と、前記複数の流量検出手段により検出し
た処理液の流量値を表示する単一の表示手段と、前記入
力手段より入力した処理液の流量値と前記複数の流量検
出手段により検出した処理液の流量値とに基づいて、前
記複数の処理液供給手段による処理液の供給量を制御す
る流量制御手段と、を備えたことを特徴とする。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいてこの発明の
実施の形態を説明する。図１はこの発明に係る基板処理
装置の側面概要図である。

【０００８】この基板処理装置は、薬液ユニット１と、
第１スプレーユニット２と、超音波ユニット３と、第２
スプレーユニット４の４つの処理ユニットを備える。処
理を行うべき基板は、図示しないコンベアにより基板の
パスライン５に沿って搬送され、各処理ユニット１、
２、３、４を通過することにより処理液の供給を受け、
所望の処理が施される。

【０００９】薬液ユニット１は、処理液としてアルカリ
性の薬液を使用し、基板の処理を行うユニットである。
この薬液ユニット１においては、タンク６ａに貯留され
た薬液が、ポンプ７ａにより流量制御弁８ａおよび流量
計９ａを介して上下一対のスプレーノズル１１に供給さ
れ、このスプレーノズル１１より基板の両面にスプレー
される。

【００１０】第１スプレーユニット２は、処理液として
純水を使用し、基板に付着した薬液を洗い流すためのユ
ニットである。この第１スプレーユニット２において
は、タンク６ｂに貯留された純水が、ポンプ７ｂにより
流量制御弁８ｂおよび流量計９ｂを介して上下一対のス
プレーノズル１２に供給され、このスプレーノズル１２
より基板の両面にスプレーされる。

【００１１】超音波ユニット３は、処理液として超音波
振動が付与された純水を使用し、基板の表面に付着した
比較的小さいパーティクルを除去するユニットである。
この超音波ユニット３においては、タンク６ｃに貯留さ
れた純水が、ポンプ７ｃにより流量制御弁８ｃおよび流
量計９ｃを介して上下一対の超音波ノズル１３に供給さ
れ、この超音波ノズル１３により超音波振動を付与され
た後、基板の両面に吐出される。

【００１２】第２スプレーユニット４は、処理液として
純水を使用し、基板を最終的に洗浄するためのユニット
である。この第２スプレーユニット４においては、純水
供給源より所定の圧力をもって供給された清浄な純水
が、開閉弁１０、流量制御弁８ｄおよび流量計９ｄを介
して上下一対のスプレーノズル１４に供給され、このス
プレーノズル１４より基板の両面にスプレーされる。

【００１３】なお、第２スプレーユニット４において使
用された純水は、管路１８を介して超音波ユニット３に
おけるタンク６ｃに供給される。また、超音波ユニット
３において使用された純水は、管路１９を介して第１ス
プレーユニット２におけるタンク６ｂに供給される。第
１スプレーユニット２において使用された純水は管路１
５を介して装置外へ排出される。この構成により、基板
処理装置全体で使用する純水の使用量を節約することが
可能となる。

【００１４】上述した各流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ
は、例えば流路中に配設された障害物により発生する処
理液のカルマン渦を検出してその流量値を測定し、測定
した流量値を電気信号として出力するものが使用され
る。なお、この流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄとして
は、検出した流量値を電気信号として出力するものであ
れば、各種の構成のものが使用し得る。

【００１５】また、上述した各流量制御弁８ａ、８ｂ、
８ｃ、８ｄは、例えば付与される電気信号に応じてモー
タを回転することにより、弁をアナログ的に開閉して流
量を調整するものが使用される。なお、この流量制御弁
８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄとしては、電気信号に応じてそ
こを通過する処理液の流量を増減できるものであれば、
各種の構成のものが使用し得る。

【００１６】なお、薬液ユニット１、第１スプレーユニ
ット２および超音波ユニット３においては、処理液を供
給するためにポンプ７ａ、７ｂ、７ｃを使用している
が、第２スプレーユニット４のようにポンプを省略し、
処理液供給源から所定の圧力で供給される処理液を直接
流量制御弁８ａ、８ｂ、８ｃに供給するようにしてもよ
い。また、タンク６ａ、６ｂ、６ｃに窒素ガス等の不活
性ガスを供給することにより処理液に圧力を付与し、こ
の処理液を直接流量制御弁８ａ、８ｂ、８ｃに供給する
ことも可能である。

【００１７】この基板処理装置により基板を処理する場
合には、図示しないコンベアにより基板をパスライン５
に沿って搬送する。これにより、基板は、薬液ユニット
１、第１スプレーユニット２、超音波ユニット３、第２
スプレーユニット４を順次通過してその両面に処理液の
供給を受け、所望の処理が施される。第二スプレーユニ
ット４を通過した基板は、図示しないエアナイフによ
り、その両面に付着した純水を除去され、次工程に搬送
される。

【００１８】次に、処理液の供給量を制御するための構
成について説明する。図２は処理液の供給量を制御する
ための構成を示すブロック図である。

【００１９】図１に示す流量制御弁８ａ、８ｂ、８ｃ、
８ｄおよび流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄは、インタフ
ェース２１を介して制御部２０のＣＰＵ２２と接続され
ている。また、このＣＰＵ２２には、インターフェース
２３を介して、表示手段としてのＣＲＴ２４と入力手段
としてのキーボード２５とが接続されている。

【００２０】この基板処理装置により基板を処理する場
合には、予めキーボード２５より、各処理ユニット１、
２、３、４に供給すべき処理液の流量値を入力してお
く。この流量値は、ＣＲＴ２４に表示されるとともに、
制御部２０のＲＡＭ２７に記憶される。

【００２１】この状態で基板処理装置を稼働させる。基
板がパスライン５に沿って搬送されると、その搬送位置
に応じて、ポンプ７ａ、７ｂ、７ｃが順次駆動し、各処
理液がタンク６ａ、６ｂ、６ｃよりスプレーノズル１
１、１２および超音波ノズル１３に向けて供給される。
また、開閉弁１０が開放され、純水がスプレーノズル１
４に向けて供給される。そして、各流量調整弁８ａ、８
ｂ、８ｃ、８ｄが、インタフェース２１を介して制御部
２０のＣＰＵ２２からの信号を受け、そこを通過する処
理液の流量値が予め入力された流量値に一致するように
弁を開閉制御する。

【００２２】また、各流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ
は、そこを通過する処理液の流量値を検出し、その流量
値を制御部２０のＣＰＵに出力する。制御部２０におい
ては、各流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄから受け取った
流量値を、先に入力された流量値とともにＣＲＴ２４に
表示する。また、この流量値とＲＡＭ２７に記憶した流
量値とを比較し、それらの値に差異がある場合には、各
流量制御弁８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄに対し流量の補正信
号を出力することによりフィードバック制御を行い、各
処理ユニット１、２、３、４に供給される処理液の流量
値を予め入力した流量値と一致させる。

【００２３】これにより、各処理液は、スプレーノズル
１１、１２、超音波ノズル１３、およびスプレーノズル
１４より、各処理ユニット１、２、３、４に所望の量だ
け供給され、そこを通過する基板に対し適切な処理がな
される。このとき、予め入力した処理液の流量値と実際
に各処理ユニット１、２、３、４に供給されている処理
液の流量値とは、いずれも単一のＣＲＴ２４上に表示さ
れているので、オペレータが容易にその確認を行うこと
ができる。また、何らかの原因で処理液供給工程に異常
が発生した場合においても、その状態をＣＲＴ２４上で
確認することが可能となる。

【００２４】処理を行う基板の種類やレシピが変更さ
れ、処理液の流量値を変更する場合には、オペレータが
キーボード２５より新たな流量値を入力する。この入力
値は、上述した場合と同様に、ＣＲＴ２４に表示される
とともに、制御部２０のＲＡＭ２７に記憶される。ま
た、各流量調整弁８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄが、インタフ
ェース２１を介して制御部２０のＣＰＵ２２からの信号
を受け、そこを通過する処理液の流量値が予め入力され
た流量値に一致するように弁を開閉制御する。そして、
上述した場合と同様にフィードバック制御を行うことに
より、各処理ユニット１、２、３、４に所望の流量の処
理液を供給する。

【００２５】この場合においても、オペレータは、キー
ボード２５より新たな流量値を入力するのみで必要な流
量値を設定することができ、また、その流量値を単一の
ＣＲＴ２４上で確認することができる。このため、従来
の装置のように、各処理ユニット１、２、３、４の流量
調整部まで移動して流量の調整を行うという作業が不要
となる。

【００２６】上述した実施の形態においては、ポンプ７
ａ、７ｂ、７ｃにより供給された処理液の流量を流量調
整弁８ａ、８ｂ、８ｃにより調整する場合について述べ
たが、付与される電気信号に応じてその流量を増減し得
る流量可変型のポンプ等を使用する場合には、流量調整
弁８ａ、８ｂ、８ｃを省略し、流量可変型のポンプを流
量制御手段として使用してもよい。

【００２７】また、上述した実施の形態においては、流
量調整弁８ａ、８ｂ、８ｃと流量計９ａ、９ｂ、９ｃ、
９ｄとを別個に設けているが、流量値の検出と制御を同
時に行える流量制御型の流量計を使用することもでき
る。この場合においては、流量制御型の流量計は、流量
検出手段および流量制御手段として作用する。

【００２８】さらに、上述した実施の形態においては、
基板をコンベア等によりパスラインに沿って移動させな
がら処理液を供給するものについて説明したが、基板を
回転させながら処理液を供給してその処理を行う回転型
の基板処理ユニットを複数個列設し、メカニカルなアー
ムにより回転型の基板処理ユニット間で基板を搬送する
基板処理装置においても、この発明は適用が可能であ
る。

【００２９】

【発明の効果】この発明は、単一の入力手段により複数
の処理ユニットに供給すべき処理液の流量値を入力する
ことで、各処理ユニットに必要な量の処理液を正確に供
給することが可能となり、また、単一の表示手段により
各処理ユニットに供給されている処理液の流量値を確認
することが可能となる。このため、複数の処理ユニット
における各流量値の変更を忘れたりすることなく、正確
に設定することができる。

【００３０】また、オペレータが単一の入力装置で各処
理ユニットの流量を設定することが可能となるので、従
来のように各処理ユニット毎にその流量調整部まで移動
して作業を行う必要がなく、流量設定作業を効率的に行
うことができるとともに、オペレータの移動によって生
じるパーティクルの発生も防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る基板処理装置の側面概要図であ
る。

【図２】処理液の供給量を制御するための構成を示すブ
ロック図である。

【符号の説明】

１薬液ユニット２第１スプレーユニット３超音波ユニット４第２スプレーユニット５パスライン６ａ、６ｂ、６ｃ、タンク７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄポンプ８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ流量調整弁９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ流量計１０開閉弁２０制御部２４ＣＲＴ２５キーボード

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に処理液を供給することにより基板
を処理する複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニットに供給すべき処理液の流量値を
入力する単一の入力手段と、前記複数の処理ユニットに処理液を供給する複数の処理
液供給手段と、前記処理液供給手段により前記処理ユニットに供給され
る処理液の流量値を検出する複数の流量検出手段と、前記複数の流量検出手段により検出した処理液の流量値
を表示する単一の表示手段と、前記入力手段より入力した処理液の流量値と前記複数の
流量検出手段により検出した処理液の流量値とに基づい
て、前記複数の処理液供給手段による処理液の供給量を
制御する流量制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。