JPH0896418A - 光ディスク及び光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 再生信号の振幅を略一定範囲に留め、高密度
化記録にあっても確実に再生信号を２値化することがで
きる光ディスクを提供するにある。 【構成】 光ディスクでは、密なパターンで配列された
複数のピットＰ1 及びピット間の複数のブランクからな
る最密プリピット列及び疎なパターンで配列された複数
のピットＰ2 及びピット間の複数のブランクからなる疎
ピット列を有している。このようなピット列において、
ビームスポットｃ1 が最密プリピット列において１つの
ブランク及びこれに連続する２個のプリピットの両端に
まで広がる関係にあり、或いは、最密プリピット列の１
つのプリピットが光ビームスポットｄ1 の中に入る大き
さの関係にある場合には、プリピット及びブランクが設
定されている光ディスクにおいて、最密ピット列のプリ
ピットとその間のブランク部分のデューティ比をブラン
ク部分の方が短くなるように設定し、他のピット列のブ
ランク部分は、最密ピット列のブランクの長さに設定さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、光ディスク及びこの
光ディスクの製造方法に係り、特に、高密度の記録が可
能な光ディスク及びこの光ディスクにプリフォーマット
を形成記録する記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報の大容量化に伴い、これを保
存するメモリとして光ディスクが注目されている。光デ
ィスクは、直径約１μｍのビームスポットに集光したレ
ーザビームにより記録膜上に略同一サイズの記録マーク
が形成される為、極めて高密度の記録が可能である。光
ディスクは、ＣＤ、或いは、ＬＤで代表される再生専用
型、電子ファイリング装置等で代表される１回の書き込
みのみが可能な追記型、及びＨＤＤ、或いは、ＦＤＤと
同様に書換可能なリライタブル型に大別される。更に、
リライタブル型の光ディスクには、垂直磁化膜に磁界を
印加すると共にレーザビームを照射して情報を記録・消
去する光磁気記録方式及びレーザビームの照射により、
記録膜を非晶質と結晶質とに選択的に変化させれること
により情報を記録・消去する相変化記録方式がある。

【０００３】近年、これらの光ディスクの高密度化に伴
い、予め、光ディスク上に書かれているエンボス状のピ
ット情報も益々高密度化されている。ピットマーク列と
して、例えば、図８（ａ）及び（ｂ）に示すようなプリ
アンブル部分がエンボスピットＰ1 の最密パターンであ
り、これに続いてヘッダー等のそれ以外の比較的疎なピ
ットＰ2 のパターンが配列されている場合、通常、最密
パターンの間隔が光ビームスポットに対して十分に離間
されていれば、図８（ｂ）に示すように光ビームスポッ
トＢs が２つのピットＰ1 、Ｐ2 に同時に照射されるよ
うなことがなく、最密パターン信号振幅と最疎パターン
の信号振幅とは、図８（ｃ）に示すようにそれほど変化
せず、図８（ｃ）に破線で示すように２値化のスレショ
ルドレベルＴｈをほぼ一定とすることができる。このよ
うな配列に対して情報の高密度化記録のために、図９
（ａ）及び（ｂ）に示すように最密パターンのエンボス
ピットＰ1 の間隔が狭められると、図９（ｂ）に実線で
示すように光ビームスポットＢs が２つの最密ピットに
同時に形成されるようになり、図９（ｃ）に示すように
再生信号の上端が低くなり、下端が高くなって結果的に
最密パターンの信号振幅が小さくなる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】図８（ｃ）及び図９
（ｃ）に示されるの再生信号波形の２値化為にスライス
レベルを設定すると場合には、図８（ｃ）に示すように
最密パターンの信号振幅と比較的疎のパターンの信号振
幅とが略同一の場合には、既に説明したようにスライス
レベルＴｈが略一定し、パターンの変わり目でそれほど
変化されない。これに対して、図９（ｃ）に示すように
最密パターンの信号振幅と他のパターンの信号振幅とが
大きく異なる場合には、絶えず振幅の略中心に設定され
るスライスレベルＴｈ1 、Ｔｈ2 が信号振幅の変わり目
でその変化に追いつけず、ヘッダー部分のピット列が読
めなくなる問題がある。

【０００５】この発明は、上述のような事情に鑑みなさ
れたものであって、記録密度を上げたプリピットを再生
する場合において、最密パターンに続いて最疎パターン
を２値化する際のスライスレベル変動、または、最疎パ
ターンに続いて最密パターンを２値化する際のスライス
レベル変動を最小限に抑えるように、あらかじめプリピ
ットのパターンを形成した光ディスク及びその製造方法
を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明によれば、密な
パターンで配列された複数のピット及びピット間の複数
のブランクからなる最密プリピット列及び疎なパターン
で配列された複数のピット及びピット間の複数のブラン
クからなる疎ピット列を有し、このピット列に集光され
る集光ビームによってプリピット列上に形成されるビー
ムスポットが最密プリピット列において１つのブランク
及びこれに連続する２個のプリピットの両端にまで広が
り、或いは、最密プリピット列の１つのプリピットが光
スポットの中に入る大きさの関係にプリピット及びブラ
ンクが設定されている光ディスクにおいて、最密ピット
列のプリピットとその間のブランク部分のデューティ比
をブランク部分の方が短くなるように設定し、他のピッ
ト列のブランク部分は、最密ピット列のブランクの長さ
に設定されていることを特徴とする光ディスクが提供さ
れる。

【０００７】また、この発明によれば、密なパターンで
配列された複数のピット及びピット間の複数のブランク
からなる最密プリピット列及び疎なパターンで配列され
た複数のピット及びピット間の複数のブランクからなる
疎ピット列を有し、このピット列に集光される集光ビー
ムによってプリピット列上に形成されるビームスポット
が最密プリピット列において１つのブランク及びこれに
連続する２個のプリピットの両端にまで広がり、或い
は、最密プリピット列の１つのプリピットが光スポット
の中に入る大きさの関係にプリピット及びブランクが設
定されている光ディスクにおいて、最密ピット列のプリ
ピットとその間のブランク部分のデューティ比をブラン
ク部分の方が短くなるよう、また、他のピット列のブラ
ンク部分は、最密ピット列のブランクの長さに形成する
光ディスクの製造方法が提供される。

【０００８】更に、この発明によれば、密なパターンで
配列された複数のピット及びピット間の複数のブランク
からなる最密プリピット列及び疎なパターンで配列され
た複数のピット及びピット間の複数のブランクからなる
疎ピット列を有し、このピット列に集光される集光ビー
ムによってプリピット列上に形成されるビームスポット
が最密プリピット列において１つのブランク及びこれに
連続する２個のプリピットの両端にまで広がり、或い
は、最密プリピット列の１つのプリピットが光スポット
の中に入る大きさの関係にプリピット及びブランクが設
定されている光ディスクにおいて、最密ピット列のプリ
ピットとその間のブランク部分のデューティ比をブラン
ク部分の方が短くなるように設定されていることを特徴
とする光ディスクが提供される。

【０００９】更にまた、この発明によれば、密なパター
ンで配列された複数のピット及びピット間の複数のブラ
ンクからなる最密プリピット列及び疎なパターンで配列
された複数のピット及びピット間の複数のブランクから
なる疎ピット列を有し、このピット列に集光される集光
ビームによってプリピット列上に形成されるビームスポ
ットが最密プリピット列において１つのブランク及びこ
れに連続する２個のプリピットの両端にまで広がり、或
いは、最密プリピット列の１つのプリピットが光スポッ
トの中に入る大きさの関係にプリピット及びブランクが
設定されている光ディスクにおいて、最密ピット列のプ
リピットとその間のブランク部分のデューティ比をブラ
ンク部分の方が短くなるように形成する光ディスクの製
造方法が提供される。

【００１０】

【作用】最密ピット列のプリピットとその間のブランク
部分のデューティ比をブランク部分の方が短くなるよ
う、また、他のピット列のブランク部分が最密ピット列
のブランクの長さに形成されていることから、再生信号
の振幅を略一定範囲に留め、高密度化記録にあっても確
実に再生信号を２値化することができる。

【００１１】

【実施例】以下、この発明の実施例に係る光ディスク及
びこの光ディスクへのプリフォーマットの記録形成方法
を図面を参照にしながら説明する。

【００１２】図１は、この発明の光ディスクへのプリフ
ォーマットの記録方法によって形成されたプリフォーマ
ットピット列のパターンの１例が示されている。

【００１３】一般に、フォーマットされた、例えば、Ｍ
・ＣＡＶ方式でフォーマットされた光ディスクでは、ト
ラックが略同心円状に配列され、半径方向に複数のトラ
ックからなる複数の帯状の領域、即ち、複数のゾーンに
区分されるとともに円周方向に沿ってデータを記録する
単位としての複数のセクタに区分され、各ゾーンでは、
セクタ数が同一に設定されている。各ゾーン毎に、その
ゾーンに属するトラックからデータを再生する為、及
び、データを記録するの為の夫々異なる固有の所定周波
数を有するデータクロックが定められ、そのトラックの
ヘッダ部に予め記録されている。光ディスクの各ゾーン
の各セクタは、予めフォーマット情報として記録されて
いるプリフォーマットエリアとしてのヘッダ部と後にユ
ーザが情報を記録するデータエリアとしてのデータフィ
ールドとから構成されている。ヘッダ部は、１セクタの
開始を明示するセクタマーク部、データクロックを導出
する同期コードが記録されているＶＦＯ部、ＩＤ情報が
記録されているＩＤ部が複数個周期的に配列されてい
る。また、データフィ―ルドの最後尾には、次のセクタ
ーとデータフィ―ルドとの境を明らかにする為にデータ
が書き込まれていないギャップ領域が設けられている。
ＶＦＯ部、ＩＤ情報部、データフィ―ルドは、（２−
７）変調されたデータで、“１”と“１”の間に“０”
が２ヶ〜７ヶ挿入された形式の変調データで光ディスク
１上にピットマークが形成され、これが再生される。Ｉ
Ｄ部には、ＩＤ情報としてトラックナンバ、セクタナン
バ及びＣＲＣコードが記録されている。ＶＦＯ部には、
「１００１００１００…」のような一定周期で“１”が
読み出される同期コードが記録されている。これらの信
号は、再生信号としてデータ処理回路に供給され、この
データ処理回路において、各ゾーンに固有のデータクロ
ックでプリフォーマットデータとしてのＩＤ情報、即
ち、アドレス情報（トラック番号、セクタ番号等）及び
再生データが読み出される。

【００１４】この発明の光ディスクでは、ＶＦＯ部のよ
うに短いピット列が密に配列された最密パターンでは、
１と０に相当するパターンがデューティ比５０％で形成
するところを、信号が暗くなる凹部分、即ち、ピットが
凸部分、即ち、ピット間平坦部としてのブランクに対し
て長くなるように、例えば、デューティ比を６０％〜７
０％に設定されている。また、ＩＤ部のように比較的長
いピット列が配列される疎のパターンに対しても暗くな
る凹部分が通常設定よりも長く設定され、凸部分は、最
密パターンと同一に設定されている。

【００１５】このように、凹部分のデューティ比を多く
して、凸部分を短くした場合に高密度化しても２値化の
為のスレッショルドレベルの変動を抑制できる効果につ
いて説明する。

【００１６】まず、従来の光ディスクにおけるピット配
列を示す図９（ｂ）に示されるピット間の平坦部に略そ
の中心が形成されている光ビームスポットａ１及びａ２
に着目すると、最密パターンのプリピットがデューティ
比５０％で形成されるている場合、最密パターン部分で
の凸部と最疎パターン部分の凸部では、光ビームスポッ
トａ１とａ２内の明るい部分と暗い部分の比率は、全く
同一である。また、最密パターンと最疎パターンの凹
部、即ち、ピット内に略その中心が位置された光ビーム
スポットｂ１とｂ２に着目すると、最密パターン部分に
当たったスポット内の方が最疎パターン部分に当たった
スポット内より明るい部分が多いことがわかる。これに
より、最密パターンと最疎パターンの凸部から返ってく
る光の強度は、略同一で、凹部から返ってくる光の強度
は、疎のパターンの方がより暗くなっていることにな
る。従って、図９（ｃ）に示されるように再生信号が得
られることとなる。

【００１７】次に、本発明の記録方法で形成されたピッ
ト列について図１を参照して説明する。図１（ｂ）に示
すように最密パターンと最疎パターンの凸部に当たった
光ビームスポットｃ１とｃ２内では、明部と暗部の比率
は、同一であるが、図９（ｂ）に示すスポットａ１とａ
２の場合と比べると、明部が狭くなっているため、図１
（ｃ）に示すように明部から返ってくる光強度は、図９
（ｃ）の場合と比べてより暗くなっている。一方、図１
（ｂ）に示すように最密パターンと最疎パターンの凹部
に形成された光ビームスポットｄ１とｄ２内の明部と暗
部の比率は、最疎パターンの暗部の方が多いが、図１
（ｂ）に示す光ビームスポットｂ１と図１（ｂ）に示す
光ビームスポットｄ１を比較すると光ビームスポットｄ
１内の方が、暗部の比率が多くなっているのがわかる。

【００１８】以上のことを再生信号の信号レベルの絶対
値（図１（ｃ）及び図９（ｃ）に信号レベルＡ1 、Ａ2
、Ｂ1 、Ｂ2 、Ｃ1 、Ｃ2 、Ｄ1 、Ｄ2 で示されてい
る。）の関係で整理すると、 Ａ１＝Ａ２＞Ｃ１＝Ｃ２、Ｂ１＞Ｂ２、Ｄ１＞Ｄ２ 且つ、Ｂ１＞Ｄ１、Ｂ２＝Ｄ２ となり、再生信号の振幅で比較すると、 Ａ１−Ｂ１＜Ｃ１−Ｄ１、Ａ２−Ｂ２＞Ｃ２−Ｄ２ となり、図９と図１との比較から明らかなように、最密
パターンからの再生信号振幅は、より大きく、最疎パタ
ーンからの再生信号振幅は、より小さくなっている。結
果的に最密パターンと最疎パターンからの再生信号振幅
の相対的な変化量は、小さくなっていることになる。

【００１９】以下、実施例を用いて、本発明の光ディス
クの製造方法を説明する。

【００２０】（実施例の１）この発明の光ディスクを製
造するために用いられる光ディスク原盤を製造する工程
を図２を参照して説明する。まず、図２（ａ）に示され
ているようにガラス基板５が洗浄され、その後、このガ
ラス基板５が乾燥される。次に、図２（ｂ）に示すよう
に、このガラス基板５にフォトレジスト６が塗布され
る。なお、ガラス原板５にフォトレジスト６が塗布され
たものを光ディスク原盤とする。このフォトレジスト６
に対し、図２（ｃ）に示すようにフォーマット情報に応
じて変調されたレーザビーム７が対物レンズ８により集
光されてこのフォトレジスト６が感光される。この結
果、フォトレジスト６には、感光部９が形成される。そ
して図２（ｃ）に示す光ディスク原盤を現像することに
より、感光部９は除去され、図２（ｄ）に示されるよう
に、ピット１０が形成される。

【００２１】なお、通常、ピット１０の断面形状は矩形
あるいは台形である。そして従来の光ディスク原盤の膜
厚ｄは、再生信号が最大となる。λ／４ｎ（λ：再生レ
ーザ波長、ｎ：基板の屈折率）とし、膜厚ｄとピットの
深さｄを同一に設定している。

【００２２】この背景下で、原盤製造装置を用いて次の
ようなシュミレーションを行った。図９及び図１に符号
ｂ1 、ｄ1 に示すように、高密度記録をシミュレートす
るため、再生レーザビームのビームスポット中に最密パ
ターンに対応する最小ピットがすっぽり入ってしまう場
合を想定した。まず、従来例のピットの有る無しをデュ
ーティ比５０％とするため、フォトレジスト６に対して
レーザ光７のパルス幅をデューティ比５０％でオンオフ
して感光させた。実際に基板上に形成されるピットの長
さは、フォトレジストを塗った基板の回転スピードとレ
ーザ光のオンオフの時間で一義的に定まる。この例の場
合、再生光ビームは、波長６８５ｎｍで対物レンズのＮ
Ａ０．６であるので、基板上へ集光したレーザスポット
の直径は、約１μｍである。従って、この実験例では、
凹部のピット長が０．５μｍ、ピットが無い凸部長さも
０．５μｍとなるように原盤を作製した。ピットの無い
凹部の長さは、最密パターン以外の長いピットに続く場
合も同じ０．５μｍとなる。この原盤をサンプルＡと名
付けた。

【００２３】ついで、図１に示すように最密ピットパタ
ーンのデューテー比を変更した光ディスクにおける再生
信号の振幅変動が抑制される本発明の効果を確認するた
め、原盤を作製時に最密ピットパターンに対応して照射
レーザのパルスオンとオフのデューティ比を６０％と４
０％、７０％と３０％、８０％と２０％に変えて、フォ
トレジスト上に照射し、ディスク上で最密パターンに対
応した実際の物理ピット（凹部）とブランク（凸部）の
長さが、０．６μｍと０．４μｍ、０．７μｍと０．３
μｍ、０．８μｍと０．２μｍとなるような原盤を作製
し、これらをそれぞれサンプルＢ、サンプルＣ、サンプ
ルＤと名付けた。サンプルＢ，Ｃ，Ｄでは、最密パター
ン以外の長いピットに続くブランク（凸部）の長さが、
それぞれ０．４μｍ，０．３μｍ，０．２μｍであるこ
とは言うまでもない。これらの関係を図３（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示す。

【００２４】さて、このように作製した３．５インチの
サンプルＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄのディスク原盤を用いて、メッ
キを行い、スタンパーを作製した。これらのスタンパ
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを用いて更に、プラスチック基板成形を
行い、材質がポリカーボネートで直径３．５インチ、厚
さ１．２ｍｍのディスク基板Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを作製し
た。更に、これらのディスク基板を、真空蒸着器の中に
セットし、Ａｌからなる反射膜を成膜した。最終的に出
来た再生用のディスクサンプルを、最初の原盤に対応さ
せて同様にサンプルＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄと名付けた。

【００２５】これら３．５インチ径のサンプルディスク
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを図４に示すディスクドライブ装置に装
填して、再生信号の２値化実験を行った。図４に示され
たディスク２１をスピンドルモータ２２によって、所定
の回転数まで回転させた。ディスク２１は、先の原盤記
録によってピット状のグループ溝が形成されており、光
学ヘッド２０は、このグループ溝とディスクの面振れに
追従して動く様に、フォーカス駆動制御３１、トラック
駆動制御３２のそれぞれの回路で制御されている。ディ
スク表面２９にあるプリピットは、レーザドライバ回路
２７によって制御されたレーザビームで読み出され、光
学ヘッド２０によって再生され、この再生されたアナロ
グ信号は、プリアンプ２３によって増幅され、２値化回
路２４によって１，０の２値信号へ変換され、変復調回
路２５を通って、原盤記録した元の情報２６として再生
される。

【００２６】２値化回路２４では、アナログ信号を２値
化する為にある一定のスライスレベルを参照してそのレ
ベルより高い波形のピークが検出され、この検出出力と
して論理値１が出力される。また、そのレベルよりも低
い波形が検出されて論理値０が出力される。このような
スライスレベルは、一般に波形の振幅の中央に定められ
ている。

【００２７】これららのサンプルディスクＡ，Ｂ，Ｃ，
Ｄは、コンピュータ用のデータを情報として入力されて
いるため、まず、２値化回路のスライスレベルをＰＬＬ
で引き込むため、プリアンブルと呼ばれる最密記録のプ
リピットパターンとそれに続くデータのアドレスを示す
ヘッダー部分、更に引き続いてデータ部分となってい
る。

【００２８】この実施例では、プリアンブルに引き続く
ヘッダー部分を、このドライブの２値化回路で読めるか
どうかを試験した。その結果、サンプルＡ，Ｂディスク
ではプリアンブル部に続くヘッダー部で、スライスレベ
ルが大きく変動して、ヘッダーを読むことは出来なかっ
た。一方、サンプルＣ，Ｄディスクでは、通常どおりヘ
ッダーを読むことが出来た。図５（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）、（ｄ）には、この実験例で作製したサンプルデ
ィスクＡ及びＣの再生アナログ波形が示されている。図
５（ｃ）、（ｄ）では、プリアンブル信号とヘッダー信
号振幅の段差が激しいのに対して図５（ａ）、（ｂ）で
は、大部ゆるやかな変化になっていることが容易に理解
できる。従って、再生２値化信号処理時に最密パターン
とそれ以外、特に最疎パターンとの振幅変動を抑えて、
信号処理のスライスレベルを安定化させ、安定した２値
化ができることが判明した。

【００２９】本発明は、従来例及び実施例のいずれも、
プリピット部分が凹部で、ブランク部分が凸部で説明し
たが、反対にプリピット部分が凸で、ブランク部分が凹
である場合でも全く同様の効果が期待出来ることは、言
うまでもない。また、本発明は、基板にあらかじめプリ
ピットが形成されている場合について説明したが、基板
上に記録膜が成膜されていて、ドライブ装置のレーザ光
を記録膜上に集光して、追記形の記録、または消去可能
形の記録を行う場合であっても、全く同様の効果が期待
できることは言うまでもない。以下、相変化形の記録消
去可能光ディスクの実施例を説明する。

【００３０】（実施例の２）連続グループ溝を形成し
た、直径３．５インチ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネ
ート製基板上に、図６に示すように、ＺｎＳ・ＳｉＯ2
からなる誘電体膜５１を２７００Ａ、ＧｅＳｂＴｅの３
元合金からなる相変化形記録膜５２を２００Ａ、ＺｎＳ
・ＳｉＯ2 誘電体膜５３を２００Ａ、Ａｌ合金からなる
反射膜５４を２０００Ａ、この順に積層した相変化形光
ディスクに対して、図４に示す光ディスクドライブ装置
を用いて、記録再生を行った。

【００３１】パルス波形発生器３４により、生じた最密
パターン及び任意波形パターンをこの順にＡ／Ｄ変換器
３５を通した後、レーザドライブ回路２７によって光学
ヘッド２０を駆動し、光ディスク面でのレーザ記録パワ
ー１３ｍＷにて、相変化光ディスク２１に最密パターン
と任意パターンに対応したマークを記録した。この場合
レーザの波長は６８５ｎｍで対物レンズのＮＡは０．６
であるため、集光したレーザの直径は、約１μｍであ
る。相変化光ディスク２１は、未記録部の反射率が約２
０％で、記録を行うとマークの部分は１０％まで反射率
が下がる。

【００３２】記録された最小のマーク径は、約０．５μ
ｍで最短ピットピッチが約１．０μｍの場合について、
図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）のプリピットの場
合と同じ実験を行った。すなわち、記録のレーザのパル
ス幅を制御することにより、反射率１０％の暗い記録マ
ークの長さを０．５μｍ，０．６μｍ，０．７μｍ，
０．８μｍ、これに対応して、反射率が２０％の明るい
ブランク部分が０．５μｍ，０．４μｍ，０．３μｍ，
０．２μｍとなるように最密パターンの記録を行った。
また、それぞれの最密パターンの後には、記録マークが
任意の長さでブランク部分は、それぞれ０．５μｍ，
０．４μｍ，０．３μｍ，０．２μｍとなるように（１
−７）変調でマーク長記録に従い、データを記録した。
これらの記録データを図３に示したと同じ対応で、デー
タＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄとした。その後、レーザパワーを０．
７ｍＷにまで下げて、連続光にて再生した。２値化の方
式は、実験例１と同様に再生波形の中央をスライスし
た。この実験例２では、実験例１）とことなり、マーク
長記録方式が採用されていることから、再生波形とスラ
イスレブルが交差する部分をマークのエッジとして検出
し、その部分で論理値１を立て、それ以外を論理値０と
している。ＰＬＬは、実験例１と同様に最密パターンに
相当するプリアンブルで引き込んで、その後のデータ部
を２値化しようとしたところ、データＡは、判別できな
かったが、データＢ，Ｃ，Ｄは、記録したときの情報を
再生することが出来た。

【００３３】（実施例の３）図３（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）、（ｄ）に示したと同様に最密ピットパターンの
デューテー比が変更された図７（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）、（ｄ）に示すサンプルディスクＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
を用意して上述したと実験例１と同様の実験を行った。
但し、図７（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示すサン
プルディスクＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄでは、図３（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）とは、異なり最密パターン以外
の長いピットに続くブランク（凸部）の長さがすべて
０．５μｍに定められている。この実験例３では、凹部
のピット長が０．５μｍ、ピットが無い凸部長さも０．
５μｍとなるように原盤を作製した。ピットの無い凹部
の長さは、最密パターン以外の長いピットに続く場合も
同じ０．５μｍとなる。この原盤をサンプルＡと名付け
た。ついで、図１に示すように最密ピットパターンのデ
ューテー比を変更した光ディスクにおける再生信号の振
幅変動が抑制される本発明の効果を確認するため、原盤
を作製時に最密ピットパターンに対応して照射レーザの
パルスオンとオフのデューティ比を６０％と４０％、７
０％と３０％、８０％と２０％に変えて、フォトレジス
ト上に照射し、ディスク上で最密パターンに対応した実
際の物理ピット（凹部）とブランク（凸部）の長さが、
０．６μｍと０．４μｍ、０．７μｍと０．３μｍ、
０．８μｍと０．２μｍとなるような原盤を作製し、こ
れらをそれぞれサンプルＢ、サンプルＣ、サンプルＤと
名付けた。サンプルＢ，Ｃ，Ｄでは、最密パターン以外
の長いピットに続くブランク（凸部）の長さは、すべて
０．５μｍに定められた。これらの関係が図７（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）に示されている。

【００３４】さて、このように作製した３．５インチの
サンプルＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄのディスク原盤を用いて、実験
例１と同様にして再生用のディスクサンプルを製造し、
最初の原盤に対応させて同様にサンプルＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
と名付けた。

【００３５】これら３．５インチ径のサンプルディスク
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄを図４に示すディスクドライブ装置に装
填して、実験例１と同様に再生信号の２値化実験を行っ
た。その結果は、実験例１と同様にサンプルＡ，Ｂディ
スクでは、プリアンブル部に続くヘッダー部で、スライ
スレベルが大きく変動して、ヘッダーを読むことは出来
なかった。一方、サンプルＣ，Ｄディスクでは、通常ど
おりヘッダーを読むことが出来ることが確認された。従
って、最密ピットパターンのデューテー比が変更される
ことによって、再生２値化信号処理時に最密パターンと
それ以外、特に最疎パターンとの振幅変動を抑えて、信
号処理のスライスレベルを安定化させ、安定した２値化
ができることが判明した。

【００３６】以上、本発明によれば、光ディスク等の記
録媒体に対して、レーザビームの照射によって情報の記
録消去再生するものであって、最密パターンに対応した
最短記録マークと集光された光ビームスポット径（光の
中心強度が１／ｅ２になる部分の直径）の関係が、
（１）少なくとも光ビームスポット径が、最密パターン
に対応した２個の記録マーク両端にかかる場合、または
（２）最密パターンに対応した最短記録マーク１個が光
ビームスポットの中にほとんど入ってしまうかのいずれ
かの場合について、最密パターンに対応した最短記録マ
ークとその間のブランク部分のデューティ比をブランク
部分の方が短くなるように記録し、その他の疎のパター
ンに対するブランク部分は、最密パターンに対応したブ
ランクの長さと同じに記録している。従って、再生２値
化信号処理時に最密パターンとそれ以外、特に最疎パタ
ーンとの振幅変動を抑えて、信号処理のスライスレベル
を安定化させ、安定した２値化を行うことができる。

【００３７】

【発明の効果】以上のように、この発明の記録方法によ
れば、再生信号の振幅を略一定範囲に留め、高密度化記
録にあっても確実に再生信号を２値化することができる
光ディスクを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、この発明の光ディスクの高密度で配
列されたピット列を示す断面図、（ｂ）は、集光スポッ
ト径とこの高密度配列のプリピット列との関係を示す平
面図及び（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）から再生された再
生信号の波形図である。

【図２】図１に示された光ディスクを製造するための原
盤を製作する過程を概略的に示す断面図である。

【図３】図２に示される工程により製造された種々の原
盤から作られるサンプル光ディスクのピット列の種々の
例を示す平面図である。

【図４】図３に示されたサンプル光ディスクを再生する
ための光ディスク装置を概略的に示すブロック図であ
る。

【図５】図３に示したサンプルディスクから再生された
再生信号を示す波形図である。

【図６】この発明の記録方法が適用される光ディスクの
断面図である。

【図７】図２に示される工程により製造された種々の原
盤から作られるサンプル光ディスクのピット列の種々の
他の例を示す平面図である。

【図８】（ａ）は、従来の光ディスクのピット列を示す
断面図、（ｂ）は、集光スポット径とプリピット列との
関係を示す平面図及び（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）から
再生された再生信号の波形図である。

【図９】（ａ）は、従来の光ディスクの高密度で配列さ
れたピット列を示す断面図、（ｂ）は、集光スポット径
とこの高密度配列のプリピット列との関係を示す平面図
及び（ｃ）は、（ａ）及び（ｂ）から再生された再生信
号の波形図である。

【符号の説明】

Ｐ1 、Ｐ2 ・・・ピット Ｂs ・・・光ビームスポット ５・・・ガラス基板 ６・・・フォトレジスト ８・・・対物レンズ ９・・・感光部 ２０・・・光学ヘッド

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】密なパターンで配列された複数のピット及
   びピット間の複数のブランクからなる最密プリピット列
   及び疎なパターンで配列された複数のピット及びピット
   間の複数のブランクからなる疎ピット列を有し、このピ
   ット列に集光される集光ビームによってプリピット列上
   に形成されるビームスポットが最密プリピット列におい
   て１つのブランク及びこれに連続する２個のプリピット
   の両端にまで広がり、或いは、最密プリピット列の１つ
   のプリピットが光スポットの中に入る大きさの関係にプ
   リピット及びブランクが設定されている光ディスクにお
   いて、最密ピット列のプリピットとその間のブランク部
   分のデューティ比をブランク部分の方が短くなるように
   設定し、他のピット列のブランク部分は、最密ピット列
   のブランクの長さに設定されていることを特徴とする光
   ディスク。
2. 【請求項２】密なパターンで配列された複数のピット及
   びピット間の複数のブランクからなる最密プリピット列
   及び疎なパターンで配列された複数のピット及びピット
   間の複数のブランクからなる疎ピット列を有し、このピ
   ット列に集光される集光ビームによってプリピット列上
   に形成されるビームスポットが最密プリピット列におい
   て１つのブランク及びこれに連続する２個のプリピット
   の両端にまで広がり、或いは、最密プリピット列の１つ
   のプリピットが光スポットの中に入る大きさの関係にプ
   リピット及びブランクが設定されている光ディスクにお
   いて、最密ピット列のプリピットとその間のブランク部
   分のデューティ比をブランク部分の方が短くなるよう、
   且つ、他のピット列のブランク部分は、最密ピット列の
   ブランクの長さに形成する光ディスクの製造方法。
3. 【請求項３】密なパターンで配列された複数のピット及
   びピット間の複数のブランクからなる最密プリピット列
   及び疎なパターンで配列された複数のピット及びピット
   間の複数のブランクからなる疎ピット列を有し、このピ
   ット列に集光される集光ビームによってプリピット列上
   に形成されるビームスポットが最密プリピット列におい
   て１つのブランク及びこれに連続する２個のプリピット
   の両端にまで広がり、或いは、最密プリピット列の１つ
   のプリピットが光スポットの中に入る大きさの関係にプ
   リピット及びブランクが設定されている光ディスクにお
   いて、最密ピット列のプリピットとその間のブランク部
   分のデューティ比をブランク部分の方が短くなるように
   設定されていることを特徴とする光ディスク。
4. 【請求項４】密なパターンで配列された複数のピット及
   びピット間の複数のブランクからなる最密プリピット列
   及び疎なパターンで配列された複数のピット及びピット
   間の複数のブランクからなる疎ピット列を有し、このピ
   ット列に集光される集光ビームによってプリピット列上
   に形成されるビームスポットが最密プリピット列におい
   て１つのブランク及びこれに連続する２個のプリピット
   の両端にまで広がり、或いは、最密プリピット列の１つ
   のプリピットが光スポットの中に入る大きさの関係にプ
   リピット及びブランクが設定されている光ディスクにお
   いて、最密ピット列のプリピットとその間のブランク部
   分のデューティ比をブランク部分の方が短くなるように
   形成する光ディスクの製造方法。