JPH0894804A - 反射防止膜付きプラスチック部材およびその製法 - Google Patents
反射防止膜付きプラスチック部材およびその製法Info
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- JPH0894804A JPH0894804A JP6226950A JP22695094A JPH0894804A JP H0894804 A JPH0894804 A JP H0894804A JP 6226950 A JP6226950 A JP 6226950A JP 22695094 A JP22695094 A JP 22695094A JP H0894804 A JPH0894804 A JP H0894804A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 プラスチック部材表面に密着性、耐久性に優
れ、反射防止性能の変動が小さく、工業的量産化が容易
な反射防止膜付きプラスチック部材を提供することにあ
る。 【構成】 プラスチック部材の表面に、該表面側から空
気層側へ順に第１層、第２層の２層構造をしており、第
１層が酸化アルミニウム、第２層が弗化マグネシウムか
らなる反射防止膜を設けたプラスチック部材において、
酸化アルミニウムの屈折率が１．４９〜１．５４の範囲
にあることを特徴とする。
れ、反射防止性能の変動が小さく、工業的量産化が容易
な反射防止膜付きプラスチック部材を提供することにあ
る。 【構成】 プラスチック部材の表面に、該表面側から空
気層側へ順に第１層、第２層の２層構造をしており、第
１層が酸化アルミニウム、第２層が弗化マグネシウムか
らなる反射防止膜を設けたプラスチック部材において、
酸化アルミニウムの屈折率が１．４９〜１．５４の範囲
にあることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は反射防止膜付きプラスチ
ック部材に関する。詳しくは密着性に優れ、反射防止性
能の変動が小さい反射防止膜付きプラスチック部材に関
する。
ック部材に関する。詳しくは密着性に優れ、反射防止性
能の変動が小さい反射防止膜付きプラスチック部材に関
する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】液晶
ディスプレイやブラウン管等の表示画面を見る場合、窓
からの外光や室内照明が画面上で反射し、表示が見難く
なるとともに、ディスプレイ作業における疲労の原因と
も成っている。近年オフィス環境及び各種測定時でのデ
ィスプレイ画面を使用した作業は非常に多く、この問題
に対する対策が必要となっており、その一つの手法とし
て、表示画面の表面に反射防止層を設け、表示画質を向
上させることが行われている。
ディスプレイやブラウン管等の表示画面を見る場合、窓
からの外光や室内照明が画面上で反射し、表示が見難く
なるとともに、ディスプレイ作業における疲労の原因と
も成っている。近年オフィス環境及び各種測定時でのデ
ィスプレイ画面を使用した作業は非常に多く、この問題
に対する対策が必要となっており、その一つの手法とし
て、表示画面の表面に反射防止層を設け、表示画質を向
上させることが行われている。
【０００３】レンズ等の光学部材には従来より反射防止
層として弗化マグネシウム膜を付与することが行われて
おり、この技術の表示画面への応用が模索されている。
図１は、反射防止膜として弗化マグネシウムの単層膜を
形成したプラスチック部材の断面図であり、図２の３は
この時の反射スペクトルである。図２の４は比較のため
反射防止処理を行っていない場合のスペクトルである。
図１において、１はブラスチック部材、２は反射防止の
ために付与した弗化マグネシウム層である。図２に示す
通り、弗化マグネシウムの単層膜をプラスチックに付与
することにより優れた反射防止効果があることが解る。
弗化マグネシウム層は、通常、蒸着法により付与される
が、プラスチック部材の場合には、密着性、耐久性が悪
いと言った問題があり、これらの対策について様々な技
術が提案されている。
層として弗化マグネシウム膜を付与することが行われて
おり、この技術の表示画面への応用が模索されている。
図１は、反射防止膜として弗化マグネシウムの単層膜を
形成したプラスチック部材の断面図であり、図２の３は
この時の反射スペクトルである。図２の４は比較のため
反射防止処理を行っていない場合のスペクトルである。
図１において、１はブラスチック部材、２は反射防止の
ために付与した弗化マグネシウム層である。図２に示す
通り、弗化マグネシウムの単層膜をプラスチックに付与
することにより優れた反射防止効果があることが解る。
弗化マグネシウム層は、通常、蒸着法により付与される
が、プラスチック部材の場合には、密着性、耐久性が悪
いと言った問題があり、これらの対策について様々な技
術が提案されている。
【０００４】弗化マグネシウム層とプラスチック部材と
のを密着性を向上させる方法としては、プラスチック部
材表面をアルカリ性の溶液でケン化する方法が特公平１
ー１６２５６号に、密着性、耐久性を向上させる方法と
してはプラスチック部材表面にイオンガン照射を行う方
法が特開昭６１ー２９０４０２号に、さらにプラスチッ
ク部材表面に二酸化ケイ素の接着層を蒸着する方法が特
開昭６２ー１８６２０３号に示されている。
のを密着性を向上させる方法としては、プラスチック部
材表面をアルカリ性の溶液でケン化する方法が特公平１
ー１６２５６号に、密着性、耐久性を向上させる方法と
してはプラスチック部材表面にイオンガン照射を行う方
法が特開昭６１ー２９０４０２号に、さらにプラスチッ
ク部材表面に二酸化ケイ素の接着層を蒸着する方法が特
開昭６２ー１８６２０３号に示されている。
【０００５】しかし、プラスチック部材表面をケン化処
理する方法では、初期的な密着力は向上するが耐久性は
十分ではない。またイオンガン照射を行う方法では初期
密着強度は良好であり、耐久性の向上はかなり認められ
るものの、その効果は未だ十分ではなく、湿熱下の耐久
性条件では表面に微細なクラックが生じ、密着力も大幅
に低下する。また二酸化ケイ素の接着層を介して弗化マ
グネシウムを蒸着する方法においても密着性の向上は認
められるが、湿熱下における耐久性が悪く、更に二酸化
ケイ素の屈折率がプラスチック部材に比べて低いため、
第１層の二酸化ケイソの膜厚変動により反射スペクトル
が変化するという問題があった。
理する方法では、初期的な密着力は向上するが耐久性は
十分ではない。またイオンガン照射を行う方法では初期
密着強度は良好であり、耐久性の向上はかなり認められ
るものの、その効果は未だ十分ではなく、湿熱下の耐久
性条件では表面に微細なクラックが生じ、密着力も大幅
に低下する。また二酸化ケイ素の接着層を介して弗化マ
グネシウムを蒸着する方法においても密着性の向上は認
められるが、湿熱下における耐久性が悪く、更に二酸化
ケイ素の屈折率がプラスチック部材に比べて低いため、
第１層の二酸化ケイソの膜厚変動により反射スペクトル
が変化するという問題があった。
【０００６】更に特公昭６１−６０２号にはプラスチッ
ク部材表面に酸化アルミニウムの接着層を蒸着する方法
が示されている。この方法は弗化マグネシウムとプラス
チック部材との密着力は向上し、耐久性も良好である
が、酸化アルミニウム層の屈折率がプラスチック部材に
比べて高くすることを必要としており、第１層の酸化ア
ルミニウムの膜厚変動により反射スペクトルが変化し、
製造工程中で第１層の酸化アルミニウムの面内膜厚分
布、バッチ間膜厚変動等を十分に管理しなくては、所望
の反射防止性能を均一に、再現性良く得ることが非常に
困難であるという問題があった。
ク部材表面に酸化アルミニウムの接着層を蒸着する方法
が示されている。この方法は弗化マグネシウムとプラス
チック部材との密着力は向上し、耐久性も良好である
が、酸化アルミニウム層の屈折率がプラスチック部材に
比べて高くすることを必要としており、第１層の酸化ア
ルミニウムの膜厚変動により反射スペクトルが変化し、
製造工程中で第１層の酸化アルミニウムの面内膜厚分
布、バッチ間膜厚変動等を十分に管理しなくては、所望
の反射防止性能を均一に、再現性良く得ることが非常に
困難であるという問題があった。
【０００７】更に屈折率の高い酸化アルミニウム層は、
蒸着プロセスの厳密な管理、又はイオンプレーティング
等の装置上の付加設備が必要であり、工業的量産という
面からは問題かあった。
蒸着プロセスの厳密な管理、又はイオンプレーティング
等の装置上の付加設備が必要であり、工業的量産という
面からは問題かあった。
【０００８】このように、プラスチック部材と弗化マグ
ネシウムとの密着性向上と反射率変動のない均質な反射
防止膜を付与するという技術の両立は様々な検討におい
ても未だ達せられず、弗化マグネシウムが反射防止膜と
して実用化されるための大きな技術課題となっていた。
ネシウムとの密着性向上と反射率変動のない均質な反射
防止膜を付与するという技術の両立は様々な検討におい
ても未だ達せられず、弗化マグネシウムが反射防止膜と
して実用化されるための大きな技術課題となっていた。
【０００９】本発明の目的は、この様な問題に鑑みてな
されたものであり、密着性、耐久性に優れ、反射防止性
能の変動が小さく、工業的量産化が容易な反射防止膜付
きプラスチック部材を提供することにある。
されたものであり、密着性、耐久性に優れ、反射防止性
能の変動が小さく、工業的量産化が容易な反射防止膜付
きプラスチック部材を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、反射防止
層としての弗化マグネシウム層をプラスチック部材表面
に密着性良く付与することができ、なお且つ反射率変動
の小さく、均質な反射防止性能を得ることができ、工業
的量産性に優れた反射防止膜付きプラスチック部材につ
いて鋭意検討したところ、低屈折率の酸化アルミニウム
層がプラスチック部材と弗化マグネシウムとの接着層と
して有用であり、なお且つ反射防止性能の均質性に優れ
ることを見い出し本発明を完成させるに至った。
層としての弗化マグネシウム層をプラスチック部材表面
に密着性良く付与することができ、なお且つ反射率変動
の小さく、均質な反射防止性能を得ることができ、工業
的量産性に優れた反射防止膜付きプラスチック部材につ
いて鋭意検討したところ、低屈折率の酸化アルミニウム
層がプラスチック部材と弗化マグネシウムとの接着層と
して有用であり、なお且つ反射防止性能の均質性に優れ
ることを見い出し本発明を完成させるに至った。
【００１１】すなわち本発明は、プラスチック部材の表
面に、該表面側から空気層側へ順に第１層、第２層の２
層構造をしており、第１層が酸化アルミニウム、第２層
が弗化マグネシウムからなる反射防止膜を設けたプラス
チック部材において、酸化アルミニウムの屈折率が１．
４９〜１．５４の範囲にあることを特徴とする反射防止
膜付きプラスチック部材である。
面に、該表面側から空気層側へ順に第１層、第２層の２
層構造をしており、第１層が酸化アルミニウム、第２層
が弗化マグネシウムからなる反射防止膜を設けたプラス
チック部材において、酸化アルミニウムの屈折率が１．
４９〜１．５４の範囲にあることを特徴とする反射防止
膜付きプラスチック部材である。
【００１２】プラスチック部材としては特に限定される
ものではなく、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、ＰＥＴ、トリアセチルセルロ
ース等、真空プロセスに使用でき、屈折率が１．５５を
越えないものであればどの様なものでも良い。また反射
防止層の耐擦傷性を向上させる目的で表面の屈折率が
１．５５を越えない範囲で樹脂によるハードコートを施
されたものを使用するのも有効である。プラスチック部
材の形状もフィルム状、板状等でも良い。プラスチック
部材として偏光板を用いることにより、これを用いた液
晶ディスプレイにおいては、表面からの反射光を防ぎ、
鮮明でコントラストの良い表示が可能となり好ましい。
ものではなく、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、ＰＥＴ、トリアセチルセルロ
ース等、真空プロセスに使用でき、屈折率が１．５５を
越えないものであればどの様なものでも良い。また反射
防止層の耐擦傷性を向上させる目的で表面の屈折率が
１．５５を越えない範囲で樹脂によるハードコートを施
されたものを使用するのも有効である。プラスチック部
材の形状もフィルム状、板状等でも良い。プラスチック
部材として偏光板を用いることにより、これを用いた液
晶ディスプレイにおいては、表面からの反射光を防ぎ、
鮮明でコントラストの良い表示が可能となり好ましい。
【００１３】酸化アルミニウム、弗化マグネシウムの蒸
着方法についても特に限定されるものではなく、抵抗加
熱蒸着法、エレクトロンビーム（以下、ＥＢと略する）
加熱蒸着法、誘導加熱蒸着法、スパッタ法等、どの様な
手法を用いてもよい。第１層である酸化アルミニウム層
の膜厚は特に制限はないが、プラスチック部材と弗化マ
グネシウムとの密着性を向上させる役割を持たせるため
に、５０オングストローム以上が好ましい。またプラス
チック部材が熱に弱く、プラスチック部材の温度上昇を
防ぐ必要がある場合には、酸化アルミニウムの蒸着源か
らの熱の影響を出来るだけ避けるため、短時間で蒸着を
終了することが好ましく、酸化アルミニウムの膜厚は５
０〜２００オングストロームが例示できる。
着方法についても特に限定されるものではなく、抵抗加
熱蒸着法、エレクトロンビーム（以下、ＥＢと略する）
加熱蒸着法、誘導加熱蒸着法、スパッタ法等、どの様な
手法を用いてもよい。第１層である酸化アルミニウム層
の膜厚は特に制限はないが、プラスチック部材と弗化マ
グネシウムとの密着性を向上させる役割を持たせるため
に、５０オングストローム以上が好ましい。またプラス
チック部材が熱に弱く、プラスチック部材の温度上昇を
防ぐ必要がある場合には、酸化アルミニウムの蒸着源か
らの熱の影響を出来るだけ避けるため、短時間で蒸着を
終了することが好ましく、酸化アルミニウムの膜厚は５
０〜２００オングストロームが例示できる。
【００１４】またこの酸化アルミニウム層の屈折率は
１．４９〜１．５４である必要があり、更に好ましくは
１．５０〜１．５３である。この範囲に屈折率を設定す
ることにより、酸化アルミニウムの膜厚が変動した場合
でも、弗化マグネシウムを蒸着後の反射防止膜に反射率
変動は発生せず、弗化マグネシウムの膜厚コントロール
のみで反射率変動のない一定品質の反射防止膜を得るこ
とができる。この酸化アルミニウム層の屈折率が１．４
９より小さいか又は１．５４より大きい場合は酸化アル
ミニウム層の膜厚変動により弗化マグネシウムを蒸着し
た場合の反射防止膜に反射率の変動を生じることとな
る。
１．４９〜１．５４である必要があり、更に好ましくは
１．５０〜１．５３である。この範囲に屈折率を設定す
ることにより、酸化アルミニウムの膜厚が変動した場合
でも、弗化マグネシウムを蒸着後の反射防止膜に反射率
変動は発生せず、弗化マグネシウムの膜厚コントロール
のみで反射率変動のない一定品質の反射防止膜を得るこ
とができる。この酸化アルミニウム層の屈折率が１．４
９より小さいか又は１．５４より大きい場合は酸化アル
ミニウム層の膜厚変動により弗化マグネシウムを蒸着し
た場合の反射防止膜に反射率の変動を生じることとな
る。
【００１５】屈折率が１．４９〜１．５４の酸化アルミ
ニウム層を作製するためには、蒸着プロセスでのコント
ロールが必要であり、蒸着の場合、真空度を１×１０-5
Ｔｏｒｒから２×１０-4Ｔｏｒｒに設定することが好ま
しい。
ニウム層を作製するためには、蒸着プロセスでのコント
ロールが必要であり、蒸着の場合、真空度を１×１０-5
Ｔｏｒｒから２×１０-4Ｔｏｒｒに設定することが好ま
しい。
【００１６】第２層の弗化マグネシウム層の膜厚ｄは、
弗化マグネシウムの屈折率をｎ、反射防止を行う光の波
長をλとするとｄ＝λ／４ｎに設定され、λ＝５５０ｎ
ｍの場合、ｄは９５０〜１０５０オングストローム程度
となる。
弗化マグネシウムの屈折率をｎ、反射防止を行う光の波
長をλとするとｄ＝λ／４ｎに設定され、λ＝５５０ｎ
ｍの場合、ｄは９５０〜１０５０オングストローム程度
となる。
【００１７】酸化アルミニウム層をプラスチック部材と
弗化マグネシウム層との接着層とすることにより、プラ
スチック部材に付与した反射防止膜の密着性、耐久性を
向上させることが出来るが、更に密着性、耐久性の向上
を目的としてプラスチック部材表面又は弗化マグネシウ
ムの蒸着時に酸素イオンガンを照射することも有効であ
る。
弗化マグネシウム層との接着層とすることにより、プラ
スチック部材に付与した反射防止膜の密着性、耐久性を
向上させることが出来るが、更に密着性、耐久性の向上
を目的としてプラスチック部材表面又は弗化マグネシウ
ムの蒸着時に酸素イオンガンを照射することも有効であ
る。
【００１８】また、弗化マグネシウム表面の耐擦傷性向
上または、カップリング反応を使用した防汚処理を目的
として、弗化マグネシウム表面に酸化アルミニウム、二
酸化ケイ素等の金属酸化物層を付与することも有効であ
る。
上または、カップリング反応を使用した防汚処理を目的
として、弗化マグネシウム表面に酸化アルミニウム、二
酸化ケイ素等の金属酸化物層を付与することも有効であ
る。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を実施例で詳細に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２０】実施例１ プラスチック部材として、ポリビニルアルコールの延伸
フィルムを偏光子とし、その両面にトリアセチルセルロ
ースフィルムを貼合し、蒸着面にＵＶ硬化型のハードコ
ート層を有する偏光板を用い、表１に示すような構成で
反射防止膜付き偏光板を形成した。図３は表１の説明図
であり５は偏光板、６は酸化アルミニウム層、７は弗化
マグネシウム層である。蒸着は以下の条件で行った。第
１層の酸化アルミニウム層は、真空度５×１０-5Ｔｏｒ
ｒでＥＢ加熱蒸着を用いて行い、屈折率１．５２を有す
る光学膜厚０．０６λ（λ＝５５０ｎｍ、以下同じ。）
の層を形成させた。この状態から真空を保った状態で、
同じく真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により
第２層の弗化マグネシウムの蒸着を行い、光学膜厚０．
２５λの層を形成した。
フィルムを偏光子とし、その両面にトリアセチルセルロ
ースフィルムを貼合し、蒸着面にＵＶ硬化型のハードコ
ート層を有する偏光板を用い、表１に示すような構成で
反射防止膜付き偏光板を形成した。図３は表１の説明図
であり５は偏光板、６は酸化アルミニウム層、７は弗化
マグネシウム層である。蒸着は以下の条件で行った。第
１層の酸化アルミニウム層は、真空度５×１０-5Ｔｏｒ
ｒでＥＢ加熱蒸着を用いて行い、屈折率１．５２を有す
る光学膜厚０．０６λ（λ＝５５０ｎｍ、以下同じ。）
の層を形成させた。この状態から真空を保った状態で、
同じく真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により
第２層の弗化マグネシウムの蒸着を行い、光学膜厚０．
２５λの層を形成した。
【００２１】
【表１】
【００２２】上記反射防止膜について、耐擦傷性テスト
とあわせて耐久性テストを行った。耐擦傷性テストでは
スチールウールでの傷の付き易さを評価し、耐久性テス
トでは反射防止膜に発生するクラック等の表面異常及び
反射防止膜のプラスチック部材との密着力を測定した。
耐擦傷性テスト、耐久性テスト条件と評価項目は下記の
とおりである。結果を表７に示す。また、反射スペクト
ルを測定し、図４に示す。図４においてＡは上記の反射
防止膜付き偏光板のもの、Ｂは第１層の光学膜厚が０の
もの、Ｃは第１層の光学膜厚が０．２５λのもを示す
（以下、同じ）。反射率変動は、５５０ｎｍにおけるＢ
およびＣの反射率がＡの反射率に対してどの程度である
かを評価した。
とあわせて耐久性テストを行った。耐擦傷性テストでは
スチールウールでの傷の付き易さを評価し、耐久性テス
トでは反射防止膜に発生するクラック等の表面異常及び
反射防止膜のプラスチック部材との密着力を測定した。
耐擦傷性テスト、耐久性テスト条件と評価項目は下記の
とおりである。結果を表７に示す。また、反射スペクト
ルを測定し、図４に示す。図４においてＡは上記の反射
防止膜付き偏光板のもの、Ｂは第１層の光学膜厚が０の
もの、Ｃは第１層の光学膜厚が０．２５λのもを示す
（以下、同じ）。反射率変動は、５５０ｎｍにおけるＢ
およびＣの反射率がＡの反射率に対してどの程度である
かを評価した。
【００２３】〔耐擦傷性テスト〕 スチールウール（＃
００００）を用い、２５０／ｃｍ2で表面を擦り、傷の
付き具合を観察する。 （評価項目） 表面観察：微細なクラックの発生、膜の劣化（透明度の
低下）を観察 密着強度テスト：セロテープによる碁盤の目剥離テスト
（ＪＩＳ Ｋ５４００−１９９０）
００００）を用い、２５０／ｃｍ2で表面を擦り、傷の
付き具合を観察する。 （評価項目） 表面観察：微細なクラックの発生、膜の劣化（透明度の
低下）を観察 密着強度テスト：セロテープによる碁盤の目剥離テスト
（ＪＩＳ Ｋ５４００−１９９０）
【００２４】実施例２ 実施例１と同一の偏光板を用い、表２に示すような構成
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層の酸化アル
ミニウム層は、ＥＢ加熱蒸着を用い、真空度５×１０-5
Ｔｏｒｒで屈折率１．５０を有する光学膜厚０．０６λ
の層を形成させた。この状態から真空を保った状態で、
真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗化マ
グネシウムの蒸着を行った。この時、加速電圧５００ボ
ルト、加速電流４０ｍＡの条件で酸素イオンガン照射を
併用し、光学膜厚０．２５λの層を形成した。耐擦傷性
テスト、耐久性テスト結果を表７に示す。反射スペクト
ルを図５に示す。
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層の酸化アル
ミニウム層は、ＥＢ加熱蒸着を用い、真空度５×１０-5
Ｔｏｒｒで屈折率１．５０を有する光学膜厚０．０６λ
の層を形成させた。この状態から真空を保った状態で、
真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗化マ
グネシウムの蒸着を行った。この時、加速電圧５００ボ
ルト、加速電流４０ｍＡの条件で酸素イオンガン照射を
併用し、光学膜厚０．２５λの層を形成した。耐擦傷性
テスト、耐久性テスト結果を表７に示す。反射スペクト
ルを図５に示す。
【００２５】
【表２】
【００２６】比較例１ 実施例１と同一の偏光板を用い、表３に示すような構成
で反射防止膜付き偏光板を形成した。真空度フィルム
に、真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗
化マグネシウムの蒸着を行い、光学膜厚０．２５λの層
を形成した。耐擦傷性テスト、耐久性テスト結果を表７
に示す。
で反射防止膜付き偏光板を形成した。真空度フィルム
に、真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗
化マグネシウムの蒸着を行い、光学膜厚０．２５λの層
を形成した。耐擦傷性テスト、耐久性テスト結果を表７
に示す。
【００２７】
【表３】
【００２８】比較例２ 実施例１と同一の偏光板を用い、表４に示すような構成
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層に接着層と
して二酸化ケイ素、第２層に弗化マグネシウムを蒸着し
た構成とした。第１層の二酸化ケイ素は、真空度５×１
０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着を用いて行い、光学膜厚
０．０６λの層を形成した。この状態から真空を保った
状態で、同じく真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸
着により弗化マグネシウムの蒸着を行い、光学膜厚０．
２５λの層を形成した。耐擦傷性テスト、耐久性テスト
結果を表７に示す。反射スペクトルを図６に示す。
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層に接着層と
して二酸化ケイ素、第２層に弗化マグネシウムを蒸着し
た構成とした。第１層の二酸化ケイ素は、真空度５×１
０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着を用いて行い、光学膜厚
０．０６λの層を形成した。この状態から真空を保った
状態で、同じく真空度５×１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸
着により弗化マグネシウムの蒸着を行い、光学膜厚０．
２５λの層を形成した。耐擦傷性テスト、耐久性テスト
結果を表７に示す。反射スペクトルを図６に示す。
【００２９】
【表４】
【００３０】比較例３ 実施例１と同一の偏光板を用い、表５に示すような構成
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層に接着層と
して酸化アルミニウム、第２層に弗化マグネシウムを蒸
着した構成とした。第１層の酸化アルミニウム層は、Ｅ
Ｂ加熱蒸着をイオンプレーティングを用いて行い、屈折
率１．５７を有する光学膜厚０．０６λの層を形成させ
た。この状態から真空を保った状態で、真空度５×１０
-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗化マグネシウムの蒸
着を行い、光学膜厚０．２５λの層を形成した。耐擦傷
性テスト、耐久性テスト結果を表７に示す。反射スペク
トルを図７に示す。
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層に接着層と
して酸化アルミニウム、第２層に弗化マグネシウムを蒸
着した構成とした。第１層の酸化アルミニウム層は、Ｅ
Ｂ加熱蒸着をイオンプレーティングを用いて行い、屈折
率１．５７を有する光学膜厚０．０６λの層を形成させ
た。この状態から真空を保った状態で、真空度５×１０
-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗化マグネシウムの蒸
着を行い、光学膜厚０．２５λの層を形成した。耐擦傷
性テスト、耐久性テスト結果を表７に示す。反射スペク
トルを図７に示す。
【００３１】
【表５】
【００３２】比較例４ 実施例１と同一の偏光板を用い、表６に示すような構成
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層に接着層と
して酸化アルミニウム、第２層に弗化マグネシウムを蒸
着した構成とした。第１層の酸化アルミニウム層は、真
空度５×１０-4ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着を用いて行い、
屈折率１．４７を有する光学膜厚０．０６λの層を形成
させた。この状態から真空を保った状態で、真空度５×
１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗化マグネシウム
の蒸着を行い、光学膜厚０．２５λの層を形成した。耐
擦傷性テスト、耐久性テスト結果を表７に示す。反射ス
ペクトルを図８に示す。
で反射防止膜付き偏光板を形成した。第１層に接着層と
して酸化アルミニウム、第２層に弗化マグネシウムを蒸
着した構成とした。第１層の酸化アルミニウム層は、真
空度５×１０-4ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着を用いて行い、
屈折率１．４７を有する光学膜厚０．０６λの層を形成
させた。この状態から真空を保った状態で、真空度５×
１０-5ＴｏｒｒでＥＢ加熱蒸着により弗化マグネシウム
の蒸着を行い、光学膜厚０．２５λの層を形成した。耐
擦傷性テスト、耐久性テスト結果を表７に示す。反射ス
ペクトルを図８に示す。
【００３３】
【表６】
【００３４】
【表７】 ［耐擦傷性テスト］ ○ ： ハードコートより耐擦傷性に優れる × ： ハードコート以下の耐擦傷性を有する （ハードコートはアクリルウレタン系のものを使用） ［表面観察］ ○：良好 ×：不良（微小クラック等） ［密着強度］ ○：良好 ×：剥離発生 ［反射率変動］ ○：変動小さい（第１層の膜厚が光学膜厚０〜０．２５λに変化させる ことにより変動する反射率が２５％以下である） ×：変動大きい（第１層の膜厚が光学膜厚０〜０．２５λに変化させる ことにより変動する反射率が２５％より大きい）
【００３５】表７に示すとおり、本発明の反射防止膜付
き偏光板の耐擦傷性、耐久性は良好であり、第１層の酸
化アルミニウムの膜厚変動による反射率変動が小さい。
図４〜図８より実施例では反射率変動が２０％以下に収
まっているのに対し、比較例では３０％以上になってい
る。
き偏光板の耐擦傷性、耐久性は良好であり、第１層の酸
化アルミニウムの膜厚変動による反射率変動が小さい。
図４〜図８より実施例では反射率変動が２０％以下に収
まっているのに対し、比較例では３０％以上になってい
る。
【００３６】
【発明の効果】本発明の反射防止膜付きプラスチック部
材は耐擦傷性、耐久性に優れ、第１層の酸化アルミニウ
ムの膜厚変動による反射率変動が小さい。したがって、
大がかりな装置上の改良や付加工程なしに、プラスチッ
ク部材上に付与した弗化マグネシウム層の密着性を向上
させ、反射防止層の耐擦傷性、耐久性を大幅に改善する
ことができ、また接着層である酸化アルミニウムの膜厚
変動によっても反射率の変化がない工業的量産性に優れ
た反射防止膜を作製することができる。このことによ
り、弗化マグネシウムによる反射防止処理が実用化のレ
ベルに達すると共に、量産化に伴う大幅なコスト低減に
寄与するものである。
材は耐擦傷性、耐久性に優れ、第１層の酸化アルミニウ
ムの膜厚変動による反射率変動が小さい。したがって、
大がかりな装置上の改良や付加工程なしに、プラスチッ
ク部材上に付与した弗化マグネシウム層の密着性を向上
させ、反射防止層の耐擦傷性、耐久性を大幅に改善する
ことができ、また接着層である酸化アルミニウムの膜厚
変動によっても反射率の変化がない工業的量産性に優れ
た反射防止膜を作製することができる。このことによ
り、弗化マグネシウムによる反射防止処理が実用化のレ
ベルに達すると共に、量産化に伴う大幅なコスト低減に
寄与するものである。
【図１】 弗化マグネシウムからなる反射防止膜付きプ
ラスチック部材の断面図である。
ラスチック部材の断面図である。
【図２】 弗化マグネシウムからなる反射防止膜付きプ
ラスチック部材の反射スペクトルを示す図である。
ラスチック部材の反射スペクトルを示す図である。
【図３】 本発明の実施例に係わる反射防止膜付き偏光
板の断面図である。
板の断面図である。
【図４】 実施例１の偏光板の反射スペクトルと実施例
１において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
１において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
【図５】 実施例２の偏光板の反射スペクトルと実施例
２において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
２において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
【図６】 比較例２の偏光板の反射スペクトルと比較例
２において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
２において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
【図７】 比較例３の偏光板の反射スペクトルと比較例
３において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
３において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
【図８】 比較例４の偏光板の反射スペクトルと比較例
４において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
４において第１層の光学膜厚を０及び０．２５λに変化
させた時の反射スペクトルを示す図である。
１ プラスチック部材 ２ 弗化マグネシウム層 ３ 弗化マグネシウムからなる反射防止膜付きプラスチ
ック部材の反射スペクトル ４ 反射防止膜のないプラスチック部材の反射スペクト
ル ５ 偏光板 ６ 酸化アルミニウム層 ７ 弗化マグネシウム層 Ａ 実施例または比較例の偏光板の反射スペクトル Ｂ 実施例または比較例において第１層の光学膜厚が０
の偏光板の反射スペクトル Ｃ 実施例または比較例において第１層の光学膜厚が
０．２５λの偏光板の反射スペクトル
ック部材の反射スペクトル ４ 反射防止膜のないプラスチック部材の反射スペクト
ル ５ 偏光板 ６ 酸化アルミニウム層 ７ 弗化マグネシウム層 Ａ 実施例または比較例の偏光板の反射スペクトル Ｂ 実施例または比較例において第１層の光学膜厚が０
の偏光板の反射スペクトル Ｃ 実施例または比較例において第１層の光学膜厚が
０．２５λの偏光板の反射スペクトル
Claims (4)
- 【請求項１】 プラスチック部材の表面に、該表面側か
ら空気層側へ順に第１層、第２層の２層構造をしてお
り、第１層が酸化アルミニウム、第２層が弗化マグネシ
ウムからなる反射防止膜を設けたプラスチック部材にお
いて、酸化アルミニウムの屈折率が１．４９〜１．５４
の範囲にあることを特徴とする反射防止膜付きプラスチ
ック部材。 - 【請求項２】 プラスチック部材が偏光板である請求項
１記載の反射防止膜付きプラスチック部材。 - 【請求項３】 プラスチック部材の屈折率が１．５５以
下である請求項１記載の反射防止膜付きプラスチック部
材。 - 【請求項４】 真空度が１×１０-5〜２×１０-4Ｔｏｒ
ｒの条件下に蒸着によって酸化アルミニウムを設けるこ
とを特徴とする請求項１記載の反射防止膜付きプラスチ
ック部材の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22695094A JP3769039B2 (ja) | 1994-09-21 | 1994-09-21 | 反射防止膜付き偏光板およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22695094A JP3769039B2 (ja) | 1994-09-21 | 1994-09-21 | 反射防止膜付き偏光板およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0894804A true JPH0894804A (ja) | 1996-04-12 |
| JP3769039B2 JP3769039B2 (ja) | 2006-04-19 |
Family
ID=16853163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22695094A Expired - Fee Related JP3769039B2 (ja) | 1994-09-21 | 1994-09-21 | 反射防止膜付き偏光板およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3769039B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10246802A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 低反射樹脂基材 |
| CN114114488A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-03-01 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种偏振灵敏度可调控的可见近红外金属薄膜反射镜 |
-
1994
- 1994-09-21 JP JP22695094A patent/JP3769039B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10246802A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 低反射樹脂基材 |
| CN114114488A (zh) * | 2021-11-10 | 2022-03-01 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种偏振灵敏度可调控的可见近红外金属薄膜反射镜 |
| CN114114488B (zh) * | 2021-11-10 | 2023-09-12 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 一种偏振灵敏度可调控的可见近红外金属薄膜反射镜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3769039B2 (ja) | 2006-04-19 |
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