JPH0885859A - 溶融めっき線の製造方法 - Google Patents
溶融めっき線の製造方法Info
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- JPH0885859A JPH0885859A JP24850894A JP24850894A JPH0885859A JP H0885859 A JPH0885859 A JP H0885859A JP 24850894 A JP24850894 A JP 24850894A JP 24850894 A JP24850894 A JP 24850894A JP H0885859 A JPH0885859 A JP H0885859A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 めっき付着量、平均めっき厚さが所定一定量
に保持され、めっき層に偏肉を生じない溶融金属めっき
線の製造方法を提供する。 【構成】 溶融金属めっき浴２へ導入された被めっき線
Ｗ１を非酸化性ガス相３と接する前記溶融金属めっき浴
２の浴面４から垂直上方へ導出することにより被めっき
線Ｗ１の外周に金属めっきを施し溶融めっき線Ｗ２を得
るめっき線の製造方法において、前記非酸化性ガス相３
の含有酸素量を０．１ｖｏｌ％以下に調節し、被めっき
線Ｗ１がめっき浴面４から導出される際に形成されるめ
っき浴面の盛り上がり部５を均一で安定した円錐形状に
する。
に保持され、めっき層に偏肉を生じない溶融金属めっき
線の製造方法を提供する。 【構成】 溶融金属めっき浴２へ導入された被めっき線
Ｗ１を非酸化性ガス相３と接する前記溶融金属めっき浴
２の浴面４から垂直上方へ導出することにより被めっき
線Ｗ１の外周に金属めっきを施し溶融めっき線Ｗ２を得
るめっき線の製造方法において、前記非酸化性ガス相３
の含有酸素量を０．１ｖｏｌ％以下に調節し、被めっき
線Ｗ１がめっき浴面４から導出される際に形成されるめ
っき浴面の盛り上がり部５を均一で安定した円錐形状に
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被めっき線に均一な金
属めっき層を施すことのできる溶融めっき線の製造方法
に関する。
属めっき層を施すことのできる溶融めっき線の製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】錫或いははんだめっき銅線は電子部品等
のリード線として用いられているが、電子部品等の組立
工程で治工具と接触したり加熱処理工程を経ることなど
によってめっき層に劣化を生ずることがある。このた
め、めっき線には所定のめっき量が均一に付着している
ことが要求される。
のリード線として用いられているが、電子部品等の組立
工程で治工具と接触したり加熱処理工程を経ることなど
によってめっき層に劣化を生ずることがある。このた
め、めっき線には所定のめっき量が均一に付着している
ことが要求される。
【０００３】従来の溶融めっき線の製造方法は、図２に
例示するような溶融めっき線製造装置２１を用いた製造
方法が一般的である。この製造方法では、前工程（図示
せず）で表面を清浄化された被めっき線Ｗ１は、非酸化
性ガス雰囲気加熱炉２７中を通過して溶融金属めっき浴
２２に入り、溶融金属めっき浴２２中に設けたターン滑
車２６により走行方向を上方へ転向し、めっき浴２２中
に配設した軸合わせダイス２５とめっき浴２２面上に配
設しためっき金属絞りダイス２３（この場合軸合わせダ
イス２５とめっき金属絞りダイス２３の孔軸が一致する
よう配置される。）を通ってめっき浴２２の浴面から垂
直上方へと引き出され所要のめっき厚さが施され、冷却
されてめっき線Ｗ２を得るものである。
例示するような溶融めっき線製造装置２１を用いた製造
方法が一般的である。この製造方法では、前工程（図示
せず）で表面を清浄化された被めっき線Ｗ１は、非酸化
性ガス雰囲気加熱炉２７中を通過して溶融金属めっき浴
２２に入り、溶融金属めっき浴２２中に設けたターン滑
車２６により走行方向を上方へ転向し、めっき浴２２中
に配設した軸合わせダイス２５とめっき浴２２面上に配
設しためっき金属絞りダイス２３（この場合軸合わせダ
イス２５とめっき金属絞りダイス２３の孔軸が一致する
よう配置される。）を通ってめっき浴２２の浴面から垂
直上方へと引き出され所要のめっき厚さが施され、冷却
されてめっき線Ｗ２を得るものである。
【０００４】上記従来のめっき線の製造方法において
は、めっき線Ｗ２のめっき付着量は被めっき線Ｗ１と絞
りダイス２３の孔径とのクリアランスを選択することで
制御される。このクリアランスは所要めっき厚さと同程
度若しくはやや大きめの間隙に設定するのが一般的であ
り、この従来のめっき線の製造方法では、めっき付着量
はめっき線速に関係なく上記クリアランスによって定ま
るものである。従って、めっき付着量の制御は絞りダイ
ス２３の孔径を選定することにより比較的容易に行え
る。しかし、めっき厚を均一に制御することが難しく、
通常使用されている絞りダイス２３の孔形状が真円状の
ものでは被めっき線Ｗ１の線ぶれなどによってめっき厚
さにどうしても偏肉を生じ易かった。そこで、めっき厚
を均一に制御する手段として、めっき金属絞りダイス２
３の孔形状を図２に図示するような異形孔２４としたも
のがある。図２（ａ）は絞りダイス２３の孔の対称位置
に等間隔に円弧部を設けて異形孔２４としたものであ
り、同図（ｂ）は絞りダイス２３の孔の対称位置に等間
隔に小半円状の溝状部を設けて異形孔２４としたもので
あり、同図（ｃ）は絞りダイス２３の孔を正六角形状に
形成し異形孔２４としたものである。いずれも異形孔２
４の凹状部がめっき厚を均一に制御する因子として作用
するものである。
は、めっき線Ｗ２のめっき付着量は被めっき線Ｗ１と絞
りダイス２３の孔径とのクリアランスを選択することで
制御される。このクリアランスは所要めっき厚さと同程
度若しくはやや大きめの間隙に設定するのが一般的であ
り、この従来のめっき線の製造方法では、めっき付着量
はめっき線速に関係なく上記クリアランスによって定ま
るものである。従って、めっき付着量の制御は絞りダイ
ス２３の孔径を選定することにより比較的容易に行え
る。しかし、めっき厚を均一に制御することが難しく、
通常使用されている絞りダイス２３の孔形状が真円状の
ものでは被めっき線Ｗ１の線ぶれなどによってめっき厚
さにどうしても偏肉を生じ易かった。そこで、めっき厚
を均一に制御する手段として、めっき金属絞りダイス２
３の孔形状を図２に図示するような異形孔２４としたも
のがある。図２（ａ）は絞りダイス２３の孔の対称位置
に等間隔に円弧部を設けて異形孔２４としたものであ
り、同図（ｂ）は絞りダイス２３の孔の対称位置に等間
隔に小半円状の溝状部を設けて異形孔２４としたもので
あり、同図（ｃ）は絞りダイス２３の孔を正六角形状に
形成し異形孔２４としたものである。いずれも異形孔２
４の凹状部がめっき厚を均一に制御する因子として作用
するものである。
【０００５】また、上記のめっき金属絞りダイスを用い
ためっき線の製造方法の他に、絞りダイスを用いること
なく被めっき線を非酸化性ガス相と接する溶融金属めっ
き浴面から垂直上方へと導出することにより前記被めっ
き線外周に金属めっきを施す溶融めっき線の製造方法が
ある。この製造方法は本発明者等が特公昭６３−６０８
２５号公報に提案し実用に供しているものである。この
製造方法では、絞りダイスを用いていないので、被めっ
き線にふれが生じてもめっき層に偏肉を生ずることはな
い。
ためっき線の製造方法の他に、絞りダイスを用いること
なく被めっき線を非酸化性ガス相と接する溶融金属めっ
き浴面から垂直上方へと導出することにより前記被めっ
き線外周に金属めっきを施す溶融めっき線の製造方法が
ある。この製造方法は本発明者等が特公昭６３−６０８
２５号公報に提案し実用に供しているものである。この
製造方法では、絞りダイスを用いていないので、被めっ
き線にふれが生じてもめっき層に偏肉を生ずることはな
い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記異形孔の
めっき金属絞りダイスを用いためっき線の製造方法にあ
っては、被めっき線の導出されるめっき浴面が大気と接
しているため、長時間の連続めっき操業の間に、めっき
浴中に溶融めっき金属の酸化物や金属間化合物等の異物
が生成され易く、これら異物が絞りダイスの異形孔の部
分に焼き付いたり詰まったりしてきて被めっき線Ｗ１と
絞りダイス２３の孔径のクリアランスを狭めたり不均一
にする現象を引き起こし、被めっき線のめっき金属付着
量の減少やめっき厚さの不均一を招くという欠点があっ
た。また、上記後者の絞りダイスを用いないめっき線の
製造方法の場合、長時間操業の間に非酸化性ガス相と接
するめっき浴面付近の溶融金属の流動性に変化を生じ、
被めっき線のめっき金属付着量やめっき厚さの均一性に
若干ながらも変動をもたらすという現象が見出された。
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので
あり、被めっき線に所定のめっき量を均一に付着させる
めっき線の製造方法を提供することを目的とする。
めっき金属絞りダイスを用いためっき線の製造方法にあ
っては、被めっき線の導出されるめっき浴面が大気と接
しているため、長時間の連続めっき操業の間に、めっき
浴中に溶融めっき金属の酸化物や金属間化合物等の異物
が生成され易く、これら異物が絞りダイスの異形孔の部
分に焼き付いたり詰まったりしてきて被めっき線Ｗ１と
絞りダイス２３の孔径のクリアランスを狭めたり不均一
にする現象を引き起こし、被めっき線のめっき金属付着
量の減少やめっき厚さの不均一を招くという欠点があっ
た。また、上記後者の絞りダイスを用いないめっき線の
製造方法の場合、長時間操業の間に非酸化性ガス相と接
するめっき浴面付近の溶融金属の流動性に変化を生じ、
被めっき線のめっき金属付着量やめっき厚さの均一性に
若干ながらも変動をもたらすという現象が見出された。
本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので
あり、被めっき線に所定のめっき量を均一に付着させる
めっき線の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意検討の
結果、めっき浴の溶融金属の流動性の変動原因、即ち被
めっき線への溶融めっき金属の付着量およびめっき厚さ
の均一性の作用因子がめっき浴表面に存在する酸素量に
あることを突き止めた。そこで、本発明のめっき線の製
造方法は、溶融金属めっき浴へ導入された被めっき線を
非酸化性ガス相と接する前記溶融金属めっき浴面から垂
直上方へと導出することにより前記被めっき線外周に金
属めっきを施す溶融めっき線の製造方法において、前記
非酸化性ガス相の含有酸素量を０．１ｖｏｌ％以下に調
節することにより、上記課題を解決したものである。
結果、めっき浴の溶融金属の流動性の変動原因、即ち被
めっき線への溶融めっき金属の付着量およびめっき厚さ
の均一性の作用因子がめっき浴表面に存在する酸素量に
あることを突き止めた。そこで、本発明のめっき線の製
造方法は、溶融金属めっき浴へ導入された被めっき線を
非酸化性ガス相と接する前記溶融金属めっき浴面から垂
直上方へと導出することにより前記被めっき線外周に金
属めっきを施す溶融めっき線の製造方法において、前記
非酸化性ガス相の含有酸素量を０．１ｖｏｌ％以下に調
節することにより、上記課題を解決したものである。
【０００８】
【作用】本発明のめっき線の製造方法では、めっき線の
導出される溶融金属めっき浴面と接する非酸化性ガス相
に含まれる酸素量を０．１ｖｏｌ％以下に調節している
ので、めっき浴の溶融金属の流動性が安定し、被めっき
線への溶融金属の付着量が一定しめっき厚さが均一とな
る。ところが、溶融金属めっき浴に接する非酸化性ガス
相の含有酸素量が０．１ｖｏｌ％を超えてくると、めっ
き線の導出されるめっき浴面上の酸素の存在により溶融
めっき金属の流動性に変化が生じ始め、被めっき線への
溶融金属の付着量に変動を生ずるようになってくる。ま
た、本発明のめっき線の製造方法では、被めっき線への
溶融金属の付着量は、絞りダイスにより制御するのでは
なく、被めっき線が非酸化性ガス相と接する前記溶融金
属めっき浴面から垂直上方へと走行する際の濡れによっ
て制御するものであるので、被めっき線の線径が同一の
場合であれば、めっき浴面から垂直上方へと走行する被
めっき線の線速が速くなればなるほど被めっき線への溶
融金属の付着量は多くなり、被めっき線の線速に比例さ
せてめっき厚さを制御させることが出来る。
導出される溶融金属めっき浴面と接する非酸化性ガス相
に含まれる酸素量を０．１ｖｏｌ％以下に調節している
ので、めっき浴の溶融金属の流動性が安定し、被めっき
線への溶融金属の付着量が一定しめっき厚さが均一とな
る。ところが、溶融金属めっき浴に接する非酸化性ガス
相の含有酸素量が０．１ｖｏｌ％を超えてくると、めっ
き線の導出されるめっき浴面上の酸素の存在により溶融
めっき金属の流動性に変化が生じ始め、被めっき線への
溶融金属の付着量に変動を生ずるようになってくる。ま
た、本発明のめっき線の製造方法では、被めっき線への
溶融金属の付着量は、絞りダイスにより制御するのでは
なく、被めっき線が非酸化性ガス相と接する前記溶融金
属めっき浴面から垂直上方へと走行する際の濡れによっ
て制御するものであるので、被めっき線の線径が同一の
場合であれば、めっき浴面から垂直上方へと走行する被
めっき線の線速が速くなればなるほど被めっき線への溶
融金属の付着量は多くなり、被めっき線の線速に比例さ
せてめっき厚さを制御させることが出来る。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１に示した溶融め
っき線製造装置１に基づき説明する。溶融めっきのため
の前処理（図示せず）を施された被めっき線Ｗ１は、非
酸化性ガス雰囲気の加熱炉８を通り、大気に触れること
なく直ちに溶融金属めっき浴２中に導入され、溶融金属
めっき浴２中のターン滑車７により垂直上方へと走行方
向を転向され、被めっき線Ｗ１の表面が溶融金属で完全
に濡れた状態となって溶融金属めっき浴２の浴面４から
この浴面４と接する非酸化性ガス相３中へ垂直上方に引
き上げられ、所要のめっき厚さが施された後冷却されて
めっき線Ｗ２となる。６は非酸化性ガス源（図示せず）
に接続された非酸化性ガス導入口である。使用される非
酸化性ガス相３は、Ｎ2 ，Ａｒ，ＣＯ2 等の不活性ガス
或いはＨ2 ，ＣＯ等の還元性ガスの単相ガスでもよく、
またこれらのうちの２種類以上の混合ガスでもよい。
っき線製造装置１に基づき説明する。溶融めっきのため
の前処理（図示せず）を施された被めっき線Ｗ１は、非
酸化性ガス雰囲気の加熱炉８を通り、大気に触れること
なく直ちに溶融金属めっき浴２中に導入され、溶融金属
めっき浴２中のターン滑車７により垂直上方へと走行方
向を転向され、被めっき線Ｗ１の表面が溶融金属で完全
に濡れた状態となって溶融金属めっき浴２の浴面４から
この浴面４と接する非酸化性ガス相３中へ垂直上方に引
き上げられ、所要のめっき厚さが施された後冷却されて
めっき線Ｗ２となる。６は非酸化性ガス源（図示せず）
に接続された非酸化性ガス導入口である。使用される非
酸化性ガス相３は、Ｎ2 ，Ａｒ，ＣＯ2 等の不活性ガス
或いはＨ2 ，ＣＯ等の還元性ガスの単相ガスでもよく、
またこれらのうちの２種類以上の混合ガスでもよい。
【００１０】上記工程の中で被めっき線Ｗ１のめっき層
を形成するに最も大きな影響を及ぼす行程である、被め
っき線Ｗ１が溶融金属めっき浴２の浴面４から非酸化性
ガス相３中へ垂直上方に引き上げられるプロセスにおい
ては、非酸化性ガス相３中の酸素量が０．１ｖｏｌ％以
下に調節されていて溶融めっき金属の流動性が極めて安
定した状態となっているので、被めっき線Ｗ１がめっき
浴面４から引き上げられる際、被めっき線Ｗ１と溶融め
っき金属の濡れにより形成されるめっき浴面４の盛り上
がり部５が均一で安定な円錐形状をなす。この均一な円
錐形状の盛り上がり部５が被めっき線Ｗ１の安定しため
っき付着量と均一なめっき厚さを保証する。円錐形状盛
り上がり部５はめっき線速を上げれば上げる程大きくな
り、付着量は増大しめっき厚さは厚くなる。
を形成するに最も大きな影響を及ぼす行程である、被め
っき線Ｗ１が溶融金属めっき浴２の浴面４から非酸化性
ガス相３中へ垂直上方に引き上げられるプロセスにおい
ては、非酸化性ガス相３中の酸素量が０．１ｖｏｌ％以
下に調節されていて溶融めっき金属の流動性が極めて安
定した状態となっているので、被めっき線Ｗ１がめっき
浴面４から引き上げられる際、被めっき線Ｗ１と溶融め
っき金属の濡れにより形成されるめっき浴面４の盛り上
がり部５が均一で安定な円錐形状をなす。この均一な円
錐形状の盛り上がり部５が被めっき線Ｗ１の安定しため
っき付着量と均一なめっき厚さを保証する。円錐形状盛
り上がり部５はめっき線速を上げれば上げる程大きくな
り、付着量は増大しめっき厚さは厚くなる。
【００１１】以下、本発明の溶融めっき線の製造例を記
す。 −実施例１− 溶融めっきのための前処理を施した線径０．４１４ｍｍ
の軟銅線を炉温５５０°Ｃの非酸化性雰囲気加熱炉を通
過させた後、２６０°Ｃに保持された溶融錫浴に導き、
この浴面から含有酸素量を０．００１ｖｏｌ％に調節し
たＮ2 ガス相中へ垂直上方に引き上げ実施例１のめっき
線を得た。この時の線速は３０ｍ／分で１０時間連続し
て製造した。 −実施例２− 非酸化性ガス相として含有酸素量が０．１ｖｏｌ％に調
節された７７％Ｎ2 ＋３％Ｈ2 の混合ガス相を用い、線
速を５０ｍ／分とした他は実施例１と同一条件で製造し
実施例２のめっき線を得た。 −比較例１− 非酸化性ガス相として含有酸素量が０．２ｖｏｌ％のＮ
2 ガス相を用いた他は実施例１と同一条件で製造し比較
例１のめっき線を得た。 −比較例２− 非酸化性ガス相として含有酸素量が０．２ｖｏｌ％の７
７％Ｎ2 ＋３％Ｈ2 の混合ガス相を用いた他は実施例２
と同一条件で製造し比較例２のめっき線を得た。 −比較例３− 溶融めっきのための前処理を施した線径０．４１４ｍｍ
の軟銅線を炉温５５０°Ｃの非酸化性雰囲気加熱炉を通
過させた後、２６０°Ｃに保持された溶融錫浴に導き、
溶融錫浴中に配置した軸合わせダイスと溶融錫浴面上２
０ｍｍの位置に配置した絞りダイスを通過させ比較例３
のめっき線を得た。軸合わせダイスには孔径０．４１６
ｍｍの丸孔ダイスを用い、絞りダイスには孔径０．４２
０ｍｍの円形孔ダイスの内面に半径０．０５ｍｍの半円
凹溝を６個等間隔に形成した異形孔ダイスを用いた。こ
の時の線速は３０ｍ／分で１０時間連続して製造した。 −比較例４− 線速を５０ｍ／分とした他は比較例３と同一条件で製造
し比較例４のめっき線を得た。
す。 −実施例１− 溶融めっきのための前処理を施した線径０．４１４ｍｍ
の軟銅線を炉温５５０°Ｃの非酸化性雰囲気加熱炉を通
過させた後、２６０°Ｃに保持された溶融錫浴に導き、
この浴面から含有酸素量を０．００１ｖｏｌ％に調節し
たＮ2 ガス相中へ垂直上方に引き上げ実施例１のめっき
線を得た。この時の線速は３０ｍ／分で１０時間連続し
て製造した。 −実施例２− 非酸化性ガス相として含有酸素量が０．１ｖｏｌ％に調
節された７７％Ｎ2 ＋３％Ｈ2 の混合ガス相を用い、線
速を５０ｍ／分とした他は実施例１と同一条件で製造し
実施例２のめっき線を得た。 −比較例１− 非酸化性ガス相として含有酸素量が０．２ｖｏｌ％のＮ
2 ガス相を用いた他は実施例１と同一条件で製造し比較
例１のめっき線を得た。 −比較例２− 非酸化性ガス相として含有酸素量が０．２ｖｏｌ％の７
７％Ｎ2 ＋３％Ｈ2 の混合ガス相を用いた他は実施例２
と同一条件で製造し比較例２のめっき線を得た。 −比較例３− 溶融めっきのための前処理を施した線径０．４１４ｍｍ
の軟銅線を炉温５５０°Ｃの非酸化性雰囲気加熱炉を通
過させた後、２６０°Ｃに保持された溶融錫浴に導き、
溶融錫浴中に配置した軸合わせダイスと溶融錫浴面上２
０ｍｍの位置に配置した絞りダイスを通過させ比較例３
のめっき線を得た。軸合わせダイスには孔径０．４１６
ｍｍの丸孔ダイスを用い、絞りダイスには孔径０．４２
０ｍｍの円形孔ダイスの内面に半径０．０５ｍｍの半円
凹溝を６個等間隔に形成した異形孔ダイスを用いた。こ
の時の線速は３０ｍ／分で１０時間連続して製造した。 −比較例４− 線速を５０ｍ／分とした他は比較例３と同一条件で製造
し比較例４のめっき線を得た。
【００１２】上記製造した実施例１〜２および比較例１
〜４のめっき線についてめっき付着安定性試験を行った
結果を表１に示す。なお、試験サンプルは各実施例およ
び各比較例とも操業開始時と１０時間操業後の各々のめ
っき線から採取した。また、表１の測定項目は次の方法
により測定した。 （１）「めっき付着量」はめっき線１ｍ当たりのめっき
層の質量を測定した。 （２）「平均めっき厚さ」はコクール法により測定し
た。 （３）「めっき偏肉度」はめっき線の断面を顕微鏡によ
り測定し、次式より求めた。 偏肉度＝〔（最大めっき厚−最小めっき厚）／最小めっ
き厚〕×１００％ 表１の試験結果から見られる通り、本発明に基づく実施
例１，２のめっき線はめっき付着量、平均めっき厚さ、
めっき層の偏肉度とも長時間操業の間極めて安定してい
る。これに対し、比較例１，２のめっき線は長時間操業
の間にめっき付着量、平均めっき厚さにやや変動があ
り、めっき層の偏肉度も大きくなる傾向が見られた。更
に、比較例３，４のめっき線となると操業時間の経過と
ともにめっき付着量および平均めっき厚さが大きく変動
し、それに伴いめっき層の偏肉度も極めて大きなものと
なっていた。
〜４のめっき線についてめっき付着安定性試験を行った
結果を表１に示す。なお、試験サンプルは各実施例およ
び各比較例とも操業開始時と１０時間操業後の各々のめ
っき線から採取した。また、表１の測定項目は次の方法
により測定した。 （１）「めっき付着量」はめっき線１ｍ当たりのめっき
層の質量を測定した。 （２）「平均めっき厚さ」はコクール法により測定し
た。 （３）「めっき偏肉度」はめっき線の断面を顕微鏡によ
り測定し、次式より求めた。 偏肉度＝〔（最大めっき厚−最小めっき厚）／最小めっ
き厚〕×１００％ 表１の試験結果から見られる通り、本発明に基づく実施
例１，２のめっき線はめっき付着量、平均めっき厚さ、
めっき層の偏肉度とも長時間操業の間極めて安定してい
る。これに対し、比較例１，２のめっき線は長時間操業
の間にめっき付着量、平均めっき厚さにやや変動があ
り、めっき層の偏肉度も大きくなる傾向が見られた。更
に、比較例３，４のめっき線となると操業時間の経過と
ともにめっき付着量および平均めっき厚さが大きく変動
し、それに伴いめっき層の偏肉度も極めて大きなものと
なっていた。
【００１３】
【００１４】
【発明の効果】本発明のめっき線の製造方法によれば、
被めっき線の引き上げられる溶融めっき金属浴表面付近
の雰囲気の酸素量を極めて少なく調節しているので、め
っき浴の溶融めっき金属の流動性が安定し、被めっき線
へのめっき付着量、平均めっき厚さに変動がなく、めっ
き層の偏肉のない高品質なめっき線を長時間安定して製
造することができる。また、めっき線の線速度を変更す
るだけでめっき厚さの制御ができ、めっき厚仕様の異な
るめっき線の製造が容易となる。
被めっき線の引き上げられる溶融めっき金属浴表面付近
の雰囲気の酸素量を極めて少なく調節しているので、め
っき浴の溶融めっき金属の流動性が安定し、被めっき線
へのめっき付着量、平均めっき厚さに変動がなく、めっ
き層の偏肉のない高品質なめっき線を長時間安定して製
造することができる。また、めっき線の線速度を変更す
るだけでめっき厚さの制御ができ、めっき厚仕様の異な
るめっき線の製造が容易となる。
【図１】本発明のめっき線の製造方法に基づく溶融めっ
き線製造装置の説明図である。
き線製造装置の説明図である。
【図２】従来のめっき線の製造方法に基づく溶融めっき
線製造装置の説明図である。
線製造装置の説明図である。
【図３】従来のめっき線の製造方法に用いられる異形孔
絞りダイスの断面図である。
絞りダイスの断面図である。
１ 溶融めっき線製造装置 ２ 溶融金属めっき浴 ３ 非酸化性ガス相 ４ 溶融金属めっき浴面 ５ めっき浴面の盛り上がり部 ６ 非酸化性ガス導入口 ７ ターン滑車 ８ 非酸化性ガス加熱炉 Ｗ１ 被めっき線 Ｗ２ めっき線
Claims (2)
- 【請求項１】 溶融金属めっき浴へ導入された被めっき
線を非酸化性ガス相と接する前記溶融金属めっき浴面か
ら垂直上方へと導出することにより前記被めっき線外周
に金属めっきを施す溶融めっき線の製造方法において、
前記非酸化性ガス相の含有酸素量を０．１ｖｏｌ％以下
に調節したことを特徴とする溶融めっき線の製造方法。 - 【請求項２】 前記非酸化性ガス相がＮ2 ，Ａｒ，ＣＯ
2 ，Ｈ2 またはＣＯの単相若しくは前記ガスの２種類以
上の混合相である請求項１記載の溶融めっき線の製造方
法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24850894A JP2967328B2 (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | 溶融めっき線の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP24850894A JP2967328B2 (ja) | 1994-09-16 | 1994-09-16 | 溶融めっき線の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0885859A true JPH0885859A (ja) | 1996-04-02 |
| JP2967328B2 JP2967328B2 (ja) | 1999-10-25 |
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| JP (1) | JP2967328B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011058051A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Hitachi Cable Ltd | 線材の溶融めっき方法 |
-
1994
- 1994-09-16 JP JP24850894A patent/JP2967328B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2011058051A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Hitachi Cable Ltd | 線材の溶融めっき方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2967328B2 (ja) | 1999-10-25 |
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