JPH0883746A

JPH0883746A - 照明装置および露光装置

Info

Publication number: JPH0883746A
Application number: JP6216132A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Murakami; 勝彦村上; Tetsuya Oshino; 哲也押野; Kiyoto Majima; 清人真島
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-09-09
Filing date: 1994-09-09
Publication date: 1996-03-26
Anticipated expiration: 2017-04-30
Also published as: JP3279090B2

Abstract

(57)【要約】【目的】オプティカルインテグレータを使用しない単
純な構成にすることによって、効率を向上した照明装
置、および該照明装置を備えることによりスループット
を向上した露光装置を提供すること。【構成】少なくとも、所定の大きさの光源又はその像
を形成する光源手段と、該光源手段からの光束を集光し
て被照明物体を照明する集光光学系とを有する照明装置
において、前記光源手段は、発散光束を供給する光源部
１を有し、前記集光光学系は、第１の凹面鏡２と第２の
凹面鏡３とを有し、該第１の凹面鏡２は、前記光源手段
からの発散光束をメリジオナル面内において平行光束に
変換する放物シリンドリカル面の一部より構成され、該
第２の凹面鏡３は、放物線の頂点から該放物線の対称軸
Ａ_X0に沿って所定の距離だけ隔てた位置を該対称軸にＡ
_X0対して垂直に通るメリジオナル面内にある基準軸Ａ_X1
を中心に回転させた放物トーリック形状の回転体の一部
より構成されることを特徴とする照明装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、被照明物体を円弧状に
照明する照明装置、及び該装置を備えた露光装置に関す
るものであり、特にＸ線光学系等のミラープロジェクシ
ョン方式により、フォトマスク（マスクまたはレチク
ル）上の回路パターンを反射型等の投影光学系を介し
て、ウェファー等の基板上に転写する際に好適な装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造における露光では、物
体面としてのフォトマスク（以下、マスクと称する）面
上に形成された回路パターンを投影光学系を介してウェ
ファー等の基板（以下、ウェファーと称する）上に投影
転写する。この投影光学系は複数の反射鏡を有してお
り、投影光学系の軸外の円弧状の良像領域のみが利用さ
れて、マスク上の円弧領域のみがウェファー上に投影転
写される。従って、マスク全体の回路パターンのウェフ
ァー上への転写は、マスクとウェファーとを一定方向に
走査することにより行われている。

【０００３】この走査方式による露光は、比較的高いス
ループットで、しかも高解像力が得られるという利点が
ある。この種の露光においては、マスク上の円弧領域全
体を均一に、しかも一定の開口数（ＮＡ）にて効率よく
照明できる照明光学系が望まれており、本願と同一出願
人による特願平６−２５５６５には、平行光束を供給す
る光源部と反射型のオプティカルインテグレータと放物
トーリック形状の凹面鏡とからなる、マスク上を円弧状
に均一照明できる照明光学系が提案されている。その概
念図を図３に示す。

【０００４】この照明光学系では、平行光束を供給する
光源部３１を用い、サジタル面内（紙面に垂直な面）の
みにパワーを持つ一次元的なオプティカルインテグレー
タ３２を用いてサジタル面内で多重化された２次光源Ｉ
を作る。ただし、メリジオナル面内（紙面に平行な面）
では平行な光束のままである。放物トーリック面形状の
ミラー３３により、この２次光源Ｉからの光束を集光す
ることにより、メリジオナル面内では光源の像をマスク
上に結像する臨界照明（クリティカル照明）を行い、サ
ジタル面内では平行光が異なる方向からマスクを照明す
るケーラー照明を行うものである。

【０００５】ケーラー照明は、広い領域で均一な照明を
行うのには有効であるが、オプティカルインテグレータ
を使用するので効率が良くない。特願平６−２５５６５
においては、照明する幅の狭いメリジオナル面内では臨
界照明とすることによって光学系の効率を向上してい
る。また、Ｘ線の波長域で使用できる反射型のオプティ
カルインテグレータについては、本願と同一出願人によ
る特願平５−２１５７７に記載されている。

【０００６】なお、ここで用いられている放物トーリッ
ク面形状の凹面鏡の機能については本願と同一出願人に
よる特願平４−２４２４８６に詳しく説明されている。
その原理図を図４に示す。この放物トーリック面反射鏡
は放物線ＰＡの対称軸Ａｘ₀上に、これに垂直な軸Ａ_X1
を設け、この軸Ａ_X1の回りに放物線ＰＡを回転した形状
をしている。対称軸Ａ_X0に平行な光束は、放物トーリッ
ク面反射鏡３で反射して放物線ＰＡの焦点Ｃ_BFへ集光す
る。

【０００７】一方、回転中心軸Ａ_X1上に点光源Ｉを設
け、そこから発散する光束に着目すると、点光源Ｉから
反射面までの距離と反射面から焦点Ｃ_BFまでの距離が等
しいならば、放物トーリック面反射鏡３で反射した後に
は平行な光束になる。以上のメリジオナル面内（紙面に
平行な面）における光線の挙動は容易に理解できるが、
サジタル面内（紙面に垂直な面）においても同様に平行
光束は焦点に集まり、回転中心軸Ａ_X1上から発散する光
束は平行光束になることが放物トーリック面形状の凹面
鏡の大きな特徴である。

【０００８】従って、オプティカルインテグレータを用
いて回転中心軸Ａ_X1上に複数の二次光源を形成すれば、
マスク上をケーラー照明することができる。また、この
光学系は回転中心軸Ａ_X1の回りに回転対称なので円弧状
の領域が照明されることになる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の技
術では、いずれもオプティカルインテグレータを使用し
て光束を発散させるため、照明に寄与しない光線が多く
なり、照明光学系の効率が低下してしまうという問題点
があった。また、平行光束を供給する光源部が必要であ
るため、放射光光源のような平行光を発生する光源を用
いる場合は良いが、レーザープラズマＸ線源のような発
散光束を供給する光源を用いる場合には、放物面鏡等に
より予め発散光束を平行光束に変換しておかなければな
らない。軟Ｘ線領域では反射鏡の反射率が低いので反射
面の増加は光学系の効率を大幅に低下させるという問題
点があった。

【００１０】露光装置において、照明光学系または照明
装置の効率が低下すると、スループット（単位時間に処
理できるウェファーの枚数）が低下してしまうという重
大な問題点があった。本発明は、このような問題点に鑑
みてなされたもので、オプティカルインテグレータを使
用しない単純な構成にすることによって、効率を向上し
た照明装置、および該照明装置を備えることによりスル
ープットを向上した露光装置を提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「少なくとも、所定の大きさの光源又はその像を形成
する光源手段と、該光源手段からの光束を集光して被照
明物体を照明する集光光学系とを有する照明装置におい
て、前記光源手段は、発散光束を供給する光源部を有
し、前記集光光学系は、第１の凹面鏡と第２の凹面鏡と
を有し、該第１の凹面鏡は、前記光源手段からの発散光
束をメリジオナル面内において平行光束に変換する放物
シリンドリカル面の一部より構成され、該第２の凹面鏡
は、放物線の頂点から該放物線の対称軸に沿って所定の
距離だけ隔てた位置を該対称軸に対して垂直に通るメリ
ジオナル面内にある基準軸を中心に回転させた放物トー
リック形状の回転体の一部より構成されることを特徴と
する照明装置（請求項１）」を提供する。

【００１２】また、本発明は第二に「前記第１および第
２の凹面鏡の反射面に、所定の波長のＸ線を反射する多
層膜を設けたことを特徴とする請求項１に記載の照明装
置（請求項２）」を提供する。また、本発明は第三に
「前記多層膜が、モリブデン／ケイ素、モリブデン／ケ
イ素化合物、ルテニウム／ケイ素、ルテニウム／ケイ素
化合物、ロジウム／ケイ素、又はロジウム／ケイ素化合
物の組み合わせのうち、いずれか一つの組み合わせで、
交互に複数回積層したものにより形成されてなることを
特徴とする請求項２記載の照明装置（請求項３）」を提
供する。

【００１３】また、本発明は第四に「請求項１〜３に記
載の照明装置を備えた露光装置（請求項４）」を提供す
る。

【００１４】

【作用】図１は本発明にかかる照明装置の光学系であ
り、光源部１、第１の凹面鏡２、および第２の凹面鏡３
のメリジオナル方向での断面図（図１（ａ））とサジタ
ル方向の上面図（図１（ｂ））である。第１の凹面鏡２
は、メリジオナル面内でのみパワーを持つ放物シリンド
リカル面の一部からなり、光源部１からの発散光束をメ
リジオナル面内でのみ互いに平行な光束へ変換する。こ
の光束は放物トーリック面の一部からなる第２の凹面鏡
３で反射されてマスク上に光源の像Ｉ_Mを形成する。即
ち、メリジオナル面内では臨界照明が行われる。

【００１５】サジタル面内では、第１の凹面鏡２はパワ
ーを持たないため、平面鏡が置いてあるのと等価であ
り、光源部１の虚像Ｉ_Sを形成する。虚像Ｉ_SをＡ_X1上
もしくはその近傍に配置すれば、虚像Ｉ_Sから発散する
光束は放物トーリック面の一部からなる第２の凹面鏡３
で反射されて輪帯状の照明領域４をケーラー照明する。
以上の状況を、図２において屈折系に置き換えて更に詳
しく説明する。

【００１６】まず、メリジオナル面内では、光源部１か
ら発散する光束は第１の凹面鏡２により平行光束へ変換
される。この平行光束は第２の凹面鏡３により集光され
て、照明領域４上に光源部１の実像Ｉ_Mを形成する。即
ち、メリジオナル面内では臨界照明が行われる。

【００１７】このとき、光源部１から第１の凹面鏡２ま
での距離をａ、光源部１から第２の凹面鏡３までの距離
をｂ、第２の凹面鏡３から実像Ｉ_Mまでの距離をｃとす
る。ａは第１の凹面鏡２の焦点距離に等しく、ｃは第２
の凹面鏡３の焦点距離に等しい。光源部１から発散する
光束のメリジオナル面内での広がり角度をθ_M0、実像Ｉ
_Mへ集束する光束のメリジオナル面内での広がり角度を
θ_Mとすると、ａ・ｔａｎθ_M0＝ｃ・ｔａｎθ_Mが成り
立つ。光学系の倍率Ｍは、Ｍ＝ｃ／ａ＝ｔａｎθ_M0／ｔ
ａｎθ_M≒θ_M0／θ_Mで与えられる。本発明において
は、後述のようにｂ＝ｃとするのでａ＜ｃとなり、拡大
された像が形成される。メリジオナル面内での照明の開
口数（ＮＡ）は、ｓｉｎθ_M≒θ_Mで与えられる。Ｘ線
縮小投影光学系では開口数はあまり大きくない（マスク
側で0.02程度以下）ので、θ_Mの値はこの値より大きく
しても光が無駄になってしまう。本発明においては、照
明系の倍率Ｍを大きくしてθ_M0＞θ_Mとすることによっ
て光源部１から取り込む光束の立体角を大きくすること
ができるので、照明系の効率が高くなる。

【００１８】次に、サジタル面内では、光源部１から発
散する光束は第２の凹面鏡３によりサジタル面内で互い
に平行な光束へ変換されて照明領域４を照明する。その
ために、ｂは第２の凹面鏡３の焦点距離に等しい。メリ
ジオナル面内とサジタル面内とで、放物トーリック形状
の反射面のパワーは同じになって焦点距離も等しいの
で、ｂ＝ｃとなる。一方、第１の凹面鏡２はサジタル面
内ではパワーを持たないので、光線に影響を与えない。
（だから図示していない）光源部１がサジタル面内で光軸に垂直方向の大きさを持
っていれば、光源部１の異なる位置から発した光束は異
なる入射角度で照明領域４へ入射する。即ち、サジタル
面内ではケーラー照明が行われる。光源部１から発散す
る光束のサジタル面内での広がり角度をθ_S0、照明領域
４へ集束する光束のサジタル面内での広がり角をθ_Sと
する。サジタル面内での照明の開口数（ＮＡ）はｓｉｎ
θ_S≒θ_Sで与えられる。光源の広がりの大きさをＬ_S
とすると、開口数θ_Sは、θ_S＝ｓｉｎ^-1（Ｌ_S／２
ｃ）で与えられる。従って、光源の大きさが照明のサジ
タル面内での開口数を決める。

【００１９】一方、照明領域の長さＬ_Lは、Ｌ_L＝２ｂ
・ｓｉｎθ_S0で与えられる。従って光源部１からの発散
角がサジタル面内での照明領域の大きさを決める。これ
は、図１（ｂ）の実際の光学系の配置に置いては、照明
領域４の円弧の長さに相当する。θ_S0は円弧の張る角に
相当する。以上のように、発散光源と放物シリンドリカ
ル面と放物トーリック面からなる本発明の照明装置は、
メリジオナル面内では臨界照明、サジタル面内ではケー
ラー照明を行う光学系である。また、照明光の主光線は
マスクに対して垂直に入射するテレセントリックの条件
を満たすことができる。

【００２０】本発明にかかる第１および第２の凹面鏡の
反射面は、所定波長のＸ線を反射する多層膜により形成
することが好ましい。また、かかる多層膜は、モリブデ
ン／ケイ素、モリブデン／ケイ素化合物、ルテニウム／
ケイ素、ルテニウム／ケイ素化合物、ロジウム／ケイ
素、又はロジウム／ケイ素化合物の組み合わせのうち、
いずれか一つの組み合わせで、交互に複数回積層したも
のにより形成することが好ましい（特に、波長が約１３
ｎｍのＸ線を使用する場合に好ましい）。

【００２１】以上のように、本発明によれば、オプティ
カルインテグレータを用いない単純な照明光学系を構成
することができるので、オプティカルインテグレータで
光束を発散させることによる光量の損失が無くなり、照
明装置の効率を向上することができる。その結果、該照
明装置を備えた露光装置のスループットを向上すること
ができる。

【００２２】また、Ｘ線の波長域で使用する反射型のオ
プティカルインテグレータは、その表面に形成する多層
膜の反射率を損なわないよう、Åオーダーの平滑さで微
細な凹凸を形成しなければならないので、作製が困難で
あり製造コストが高くなる。本発明によれば、そのよう
な高価なオプティカルインテグレータを使用しないで済
むので、照明装置、さらには照明装置を備えた露光装置
の製造コストを低減することができるという利点があ
る。

【００２３】以下、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこの例に限定されるものではない。

【００２４】

【実施例】図１は本実施例の照明装置の光学系であり、
光源部１、第１の凹面鏡２、および第２の凹面鏡３のメ
リジオナル方向での断面図（図１（ａ））とサジタル方
向の上面図（図１（ｂ））である。これらの光学系は空
気による軟Ｘ線の吸収を防ぐために、すべて真空中に設
置されている。光源部１にはレーザープラズマＸ線源を
用いた。ＹＡＧレーザーのパルス状発光を集光して、タ
ンタル（Ｔａ）の板からなるターゲット表面へ照射する
（これらは不図示）。

【００２５】なお、ターゲット材料は、Ｔａに限定され
るものではなく、例えば、Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｗ，Ａｕ
などでもよい。レーザー本体は大気中に設置し、レーザ
ー光は窓から真空中へ導入される。レーザー光を集光す
る光学系は、大気中に設置しても真空中に設置しても、
いずれでもかまわない。

【００２６】レーザー光により空間的、時間的に集中し
たエネルギーが投入されると、ターゲット表面には高
温、高密度なプラズマが発生して、ここから軟Ｘ線が放
出される。このようなレーザープラズマ光源の大きさ
は、レーザーの集光径によって決まるが、一般に0.1 〜
１ｍｍ程度の直径になる。これを大きくし過ぎると、投
入されるエネルギー密度が低下してＸ線が発生しなくな
る。

【００２７】本実施例では、サジタル面内に大きさを持
つ光源部１を得るために、メリジオナル面内では0.3 ｍ
ｍ、サジタル面内では2.4 ｍｍの寸法の偏平な楕円形状
にレーザーを集光して照射した。なお、レーザープラズ
マＸ線源に使用するレーザーはＹＡＧレーザーに限定さ
れることはなく、高出力のレーザーならば良い。エキシ
マレーザー、ガラスレーザー、チタンサファイヤレーザ
ー等のレーザーを使用することができる。

【００２８】このような光源部１から発散する光束は、
放物シリンドリカル面の一部からなる第１の凹面鏡２で
反射される。光源部１から第１の凹面鏡２までの距離ａ
は、２０ｍｍとした。反射した光束は、メリジオナル面
内では互いに平行であり、サジタル面内では光源部１の
サジタル面内の虚像Ｉ_Sから発散するような光束にな
る。

【００２９】この光束は、次に放物トーリック面の一部
からなる第２の凹面鏡３により反射される。この放物ト
ーリック面の回転中心軸Ａ_X1は、放物線ＰＡの対称軸Ａ
_x0にたいして垂直であり、またサジタル面内での光源部
１の虚像Ｉ_Sは回転中心軸Ａ_X1上、もしくはその近傍に
配置される。第１の凹面鏡２から第２の凹面鏡３までの
距離は１００ｍｍとした。従って、光源部１から、ある
いは光源部１の虚像Ｉ_Sから第２の凹面鏡３までの距離
ｂは１２０ｍｍである。第２の凹面鏡３から照明領域４
までの距離ｃも１２０ｍｍとした。

【００３０】メリジオナル面内では、平行光束は第２の
凹面鏡で反射した後、集束して光源部１の実像Ｉ_Mを形
成する。即ち、メリジオナル面内では臨界照明が行われ
る。このとき、照明系の倍率はｃ／ａ＝６倍となるの
で、幅0.3 ｍｍの光源部１が６倍に拡大された幅1.8 ｍ
ｍの領域が照明される。照明の開口数（ＮＡ_M）が0.02
となるように、第１の凹面鏡２と第２の凹面鏡のメリジ
オナル面内で光軸に垂直方向の幅を決めた。このとき、
光源部１から発散する光束のうち±７゜の範囲が取り込
まれる。

【００３１】また、実像Ｉ_Mへ集束する光束の主光線は
放物線ＰＡの対称軸Ａ_X0にたいして垂直であり、放物ト
ーリック面の回転中心軸Ａ_X1にたいして平行である。即
ち、テレセントリックの条件を満たす。サジタル面内で
は光源部１の虚像Ｉ_Sから発散する光束は、第２の凹面
鏡３で反射した後、互いに平行な光束となって照明領域
４へ入射する。光源部１はサジタル面内で有限な大きさ
を持つので、光源部１の異なる点から発した光束は異な
る角度で照明領域４へ入射する。即ち、ケーラー照明が
行われる。

【００３２】光源の幅は2.4 ｍｍであり、ｂ＝ｃ＝１２
０ｍｍであるので、照明の開口数（ＮＡ_S）は0.02とな
る。また、光源部１から発散する光束のうち±２０゜の
範囲を取り込むように、第１の凹面鏡２と第２の凹面鏡
３のサジタル面内で光軸に垂直方向の幅を決めたので、
円弧状の照明領域４の長さは８４ｍｍである。以上のよ
うにして、幅1.8 ｍｍ、半径１２０ｍｍ、弧の長さ８４
ｍｍの円弧状の照明領域４を、メリジオナル面内では開
口数0.02の臨界照明、サジタル面内では開口数0.02のケ
ーラー照明を行う照明装置を作製した。

【００３３】なお、第１の凹面鏡２と第２の凹面鏡３の
反射面には、波長１３ｎｍのＸ線を選択的に反射するよ
うに構成されたＭｏ（モリブデン）／Ｓｉ（シリコン）
多層膜を形成した。図６は、本発明にかかる露光装置の
第１実施例（Ｘ線投影露光装置）を示す概略構成図であ
る。図１に示した照明装置により、マスクステージ７上
に保持されたマスク６の円弧状領域をテレセントリック
条件を満たして照明する。

【００３４】マスク６は透過型のＸ線マスクであり、厚
さ0.1 μｍのＳｉＮ（窒化シリコン）からなるメンブレ
ン（自立膜）上にＡｕ（金）の回路パターンが形成され
たものである。マスク６の周辺部（Ｘ線を透過させない
部分）にはＳｉ（シリコン）とガラスからなる支持枠が
形成されている。マスク６の直前には、所定の照明領域
以外の領域へ入射する光線を遮蔽するためのスリット５
が設けられているが、本発明による照明装置においては
その様な光線はごく僅かであるので、スリット５は省略
することもできる。

【００３５】投影光学系８は、４枚の非球面ミラーから
なる光学系であり、各ミラーの反射面には波長１３ｎｍ
のＸ線を選択的に反射するように構成されたＭｏ／Ｓｉ
多層膜が形成されている。また、投影光学系８は、円弧
上の領域で収差が補正された物体側、像側ともにテレセ
ントリックな光学系であり、縮小倍率は１／４、縮小側
の開口数は0.08である。投影光学系８の光軸は、照明装
置の第２の凹面鏡３である放物トーリック面の回転中心
軸Ａ_X0と一致するように配置される。

【００３６】この投影光学系８により、マスク６上の円
弧状照明領域の回路パターンは、フォトレジストを塗布
したウェファー９上へ縮小転写される。ウェファー９は
ウェファーホルダー１０に保持されている。この露光装
置では一度に円弧状の領域しか露光できないので、マス
クステージ７とウェファーステージ１０とを同期して矢
印の方向へ動かすことによってマスク６上の回路パター
ン全体をウェファー９へ転写する。本露光装置は、幅0.
45ｍｍ、長さ２１ｍｍの円弧状の領域内全体で、0.1 μ
ｍ以下の解像力を有する。

【００３７】図５は、本発明にかかる露光装置の第２実
施例（Ｘ線投影露光装置）を示す概略構成図である。図
１に示したものと類似の照明装置により、マスクステー
ジ７上に保持されたマスク６の円弧状領域を照明する。
マスク６は、反射型のＸ線マスクであり、波長１３ｎｍ
のＸ線を反射するように構成されたＭｏ／Ｓｉ多層膜の
上にＡｕの回路パターンが形成されたものである。

【００３８】反射型のマスクを使用するために、照明装
置はテレセントリックの条件から少しずらしてある。具
体的には、図１（ａ）において、第２の凹面鏡３の位置
を放物線ＰＡ上で若干右側へずらすことによって、照明
光のマスクへの入射角度を垂直から傾けてある。本実施
例ではこの入射角を４゜とした。マスク６の直前には、
所定の照明領域以外の領域へ入射する光線を遮蔽するた
めのスリット５が設けられているが、本発明による照明
装置においてはその様な光線はごく僅かであるので、ス
リット５は省略することもできる。

【００３９】投影光学系８は、４枚の非球面ミラーから
なる光学系であり、各ミラーの反射面には波長１３ｎｍ
のＸ線を選択的に反射するように構成されたＭｏ／Ｓｉ
多層膜が形成されている。また、投影光学系８は円弧上
の領域で収差が補正された像側テレセントリックな光学
系であり、縮小倍率は１／４、縮小側の開口数は0.08で
ある。投影光学系８の光軸は、照明装置の第２の凹面鏡
３である放物トーリック面の回転中心軸Ａ_X0と一致する
ように配置される。

【００４０】この投影光学系８により、マスク６上の円
弧状照明領域の回路パターンは、フォトレジストを塗布
したウェファー９上へ縮小転写される。ウェファー９は
ウェファーホルダー１０に保持されている。この露光装
置では一度に円弧状の領域しか露光できないので、マス
クステージ７とウェファーステージ１０とを同期して矢
印の方向へ動かすことによってマスク６上の回路パター
ン全体をウェファー９へ転写する。本露光装置は、幅0.
45ｍｍ、長さ２１ｍｍの円弧状の領域内全体で、０．１
μｍ以下の解像力を有する。

【００４１】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、照明効
率を向上した照明装置、および該照明装置を備えること
によりスループットを向上した露光装置を提供すること
ができる。また、本発明によれば、高価なオプティカル
インテグレータを使用しないで済むので、照明装置、さ
らには照明装置を備えた露光装置の製造コストを低減す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明にかかる照明装置の光学系であり、
光源部１、第１の凹面鏡、及び第２の凹面鏡３のメリジ
オナル方向での断面図（図１（ａ））とサジタル方向の
上面図（図１（ｂ））である。

【図２】は、本発明にかかる照明装置の機能を示す説明
図である。

【図３】は、オプティカルインテグレータを用いた従来
の照明装置の構成図である。

【図４】は、放物トーリック面形状を有する反射鏡の機
能を示す説明図である。

【図５】は、放物トーリック面形状を有する第２反射鏡
の機能を示す説明図である。

【図６】は、本発明にかかる露光装置の第１実施例（Ｘ
線投影露光装置）を示す概略構成図である。

【主要部分の符号の説明】

１・・・光源部２・・・第１の凹面鏡３・・・第２の凹面鏡４・・・照明領域５・・・スリット６・・・マスク７・・・マスクステージ８・・・投影光学系９・・・ウェファー１０・・・ウェファーステージ以上

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、所定の大きさの光源又はそ
の像を形成する光源手段と、該光源手段からの光束を集
光して被照明物体を照明する集光光学系とを有する照明
装置において、前記光源手段は、発散光束を供給する光源部を有し、前記集光光学系は、第１の凹面鏡と第２の凹面鏡とを有
し、該第１の凹面鏡は、前記光源手段からの発散光束をメリ
ジオナル面内において平行光束に変換する放物シリンド
リカル面の一部より構成され、該第２の凹面鏡は、放物線の頂点から該放物線の対称軸
に沿って所定の距離だけ隔てた位置を該対称軸に対して
垂直に通るメリジオナル面内にある基準軸を中心に回転
させた放物トーリック形状の回転体の一部より構成され
ることを特徴とする照明装置。
【請求項２】前記第１および第２の凹面鏡の反射面
に、所定の波長のＸ線を反射する多層膜を設けたことを
特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】前記多層膜が、モリブデン／ケイ素、モ
リブデン／ケイ素化合物、ルテニウム／ケイ素、ルテニ
ウム／ケイ素化合物、ロジウム／ケイ素、又はロジウム
／ケイ素化合物の組み合わせのうち、いずれか一つの組
み合わせで、交互に複数回積層したものにより形成され
てなることを特徴とする請求項２記載の照明装置。
【請求項４】請求項１〜３に記載の照明装置を備えた
露光装置。