JPH088322A - 搬送装置および基板取り扱い方法 - Google Patents

搬送装置および基板取り扱い方法

Info

Publication number
JPH088322A
JPH088322A JP13581794A JP13581794A JPH088322A JP H088322 A JPH088322 A JP H088322A JP 13581794 A JP13581794 A JP 13581794A JP 13581794 A JP13581794 A JP 13581794A JP H088322 A JPH088322 A JP H088322A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
glass substrate
substrate
suction hand
hand
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP13581794A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Matsuguchi
征一 松口
Toshiharu Teramoto
俊治 寺本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
D S GIKEN KK
Original Assignee
D S GIKEN KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by D S GIKEN KK filed Critical D S GIKEN KK
Priority to JP13581794A priority Critical patent/JPH088322A/ja
Publication of JPH088322A publication Critical patent/JPH088322A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 通箱である発泡性樹脂製の輸送用カセットか
ら液晶用ガラス基板を位置ずれなく確実に搬出すること
が可能な搬送装置を提供すること。 【構成】 この搬送装置は、液晶用のガラス基板5を発
泡性樹脂製の輸送用カセット6から取り出す吸着ハンド
4を備える。この吸着ハンド4は、その先端にスライド
ストッパ84を備える。このスライドストッパ84は、
吸着ハンド4にガラス基板5を支持した際にこのガラス
基板5に係合しこのガラス基板5が吸着ハンド4の先端
方向に移動するのを阻止する突起部84aを備える。こ
の結果、吸着ハンド4上に支持されたガラス基板5を吸
着ハンド4とともに搬送用カセット6から確実に引き出
すことができ、ガラス基板5の取り出しミスや位置ズレ
が生じない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶用ガラス基板、プ
リント基板等の精密電子機器用の基板の搬送装置および
基板取り扱い方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶用のガラス基板、プリント基
板等の基板を収納しているプロセスライン専用の堅い樹
脂製のカセットから基板を搬出してプロセスラインの始
点の処理部に搬送する際には、次のような方法によって
いた。まず、基板を収容したカセットを搬出作業用の台
上にセットする。この際、この台上に形成されたブロッ
クでプロセスライン専用のカセットを位置決めしてお
く。次に、搬送装置のハンドをカセット内の棚上の基板
直下に進入させた後、ハンドを上昇させつつハンドに設
けた真空チャックで基板を吸着し、ハンドを基板ととも
に後退させてカセット外に搬出していた。
【0003】なお、カセットに基板を搬入する際にも、
上記と同様に、カセットを搬入作業用の台上に予め位置
決めした状態でセットし、搬送装置のハンドによって、
このハンド上に吸着した基板をカセット内に進入させ、
基板をカセット内の棚上に載置していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
方法を通箱用の発泡プラスチック製のカセットにそのま
ま適用すると、以下のような問題が生じる。すなわち、
通箱用のカセットは、輸送時の安全等のため、基板を保
持している溝と基板との隙間が、上記のようなプロセス
ライン専用のカセットに比較して狭くなっているので、
通常、基板をこの溝に対して擦りつつ摩擦力に抗して取
り出さざるを得ない。したがって、吸着力に限界がある
真空チャックでは取り出しミスが起こる虞がある。さら
に、首尾良く基板を取り出せても、取り出した基板がこ
のハンドに対する正規の位置からずれる可能性もあるの
で、次工程に位置決め機構が必要となる。
【0005】さらに、通箱用の発泡プラスチック製のカ
セットは、プロセスラインで使用するカセットに比較し
て軽量であり、しかもその成形に際して歪みが生じてい
る場合が多いので、基板の搬出・搬入の際にこの基板の
引き出しまたは収納にともなってカセットが傾いてしま
い、搬出・搬入中の基板を破損するといった問題や、基
板の搬出・搬入の際にカセットごとブロックからはずれ
てしまう位置ズレが生じ、基板の搬出・搬入が不能な状
態となってしまうといった問題がある。
【0006】そこで、この発明は、通箱用の発泡性樹脂
製のカセットから精密電子機器用の基板を位置ずれなく
確実に搬出することが可能な搬送装置を提供することを
目的とする。さらに、この発明は、通箱用の発泡性樹脂
製のカセットから精密電子機器用の基板を位置ずれなく
確実に搬出・搬入することが可能な基板取り扱い方法を
提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、この発明の請求項1の搬送装置は、精密電子機器用
の基板を保持可能なハンドを備え、発泡性樹脂で形成さ
れた基板輸送用のカセットから基板をハンドによって取
り出して搬送する装置であって、ハンドの先端に突起が
立設され、基板の端部のうちカセットの奥側の端部に突
起を係合させてカセットから基板を引き出すことを特徴
とする。
【0008】また、請求項2の基板取り扱い方法は、発
泡性樹脂で形成された基板輸送用のカセットからの精密
電子機器用の基板の取り出し、またはカセットへの基板
の収納を行う方法において、あらかじめカセットの側面
に凹部を形成しておき、基板が収容された状態でカセッ
トを載置台上に載置し、載置台に連結されたカセット固
定用爪を凹部に嵌め込んでカセットを下方に押圧し、押
圧がなされた状態で、カセットからの基板の取り出しま
たはカセットへの基板の収納を行うことを特徴とする。
【0009】
【作用】請求項1の搬送装置では、ハンドの先端に突起
が立設され、基板の端部のうちカセットの奥側の端部に
この突起を係合させてカセットから基板を引き出すの
で、カセットと基板との間に比較的大きな摩擦抵抗が生
じる場合にも、ハンド上に支持された基板をハンドとと
もに確実にカセットから引き出すことができ、基板の取
り出しミスや位置ズレが生じない。
【0010】また、請求項2の基板取り扱い方法では、
載置台に連結されたカセット固定用爪をカセットの凹部
に嵌め込んでカセットを下方に押圧し、押圧がなされた
状態で、カセットからの基板の取り出しまたはカセット
への基板の収納を行う。したがって、カセットが確実に
固定されている安定した状態で、基板をカセットから確
実に引き出したりこれに収納することができ、基板の取
り出しミスや位置ズレ、破損等が生じにくい。さらに、
凹部に固定用爪を嵌め込んで凹部を台側の下方に押圧し
た状態とするので、カセットの下面を台の上面と一致さ
せて平坦なものとすることができ、カセットの成形時の
歪みが矯正され、基板の取り出し・収納がより円滑なも
のとなる。
【0011】
【実施例】図1は、実施例の搬送装置であるローダの全
体を示す側面図である。ローダ2から延びる吸着ハンド
4は、液晶表示器用の角形のガラス基板5を収納した輸
送用カセット6内に進入し、ガラス基板5を保持し、こ
れを輸送用カセット6外に搬出し、プロセスライン用の
カセットやプロセスラインの処理部(図示を省略)など
に移載する。
【0012】ここで、上記した輸送用カセット6は、ガ
ラス基板5の工場間での輸送等に用いられる一般に通箱
と呼ばれるもので、発泡性樹脂である発泡ポリプロピレ
ンなどから形成されている(図面では、ガラス基板5の
搬出のために、蓋側の部材が取り除かれた本体部分のみ
が示されている。)。また、上記したプロセスラインと
は、例えば成膜、洗浄、レジストコーティング等の各種
処理部からなる基板処理装置のことをいう。また、プロ
セスライン用のカセットとは、堅い樹脂等からなるカセ
ットをいい、ガラス基板5を収容した状態で工場外へ
(又は遠隔地へ)輸送することを目的としないものであ
り、ガラス基板5を保持している溝とガラス基板5との
隙間が、上記のような輸送用カセット6に比較して広く
なっている。
【0013】吸着ハンド4は、ステージ7に設けられた
レール(図示せず)にガイドされていて、ステージ7上
を水平X方向に往復動する。吸着ハンド4の往復動は、
モータ7aの回転をベルト7bを介して伝達することに
よって制御する。
【0014】ステージ7は、基台8内に設けられたモー
タ8aによって軸8bを中心としてθ方向に自在に回転
(旋回)する。また、ステージ7は、基台8内に設けら
れた別のモータ8cの回転を垂直往復動に変換する伝達
機構8dによって軸8bごと垂直Z方向に上下動する。
この結果、吸着ハンド4は、円筒座標の任意の点に移動
することができる。吸着ハンド4の位置検出は、ステッ
ピングモータである各モータ7a、8a、8cの制御信
号をカウントすることによって行っている。コントロー
ラ9は、各モータ7a、8a、8cを駆動しつつその制
御信号をモニタし、吸着ハンド4を所望の位置に制御し
つつ移動させる。
【0015】図2は、図1のローダ2の吸着ハンド4部
分を拡大した部分破断平面図である。また、図3は、図
2のハンド4の先端に形成したスライドストッパ84の
構造を拡大して示す平面図及び側面図である。さらに、
図4は、後述する回転アーム44とズレセンサDSの配
置関係を示した部分拡大図であり、図5は、ハンド本体
14の側方部分断面図であって、回転アーム44とズレ
センサDSの立体的位置関係を示す図となっている。
【0016】図2に示されているように、ハンド本体1
4(金属製ハウジング)の上面には、ガラス基板5(点
線)を吸着する3つの真空チャック24が設けられてお
り、図示しない真空装置からの負圧がこの真空チャック
24に適宜与えられる。この真空チャック24を動作さ
せることによって、ハンド本体14上に支持されている
ガラス基板5がハンド本体14上に固定されるので、吸
着ハンド4の旋回等の動作にともなってガラス基板5が
落下したり位置ズレすることを防止できる。ハンド本体
14の先端部には、一対の樹脂製の突起部(好ましくは
フッ素樹脂製の突起部)84aを備えるスライドストッ
パ84が形成されている。このスライドストッパ84
は、搬送用カセット6内に進入させた吸着ハンド4を後
退させる際に、この吸着ハンド4上方にあるガラス基板
5の奥側の端部に引っ掛かって、このガラス基板5を輸
送用カセット6外に確実に引き出す。しかも、スライド
ストッパ84がガラス基板5の奥側の端部に機械的に引
っ掛かった状態でこのガラス基板5の取り出しが行われ
るので、ガラス基板5が吸着ハンド4上で滑って位置ズ
レが生じることを確実に防止できる。ハンド本体14の
中央部は中空となっていて、基板有無センサ34と回転
アーム44とズレセンサDSとが内蔵されている。これ
らのセンサ34、DSは、ケース64内に収納されたセ
ンサ駆動回路その他の装置によって駆動される。これら
のセンサ34、DSの検出結果は、図1の制御装置9に
入力される。後に詳細を説明するが、この制御装置9か
らの制御によって、ガラス基板5と吸着ハンド4の相対
的位置が調整されるので、輸送用カセット6中のいずれ
かのガラス基板5に飛び出し等が生じている場合にも、
吸着ハンド4をこのガラス基板5直下の正規の位置に位
置合わせして進入させることができる。すなわち、輸送
用カセット6からのガラス基板5の飛び出しの有無に拘
らず、吸着ハンド4をそのスライドストッパ84がガラ
ス基板5の奥側の端部に引っ掛かるように位置合わせす
ることができ、ガラス基板5を吸着ハンド4に対する正
規の載置位置からの位置ズレを補償した状態で輸送用カ
セット6外に搬出できる。
【0017】図2のスライドストッパ84は、図3
(a)及び図3(b)に拡大して示すように、吸着ハン
ド4からその先端方向に水平に延びる第1の板状体84
bと、この第1の板状体84bの先端にこれと直交する
ように取り付けられている第2の板状体84cと、この
第2の板状体84cの両端に取り付けられた一対の円柱
状の突起部84aとを備える。各突起部84aは、ガラ
ス基板5(点線)を輸送用カセット6から搬出するに際
して、ガラス基板5の奥側の端部5aに係合し、吸着ハ
ンド4上の正規の載置位置にあるガラス基板5が吸着ハ
ンド4の進入方向に滑動するという搬出動作中の位置ズ
レを防止する。すなわち、輸送用カセット6内にその成
形歪み等に起因して比較的強固に把持されているガラス
基板5を輸送用カセット6外に強制的に引き出すとき
に、真空チャック24による吸着ではガラス基板5が吸
着ハンド4の進入方向に滑って位置ズレが生じる可能性
があるが、このような突起部84aを、正規の位置に支
持されているガラス基板5の端部5aに対応する対称な
位置に固設しておくことで、この突起部84aがガラス
基板5の端部5aを対称に支持するので、ガラス基板5
の搬出動作中の位置ズレの発生を防止しつつガラス基板
5を輸送用カセット6外に確実に取り出すことができ
る。
【0018】図2の回転アーム44は、図4に拡大して
示すように、ベアリングを内蔵する回転軸44aを中心
に水平面内でシーソー様に往復回転(旋回)する。この
回転アーム44の一端には、水平面内で回転可能にベア
リングで軸支された樹脂製のローラ44b(好ましくは
フッ素樹脂製ローラ)が取り付けられている。図5に示
されているように、このローラ44bは、ハンド本体1
4の上面から突出している。このローラ44bは、ハン
ド本体14が輸送用カセット6中に並ぶガラス基板5の
直下に近接して挿入された場合に、ガラス基板5の端部
に当接してこの基板5の端部によって図4の右方向に押
圧される。図4に仮想線で示すように、ローラ44bへ
のこの押圧力によって回転アーム44は水平面内で旋回
するが、この旋回につれてローラ44bは回転軸44a
を中心にして公転するとともに、基板5の端部上を相対
的に転がるような関係で自転する。すなわち、ガラス基
板5の端部が図4の一点鎖線Aの位置にあるとき、ロー
ラ44bは図示の位置にあるが、ガラス基板5の端部が
二点鎖線の位置Bに移動したとき、ローラ44bはガラ
ス基板5の位置に応じて変位するとともにそれに応じた
角度だけ自転している。
【0019】ズレセンサ本体54は、回転アーム44の
他端の動きを検出するフォトインタラプタ54aを備
え、ハンド本体14の進入に際してのガラス基板5の正
規の載置位置からの位置ズレを電気的に検知し、制御装
置9に出力する。
【0020】アーム本体44cは、上下部材とこれらに
挟まれた中間部材からなる断面が「コ」の字状の材料か
ら形成され、その溝部分にバネ44gを収容している。
このアーム本体44cの一端に形成されたローラ44b
は、ハンド本体14の上面に形成されている開口44d
を介してハンド本体14上に突出している(図5)。ア
ーム本体44cの他端に形成された遮光用の板状のセク
タ44eは、ズレセンサ54のフォトインタラプタ54
aの間に進出したり待避したりする(図5)。アーム本
体44cは、ハンド本体14側に固定されたピン44f
とこれに係止されたバネ44gとによって、図4の時計
方向に向けて付勢されている。ただし、アーム本体44
cは、ストッパ44hによって、実線の位置以上の時計
方向の回転が禁止されている。
【0021】ここで、ハンド本体14が輸送用カセット
6中のいずれか1つのガラス基板5の直下に近接して挿
入された場合を考える。ガラス基板5の端部が図4の一
点鎖線Aの位置にあるとき、回転アーム44は図示実線
の位置にあり、フォトインタラプタ54aの出力はオフ
となっている。ガラス基板5の端部が二点鎖線Bの位置
にあるとき、回転アーム44’は図示二点鎖線の位置に
あり、フォトインタラプタ54aの出力はオンとなって
いる。ガラス基板5がこの間を往復する間、ローラ44
bは、ガラス基板5の端部に当接してガラス基板5とと
もに往復動する。この場合、ローラ44bが滑らかに自
転する樹脂で出来ているので、ガラス基板5が図示のよ
うに変位しても、パーティクルは発生しない。
【0022】なお、図2に示す吸着ハンド4の中央部に
設けられている基板有無センサ34は、ガラス基板5の
存在の有無を補助的に検出するために用いるもので、発
光部34a及び受光部34bを備える。発光部34aか
らの検査光は、スリット14aをへてガラス基板5の下
面で通常反射され、再びスリット14aをへて受光部3
4bに入射する。ガラス基板5が図示の位置にない場
合、受光部34bに検査光が入射しなくなるので、ガラ
ス基板5が吸着ハンド4の上方にないことを認識でき
る。この場合、吸着ハンド4は、ガラス基板5の搬出動
作を行わず、輸送用カセット6から迅速に後退して次の
動作にうつる。
【0023】図6(a)及び(b)は、図1に示す輸送
用カセット6の固定装置を示した平面図及び背面図であ
る。この固定装置100によって輸送用カセット6を固
定することにより、輸送用カセット6内からのガラス基
板5の搬出がより確実なものとなる。この固定装置10
0は、輸送用カセット6の下面を支持する台である一対
のベース板110と、輸送用カセット6の側面の四隅に
形成されている4個の凹部36に嵌り込む4個の爪部材
120と、これらの爪部材120を回転軸122の回り
に回転駆動するエアシリンダ124とを備える。
【0024】一対のベース板110は、それらの上面が
同一平面内に位置するように支柱上に固定されている。
各爪部材120は、水平方向に延びる回転軸122に固
定的に取り付けられ、この回転軸122の回転にともな
って回転する。一方の回転軸122に取り付けられてい
る一対の各爪部材120は、その面が互いに同一の回転
角になるように調節されて固定されている。他方の回転
軸122に取り付けられている一対の各爪部材120も
同様に、その面が互いに同一の回転角になるように調節
されて固定されている。エアシリンダ124は、圧縮空
気源(図示を省略)から伝達される空気圧に応じて動作
し、伝達機構126を介して、回転軸122を図面の時
計方向に回転させたり、反時計方向に回転させたりす
る。なお、回転軸122や伝達機構126は、ハウジン
グ130内に収容されている。
【0025】参考のため、図6を参照しつつ輸送用カセ
ット6について簡単に説明しておく。この輸送用カセッ
ト6は、既に述べたように、一般に通箱と呼ばれるもの
で、発泡性樹脂である発泡ポリプロピレン等から形成さ
れている。図6では、ガラス基板5の搬出ために、蓋側
の部材が取り除かれている。
【0026】輸送用カセット6の左右の内壁には、水平
方向に延びる複数の溝が垂直方向に等間隔で周期的に形
成されている。この溝内にガラス基板5の端部が差し込
まれ、輸送用カセット6内に保持される。輸送用カセッ
ト6の奥の内壁には、一対の縦方向に延びるダンパ26
が形成されている。このダンパ26は、フッ素系樹脂で
できており、輸送用カセット6の輸送に際して内部のガ
ラス基板5を支持する。輸送用カセット6外周の左右側
面に形成されている4個の凹部36には、固定装置10
0側の4個の爪部材120が進入自在となっている。各
凹部36に進入した各爪部材120は、輸送用カセット
6の位置ずれを機械的に防止するとともに、各凹部36
を固定装置100のベース板110側に押し付けて、輸
送用カセット6の成形の際の歪みを矯正する。
【0027】なお、各凹部36を輸送用カセット6の下
側(固定装置100のベース板110側)に形成してあ
るので、各爪部材120、回転軸122等をベース板1
10に近い下側に配置することができ、パーティクルに
よってガラス基板5が汚染されることを極力防止でき
る。すなわち、プロセスラインや固定装置100が設置
されるクリーンルームでは、ダウンフローによってパー
ティクルの浮遊が低減されるようになっているので、パ
ーティクルを発生する虞がある可動部はパスライン(パ
スラインとは、ワークすなわち実施例ではガラス基板5
が通る高さをいう。)より下方にあることが望ましい。
実施例の固定装置100では、各凹部36を輸送用カセ
ット6の側壁の下側、すなわち固定装置100のベース
板110側に形成してあるので、各爪部材120と各凹
部36の間、回転軸122自体から発生する可能性があ
るパーティクルによってガラス基板5が汚染されること
を極力防止することができる。
【0028】図7は、輸送用カセット6の左右の内壁の
状態を模式的に示す平面図である。図示のように、輸送
用カセット6の左右の内壁の溝底16bは、その開口に
向けてわずかな開き角を有している。この結果、内部空
間に収容されるガラス基板5は、左右内壁の下端、すな
わち輸送用カセット6の奥側の部分(図面下端)でセン
タリングされかつ固定される。その一方、輸送用カセッ
ト6の左右内壁に形成された溝頂16aが開き角を有し
ていないので、ガラス基板5は、輸送用カセット6の左
右内壁の上端において緩みのある状態で固定される。こ
の結果、輸送用カセット6の輸送時やガラス基板5の搬
出・搬入時および輸送時に、ガラス基板5と輸送用カセ
ット6の間での擦れによってパーティクルが発生するこ
とを効果的に防止できる。
【0029】以下、図1のローダと図6の固定装置10
0による搬出動作について説明する。
【0030】予め、図6の固定装置100によって、輸
送用カセット6を固定する工程について説明する。ま
ず、蓋を取った輸送用カセット6をベース板110上に
位置合わせして載置し、エアシリンダ124を伸長側に
動作させる。これにより、各爪部材120が回転して輸
送用カセット6の側壁の四隅の各凹部36内に嵌まり、
各凹部36を下方のベース板110側に押圧する。この
結果、ベース板110上の輸送用カセット6の位置決め
及び固定が達成され、輸送用カセット6が確実に固定さ
れている安定した状態でガラス基板5を搬送用カセット
6外に確実に引き出すことができ、ガラス基板5の取り
出しミスや位置ズレ、破損が生じにくい。さらにこの
際、輸送用カセット6の下面がベース板110上に押し
付けられ、この下面が平坦面となるので、輸送用カセッ
ト6の下面側の成形時における歪みが矯正され、輸送用
カセット6の全体の成形時における歪みもある程度矯正
される。よって、ガラス基板5の搬出時におけるガラス
基板5と輸送用カセット6と間の摩擦抵抗が減少し、ガ
ラス基板5の搬出動作が比較的円滑になるとともに、摩
擦によるパーティクルの発生を抑制することができる。
【0031】なお、輸送用カセット6から全てのガラス
基板5を取り出した後は、図6の固定装置100による
固定を解除して、輸送用カセット6を取り除く。すなわ
ち、エアシリンダ124を短縮側に動作させ、各爪部材
120を回転させて、輸送用カセット6の側壁の各凹部
36内から待避させる。これにより、固定装置100の
ベース板110上の輸送用カセット6は、固定が解除さ
れて次の輸送用カセットと交換可能な状態となる。
【0032】次に、図1のローダ2によって、輸送用カ
セット6中のガラス基板5を取り出す工程について説明
する。図8は、ローダ2の吸着ハンド4を輸送用カセッ
ト6中の1つのガラス基板5直下にガラス基板5と接触
しないように進入させてガラス基板5を取り出す場合に
おける、制御装置9での処理フローの一部を示す。最初
のステップS1で、吸着ハンド4の前進を開始させる。
次のステップS2では、ズレセンサDSの出力のオン・
オフを判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわちガラ
ス基板5の端部が図4の一点鎖線Aの位置を超えていな
い場合には、次のステップS3で、吸着ハンド4が減速
位置に達したか否かを判別する。減速位置とは、ガラス
基板5が輸送用カセット6内に正確に収まっている場合
の吸着ハンド4の減速開始位置のことをいう。減速開始
位置に達している場合には、次のステップS4で、吸着
ハンド4の進入速度を減速させる。このような減速段階
を設けているのは、吸着ハンド4を迅速にガラス基板5
直下に進入させるとともに、吸着ハンド4の停止時にお
ける衝撃を緩和するためである。ステップS5では、吸
着ハンド4が停止位置に達したか否かを判別する。停止
位置とは、ガラス基板5が輸送用カセット6内に正確に
収まっている場合の吸着ハンド4の停止予定位置のこと
をいう。
【0033】停止位置に達している場合には、次のステ
ップS6で、吸着ハンド4を完全に停止させる。ステッ
プS7では、再びズレセンサDSの出力のオン・オフを
判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわちガラス基板
5の端部が一点鎖線Aの位置を超えていない場合には、
吸着ハンド4が適正な位置まで進入してガラス基板5と
の位置合わせが完了したものとして、最後のステップS
8で吸着ハンド4の進入動作を終了させる。
【0034】図9(a)は、上記のような吸着ハンド4
の動作を示した図である。この場合、ガラス基板5は、
輸送用カセット6内の正規の位置に収まっている。時刻
t1で、ステップS3からステップS4に進み、吸着ハ
ンド4の減速を開始する。時刻t3で、ステップS5か
らステップS6に進み、吸着ハンド4を停止させ、吸着
ハンド4の位置合わせを終了する(S8)。
【0035】再び図8に戻って説明する。ステップS7
で、ズレセンサDSがオン、すなわちハンド4の進入過
程の途中においてガラス基板5の端部が一点鎖線Aの位
置を超えた場合には、ガラス基板5が輸送用カセット6
の正規の位置に収まっておらず、輸送用カセット6の正
規位置から突出していることになる。このため、このと
きにはそのガラス基板5の実際の位置を基準にして考え
た場合には吸着ハンド4がオーバーランしたことにな
る。したがって、ステップS15に進み、吸着ハンド4
をいったん停止させた後に比較的低速で後退させ始め
る。ステップS16では、再びズレセンサDSの出力の
オン・オフを判別する。ズレセンサDSがオフ、すなわ
ちガラス基板5の端部が一点鎖線Aの位置まで戻ってい
る場合には、吸着ハンド4とガラス基板5との位置合わ
せが完了したものとして、ステップS17で吸着ハンド
4を停止させ、最後のステップS8で吸着ハンド4の進
入動作を終了させる。
【0036】図9(b)は、上記のような吸着ハンド4
の動作を示した図である。この場合、ガラス基板5は、
既述したように輸送用カセット6内の正規の位置からわ
ずかに飛び出している。時刻t1で、ステップS3から
ステップS4に進み、図9(a)同様に吸着ハンド4の
減速を開始する。時刻t2で、ズレセンサDSがオンと
なるが、減速を続ける。時刻t3で、ステップS5から
ステップS6に進み、吸着ハンド4を停止させるが、ズ
レセンサDSがオンであるためステップS7からステッ
プS15に進み、吸着ハンド4を後退させ始める。時刻
t4で、ズレセンサDSがオフとなるため、ステップS
16からステップS17に進み、吸着ハンド4を停止さ
せ、吸着ハンド4の位置合わせを終了する(S8)。
【0037】再び図8に戻って説明する。ステップS2
で、ズレセンサDSがオン、すなわち減速開始前にガラ
ス基板5の端部が一点鎖線Aの位置を超えることになっ
た場合には、ガラス基板5が輸送用カセット6の正規の
位置からかなり飛び出しているため吸着ハンド4がオー
バーランしたものとしてステップS10に進み、正規の
減速開始位置に至る前に吸着ハンド4を減速させ始め
る。吸着ハンド4が減速開始後所定距離だけ進んだ場合
には、ステップS10からステップS11に進み、吸着
ハンド4を停止させる。吸着ハンド4の停止後、ステッ
プS11からステップS15に進み、吸着ハンド4を比
較的低速で後退させ始める。以下は既述した図9(b)
に対応する場合と同様であり、その詳細は省略する。
【0038】図9(c)は、上記のような場合の吸着ハ
ンド4の動作を示した図である。この場合、ガラス基板
5は、輸送用カセット6内の正規の位置からかなり飛び
出している。時刻t0で、ズレセンサDSがオンとなる
ことから、ステップS2からステップS10に進み、吸
着ハンド4の減速を開始する。時刻t2’で、ステップ
S10からステップS11に進み、吸着ハンド4を停止
させて、さらにステップS15に進み、吸着ハンド4を
後退させ始める。時刻t5で、ズレセンサDSがオフと
なるため、ステップS16からステップS17に進み、
吸着ハンド4を停止させ、吸着ハンド4の位置合わせを
終了する(S8)。
【0039】以上のような位置合わせの終了後、吸着ハ
ンド4を若干上昇させ、ガラス基板5を下方から支持す
る。図10は、このときの吸着ハンド4、ガラス基板
5、及び輸送用カセット6の位置関係を示した図であ
る。その後、吸着ハンド4を後退させてガラス基板5を
輸送用カセット6から取り出す。この場合、吸着ハンド
4の先端に、吸着ハンド4上に支持されているガラス基
板5が摩擦で先端方向(吸着ハンド4の進入方向)にス
リップ移動するのを引っ掛けによって阻止する突起部8
4aを設けているので、吸着ハンド4上に支持されてい
るガラス基板5を吸着ハンド4とともに搬送用カセット
6から確実に引き出すことができ、ガラス基板5の取り
出しミスや位置ズレが生じない。最後に、真空チャック
24によって吸着ハンド4上のガラス基板5を吸着固定
して吸着ハンド4とともにガラス基板5を移送し、プロ
セスラインの処理部や、プロセスライン専用のカセット
等に移載する。
【0040】なお、スライドストッパ84の突起部84
aの頂部の高さ位置は、ズレセンサDSのローラ44b
の頂部の高さ位置より低くなっている。これは、吸着ハ
ンド4を輸送用カセット6内に支持されているガラス基
板5直下に挿入する動作に際して、突起部84aがガラ
ス基板5と干渉するという問題を避けつつ、ローラ44
bがガラス基板5の端部に当接して吸着ハンド4とガラ
ス基板5の相対的位置合わせが可能になるようにしたも
のである。したがって、吸着ハンド4は、その突起部8
4aの頂部とそのローラ44b頂部との間の高さにガラ
ス基板5の下端面が位置するように挿入される。
【0041】以上、実施例に即して本発明を説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではない。例
えば、実施例ではガラス基板5を保持するために吸着ハ
ンド4を用いたが、この代わりに機械的機構によって動
作するチャックその他の各種の保持機構を用いたハンド
を用い、このハンドにガラス基板5の位置ズレを防止す
るための、スライドストッパ84、回転アーム44、ズ
レセンサDS等を取り付けることもできる。
【0042】また、上記実施例では、ガラス基板5の取
り出しの際の位置ズレを防止するため、一対の円柱状の
突起部84aを備えるスライドストッパ84を用いてい
るが、ガラス基板5を搬送用カセット6から引き出す際
にガラス基板5の端部に引っ掛かってスリップを防止し
得る限り、突起部84aの形状は任意のものとすること
ができる。
【0043】また、上記実施例では、輸送用カセット6
からガラス基板5を取り出す場合について説明したが、
プロセスラインの終端からガラス基板5を取り出して輸
送用カセット6に収納する場合にも、実施例のローダ2
をアンローダとして用いることができ、実施例の固定装
置100を輸送用カセット6の固定に用いることができ
る。この場合、プロセスラインの終端のカセット等でガ
ラス基板5が正規の位置に収まっていなくても、吸着ハ
ンド4とガラス基板5とを位置合わせして、ガラス基板
5を輸送用カセット6内に適宜収納することができる。
【0044】また、上記実施例では、液晶表示器用のガ
ラス基板5の搬送について説明したが、液晶表示器用以
外の各種基板の搬送にも、実施例のローダ2と同一また
は類似の構成を用いることができる。例えば、プラズマ
ディスプレィ用ガラス基板の搬送、プリント配線基板の
搬送、太陽電池用の基板の搬送、半導体製造用のクロー
ムマスクの搬送等に実施例のローダ2及び固定装置10
0を用いることができる。
【0045】また、上記実施例では、基板の端部の位置
を検出するため、ガラス基板5端部に当接する回転アー
ム44を用いているが、各種の往復機構を用いガラス基
板5端部に当接させつつ移動させて、ガラス基板5の位
置ズレを検出させることができる。ただし、実施例のよ
うにシーソー様の回転アーム44を用いた場合、回転ア
ーム44をガラス基板5端部の変位に応じて滑らかに回
転させることができるので、位置ズレの調整精度を高め
ることができ、またガラス基板5端部の変位を拡大する
こともできる。
【0046】また、回転アーム44の回転軸の方向は任
意であるが、実施例のように水平面内の回転ではなくた
とえば垂直面内で回転できるようにすることもできる
が、前者の場合には吸着ハンド4を厚くする必要がない
ため、輸送用カセット6からガラス基板5を取り出す場
合に好適である。
【0047】
【発明の効果】以上説明のように、請求項1の搬送装置
では、ハンドの先端に突起が立設され、基板の端部のう
ちカセットの奥側の端部に突起を係合させてカセットか
ら基板を引き出すので、カセットと基板との間に比較的
大きな摩擦抵抗が生じる場合にも、ハンド上に支持され
た基板をハンドとともに確実にカセットから引き出すこ
とができ、基板の取り出しミスや位置ズレが生じない。
すなわち、簡易な構造によってカセットからの基板の取
り出しミスや位置ズレを防止できる。
【0048】また、請求項2の基板取り扱い方法では、
載置台に連結されたカセット固定用爪をカセットの凹部
に嵌め込んでカセットを下方に押圧し、押圧がなされた
状態で、カセットからの基板の取り出しまたはカセット
への基板の収納を行う。したがって、カセットが確実に
固定されている安定した状態で、基板をカセットから確
実に引き出したりこれに収納することができ、基板の取
り出しミスや位置ズレ、破損等が生じにくい。さらに、
凹部に固定用爪を嵌め込んで凹部を台側の下方に押圧し
た状態とするので、カセットの下面を台の上面と一致さ
せて平坦なものとすることができ、カセットの成形時の
歪みが矯正され、基板の取り出し・収納がより円滑なも
のとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の搬送装置の構成を示した図である。
【図2】図1の搬送装置の吸着ハンドの平面図である。
【図3】図2の吸着ハンドの要部であるスライドストッ
パの拡大平面図及び側面図である。
【図4】図2の吸着ハンドの要部である回転アームの拡
大平面図である。
【図5】図4の回転アームの側方断面図である。
【図6】ガラス基板を収容する搬送用カセットとその固
定装置を示す平面図及び背面図である。
【図7】搬送用カセットの構造を模式的に説明する図で
ある。
【図8】図1の搬送装置の動作説明するフローチャート
である。
【図9】図1の搬送装置の動作説明するタイミングチャ
ートである。
【図10】搬出動作時における吸着ハンド4、ガラス基
板5及び搬送用カセット6の位置関係を示す図である。
【符号の説明】
2 搬送装置 4 吸着ハンド 5 ガラス基板 6 輸送用カセット 9 制御装置 44 回転アーム 84 スライドストッパ 84a 突起部 DS ズレセンサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 精密電子機器用の基板を保持可能なハン
    ドを備え、発泡性樹脂で形成された基板輸送用のカセッ
    トから前記基板を前記ハンドによって取り出して搬送す
    る装置であって、 前記ハンドの先端に突起が立設され、 前記基板の端部のうち前記カセットの奥側の端部に前記
    突起を係合させて前記カセットから前記基板を引き出す
    ことを特徴とする搬送装置。
  2. 【請求項2】 発泡性樹脂で形成された基板輸送用のカ
    セットからの精密電子機器用の前記基板の取り出し、ま
    たは前記カセットへの前記基板の収納を行う方法におい
    て、 あらかじめ前記カセットの側面に凹部を形成しておき、 前記基板が収容された状態で前記カセットを載置台上に
    載置し、 前記載置台に連結されたカセット固定用爪を前記凹部に
    嵌め込んで前記カセットを下方に押圧し、 前記押圧がなされた状態で、前記カセットからの前記基
    板の取り出しまたは前記カセットへの前記基板の収納を
    行うことを特徴とする基板取り扱い方法。
JP13581794A 1994-06-17 1994-06-17 搬送装置および基板取り扱い方法 Withdrawn JPH088322A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13581794A JPH088322A (ja) 1994-06-17 1994-06-17 搬送装置および基板取り扱い方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13581794A JPH088322A (ja) 1994-06-17 1994-06-17 搬送装置および基板取り扱い方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH088322A true JPH088322A (ja) 1996-01-12

Family

ID=15160507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13581794A Withdrawn JPH088322A (ja) 1994-06-17 1994-06-17 搬送装置および基板取り扱い方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH088322A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7357065B2 (en) 2005-02-08 2008-04-15 Smc Corporation Compound linear motion and rotary actuator

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7357065B2 (en) 2005-02-08 2008-04-15 Smc Corporation Compound linear motion and rotary actuator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100708318B1 (ko) 기판처리 장치 및 기판처리 방법
US20040052624A1 (en) Automated guided vehicle
US20090110532A1 (en) Method and apparatus for providing wafer centering on a track lithography tool
KR20040014213A (ko) 레티클 핸들링 방법, 레티클 핸들링 장치 및 노광장치
US10930538B2 (en) Substrate alignment apparatus, substrate processing apparatus, and substrate processing method
WO2005004227A1 (ja) 薄板状物の変位量検出方法及び変位量修正方法
JPH088322A (ja) 搬送装置および基板取り扱い方法
JP2976317B2 (ja) 板状体の処理装置及び板状体の搬送方法
JPH07249671A (ja) 搬送装置
JP2018056328A (ja) アライメント装置、同アライメント装置を備えた半導体ウエハ処理装置及びアライメント方法
JP2005101069A (ja) 搬送装置及び基板処理装置
JP2919123B2 (ja) 板状体搬送装置
JPH10173030A (ja) 基板搬送装置およびこれを用いた露光装置
JPH0611069B2 (ja) ウエハ整列装置
JPH07142348A (ja) 露光装置
JPH06263219A (ja) 搬送装置
JP3953259B2 (ja) 基板取り出し機構および基板取り出し方法
JPH1126539A (ja) 半導体製造装置、及び該装置に於ける基板位置ずれ修正方法
JP2000195920A (ja) 基板搬送システム及び半導体製造装置
JPH07176595A (ja) 基板搬送装置
JP2503732Y2 (ja) 半導体製造装置
JPH11111813A (ja) 被処理体の位置決め装置
JP2859118B2 (ja) 基板搬送装置
JPH0826413A (ja) 板状体の搬送機構および搬送方法
JP2759155B2 (ja) 塗布装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20010904