JPH0878802A - プリント配線板およびその製造方法 - Google Patents
プリント配線板およびその製造方法Info
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- JPH0878802A JPH0878802A JP21116994A JP21116994A JPH0878802A JP H0878802 A JPH0878802 A JP H0878802A JP 21116994 A JP21116994 A JP 21116994A JP 21116994 A JP21116994 A JP 21116994A JP H0878802 A JPH0878802 A JP H0878802A
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
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- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
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Abstract
おいて、簡略化された製造工程で優れたはんだ付け性を
実現するプリント配線板およびその製造方法を提供する
ことを目的とする。 【構成】 スルーホール用導体12を絶縁基板11aが
貫通するように圧入し、スルーホール用導体12を圧入
した絶縁基板11aの両面に導体はく13aを加熱・加
圧接着した後、所定のパターン13bに形成した構成で
ある。
Description
などの各種電子機器に用いられるプリント配線板および
その製造方法に関するものである。
電子機器は、多機能化あるいは操作の単純化の傾向から
電子回路の複雑化が著しく、それら電子機器に使用され
るプリント配線板は、配線収容性あるいは表面実装密度
を増大させるために従来の片面プリント配線板では回路
が処理できなくなり、めっきや導電性ペーストを用いて
表裏導通のスルーホールを形成したプリント配線板の採
用が多くなってきている。
法について説明する。図3は従来のスルーホールを形成
したプリント配線板とその製造方法を示すものである。
図3において、1はプリント配線板、1aは絶縁基板、
1bは銅はく、1cは銅めっき層、2aはエッチングレ
ジスト、2bは導体パターン、3はスルーホール、3a
は貫通穴、3bは導電性ペーストである。
その製造方法について、以下その動作について説明す
る。
ノール樹脂積層板の両面に銅はく1bをラミネートした
両面銅張積層板にNCボール盤などを用いて図3(a)
に示すように貫通穴3aを形成する。
aと銅はく1bのスルーホール用の貫通穴3aには、先
端に導電性ペーストを付着したピンやスクリーン印刷な
どにより導電性ペースト3bが充填・塗布された後、所
定の温度と時間で加熱処理され、銅はく1bより突出し
た導電性ペースト3bが研磨など機械的な手段により除
去される。
b表面や露出した導電性ペースト3b表面に無電解めっ
き法や電解めっき法により銅めっき層1cが形成され
る。
の手段により、図3(d)に示すように銅めっき層1c
上にエッチングレジスト2aを形成し、非エッチングレ
ジスト2a形成面の露出した銅めっき層1cや銅はく1
bをエッチング除去し、エッチングレジスト2aを剥離
し、図3(e)に示すように絶縁基板1a上に導体パタ
ーン2bを形成し、絶縁基板1aの表裏の導体パターン
2bが導通接続されたプリント配線板1を得ている。
来の構成では、貫通穴3a形成後に導電性ペースト3b
を貫通穴3aに充填・塗布し、導電性ペースト3bの硬
化や余剰に硬化された導電性ペースト3bを研磨・除去
する工程や無電解めっき法や電解めっき法による銅めっ
き層1cを形成する工程など、工程が著しく煩雑になる
という問題点を有していた。
程において、貫通穴3aの径によっては図3(f)に示
すように、導電性ペースト3bの充填不足や表裏におけ
る充填状態のばらつきが生じ易く、硬化・研磨後の銅め
っき層1cがスルーホール3用の貫通穴3a部分で陥没
状態となり、電子部品のはんだ付け実装に不具合を誘発
させるという問題点をも有していた。
で、簡略化された製造工程で優れたはんだ付け性を実現
するプリント配線板およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
に本発明のプリント配線板は、貫通穴を備えた絶縁基板
と、前記絶縁基板上に積層した導体パターンと、前記絶
縁基板の貫通穴に備えたスルーホール用導体とを有して
おり、前記スルーホール用導体を金属とした構成であ
る。
縁基板の前記貫通穴に金属製のスルーホール用導体を圧
入する第1工程と、前記スルーホール用導体を圧入した
絶縁基板上に導体はくを積層し、前記導体はくを加熱・
加圧接着するとともに、前記スルーホール用導体を前記
貫通穴に充填する第2工程と、前記導体はくを所定の導
体パターンに形成する第3工程とを有した構成である。
磨工程および銅めっき工程の省略が可能となり、また、
導体はくの絶縁基板への加熱・加圧接着においてスルー
ホール用導体は貫通穴内で潰れながら充填され、絶縁基
板を構成する軟化した樹脂の流動により貫通穴とスルー
ホール用導体は隙間なく充填状態を維持することが可能
となり、かつ貫通穴部分の導体はくは平滑状態を実現す
ることができる。
照しながら説明する。
線板、図2は本発明の実施例におけるプリント配線板の
製造方法を示すものである。図1および図2において、
11はプリント配線板、11aは絶縁基板、11bは接
着シート、11cはフィルム、11dは貫通穴、12は
スルーホール用導体、13aは銅はくより構成される導
体はく、13bは導体パターン、13cはエッチングレ
ジストである。
その製造方法について、図1および図2を用いてその動
作を説明する。
せ、フェノール系樹脂を半硬化状態に重合させたプリプ
レグを所定枚数重ね合わせた後、真空熱プレス機にセッ
ト、所定の温度圧力で成型し、絶縁基板11aを得る。
成される接着シート11bとポリエステル樹脂から構成
されるフィルム11cを重ね合わせた後、真空熱プレス
機やラミネータにセット、所定の温度圧力でラミネート
し、図2(a)に示すようにフィルム11cおよび接着
シート11b付の絶縁基板11aを得る。
1b付の絶縁基板11aにNCボール盤とドリルあるい
は炭酸ガスレーザー光線などの手段により図2(b)に
示すように所定径のスルーホール用の貫通穴11dを形
成する。
は穴径0.35mm、高さ0.6mmであり、その内部
にはスルーホール用導体12として、融点が183℃以
上の球状のはんだを図2(c)に示すように圧入してい
る。このとき、はんだの体積は貫通穴11dの容積の1
00〜110%になるようにしている。
ルム11cを剥離、接着シート11bを露出させ、絶縁
基板11aの両面に厚さ35μmの銅はくより構成され
る導体はく13aを配置する。その後、真空熱プレス機
により圧力約2〜4×104Pa、温度180〜190
℃、加熱・加圧保持時間60〜100分の条件にて加熱
・加圧し、スルーホール用導体12を軟化させながら貫
通穴11d内に充填し、スルーホール用導体12と導体
はく13aを構成する銅はくの界面に銅・はんだの合金
層を形成して、図2(d)に示すような平滑な表面を持
つ銅張絶縁基板を得る。
に図2(e)に示すようにスクリーン印刷法や写真現像
法などを用いてエッチングレジスト13cを形成した
後、塩化第2銅などの溶液によりエッチングレジスト1
3cの非形成面の露出した銅はくより構成される導体は
く13aをエッチング除去する。
1あるいは図2(f)に示すようにはんだ付け不要部分
の導体パターン13bや絶縁基板11a上にソルダレジ
ストが形成されたプリント配線板11を得、電子部品の
はんだ付け実装工程へ搬送する。
配線板11は、所定位置にクリームはんだが印刷・塗布
された後、電子部品が装着される。
板11は、雰囲気温度210〜230℃で加熱され、ク
リームはんだが溶融して冷却後の固化により電子部品と
プリント配線板11の導体パターン13bは、はんだ接
合される。
んだ接合の際、スルーホール用導体12を構成し、貫通
穴11dを充填しているはんだは、約150〜165℃
に温度上昇するが、その融点を越えることがなく、安定
したはんだ付けと導体パターンとスルーホール用導体1
2の接合状態を保持することができる。
ール用導体を絶縁基板に貫通するように圧入し、絶縁基
板の両面に導体はくを加熱・加圧接着した後、所定のパ
ターンに形成することにより、導電性ペーストの塗布〜
研磨工程および銅めっき工程の省略が可能となり、スル
ーホール用の貫通穴11d部分での導体パターンの陥没
状態を解消することができる。
基材にフェノール系樹脂を含浸させ、所定枚数重ね合わ
せ、積層したものとしたが、絶縁基板11aはガラス繊
維布やアラミド繊維にエポキシ樹脂を含浸させ、積層し
たものとしてもよい。また、接着シート11bはフェノ
ールブチラール系樹脂から構成されるものとしたが、接
着シート11bはエポキシ系のものとしてもよく、絶縁
基板11aとしてガラス繊維布やアラミド繊維にエポキ
シ樹脂を含浸させたものを用いた場合には接着シート1
1bは不要となる。さらに導体はく13aは35μmの
厚さのものを用いたが、9〜70μmの厚さのものを用
いてもよい。
たはんだは球状としたが、棒状、筒状のものでもよい。
で、製造工程中において容積が一定しており、充填不足
なく容易に貫通穴の容積分を充填することができる。
んだを用いることにより、取扱いが簡単で、導体パター
ン13bとの接合力も強めることが容易にできる。
なるシートを積層しているので、絶縁基板へ導体はく1
3aを加熱・加圧接着する際、軟化した樹脂の流動によ
り貫通穴内でスルーホール用導体12を隙間なく充填す
ることができる。
ール用導体の充填不足や充填状態のばらつきが生じにく
く、電子部品のはんだ付け実装に優れるとともに、製造
工程を簡略化することができるものである。
製造工程中において容積が一定しており、充填不足なく
容易に貫通穴の容積分を充填することができる。
を用いることにより、取扱いが簡単で、導体パターンと
の接合力も強めることが容易にできる。
ートを積層しているので、絶縁基板へ導体はくを加熱・
加圧接着する際、軟化した樹脂の流動により貫通穴内で
スルーホール用導体を隙間なく充填することができるプ
リント配線板およびその製造方法を提供することができ
るものである。
図
方法を示す断面図
面図
Claims (5)
- 【請求項1】 貫通穴を備えた絶縁基板と、前記絶縁基
板上に積層した導体パターンと、前記絶縁基板の貫通穴
に備えたスルーホール用導体とを有しており、前記スル
ーホール用導体を金属としたプリント配線板。 - 【請求項2】 スルーホール用導体をはんだとした請求
項1記載のプリント配線板。 - 【請求項3】 絶縁基板は複数の樹脂からなるシートを
積層したものとした請求項1記載のプリント配線板。 - 【請求項4】 貫通穴を備えた絶縁基板の前記貫通穴に
金属製のスルーホール用導体を圧入する第1工程と、前
記スルーホール用導体を圧入した絶縁基板上に導体はく
を積層し、前記導体はくを加熱・加圧接着するととも
に、前記スルーホール用導体を前記貫通穴に充填する第
2工程と、前記導体はくを所定の導体パターンに形成す
る第3工程とを有したプリント配線板の製造方法。 - 【請求項5】 金属製のスルーホール用導体をはんだと
した請求項4記載のプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP21116994A JP3780535B2 (ja) | 1994-09-05 | 1994-09-05 | プリント配線板の製造方法 |
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Publications (2)
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JPH0878802A true JPH0878802A (ja) | 1996-03-22 |
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Family Applications (1)
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008160150A (ja) * | 2008-02-15 | 2008-07-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 基板の製造方法 |
WO2010114216A1 (ko) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | 한국생산기술연구원 | 반도체 웨이퍼 관통 비아홀 내의 금속 필링장치 및 이를 이용한 필링방법 |
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CN108135082A (zh) * | 2017-12-21 | 2018-06-08 | 上海安费诺永亿通讯电子有限公司 | 一种电子线路及其制备方法 |
-
1994
- 1994-09-05 JP JP21116994A patent/JP3780535B2/ja not_active Expired - Lifetime
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US8486827B2 (en) | 2009-04-03 | 2013-07-16 | Korea Institute Of Industrial Technology | Device of filling metal in through-via-hole of semiconductor wafer and method using the same |
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