JPH0875925A - ホログラムの作製方法及び作製装置 - Google Patents
ホログラムの作製方法及び作製装置Info
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- JPH0875925A JPH0875925A JP23436894A JP23436894A JPH0875925A JP H0875925 A JPH0875925 A JP H0875925A JP 23436894 A JP23436894 A JP 23436894A JP 23436894 A JP23436894 A JP 23436894A JP H0875925 A JPH0875925 A JP H0875925A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 47
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 153
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 37
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 26
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 4
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 15
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 8
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 6
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H2001/0441—Formation of interference pattern, not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2210/00—Object characteristics
- G03H2210/20—2D object
- G03H2210/22—2D SLM object wherein the object beam is formed of the light modulated by the SLM
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 計算機ホログラムを使用して物体光光束を発
生することによりホログラムレンズを短時間で、低コス
トで作製すること。特に、複数の要素ホログラムから構
成されるホログラムレンズアレイを自動的に作製する場
合に好適なものでる。 【構成】 レーザー光源からの光束を半透鏡により複数
の光束に分割し、少なくとも１つの光束の光路中に液晶
素子を設置し、コンピュータシステムによって液晶素子
に干渉縞パターンを形成し、干渉縞パターンにより発生
する回折光光束を物体光光束とし、これと参照光光束と
を透明な基板上に形成した感光層に入射させてホログラ
ムを作製する。
生することによりホログラムレンズを短時間で、低コス
トで作製すること。特に、複数の要素ホログラムから構
成されるホログラムレンズアレイを自動的に作製する場
合に好適なものでる。 【構成】 レーザー光源からの光束を半透鏡により複数
の光束に分割し、少なくとも１つの光束の光路中に液晶
素子を設置し、コンピュータシステムによって液晶素子
に干渉縞パターンを形成し、干渉縞パターンにより発生
する回折光光束を物体光光束とし、これと参照光光束と
を透明な基板上に形成した感光層に入射させてホログラ
ムを作製する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はホログラムの作製方法及
び作製装置に関し、特に、ホログラムレンズを安価で簡
単に作製することができ、更にホログラムが複数の要素
ホログラムから構成されるホログラムレンズアレイ等を
作製する場合に好適なものでる。
び作製装置に関し、特に、ホログラムレンズを安価で簡
単に作製することができ、更にホログラムが複数の要素
ホログラムから構成されるホログラムレンズアレイ等を
作製する場合に好適なものでる。
【０００２】
【従来の技術】ホログラムは小型軽量でコピー法を用い
ることにより大量生産も可能であることから、種々の光
学システムにおける光学素子としてホログラムレンズを
利用することが提案されている。これらの光学システム
に使用するホログラムレンズの作製方法も様々なものが
提案されている。たとえば米国特許第4,530,564 号公報
に開示されているホログラムの作製方法では、レーザか
らの光束を収差補正光学系を用いて球面収差、非点収
差、およびコマ収差などを補正してホログラム感光材料
上で干渉させ、ホログラムを作製している。
ることにより大量生産も可能であることから、種々の光
学システムにおける光学素子としてホログラムレンズを
利用することが提案されている。これらの光学システム
に使用するホログラムレンズの作製方法も様々なものが
提案されている。たとえば米国特許第4,530,564 号公報
に開示されているホログラムの作製方法では、レーザか
らの光束を収差補正光学系を用いて球面収差、非点収
差、およびコマ収差などを補正してホログラム感光材料
上で干渉させ、ホログラムを作製している。
【０００３】また、無収差のホログラムレンズを作製す
る為にホログラムからの回折光を用いて作製する方法も
種々提案されている。これら従来技術で用いる計算機ホ
ログラム( ＣＧＨ) としては、X-Y プロッターでもって
拡大ホログラムを作製しこれを光学的に縮小露光して作
製された白黒パターンのホログラム、これをマスクとし
てガラス基板上のクロムをエッチングしたもの、さらに
これらを2P法(Photo Polymerization 法) でコピーした
もの等が用いられていた。
る為にホログラムからの回折光を用いて作製する方法も
種々提案されている。これら従来技術で用いる計算機ホ
ログラム( ＣＧＨ) としては、X-Y プロッターでもって
拡大ホログラムを作製しこれを光学的に縮小露光して作
製された白黒パターンのホログラム、これをマスクとし
てガラス基板上のクロムをエッチングしたもの、さらに
これらを2P法(Photo Polymerization 法) でコピーした
もの等が用いられていた。
【０００４】更に近年ではPMMAやPBMAなどの感光材料に
EB露光法を用いて作製された計算機ホログラム( ＣＧ
Ｈ) が用いられるようになっており、例えば特公平5-83
909号公報等に開示されている。
EB露光法を用いて作製された計算機ホログラム( ＣＧ
Ｈ) が用いられるようになっており、例えば特公平5-83
909号公報等に開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
米国特許第4,530,564 号公報に開示している方法は、シ
リンドリカルレンズや平行平板等が光軸を外して配置さ
れているために光学配置には特殊な治具が必要となるこ
とや大口径の光学系が必要なことから焼付光学系が非常
に高価になってしまうことなど多くの問題点を有してい
る。
米国特許第4,530,564 号公報に開示している方法は、シ
リンドリカルレンズや平行平板等が光軸を外して配置さ
れているために光学配置には特殊な治具が必要となるこ
とや大口径の光学系が必要なことから焼付光学系が非常
に高価になってしまうことなど多くの問題点を有してい
る。
【０００６】また、上記の計算機ホログラム（ＣＧＨ）
を使用する従来例では計算機ホログラム（ＣＧＨ）に所
定の干渉縞パターンを記録する為にEB露光を精度良く行
う必要があることや、その現像処理又はコピー作製に時
間がかかることから、ＣＧＨは非常に高価で作製に時間
がかかるなどといった問題があった。
を使用する従来例では計算機ホログラム（ＣＧＨ）に所
定の干渉縞パターンを記録する為にEB露光を精度良く行
う必要があることや、その現像処理又はコピー作製に時
間がかかることから、ＣＧＨは非常に高価で作製に時間
がかかるなどといった問題があった。
【０００７】特に、ホログラムが複数の要素ホログラム
から構成されるホログラムレンズアレイを作製する場合
には、それぞれの要素ホログラムを露光するために多数
のＣＧＨを用意する必要があることから、それらを製作
するのに多大の時間とコストを要し、ホログラムレンズ
アレイの製造の際にしてもＣＧＨの高いセッティング精
度を要し、又セッティングに長時間を要するという問題
があった。
から構成されるホログラムレンズアレイを作製する場合
には、それぞれの要素ホログラムを露光するために多数
のＣＧＨを用意する必要があることから、それらを製作
するのに多大の時間とコストを要し、ホログラムレンズ
アレイの製造の際にしてもＣＧＨの高いセッティング精
度を要し、又セッティングに長時間を要するという問題
があった。
【０００８】本発明は上記の従来例の問題点を解決し、
以下に記載する効果を発揮するホログラム作製方法及び
ホログラム作製装置の達成を目的としている。
以下に記載する効果を発揮するホログラム作製方法及び
ホログラム作製装置の達成を目的としている。
【０００９】（１−１）比較的簡易な構成の装置であり
ながら、ホログラムの再生時の目的に応じてコンピュー
タシステムの演算によって液晶素子上に適切な計算機ホ
ログラム（ＣＧＨ）の干渉縞パターンをリアルタイムに
形成し、これによっていろいろな特性のホログラムを低
コストで短時間に歩留良く作成する。
ながら、ホログラムの再生時の目的に応じてコンピュー
タシステムの演算によって液晶素子上に適切な計算機ホ
ログラム（ＣＧＨ）の干渉縞パターンをリアルタイムに
形成し、これによっていろいろな特性のホログラムを低
コストで短時間に歩留良く作成する。
【００１０】（１−２）液晶素子で回折して発生する回
折光束の偏光面と他方の光束の偏光面の方向を同一にし
てホログラム感光層へ入射させることで、ホログラムパ
ターンのコントラストを高める。特に、この入射偏光面
をP 偏光とすることによって更にホログラムの品位を高
める。
折光束の偏光面と他方の光束の偏光面の方向を同一にし
てホログラム感光層へ入射させることで、ホログラムパ
ターンのコントラストを高める。特に、この入射偏光面
をP 偏光とすることによって更にホログラムの品位を高
める。
【００１１】（１−３）液晶素子に形成する干渉縞パタ
ーンを液晶素子の屈折率の変調による位相型回折格子で
形成し、回折効率即ち露光光の利用効率を高くし、これ
により露光時間を短縮して、露光中の振動等によるコン
トラストの低下を小さくする。
ーンを液晶素子の屈折率の変調による位相型回折格子で
形成し、回折効率即ち露光光の利用効率を高くし、これ
により露光時間を短縮して、露光中の振動等によるコン
トラストの低下を小さくする。
【００１２】（１−４）液晶素子として反射型の液晶素
子を用いることにより、高精細な干渉縞パターンを形成
し、液晶素子に形成する干渉縞ピッチを小さくする。こ
れにより液晶素子における回折角を大きくして、０次光
と１次回折光との分離を大きくし、有害なゴーストホロ
グラムを発生し難くする。
子を用いることにより、高精細な干渉縞パターンを形成
し、液晶素子に形成する干渉縞ピッチを小さくする。こ
れにより液晶素子における回折角を大きくして、０次光
と１次回折光との分離を大きくし、有害なゴーストホロ
グラムを発生し難くする。
【００１３】（１−５）ホログラムが複数の要素ホログ
ラムから構成されるホログラムレンズアレイの作製にお
いては、コンピュータシステムの演算によって各要素ホ
ログラムに応じて異なる干渉縞パターンをリアルタイム
に形成し、ホログラムレンズアレイの作製を特に短時間
で行えるようにする。
ラムから構成されるホログラムレンズアレイの作製にお
いては、コンピュータシステムの演算によって各要素ホ
ログラムに応じて異なる干渉縞パターンをリアルタイム
に形成し、ホログラムレンズアレイの作製を特に短時間
で行えるようにする。
【００１４】（１−６）ホログラムレンズアレイの作製
において、コンピュータシステムにより液晶素子上の干
渉縞パターンの作製、ミラーの向き、基板の向き、液晶
の向き等を正確に制御し、各種要素のセッティングを短
時間に行い、ホログラムレンズアレイの作製を特に短時
間で行えるようにする。
において、コンピュータシステムにより液晶素子上の干
渉縞パターンの作製、ミラーの向き、基板の向き、液晶
の向き等を正確に制御し、各種要素のセッティングを短
時間に行い、ホログラムレンズアレイの作製を特に短時
間で行えるようにする。
【００１５】（１−７）ほとんど自動でホログラムの作
製ができ、しかも、ホログラムレンズアレイの作製にお
いては、複数の記録光束の感光層への入射条件を制御す
る制御手段や感光層の露光位置を制御する露光位置制御
手段等を設けて、作製装置を構成することにより、要素
ホログラム作製を自動で行い、極めて容易にホログラム
レンズアレイを作製できるようにする。
製ができ、しかも、ホログラムレンズアレイの作製にお
いては、複数の記録光束の感光層への入射条件を制御す
る制御手段や感光層の露光位置を制御する露光位置制御
手段等を設けて、作製装置を構成することにより、要素
ホログラム作製を自動で行い、極めて容易にホログラム
レンズアレイを作製できるようにする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明のホログラムの作
製方法の構成は、 （２−１）光源手段からの光束より複数の光束を形成
し、該複数の光束のうち１つの光束を参照光として、又
他の１つの光束を物体光として、各々を透明な基板上に
形成した感光層に導光して干渉させてホログラムを作成
する際、該物体光は演算手段によって液晶素子に形成し
た干渉縞パターンからの回折光を利用したものであるこ
とを特徴としている。
製方法の構成は、 （２−１）光源手段からの光束より複数の光束を形成
し、該複数の光束のうち１つの光束を参照光として、又
他の１つの光束を物体光として、各々を透明な基板上に
形成した感光層に導光して干渉させてホログラムを作成
する際、該物体光は演算手段によって液晶素子に形成し
た干渉縞パターンからの回折光を利用したものであるこ
とを特徴としている。
【００１７】特に、（２−１−１）前記液晶素子に形成
する干渉縞パターンは該液晶素子の透過率の変調により
形成している、（２−１−２）前記液晶素子に形成する
干渉縞パターンは該液晶素子の屈折率の変調により形成
している、（２−１−３）前記液晶素子に形成する干渉
縞パターンは液晶の複屈折性を制御して形成している、
（２−１−４）前記液晶素子が反射型の液晶素子であ
る、（２−１−５）前記液晶素子はNematic 液晶，ＴＮ
（twisted nematic ）液晶，ＳＴＮ（super twisted n
ematic ）液晶，ＮＴＮ（neutralized ＳＴＮ ）液晶，
ＦＴＮ（formulated ＳＴＮ ）液晶, 又はＦＬＣ（ferr
oelectric liquid crystal ）液晶のうちの１つであ
る、（２−１−６）前記液晶素子がゲストホスト液晶で
ある、（２−１−７）前記参照光及び前記物体光はいず
れも直線偏光であり、前記感光層へ偏光面の方向を同じ
くして入射する、（２−１−８）前記参照光及び前記物
体光の偏光面がP 偏光である、（２−１−９）前記参照
光及び／または前記物体光の偏光面を少なくとも１枚の
位相板又は波長板を用いて制御している、（２−１−１
０）前記液晶素子がＴＮ液晶であって、かつ前記波長板
が２分の１波長板であること等を特徴としている。
する干渉縞パターンは該液晶素子の透過率の変調により
形成している、（２−１−２）前記液晶素子に形成する
干渉縞パターンは該液晶素子の屈折率の変調により形成
している、（２−１−３）前記液晶素子に形成する干渉
縞パターンは液晶の複屈折性を制御して形成している、
（２−１−４）前記液晶素子が反射型の液晶素子であ
る、（２−１−５）前記液晶素子はNematic 液晶，ＴＮ
（twisted nematic ）液晶，ＳＴＮ（super twisted n
ematic ）液晶，ＮＴＮ（neutralized ＳＴＮ ）液晶，
ＦＴＮ（formulated ＳＴＮ ）液晶, 又はＦＬＣ（ferr
oelectric liquid crystal ）液晶のうちの１つであ
る、（２−１−６）前記液晶素子がゲストホスト液晶で
ある、（２−１−７）前記参照光及び前記物体光はいず
れも直線偏光であり、前記感光層へ偏光面の方向を同じ
くして入射する、（２−１−８）前記参照光及び前記物
体光の偏光面がP 偏光である、（２−１−９）前記参照
光及び／または前記物体光の偏光面を少なくとも１枚の
位相板又は波長板を用いて制御している、（２−１−１
０）前記液晶素子がＴＮ液晶であって、かつ前記波長板
が２分の１波長板であること等を特徴としている。
【００１８】又、本発明のホログラムの作製装置の構成
は、 （２−２）光源手段からの光束を光分割手段によって複
数の光束に分割し、該複数の光束のうち１つの光束を参
照光として透明な基板上に形成した感光層に、他の１つ
の光束を干渉縞パターンが形成されている液晶素子に導
光し、該液晶素子を介した光束を物体光として該感光層
に、各々異なった方向から入射させて該参照光と該物体
光による干渉縞パターンを記録してホログラムを作製し
ていることを特徴としている。
は、 （２−２）光源手段からの光束を光分割手段によって複
数の光束に分割し、該複数の光束のうち１つの光束を参
照光として透明な基板上に形成した感光層に、他の１つ
の光束を干渉縞パターンが形成されている液晶素子に導
光し、該液晶素子を介した光束を物体光として該感光層
に、各々異なった方向から入射させて該参照光と該物体
光による干渉縞パターンを記録してホログラムを作製し
ていることを特徴としている。
【００１９】特に、（２−２−１）前記感光層のある空
間において前記参照光と前記物体光との成す角を制御す
る第１の制御手段と、該参照光と該物体光の各々に対し
て該感光層への入射角を所定の値となるように該感光層
の向きを制御する第２の制御手段と、該液晶素子に入射
する光束に対して該液晶素子への入射角を制御する第３
の制御手段とを有する、（２−２−２）前記感光層に対
する前記参照光と前記物体光の入射位置を制御する露光
位置制御手段を有し、該露光位置制御手段によって該感
光層に対する該参照光と該物体光の入射位置を逐次変化
して要素ホログラムを製作する際、前記液晶素子上に該
要素ホログラムに応じた干渉縞パターンを形成してい
る、（２−２−３）前記露光位置制御手段は前記感光層
をその面内で２次元的に位置決めをする、（２−２−
４）前記感光層の近傍に前記参照光と前記物体光を限定
して、前記要素ホログラムの大きさを定める所定の開口
を持つ露光マスクを配置し、該要素ホログラムを製作す
る際、移動手段によって該露光マスクを移動して該要素
ホログラムを製作する、（２−２−５）前記第１の制御
手段及び前記第２の制御手段が演算手段により制御され
る駆動要素によって駆動される回転ステージを有し、該
第１の制御手段が有する該回転ステージは前記参照光及
び前記物体光を偏向するミラーを搭載しており、該第２
の制御手段が有する該回転ステージは前記基板を搭載し
ている、（２−２−６）前記第３の制御手段が演算手段
により制御される駆動要素によって駆動される回転ステ
ージを有し、該回転ステージは液晶素子を搭載してい
る、（２−２−７）前記露光位置制御手段が、演算手段
により制御される駆動要素により駆動される自動ステー
ジを有する、（２−２−８）前記要素ホログラムを製作
する際に、各要素ホログラムに応じて、前記液晶素子に
異なる干渉縞パターンを形成する、（２−２−９）少な
くとも１枚の位相板又は波長板を前記参照光又は前記物
体光の光路中に設置している、（２−２−１０）前記位
相板又は波長板がバビネソレイユ位相板又は２分の１波
長板又は４分の１波長板であること等を特徴としてい
る。
間において前記参照光と前記物体光との成す角を制御す
る第１の制御手段と、該参照光と該物体光の各々に対し
て該感光層への入射角を所定の値となるように該感光層
の向きを制御する第２の制御手段と、該液晶素子に入射
する光束に対して該液晶素子への入射角を制御する第３
の制御手段とを有する、（２−２−２）前記感光層に対
する前記参照光と前記物体光の入射位置を制御する露光
位置制御手段を有し、該露光位置制御手段によって該感
光層に対する該参照光と該物体光の入射位置を逐次変化
して要素ホログラムを製作する際、前記液晶素子上に該
要素ホログラムに応じた干渉縞パターンを形成してい
る、（２−２−３）前記露光位置制御手段は前記感光層
をその面内で２次元的に位置決めをする、（２−２−
４）前記感光層の近傍に前記参照光と前記物体光を限定
して、前記要素ホログラムの大きさを定める所定の開口
を持つ露光マスクを配置し、該要素ホログラムを製作す
る際、移動手段によって該露光マスクを移動して該要素
ホログラムを製作する、（２−２−５）前記第１の制御
手段及び前記第２の制御手段が演算手段により制御され
る駆動要素によって駆動される回転ステージを有し、該
第１の制御手段が有する該回転ステージは前記参照光及
び前記物体光を偏向するミラーを搭載しており、該第２
の制御手段が有する該回転ステージは前記基板を搭載し
ている、（２−２−６）前記第３の制御手段が演算手段
により制御される駆動要素によって駆動される回転ステ
ージを有し、該回転ステージは液晶素子を搭載してい
る、（２−２−７）前記露光位置制御手段が、演算手段
により制御される駆動要素により駆動される自動ステー
ジを有する、（２−２−８）前記要素ホログラムを製作
する際に、各要素ホログラムに応じて、前記液晶素子に
異なる干渉縞パターンを形成する、（２−２−９）少な
くとも１枚の位相板又は波長板を前記参照光又は前記物
体光の光路中に設置している、（２−２−１０）前記位
相板又は波長板がバビネソレイユ位相板又は２分の１波
長板又は４分の１波長板であること等を特徴としてい
る。
【００２０】
【実施例】図１（Ａ）は本発明の実施例１の要部概略図
である。 本実施例ではホログラムレンズを作製するホ
ログラム作製装置の光学系（焼付光学系）を示してい
る。
である。 本実施例ではホログラムレンズを作製するホ
ログラム作製装置の光学系（焼付光学系）を示してい
る。
【００２１】図中、１は光源手段としてのアルゴンレー
ザ（レーザ光源）であり、波長514.5nm のレーザ光ａを
射出している。３は光分割手段としてのハーフミラーで
あり、レーザ光源１からのレーザ光ａを透過光ｔと反射
光ｒに分割している。２１はＮＤフィルタであり、透過
光ｔと反射光ｒの強度比を調整している。２２ａは位相
板又は波長板であり、透過光ｔの位相又は偏光面を調整
して、後述するホログラムパターンのコントラストの向
上を図っている。５はミラーである。６は顕微鏡対物レ
ンズであり、ミラー５からの反射光を発散球面波の参照
光Ｒとしている。８はガラス等の透明な基板、９は感光
層であり、基板８の片面に感光材料を塗布又は貼付して
いる。発散球面波（参照光）Ｒは基板側から感光層９に
入射している。
ザ（レーザ光源）であり、波長514.5nm のレーザ光ａを
射出している。３は光分割手段としてのハーフミラーで
あり、レーザ光源１からのレーザ光ａを透過光ｔと反射
光ｒに分割している。２１はＮＤフィルタであり、透過
光ｔと反射光ｒの強度比を調整している。２２ａは位相
板又は波長板であり、透過光ｔの位相又は偏光面を調整
して、後述するホログラムパターンのコントラストの向
上を図っている。５はミラーである。６は顕微鏡対物レ
ンズであり、ミラー５からの反射光を発散球面波の参照
光Ｒとしている。８はガラス等の透明な基板、９は感光
層であり、基板８の片面に感光材料を塗布又は貼付して
いる。発散球面波（参照光）Ｒは基板側から感光層９に
入射している。
【００２２】１１はミラーである。１２は顕微鏡対物レ
ンズであり、ミラー１１からの反射光を発散光束として
コリメーターレンズ１３に入射させている。コリメータ
ーレンズ１３は発散光束を平行光束ｓとして液晶素子１
５に入射させている。
ンズであり、ミラー１１からの反射光を発散光束として
コリメーターレンズ１３に入射させている。コリメータ
ーレンズ１３は発散光束を平行光束ｓとして液晶素子１
５に入射させている。
【００２３】液晶素子１５はＧＨ（ゲストホスト）液晶
より成っている。１６は液晶駆動回路であり、コンピュ
ータシステム（演算手段）１７からの信号に基づいて液
晶素子１５に干渉縞パターン（計算機ホログラムのパタ
ーン）を形成している。又コンピュータシステム１７は
本装置全体を制御している。液晶素子１５からの所定次
数の回折光は物体光Ｏとして基板８の感光層９に入射し
ている。感光層９では参照光Ｒと物体光Ｏが干渉して干
渉縞パターンを形成している。なお、２０は遮光板であ
り、液晶素子１５を透過する０次光を遮光する。
より成っている。１６は液晶駆動回路であり、コンピュ
ータシステム（演算手段）１７からの信号に基づいて液
晶素子１５に干渉縞パターン（計算機ホログラムのパタ
ーン）を形成している。又コンピュータシステム１７は
本装置全体を制御している。液晶素子１５からの所定次
数の回折光は物体光Ｏとして基板８の感光層９に入射し
ている。感光層９では参照光Ｒと物体光Ｏが干渉して干
渉縞パターンを形成している。なお、２０は遮光板であ
り、液晶素子１５を透過する０次光を遮光する。
【００２４】ミラー５及び顕微鏡対物レンズ６等は参照
光光学系１１１の一要素を構成している。又、ミラー１
１、顕微鏡対物レンズ１２、コリメーターレンズ１３、
液晶素子１５及び遮光板２０等は夫々物体光光学系１１
０の一要素を構成している。
光光学系１１１の一要素を構成している。又、ミラー１
１、顕微鏡対物レンズ１２、コリメーターレンズ１３、
液晶素子１５及び遮光板２０等は夫々物体光光学系１１
０の一要素を構成している。
【００２５】本実施例の動作を説明する。アルゴンレー
ザ１からのレーザ光ａはハーフミラー３で透過光ｔと反
射光ｒの２つの光束に分けられ、このうちハーフミラー
３を透過した透過光ｔはＮＤフィルタ２１、位相板若し
くは波長板２２ａを介してミラー５で反射し、顕微鏡対
物レンズ６により発散球面波の参照光Ｒとなり、基板８
上の感光層９へ入射する。
ザ１からのレーザ光ａはハーフミラー３で透過光ｔと反
射光ｒの２つの光束に分けられ、このうちハーフミラー
３を透過した透過光ｔはＮＤフィルタ２１、位相板若し
くは波長板２２ａを介してミラー５で反射し、顕微鏡対
物レンズ６により発散球面波の参照光Ｒとなり、基板８
上の感光層９へ入射する。
【００２６】一方ハーフミラー３で反射した反射光ｒは
ミラー１１で反射し、顕微鏡対物レンズ１２及びコリメ
ーターレンズ１３で光束径を拡大して平行光束ｓとな
り、液晶素子１５に所定の入射角度で入射する。この液
晶素子１５には、コンピュータシステム１７で計算され
た所定の干渉縞パターン（計算機ホログラムのパター
ン）が駆動回路１６を介して形成されており、その干渉
縞パターンに応じてＧＨ液晶の透過率（又は吸収率）が
変調されている。従ってこの液晶素子１５の吸収型回折
格子としての作用により、入射平行光束ｓは変調されて
所定の波面を有する回折光として所定の角度で回折さ
れ、物体光Ｏとなり感光層９へ入射する。
ミラー１１で反射し、顕微鏡対物レンズ１２及びコリメ
ーターレンズ１３で光束径を拡大して平行光束ｓとな
り、液晶素子１５に所定の入射角度で入射する。この液
晶素子１５には、コンピュータシステム１７で計算され
た所定の干渉縞パターン（計算機ホログラムのパター
ン）が駆動回路１６を介して形成されており、その干渉
縞パターンに応じてＧＨ液晶の透過率（又は吸収率）が
変調されている。従ってこの液晶素子１５の吸収型回折
格子としての作用により、入射平行光束ｓは変調されて
所定の波面を有する回折光として所定の角度で回折さ
れ、物体光Ｏとなり感光層９へ入射する。
【００２７】この様にして感光層９へ入射した参照光Ｒ
及び物体光Ｏは互いに干渉して、所定のホログラムパタ
ーンが形成され、露光される。
及び物体光Ｏは互いに干渉して、所定のホログラムパタ
ーンが形成され、露光される。
【００２８】この時、感光層９への参照光Ｒ及び物体光
Ｏは直線偏光であり、その偏光面は共にＰ偏光となる様
に設定しており、感光層９や基板８の表面における表面
反射のロスを小さくし、感光層９内部でのホログラムパ
ターンのコントラストを高めている。この後、感光層９
に応じた現像処理を行うことによりホログラムを得てい
る。
Ｏは直線偏光であり、その偏光面は共にＰ偏光となる様
に設定しており、感光層９や基板８の表面における表面
反射のロスを小さくし、感光層９内部でのホログラムパ
ターンのコントラストを高めている。この後、感光層９
に応じた現像処理を行うことによりホログラムを得てい
る。
【００２９】本実施例に用いる感光層としては、銀塩感
材, 重クロム酸ゼラチン, フォトポリマ等種々のものが
利用できるが、本実施例においては、フォトポリマを用
いている。
材, 重クロム酸ゼラチン, フォトポリマ等種々のものが
利用できるが、本実施例においては、フォトポリマを用
いている。
【００３０】本実施例では、液晶素子１５への平行光束
ｓの入射角を約４度、回折角を０度（垂直）となる様に
設定しているので、液晶素子１５の中心部分で格子ピッ
チは約７μm に、また線幅も約７μm となる。図１
（Ｂ）は本実施例における液晶素子１５上に形成してい
る干渉縞パターンであり、図１（Ａ）において矢印Ａ
Ａ’から見たパターンである。このパターンからも分か
るように、本実施例では液晶素子１５によって僅かなコ
マ収差を含む非点収差のある波面を形成し、これを物体
光Ｏとして用いることにより、ホログラムレンズ再生時
（使用時）に生じるホログラムの収差を予め補正してい
る。
ｓの入射角を約４度、回折角を０度（垂直）となる様に
設定しているので、液晶素子１５の中心部分で格子ピッ
チは約７μm に、また線幅も約７μm となる。図１
（Ｂ）は本実施例における液晶素子１５上に形成してい
る干渉縞パターンであり、図１（Ａ）において矢印Ａ
Ａ’から見たパターンである。このパターンからも分か
るように、本実施例では液晶素子１５によって僅かなコ
マ収差を含む非点収差のある波面を形成し、これを物体
光Ｏとして用いることにより、ホログラムレンズ再生時
（使用時）に生じるホログラムの収差を予め補正してい
る。
【００３１】ここでは、ホログラムを再生する時に生じ
るコマ収差を含む非点収差の補正を、ホログラム記録時
の記録波面に与えてホログラムを作製し、無収差のホロ
グラムレンズを作製する場合について示したが、球面収
差を制御する場合でも、その他の収差を制御する場合で
も本発明の方法を用いることができる。また、特公平5-
83909 号公報に開示されている様な記録時と再生時の波
長が異なることによって生じる収差を補正する為に、本
発明の方法を用いて記録時に適切な収差を与えてホログ
ラムを作製し、再生時無収差のレンズとなるホログラム
レンズを作製することもできる。
るコマ収差を含む非点収差の補正を、ホログラム記録時
の記録波面に与えてホログラムを作製し、無収差のホロ
グラムレンズを作製する場合について示したが、球面収
差を制御する場合でも、その他の収差を制御する場合で
も本発明の方法を用いることができる。また、特公平5-
83909 号公報に開示されている様な記録時と再生時の波
長が異なることによって生じる収差を補正する為に、本
発明の方法を用いて記録時に適切な収差を与えてホログ
ラムを作製し、再生時無収差のレンズとなるホログラム
レンズを作製することもできる。
【００３２】本実施例で用いたＧＨ液晶に形成した吸収
型の回折格子の場合、Kogelnikの結合波理論（Bell Sys
t. Tech. J. Vol.48 (1969) 2909 )によると、最大の回
折効率は約７％であるため、入射平行光束ｓの透過光束
（０次光）ｓ0 は適切な方法で遮光することが望まし
く、本実施例では遮光板２０によって遮光している。
型の回折格子の場合、Kogelnikの結合波理論（Bell Sys
t. Tech. J. Vol.48 (1969) 2909 )によると、最大の回
折効率は約７％であるため、入射平行光束ｓの透過光束
（０次光）ｓ0 は適切な方法で遮光することが望まし
く、本実施例では遮光板２０によって遮光している。
【００３３】更に、使用する感光層によって異なるが、
一般的に参照光Ｒと物体光Ｏとの強度比は１：１が望ま
しく、本実施例ではこの強度比を調整するために、ＮＤ
フィルタ２１を参照光光学系１１１の光路中に設けてい
る。
一般的に参照光Ｒと物体光Ｏとの強度比は１：１が望ま
しく、本実施例ではこの強度比を調整するために、ＮＤ
フィルタ２１を参照光光学系１１１の光路中に設けてい
る。
【００３４】本実施例によれば、以上のように再生時に
無収差となるホログラムレンズを比較的簡単な構成の装
置でもって短時間に歩留良く作成することができる。
無収差となるホログラムレンズを比較的簡単な構成の装
置でもって短時間に歩留良く作成することができる。
【００３５】また、本発明に用いる液晶素子１５として
は色々なものが利用できるが、特に液晶の複屈折性を制
御して干渉縞パターンを形成する液晶素子を用いること
もできる。
は色々なものが利用できるが、特に液晶の複屈折性を制
御して干渉縞パターンを形成する液晶素子を用いること
もできる。
【００３６】この場合には、液晶の屈折率異方性によ
り、電極に電圧が印加されている部分、即ち干渉縞のパ
ターンに応じて位相ホログラムが形成される。これによ
って次の利点が生じる。即ち位相型の回折格子の回折効
率は、前記の吸収型のものに比べて非常に大きく、理論
的には100%に達する。このように、入射光の利用効率が
高いので、露光時間を短縮でき、これによって露光中の
振動等によるホログラムパターンのコントラスト低下を
小さくすることができる。
り、電極に電圧が印加されている部分、即ち干渉縞のパ
ターンに応じて位相ホログラムが形成される。これによ
って次の利点が生じる。即ち位相型の回折格子の回折効
率は、前記の吸収型のものに比べて非常に大きく、理論
的には100%に達する。このように、入射光の利用効率が
高いので、露光時間を短縮でき、これによって露光中の
振動等によるホログラムパターンのコントラスト低下を
小さくすることができる。
【００３７】本発明に使用する液晶としては、例えば、
Nematic液晶，ＴＮ（twisted nematic ）液晶，ＳＴＮ
（super twisted nematic ）液晶，ＮＴＮ（neutralize
d ＳＴＮ）液晶，ＦＴＮ（formulated ＳＴＮ）液晶,
ＦＬＣ（ferroelectric liquid crystal）液晶など様々
なものがある。これらの液晶の透過率の変調や、屈折率
の変調や、複屈折性の制御等を行って干渉縞パターンを
形成する。
Nematic液晶，ＴＮ（twisted nematic ）液晶，ＳＴＮ
（super twisted nematic ）液晶，ＮＴＮ（neutralize
d ＳＴＮ）液晶，ＦＴＮ（formulated ＳＴＮ）液晶,
ＦＬＣ（ferroelectric liquid crystal）液晶など様々
なものがある。これらの液晶の透過率の変調や、屈折率
の変調や、複屈折性の制御等を行って干渉縞パターンを
形成する。
【００３８】但し、これらの液晶素子のうち或るものを
使用する場合には、前記液晶素子１５で回折された物体
光Ｏの偏光面が回転したり、または位相遅れを生じたり
して、感光層９上で形成される干渉縞（ホログラムパタ
ーン）のコントラストが低下することがある。この様な
場合には、参照光光路中又は物体光光路中に適切な位相
板や波長板２２ａ，２２ｂを設け、参照光Ｒと物体光Ｏ
の偏光面を制御して、これらを一致させて、感光層９に
入射させる。この位相板や波長板２２ａ，２２ｂを設け
る位置は本実施例に示す位置に限られず、レーザ光源１
からの光ａがハーフミラー３で２つに分けられた後の光
路中であればどこにでも設けることができる。
使用する場合には、前記液晶素子１５で回折された物体
光Ｏの偏光面が回転したり、または位相遅れを生じたり
して、感光層９上で形成される干渉縞（ホログラムパタ
ーン）のコントラストが低下することがある。この様な
場合には、参照光光路中又は物体光光路中に適切な位相
板や波長板２２ａ，２２ｂを設け、参照光Ｒと物体光Ｏ
の偏光面を制御して、これらを一致させて、感光層９に
入射させる。この位相板や波長板２２ａ，２２ｂを設け
る位置は本実施例に示す位置に限られず、レーザ光源１
からの光ａがハーフミラー３で２つに分けられた後の光
路中であればどこにでも設けることができる。
【００３９】実際には、液晶素子１５で回折される回折
効率は理論値どうりに１００％にはならないので、光の
利用効率を考慮すれば液晶素子１５を含む光路中にはで
きるだけ余分な光学素子を配置しないほうが望ましく、
従って位相板や波長板は図１（Ａ）に２２ａとして示す
様に参照光光路中に設置すれば良好な結果が得られる。
効率は理論値どうりに１００％にはならないので、光の
利用効率を考慮すれば液晶素子１５を含む光路中にはで
きるだけ余分な光学素子を配置しないほうが望ましく、
従って位相板や波長板は図１（Ａ）に２２ａとして示す
様に参照光光路中に設置すれば良好な結果が得られる。
【００４０】例えば、ＴＮ液晶を用いる場合には、液晶
への入射光束ｓはＴＮ液晶素子１５により回折され、そ
の際偏光面が90度回転する。そこでこの場合90度回転し
た直線偏光を２分の１波長板を用いて元の偏光状態に戻
すか、この液晶素子１５を通過しない参照光光束Ｒの偏
光面を90度回転させて２つの光束の偏光面を一致させ、
ホログラムパターンを露光すれば良い。この時の偏光と
しては、前述の理由によってＰ偏光とすることが望まし
い。
への入射光束ｓはＴＮ液晶素子１５により回折され、そ
の際偏光面が90度回転する。そこでこの場合90度回転し
た直線偏光を２分の１波長板を用いて元の偏光状態に戻
すか、この液晶素子１５を通過しない参照光光束Ｒの偏
光面を90度回転させて２つの光束の偏光面を一致させ、
ホログラムパターンを露光すれば良い。この時の偏光と
しては、前述の理由によってＰ偏光とすることが望まし
い。
【００４１】また、ＳＴＮ液晶では液晶によって生じた
位相遅れを補償する位相板、例えばバビネソレイユ位相
板を用いて、楕円偏光になった回折光を元の直線偏光状
態に戻すことができ、２つの光束の偏光面を感光層９上
で一致させ、ホログラムパターンを露光する。
位相遅れを補償する位相板、例えばバビネソレイユ位相
板を用いて、楕円偏光になった回折光を元の直線偏光状
態に戻すことができ、２つの光束の偏光面を感光層９上
で一致させ、ホログラムパターンを露光する。
【００４２】この時は、図１（Ａ）のハーフミラー３と
ミラー１１との間、又は物体光光路中にこの位相板２２
ｂを設け、液晶によって生じる位相遅れを補償して、参
照光Ｒ及び物体光Ｏを直線偏光にさせた後に感光層９に
入射させて互いに干渉させることが望ましい。
ミラー１１との間、又は物体光光路中にこの位相板２２
ｂを設け、液晶によって生じる位相遅れを補償して、参
照光Ｒ及び物体光Ｏを直線偏光にさせた後に感光層９に
入射させて互いに干渉させることが望ましい。
【００４３】図２（Ａ）は本発明の実施例２の要部概略
図である。図中、図１で示す要素と同一要素には同符番
を付している。
図である。図中、図１で示す要素と同一要素には同符番
を付している。
【００４４】本実施例では図１の実施例に比べて、物体
光光学系として、液晶素子に加えてシリンドリカルレン
ズ２３を組み合わせて光学系を構成している点が異なっ
ている。
光光学系として、液晶素子に加えてシリンドリカルレン
ズ２３を組み合わせて光学系を構成している点が異なっ
ている。
【００４５】実施例１では、物体光Ｏとして液晶素子１
５の回折光そのものを用いていた。この為、図１（Ｂ）
に示す様に、液晶素子１５上に形成する干渉縞パターン
はピッチが小さくなる傾向があり、例えば干渉縞１ピッ
チを数画素で形成している。
５の回折光そのものを用いていた。この為、図１（Ｂ）
に示す様に、液晶素子１５上に形成する干渉縞パターン
はピッチが小さくなる傾向があり、例えば干渉縞１ピッ
チを数画素で形成している。
【００４６】本実施例では物体光Ｏに付与する主要な波
面特性、この場合は非点収差を発生させるために必要な
光学パワーをシリンドリカルレンズ２３で発生させ、
（高次の収差を含む）残りの部分を液晶素子１５の干渉
縞パターンによる回折作用により付与している。
面特性、この場合は非点収差を発生させるために必要な
光学パワーをシリンドリカルレンズ２３で発生させ、
（高次の収差を含む）残りの部分を液晶素子１５の干渉
縞パターンによる回折作用により付与している。
【００４７】従って本実施例において、液晶素子１５で
回折して発生させなければならない波面は、シリンドリ
カルレンズ２３で発生させられなかった僅かなコマ収差
の波面である。そのため、本実施例で形成される液晶素
子１５上の干渉縞パターンは、図２（Ｂ）に示す様にほ
とんど直線格子と見做せる様なパターンとなり、使用す
る液晶素子１５の画素密度を粗くすることができる。
尚、図２（Ｂ）は図２（Ａ）の矢印ＢＢ’から見たパタ
ーンである。
回折して発生させなければならない波面は、シリンドリ
カルレンズ２３で発生させられなかった僅かなコマ収差
の波面である。そのため、本実施例で形成される液晶素
子１５上の干渉縞パターンは、図２（Ｂ）に示す様にほ
とんど直線格子と見做せる様なパターンとなり、使用す
る液晶素子１５の画素密度を粗くすることができる。
尚、図２（Ｂ）は図２（Ａ）の矢印ＢＢ’から見たパタ
ーンである。
【００４８】また、前記実施例１，及び本実施例では僅
かながらのコマ収差を含む非点収差の波面を物体光Ｏと
して用いることにより、再生時（使用時）に生じるホロ
グラムレンズの収差を補正している場合について説明し
たが、その他の収差を補正することも可能である。
かながらのコマ収差を含む非点収差の波面を物体光Ｏと
して用いることにより、再生時（使用時）に生じるホロ
グラムレンズの収差を補正している場合について説明し
たが、その他の収差を補正することも可能である。
【００４９】例えば、球面収差を補正する又は与える場
合には、液晶素子１５にはフレネルゾーンプレートの様
な同心円の干渉縞パターンを形成すれば良いし、更にこ
のメインパワーを球面レンズに持たせる様にして残りの
収差分を液晶素子１５の回折により生じさせる本実施例
に似た方法も用いることができる。
合には、液晶素子１５にはフレネルゾーンプレートの様
な同心円の干渉縞パターンを形成すれば良いし、更にこ
のメインパワーを球面レンズに持たせる様にして残りの
収差分を液晶素子１５の回折により生じさせる本実施例
に似た方法も用いることができる。
【００５０】図３は本発明の実施例３の要部概略図であ
る。図中、図１で示す要素と同一要素には同符番を付し
ている。本実施例では図１の実施例に比べて、液晶素子
として反射型の強誘電性液晶（ＦＬＣ）の液晶素子を用
いる点が異なっている。
る。図中、図１で示す要素と同一要素には同符番を付し
ている。本実施例では図１の実施例に比べて、液晶素子
として反射型の強誘電性液晶（ＦＬＣ）の液晶素子を用
いる点が異なっている。
【００５１】図中、１５ａは強誘電性の液晶パネルであ
り、表面には透明電極（不図示）を有している。２４は
反射層であり、液晶パネル１５ａを透過した光を反射す
る。２５は液晶駆動素子や電極等である。液晶パネル１
５ａ，反射層２４及び液晶駆動素子２４等は夫々液晶素
子１５の一要素を構成している。
り、表面には透明電極（不図示）を有している。２４は
反射層であり、液晶パネル１５ａを透過した光を反射す
る。２５は液晶駆動素子や電極等である。液晶パネル１
５ａ，反射層２４及び液晶駆動素子２４等は夫々液晶素
子１５の一要素を構成している。
【００５２】本実施例における動作は実施例１と同じで
あり、物体光Ｏとして、干渉縞パターン（計算機ホログ
ラムのパターン）が形成された液晶素子１５で回折、反
射された回折光の波面を用いる。
あり、物体光Ｏとして、干渉縞パターン（計算機ホログ
ラムのパターン）が形成された液晶素子１５で回折、反
射された回折光の波面を用いる。
【００５３】この時、本実施例では液晶素子１５にコン
ピュータシステム１７で計算された所定の干渉縞パター
ンを駆動回路１６を介して形成する。そして電極に電圧
が印加されている部分は、液晶の屈折率異方性によりそ
のパターンに応じた位相ホログラムを形成している。
ピュータシステム１７で計算された所定の干渉縞パター
ンを駆動回路１６を介して形成する。そして電極に電圧
が印加されている部分は、液晶の屈折率異方性によりそ
のパターンに応じた位相ホログラムを形成している。
【００５４】本実施例の強誘電性液晶にはメモリ機能が
あるので、一旦液晶素子１５に電圧をかけ、或るパター
ンを形成すれば、電圧を切ってもそのパターンが保持さ
れる為、感光層９への参照光Ｒ及び物体光Ｏの露光中に
電圧をかけ続ける必要がなく、しかもフリッカも生じな
いので、安定して回折作用を行うことができる。また、
駆動方法として単純マトリックス方式が利用でき、その
ため画素を小さくすることも可能となり、微細な干渉縞
パターンでも形成できる。
あるので、一旦液晶素子１５に電圧をかけ、或るパター
ンを形成すれば、電圧を切ってもそのパターンが保持さ
れる為、感光層９への参照光Ｒ及び物体光Ｏの露光中に
電圧をかけ続ける必要がなく、しかもフリッカも生じな
いので、安定して回折作用を行うことができる。また、
駆動方法として単純マトリックス方式が利用でき、その
ため画素を小さくすることも可能となり、微細な干渉縞
パターンでも形成できる。
【００５５】以上の様に、本実施例では反射型の強誘電
性の液晶素子を用いることにより、高精細な干渉縞パタ
ーンの形成が可能となり、形成する干渉縞ピッチを小さ
くできる。これにより液晶素子１５における回折角を大
きくすることができ、不要な０次光（再生入射光）と１
次回折光との分離が良くなり、有害なゴーストホログラ
ムが形成され難い。
性の液晶素子を用いることにより、高精細な干渉縞パタ
ーンの形成が可能となり、形成する干渉縞ピッチを小さ
くできる。これにより液晶素子１５における回折角を大
きくすることができ、不要な０次光（再生入射光）と１
次回折光との分離が良くなり、有害なゴーストホログラ
ムが形成され難い。
【００５６】この他、本実施例に用いることのできる反
射型の液晶素子としては、様々なタイプの素子が利用で
きるが、ＴＮ（ twisted nematic）液晶の下側に反射電
極を配置し、その下にＴＦＴを設けた構成にすることも
可能であり、この場合はＴＦＴによる遮光がなくなり、
実質的な開口率が向上し全体で光の利用効率を数倍向上
させることができ、画素を高密度に形成することができ
る。また、透過型液晶パネルと反射ミラーと偏光板から
構成された素子を用いることも可能である。
射型の液晶素子としては、様々なタイプの素子が利用で
きるが、ＴＮ（ twisted nematic）液晶の下側に反射電
極を配置し、その下にＴＦＴを設けた構成にすることも
可能であり、この場合はＴＦＴによる遮光がなくなり、
実質的な開口率が向上し全体で光の利用効率を数倍向上
させることができ、画素を高密度に形成することができ
る。また、透過型液晶パネルと反射ミラーと偏光板から
構成された素子を用いることも可能である。
【００５７】図４は本発明の実施例４の要部概略図であ
る。又図５に、本実施例における感光層９近傍の要部鳥
瞰図として示す。
る。又図５に、本実施例における感光層９近傍の要部鳥
瞰図として示す。
【００５８】本実施例は特に、ホログラムが複数の要素
ホログラムから構成されるホログラムレンズアレイを作
製する場合に好適な作製装置である。
ホログラムから構成されるホログラムレンズアレイを作
製する場合に好適な作製装置である。
【００５９】本実施例では、図５に示すそれぞれの要素
ホログラム９−１，９−２，９−３，‥, を製作する際
に各要素ホログラムに応じた干渉縞パターン（計算機ホ
ログラムのパターン）を液晶素子１５上にリアルタイム
で形成すると共に、それぞれの光学素子における入射角
や入射位置を個別に制御できる様に構成している。
ホログラム９−１，９−２，９−３，‥, を製作する際
に各要素ホログラムに応じた干渉縞パターン（計算機ホ
ログラムのパターン）を液晶素子１５上にリアルタイム
で形成すると共に、それぞれの光学素子における入射角
や入射位置を個別に制御できる様に構成している。
【００６０】図中、２６は自動回転ステージであり、ミ
ラー５の角度及び位置を調整する為にコンピュータシス
テム１７からの信号で制御される制御ユニット３３を通
じてステッピングモータやリニアモータなど（以下「駆
動要素」と略称する）で駆動する。２７は参照光光学系
１１１を搭載した自動ステージ（又は可動アーム）であ
り、コンピュータシステム１７からの信号で制御される
制御ユニット３４を通じて駆動要素で駆動し、感光層９
のある空間において参照光Ｒの放射方向を制御して所定
の値に設定する。回転ステージ２６、自動ステージ２
７、制御ユニット３３、３４等は夫々第１の制御手段の
一要素を構成している。
ラー５の角度及び位置を調整する為にコンピュータシス
テム１７からの信号で制御される制御ユニット３３を通
じてステッピングモータやリニアモータなど（以下「駆
動要素」と略称する）で駆動する。２７は参照光光学系
１１１を搭載した自動ステージ（又は可動アーム）であ
り、コンピュータシステム１７からの信号で制御される
制御ユニット３４を通じて駆動要素で駆動し、感光層９
のある空間において参照光Ｒの放射方向を制御して所定
の値に設定する。回転ステージ２６、自動ステージ２
７、制御ユニット３３、３４等は夫々第１の制御手段の
一要素を構成している。
【００６１】２８は自動回転ステージであり、ミラー１
１の角度及び位置を調整する為に、コンピュータシステ
ム１７からの信号で制御される制御ユニット３５を通じ
て駆動要素で駆動する。２９は物体光光学系１１０を搭
載した自動ステージ（又は可動アーム）であり、コンピ
ュータシステム１７からの信号で制御される制御ユニッ
ト３６を通じて駆動要素で駆動し、最終的に感光層９の
ある空間において物体光Ｏの放射方向を制御して所定の
値に設定する。回転ステージ２８、自動ステージ２９、
制御ユニット３５、３６等は夫々第１の制御手段の一要
素を構成している。
１の角度及び位置を調整する為に、コンピュータシステ
ム１７からの信号で制御される制御ユニット３５を通じ
て駆動要素で駆動する。２９は物体光光学系１１０を搭
載した自動ステージ（又は可動アーム）であり、コンピ
ュータシステム１７からの信号で制御される制御ユニッ
ト３６を通じて駆動要素で駆動し、最終的に感光層９の
ある空間において物体光Ｏの放射方向を制御して所定の
値に設定する。回転ステージ２８、自動ステージ２９、
制御ユニット３５、３６等は夫々第１の制御手段の一要
素を構成している。
【００６２】３０は自動回転ステージであり、液晶素子
１５の角度及び位置を調整する為にコンピュータシステ
ム１７からの信号で制御される制御ユニット３７を通じ
て駆動要素で駆動し、液晶素子１５を回転して、液晶素
子１５に対する平行光束ｓの入射角を所定の値に設定す
る。回転ステージ３０、制御ユニット３７等は夫々第３
の制御手段の一要素を構成している。
１５の角度及び位置を調整する為にコンピュータシステ
ム１７からの信号で制御される制御ユニット３７を通じ
て駆動要素で駆動し、液晶素子１５を回転して、液晶素
子１５に対する平行光束ｓの入射角を所定の値に設定す
る。回転ステージ３０、制御ユニット３７等は夫々第３
の制御手段の一要素を構成している。
【００６３】３１は自動回転ステージであり、感光層９
を有する基板８の角度及び位置を調整する為にコンピュ
ータシステム１７からの信号で制御される制御ユニット
３８を通じて駆動要素で駆動し、他の自動回転ステージ
と協同して物体光Ｏ及び参照光Ｒに対して感光層９への
入射角を所定の値に設定する。回転ステージ３１、制御
ユニット３８等は夫々第２の制御手段の一要素を構成し
ている。
を有する基板８の角度及び位置を調整する為にコンピュ
ータシステム１７からの信号で制御される制御ユニット
３８を通じて駆動要素で駆動し、他の自動回転ステージ
と協同して物体光Ｏ及び参照光Ｒに対して感光層９への
入射角を所定の値に設定する。回転ステージ３１、制御
ユニット３８等は夫々第２の制御手段の一要素を構成し
ている。
【００６４】３２は自動ステージであり、コンピュータ
システム１７からの信号で制御される制御ユニット３９
を介して基板８を搭載した自動回転ステージ３１を図５
のＸ，Ｙの方向に移動して基板８を適切に位置決めす
る。自動ステージ３２、制御ユニット３９等は夫々露光
位置制御手段の一要素を構成している。
システム１７からの信号で制御される制御ユニット３９
を介して基板８を搭載した自動回転ステージ３１を図５
のＸ，Ｙの方向に移動して基板８を適切に位置決めす
る。自動ステージ３２、制御ユニット３９等は夫々露光
位置制御手段の一要素を構成している。
【００６５】４２，４３は露光マスクであり、要素ホロ
グラムを製作する際に夫々参照光Ｒ及び物体光Ｏをマス
キングして感光層９上の適切な位置に要素ホログラムを
形成させる。なお、図示していないが、この露光マスク
はコンピュータシステム１７からの信号で制御される制
御ユニットを介して不図示の移動手段によりＸ，Ｙ方向
に移動することができる。
グラムを製作する際に夫々参照光Ｒ及び物体光Ｏをマス
キングして感光層９上の適切な位置に要素ホログラムを
形成させる。なお、図示していないが、この露光マスク
はコンピュータシステム１７からの信号で制御される制
御ユニットを介して不図示の移動手段によりＸ，Ｙ方向
に移動することができる。
【００６６】本実施例における露光光学系の動作は実施
例１と同じであり、物体光Ｏとして、干渉縞パターン
（計算機ホログラムのパターン）が形成された液晶素子
１５で変調回折された回折光の波面を用いる。
例１と同じであり、物体光Ｏとして、干渉縞パターン
（計算機ホログラムのパターン）が形成された液晶素子
１５で変調回折された回折光の波面を用いる。
【００６７】この時、各ミラー５，ミラー１１は、コン
ピュータシステム１７により制御される自動回転ステー
ジ２６，２８により、それぞれその入射角，反射角を制
御する。
ピュータシステム１７により制御される自動回転ステー
ジ２６，２８により、それぞれその入射角，反射角を制
御する。
【００６８】更に、自動ステージ（または可動アーム）
２７，２９は参照光光学系１１１及び物体光光学系１１
０を調節し、他の自動回転ステージと協同して感光層９
のある空間において参照光Ｒと物体光Ｏとが形成する相
互の関係を所定の状態に調節する。
２７，２９は参照光光学系１１１及び物体光光学系１１
０を調節し、他の自動回転ステージと協同して感光層９
のある空間において参照光Ｒと物体光Ｏとが形成する相
互の関係を所定の状態に調節する。
【００６９】また、感光層９における参照光Ｒ及び物体
光Ｏの入射角は主として自動回転ステージ３１により制
御する。更に、基板８の露光位置は自動ステージ３２に
より制御し、ホログラムレンズアレイの各要素ホログラ
ムのそれぞれの位置でホログラムパターンを露光する。
光Ｏの入射角は主として自動回転ステージ３１により制
御する。更に、基板８の露光位置は自動ステージ３２に
より制御し、ホログラムレンズアレイの各要素ホログラ
ムのそれぞれの位置でホログラムパターンを露光する。
【００７０】このとき、露光マスク４２，４３は予めそ
の開口を各要素ホログラムの分割形状に合わせておく。
この時の開口形状としては、正方形，長方形，６角形，
多角形，円形など様々なものが用いることができる。
の開口を各要素ホログラムの分割形状に合わせておく。
この時の開口形状としては、正方形，長方形，６角形，
多角形，円形など様々なものが用いることができる。
【００７１】例えば、図５において要素ホログラム９−
８に対して、自動ステージ３２は感光層９を矢印Ｘ，Ｙ
の方向に移動して位置決めする。この時、この要素ホロ
グラム９−８に露光すべき波面をコンピュータシステム
１７が決定し、さらにそれを発生させるＣＧＨパターン
を演算して液晶駆動回路１６を介して液晶素子１５に形
成し、平行光束ｓをこのパターンで回折して発生した物
体光Ｏを露光マスク４３を介して感光層９上の９−８の
部分に入射させる。ここで、液晶素子１５への平行光束
ｓの入射角は自動回転ステージ３０等を用いて制御して
いる。
８に対して、自動ステージ３２は感光層９を矢印Ｘ，Ｙ
の方向に移動して位置決めする。この時、この要素ホロ
グラム９−８に露光すべき波面をコンピュータシステム
１７が決定し、さらにそれを発生させるＣＧＨパターン
を演算して液晶駆動回路１６を介して液晶素子１５に形
成し、平行光束ｓをこのパターンで回折して発生した物
体光Ｏを露光マスク４３を介して感光層９上の９−８の
部分に入射させる。ここで、液晶素子１５への平行光束
ｓの入射角は自動回転ステージ３０等を用いて制御して
いる。
【００７２】以上の様に、本実施例ではコンピュータシ
ステム１７により、それぞれの光学素子における入射角
や入射位置を制御すると共に、それぞれの要素ホログラ
ムを露光するための多数の干渉縞パターン（計算機ホロ
グラムのパターン）を液晶素子１５上にリアルタイムで
形成することにより、簡易な構成の装置でホログラムレ
ンズアレイを容易に作製できる。
ステム１７により、それぞれの光学素子における入射角
や入射位置を制御すると共に、それぞれの要素ホログラ
ムを露光するための多数の干渉縞パターン（計算機ホロ
グラムのパターン）を液晶素子１５上にリアルタイムで
形成することにより、簡易な構成の装置でホログラムレ
ンズアレイを容易に作製できる。
【００７３】また、本発明の装置では従来の装置と比較
して小型に構成できるので装置の剛性を高くすることが
でき、露光中の振動等による悪影響を小さくすることが
できると言う効果がある。
して小型に構成できるので装置の剛性を高くすることが
でき、露光中の振動等による悪影響を小さくすることが
できると言う効果がある。
【００７４】なお、場合によっては基板８を固定してお
き、露光マスク４２、４３を移動手段によってＸ，Ｙ方
向に移動して要素ホログラムを作製することもできる。
き、露光マスク４２、４３を移動手段によってＸ，Ｙ方
向に移動して要素ホログラムを作製することもできる。
【００７５】更に、本実施例においても、実施例２で開
示した方法を利用することで、物体光光束Ｏを発生させ
る為に必要な光学パワーを従来の光学素子に持たせ、残
りの部分を液晶素子１５の回折により付与することも可
能である。
示した方法を利用することで、物体光光束Ｏを発生させ
る為に必要な光学パワーを従来の光学素子に持たせ、残
りの部分を液晶素子１５の回折により付与することも可
能である。
【００７６】
【発明の効果】本発明は以上の構成により、 （３−１）比較的簡易な構成の装置でありながら、ホロ
グラムの再生時の目的に応じてコンピュータシステムの
演算によって液晶素子上に適切な計算機ホログラム（Ｃ
ＧＨ）の干渉縞パターンをリアルタイムに形成し、これ
によっていろいろな特性のホログラムを低コストで短時
間に歩留良く作成する。 （３−２）液晶素子で回折して発生する回折光束の偏光
面と他方の光束の偏光面の方向を同一にしてホログラム
感光層へ入射させることで、ホログラムパターンのコン
トラストを高める。特に、この入射偏光面をP 偏光とす
ることによって更にホログラムの品位を高める。 （３−３）液晶素子に形成する干渉縞パターンを液晶素
子の屈折率の変調による位相型回折格子で形成し、回折
効率即ち露光光の利用効率を高くし、これにより露光時
間を短縮して、露光中の振動等によるコントラストの低
下を小さくする。 （３−４）液晶素子として反射型の液晶素子を用いるこ
とにより、高精細な干渉縞パターンを形成し、液晶素子
に形成する干渉縞ピッチを小さくする。これにより液晶
素子における回折角を大きくして、０次光と１次回折光
との分離を大きくし、有害なゴーストホログラムが発生
し難い。 （３−５）ホログラムが複数の要素ホログラムから構成
されるホログラムレンズアレイの作製においては、コン
ピュータシステムの演算によって各要素ホログラムに応
じて異なる干渉縞パターンをリアルタイムに形成し、ホ
ログラムレンズアレイの作製を特に短時間で行える。 （３−６）ホログラムレンズアレイの作製において、コ
ンピュータシステムにより液晶素子上の干渉縞パターン
の作製、ミラーの向き、基板の向き、液晶の向き等を正
確に制御し、各種要素のセッティングを短時間に行い、
ホログラムレンズアレイの作製を特に短時間で行える。 （３−７）ほとんど自動でホログラムの作製ができ、し
かも、ホログラムレンズアレイの作製においては、複数
の記録光束の感光層への入射条件を制御する制御手段や
感光層の露光位置を制御する露光位置制御手段等を設け
て、作製装置を構成することにより、要素ホログラム作
製を自動で行い、極めて容易にホログラムレンズアレイ
を作製できる。 等の効果を発揮するホログラム作製方法及びホログラム
作製装置を達成する。
グラムの再生時の目的に応じてコンピュータシステムの
演算によって液晶素子上に適切な計算機ホログラム（Ｃ
ＧＨ）の干渉縞パターンをリアルタイムに形成し、これ
によっていろいろな特性のホログラムを低コストで短時
間に歩留良く作成する。 （３−２）液晶素子で回折して発生する回折光束の偏光
面と他方の光束の偏光面の方向を同一にしてホログラム
感光層へ入射させることで、ホログラムパターンのコン
トラストを高める。特に、この入射偏光面をP 偏光とす
ることによって更にホログラムの品位を高める。 （３−３）液晶素子に形成する干渉縞パターンを液晶素
子の屈折率の変調による位相型回折格子で形成し、回折
効率即ち露光光の利用効率を高くし、これにより露光時
間を短縮して、露光中の振動等によるコントラストの低
下を小さくする。 （３−４）液晶素子として反射型の液晶素子を用いるこ
とにより、高精細な干渉縞パターンを形成し、液晶素子
に形成する干渉縞ピッチを小さくする。これにより液晶
素子における回折角を大きくして、０次光と１次回折光
との分離を大きくし、有害なゴーストホログラムが発生
し難い。 （３−５）ホログラムが複数の要素ホログラムから構成
されるホログラムレンズアレイの作製においては、コン
ピュータシステムの演算によって各要素ホログラムに応
じて異なる干渉縞パターンをリアルタイムに形成し、ホ
ログラムレンズアレイの作製を特に短時間で行える。 （３−６）ホログラムレンズアレイの作製において、コ
ンピュータシステムにより液晶素子上の干渉縞パターン
の作製、ミラーの向き、基板の向き、液晶の向き等を正
確に制御し、各種要素のセッティングを短時間に行い、
ホログラムレンズアレイの作製を特に短時間で行える。 （３−７）ほとんど自動でホログラムの作製ができ、し
かも、ホログラムレンズアレイの作製においては、複数
の記録光束の感光層への入射条件を制御する制御手段や
感光層の露光位置を制御する露光位置制御手段等を設け
て、作製装置を構成することにより、要素ホログラム作
製を自動で行い、極めて容易にホログラムレンズアレイ
を作製できる。 等の効果を発揮するホログラム作製方法及びホログラム
作製装置を達成する。
【図１】 （Ａ）本発明の実施例１の要部概略図 （Ｂ）液晶素子に形成する干渉縞パターンの概略図
【図２】 （Ａ）本発明の実施例２の要部概略図 （Ｂ）液晶素子に形成する干渉縞パターンの概略図
【図３】 本発明の実施例３の要部概略図
【図４】 本発明の実施例４の要部概略図
【図５】 本発明の実施例４における露光部分の要部鳥
瞰図
瞰図
１ レーザ光源 ３ ハーフミラー ５，１１ 反射ミラー ８ 基板 ９ 感光層 １５ 液晶素子 １６ 液晶駆動回路 １７ コンピュータシステム（演算手段） ２０ 遮光板 ２１ ＮＤフィルタ ２２ａ，２２ｂ 位相板又は波長板 ２３ シリンドリカルレンズ ２４ 反射層 ２６、２８、３０、３１ 自動回転ステージ ２７、３２ 自動ステージ ２９ 自動ステージ（又は可動アーム） ３３−３９ 制御ユニット １１０ 物体光光学系 １１１ 参照光光学系
Claims (22)
- 【請求項１】 光源手段からの光束より複数の光束を形
成し、該複数の光束のうち１つの光束を参照光として、
又他の１つの光束を物体光として、各々を透明な基板上
に形成した感光層に導光して干渉させてホログラムを作
成する際、 該物体光は演算手段によって液晶素子に形成した干渉縞
パターンからの回折光を利用したものであることを特徴
とするホログラムの作製方法。 - 【請求項２】 前記液晶素子に形成する干渉縞パターン
は該液晶素子の透過率の変調により形成していることを
特徴とする請求項１のホログラムの作製方法。 - 【請求項３】 前記液晶素子に形成する干渉縞パターン
は該液晶素子の屈折率の変調により形成していることを
特徴とする請求項１のホログラムの作製方法。 - 【請求項４】 前記液晶素子に形成する干渉縞パターン
は液晶の複屈折性を制御して形成していることを特徴と
する請求項１のホログラムの作製方法。 - 【請求項５】 前記液晶素子が反射型の液晶素子である
ことを特徴とする請求項１のホログラムの作製方法。 - 【請求項６】 前記液晶素子はNematic 液晶，ＴＮ（tw
isted nematic ）液晶，ＳＴＮ（super twisted nemat
ic ）液晶，ＮＴＮ（neutralized ＳＴＮ）液晶，ＦＴ
Ｎ（formulated ＳＴＮ ）液晶, 又はＦＬＣ（ferroele
ctric liquidcrystal ）液晶のうちの１つであることを
特徴とする請求項１のホログラムの作製方法。 - 【請求項７】 前記液晶素子がゲストホスト液晶である
ことを特徴とする請求項２のホログラムの作製方法。 - 【請求項８】 前記参照光及び前記物体光はいずれも直
線偏光であり、前記感光層へ偏光面の方向を同じくして
入射することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項
に記載のホログラムの作製方法。 - 【請求項９】 前記参照光及び前記物体光の偏光面がP
偏光であることを特徴とする請求項８のホログラムの作
製方法。 - 【請求項１０】 前記参照光及び／または前記物体光の
偏光面を少なくとも１枚の位相板又は波長板を用いて制
御していることを特徴とする請求項８のホログラムの作
製方法。 - 【請求項１１】 前記液晶素子がＴＮ液晶であって、か
つ前記波長板が２分の１波長板であることを特徴とする
請求項１０のホログラムの作製方法。 - 【請求項１２】 光源手段からの光束を光分割手段によ
って複数の光束に分割し、該複数の光束のうち１つの光
束を参照光として透明な基板上に形成した感光層に、他
の１つの光束を干渉縞パターンが形成されている液晶素
子に導光し、該液晶素子を介した光束を物体光として該
感光層に、各々異なった方向から入射させて該参照光と
該物体光による干渉縞パターンを記録してホログラムを
作製していることを特徴とするホログラムの作製装置。 - 【請求項１３】 前記感光層のある空間において前記参
照光と前記物体光との成す角を制御する第１の制御手段
と、該参照光と該物体光の各々に対して該感光層への入
射角を所定の値となるように該感光層の向きを制御する
第２の制御手段と、該液晶素子に入射する光束に対して
該液晶素子への入射角を制御する第３の制御手段とを有
することを特徴とする請求項１２のホログラムの作製装
置。 - 【請求項１４】 前記感光層に対する前記参照光と前記
物体光の入射位置を制御する露光位置制御手段を有し、
該露光位置制御手段によって該感光層に対する該参照光
と該物体光の入射位置を逐次変化して要素ホログラムを
製作する際、 前記液晶素子上に該要素ホログラムに応じた干渉縞パタ
ーンを形成していることを特徴とする請求項１３のホロ
グラムの作製装置。 - 【請求項１５】 前記露光位置制御手段は前記感光層を
その面内で２次元的に位置決めをすることを特徴とする
請求項１４のホログラムの作製装置。 - 【請求項１６】 前記感光層の近傍に前記参照光と前記
物体光を限定して、前記要素ホログラムの大きさを定め
る所定の開口を持つ露光マスクを配置し、該要素ホログ
ラムを製作する際、 移動手段によって該露光マスクを移動して該要素ホログ
ラムを製作することを特徴とする請求項１５のホログラ
ムの作製装置。 - 【請求項１７】 前記第１の制御手段及び前記第２の制
御手段が演算手段により制御される駆動要素によって駆
動される回転ステージを有し、該第１の制御手段が有す
る該回転ステージは前記参照光及び前記物体光を偏向す
るミラーを搭載しており、該第２の制御手段が有する該
回転ステージは前記基板を搭載していることを特徴とす
る請求項１３のホログラムの作製装置。 - 【請求項１８】 前記第３の制御手段が演算手段により
制御される駆動要素によって駆動される回転ステージを
有し、該回転ステージは液晶素子を搭載していることを
特徴とする請求項１７のホログラムの作製装置。 - 【請求項１９】 前記露光位置制御手段が、演算手段に
より制御される駆動要素により駆動される自動ステージ
を有することを特徴とする請求項１４、１５又は１６の
ホログラムの作製装置。 - 【請求項２０】 前記要素ホログラムを製作する際に、
各要素ホログラムに応じて、前記液晶素子に異なる干渉
縞パターンを形成することを特徴とする請求項１４、１
５、１６又は１９のホログラムの作製装置。 - 【請求項２１】 少なくとも１枚の位相板又は波長板を
前記参照光又は前記物体光の光路中に設置していること
を特徴とする請求項１２〜２０のいずれか１項に記載の
ホログラムの作製装置。 - 【請求項２２】 前記位相板又は波長板がバビネソレイ
ユ位相板又は２分の１波長板又は４分の１波長板である
ことを特徴とする請求項２１のホログラムの作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23436894A JPH0875925A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | ホログラムの作製方法及び作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23436894A JPH0875925A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | ホログラムの作製方法及び作製装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0875925A true JPH0875925A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16969917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23436894A Pending JPH0875925A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | ホログラムの作製方法及び作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0875925A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010016464A (ko) * | 2000-12-12 | 2001-03-05 | 정태몽 | 도광판 표면 처리 설비 및 이를 이용하여 제작된 도광판 |
| KR100396434B1 (ko) * | 2001-09-03 | 2003-09-02 | 주식회사 엘에스텍 | 도광판용 패턴형성장치 |
| KR100460790B1 (ko) * | 2002-05-24 | 2004-12-09 | 주식회사 엘에스텍 | 단속적인 패턴이 형성된 도광판을 가지는 면광원장치 |
| KR100465014B1 (ko) * | 2002-05-11 | 2005-01-06 | 주식회사 엘에스텍 | 도광판용 패턴형성장치 |
| JP2008122668A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム作製方法及びその方法により作製されたホログラム |
| JP2009048002A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | ホログラム再生装置およびホログラム記録再生装置 |
| KR20220064834A (ko) * | 2020-11-12 | 2022-05-19 | (주)한교홀로그램 | 홀로그램 기록 장치 및 방법 |
| WO2024024414A1 (ja) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | 株式会社フジクラ | 光演算装置 |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP23436894A patent/JPH0875925A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010016464A (ko) * | 2000-12-12 | 2001-03-05 | 정태몽 | 도광판 표면 처리 설비 및 이를 이용하여 제작된 도광판 |
| KR100396434B1 (ko) * | 2001-09-03 | 2003-09-02 | 주식회사 엘에스텍 | 도광판용 패턴형성장치 |
| KR100465014B1 (ko) * | 2002-05-11 | 2005-01-06 | 주식회사 엘에스텍 | 도광판용 패턴형성장치 |
| KR100460790B1 (ko) * | 2002-05-24 | 2004-12-09 | 주식회사 엘에스텍 | 단속적인 패턴이 형성된 도광판을 가지는 면광원장치 |
| JP2008122668A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム作製方法及びその方法により作製されたホログラム |
| JP2008122669A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム作製方法及びその方法により作製されたホログラム |
| JP2008145467A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-06-26 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム作製方法及びその方法により作製されたホログラム |
| US8743443B2 (en) | 2006-11-13 | 2014-06-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram fabrication process, and hologram fabricated by that process |
| JP2009048002A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | ホログラム再生装置およびホログラム記録再生装置 |
| KR20220064834A (ko) * | 2020-11-12 | 2022-05-19 | (주)한교홀로그램 | 홀로그램 기록 장치 및 방법 |
| WO2024024414A1 (ja) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | 株式会社フジクラ | 光演算装置 |
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