JPH0875917A - カラーフィルタ、その製造方法及び液晶パネル - Google Patents
カラーフィルタ、その製造方法及び液晶パネルInfo
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- JPH0875917A JPH0875917A JP28985194A JP28985194A JPH0875917A JP H0875917 A JPH0875917 A JP H0875917A JP 28985194 A JP28985194 A JP 28985194A JP 28985194 A JP28985194 A JP 28985194A JP H0875917 A JPH0875917 A JP H0875917A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 混色、色ムラ、色抜けのない信頼性の高いカ
ラーフィルタを提供する。 【構成】 光透過部を有する基板上に樹脂層を有し、該
樹脂層が着色された光透過部を備えたカラーフィルタで
あって、樹脂層が、メチロール系アクリルアミドとハロ
ゲン化トリアジン化合物を含むことを特徴とするカラー
フィルタである。
ラーフィルタを提供する。 【構成】 光透過部を有する基板上に樹脂層を有し、該
樹脂層が着色された光透過部を備えたカラーフィルタで
あって、樹脂層が、メチロール系アクリルアミドとハロ
ゲン化トリアジン化合物を含むことを特徴とするカラー
フィルタである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビ、車載テ
レビ、パーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使
用されているカラー液晶ディスプレイに適用できるカラ
ーフィルタ及びその製造方法、液晶パネルに関し、特に
インクジェット記録技術を利用した液晶用カラーフィル
タ及びその製造方法、液晶パネルに関する。
レビ、パーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使
用されているカラー液晶ディスプレイに適用できるカラ
ーフィルタ及びその製造方法、液晶パネルに関し、特に
インクジェット記録技術を利用した液晶用カラーフィル
タ及びその製造方法、液晶パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、液晶
ディスプレイ、特にカラー液晶ディスプレイの需要が増
加する傾向にある。しかしながら、さらなる普及のため
にはコストダウンが必要であり、特にコスト的に比重の
重いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が高ま
っている。
【０００３】従来から、カラーフィルタの要求特性を満
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだすべての要求特性を満足する方法は確
立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
足しつつ上記の要求に応えるべく種々の方法が試みられ
ているが、いまだすべての要求特性を満足する方法は確
立されていない。以下にそれぞれの方法を説明する。
【０００４】最も多く用いられている第一の方法が染色
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソ
グラフィー工程により所望の形状にパターニングした
後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパ
ターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂのカラーフィルタ層を形成する。
法である。染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料
である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソ
グラフィー工程により所望の形状にパターニングした
後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパ
ターンを得る。これを３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂのカラーフィルタ層を形成する。
【０００５】この染色法の別の例として特開平５−２８
８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、これをパ
ターン状に露光した後、未露光部を染色する方法が記載
され、この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂ
の３色からなるカラーフィルタを製造することが記載さ
れている。
８９１３号公報には、基板上に感光層を設け、これをパ
ターン状に露光した後、未露光部を染色する方法が記載
され、この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂ
の３色からなるカラーフィルタを製造することが記載さ
れている。
【０００６】第二の方法は顔料分散法であり、近年染色
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィ
ルタ層を形成する。
法に取って変わりつつある。この方法は、まず基板上に
顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニ
ングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの
工程を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィ
ルタ層を形成する。
【０００７】第三の方法としては電着法がある。この方
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂのカ
ラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するものである。
法は、まず基板上に透明電極をパターニングし、顔料、
樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色
を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂのカ
ラーフィルタ層を形成し、最後に焼成するものである。
【０００８】第四の方法としては、熱硬化型の樹脂に顔
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
料を分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、
Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色
層を形成するものである。また、いずれの方法において
も着色層上に保護層を形成するのが一般的である。
【０００９】これらの方法に共通している点は、Ｒ、
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留りが低下するという問題を有している。
さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が
限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用でき
ない。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピッ
チのパターンは形成できない。
Ｇ、Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返
す必要があり、コスト高になることである。また、工程
が多いほど歩留りが低下するという問題を有している。
さらに、電着法においては、形成可能なパターン形状が
限定されるため、現状の技術ではＴＦＴ用には適用でき
ない。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピッ
チのパターンは形成できない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】これらの欠点を補うべ
く、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造
方法として、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６
３−２３５９０１号公報、特開平１−２１７３２０号公
報等の提案があるが、いまだ不十分である。
く、インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造
方法として、特開昭５９−７５２０５号公報、特開昭６
３−２３５９０１号公報、特開平１−２１７３２０号公
報等の提案があるが、いまだ不十分である。
【００１１】そこで本発明の目的は、従来法の有する耐
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつイ
ンクジェット適性をも満足し、さらに工程の短縮された
安価なカラーフィルタの製造方法及び該方法により製造
された信頼性の高いカラーフィルタを提供するものであ
る。特に、インクジェットを用いてインクの吐出により
着色剤の配列を行う際の混色、色抜けを防止する信頼性
の高い液晶カラーフィルタの製造方法を提供するもので
ある。
熱性、耐溶剤性、解像性等の必要特性を満足し、かつイ
ンクジェット適性をも満足し、さらに工程の短縮された
安価なカラーフィルタの製造方法及び該方法により製造
された信頼性の高いカラーフィルタを提供するものであ
る。特に、インクジェットを用いてインクの吐出により
着色剤の配列を行う際の混色、色抜けを防止する信頼性
の高い液晶カラーフィルタの製造方法を提供するもので
ある。
【００１２】又、本発明は、かかるカラーフィルタを備
えた新規な液晶パネルを提供することを目的とする。
えた新規な液晶パネルを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】かかる目的は、次に示す
手段により達成することができる。
手段により達成することができる。
【００１４】即ち本発明は、光透過部を有する基板上に
樹脂層を有し、該樹脂層が着色された光透過部を備えた
カラーフィルタであって、該樹脂層が、（ａ）下記式
（Ｉ）で表される構造単位からなる単量体の単独及び／
又は他のビニル系単量体との共重合体と、（ｂ）ハロゲ
ン化トリアジン化合物、ジフェニルヨードニウム塩誘導
体及びトリフェニルスルホニウム塩誘導体から選択され
る化合物とを少なくとも含むことを特徴とするカラーフ
ィルタであり、
樹脂層を有し、該樹脂層が着色された光透過部を備えた
カラーフィルタであって、該樹脂層が、（ａ）下記式
（Ｉ）で表される構造単位からなる単量体の単独及び／
又は他のビニル系単量体との共重合体と、（ｂ）ハロゲ
ン化トリアジン化合物、ジフェニルヨードニウム塩誘導
体及びトリフェニルスルホニウム塩誘導体から選択され
る化合物とを少なくとも含むことを特徴とするカラーフ
ィルタであり、
【００１５】
【外３】 （但し、Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2は水素原子又
は炭素数１〜５のアルキル基を表す。） 基板上に遮光部を有し、該基板上に樹脂層が設けられて
おり、遮光部上の樹脂層が一部着色されており、遮光部
上の樹脂層の着色されていない部分の幅が、遮光部の幅
より小さく、（ａ）の重合体１００重量部に対して
（ｂ）の化合物が０．０１〜１０重量部含まれることを
含む。
は炭素数１〜５のアルキル基を表す。） 基板上に遮光部を有し、該基板上に樹脂層が設けられて
おり、遮光部上の樹脂層が一部着色されており、遮光部
上の樹脂層の着色されていない部分の幅が、遮光部の幅
より小さく、（ａ）の重合体１００重量部に対して
（ｂ）の化合物が０．０１〜１０重量部含まれることを
含む。
【００１６】又、本発明は、インクジェット方式を用い
て基板上に着色剤を配列させてなるカラーフィルタの製
造方法であって、 １）基板上に、インク吸収性を有し、光照射又は光照射
及び熱処理により、処理された部分のインク吸収性が低
下する組成物を含む層を設ける工程、 ２）基板上の該組成物層の一部を光照射又は光照射及び
熱処理によりインク吸収性を低下させる工程、 ３）インクジェット方式を用いてインク滴を付与して該
組成物層の未処理部分を着色する工程と、 ４）該組成物層に光照射及び／又は熱処理を行って、該
組成物層を硬化させる工程とを有してなり、該組成物層
が、上記した（Ｉ）で表される構造単位からなる単量体
の単独及び／又は他のビニル系単量体との共重合体と、
ハロゲン化トリアジン化合物、ジフェニルヨードニウム
塩誘導体及びトリフェニルスルホニウム塩誘導体から選
択される化合物とを少なくとも含むことを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法であり、基板上に遮光部を有
し、該遮光部上のインク吸収性を低下させた組成物層の
幅が、遮光部の幅より小さく、前記（ａ）の重合体１０
０重量部に対して（ｂ）の化合物の量が、０．０１〜１
０重量部含まれることを含む。
て基板上に着色剤を配列させてなるカラーフィルタの製
造方法であって、 １）基板上に、インク吸収性を有し、光照射又は光照射
及び熱処理により、処理された部分のインク吸収性が低
下する組成物を含む層を設ける工程、 ２）基板上の該組成物層の一部を光照射又は光照射及び
熱処理によりインク吸収性を低下させる工程、 ３）インクジェット方式を用いてインク滴を付与して該
組成物層の未処理部分を着色する工程と、 ４）該組成物層に光照射及び／又は熱処理を行って、該
組成物層を硬化させる工程とを有してなり、該組成物層
が、上記した（Ｉ）で表される構造単位からなる単量体
の単独及び／又は他のビニル系単量体との共重合体と、
ハロゲン化トリアジン化合物、ジフェニルヨードニウム
塩誘導体及びトリフェニルスルホニウム塩誘導体から選
択される化合物とを少なくとも含むことを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法であり、基板上に遮光部を有
し、該遮光部上のインク吸収性を低下させた組成物層の
幅が、遮光部の幅より小さく、前記（ａ）の重合体１０
０重量部に対して（ｂ）の化合物の量が、０．０１〜１
０重量部含まれることを含む。
【００１７】更に本発明は、上記のカラーフィルタと、
これに対向する位置に基板を設け、カラーフィルタと基
板との間に液晶組成物を封入したことを特徴とする液晶
パネルである。
これに対向する位置に基板を設け、カラーフィルタと基
板との間に液晶組成物を封入したことを特徴とする液晶
パネルである。
【００１８】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。図１は、本発明における液晶用カラーフィルタの
製造方法を示したものであり、本発明にかかる液晶用カ
ラーフィルタの構成の一例が示されている。
する。図１は、本発明における液晶用カラーフィルタの
製造方法を示したものであり、本発明にかかる液晶用カ
ラーフィルタの構成の一例が示されている。
【００１９】本発明においては、基板として一般にガラ
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての
透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば
ガラス基板に限定されるものではない。
ス基板が用いられるが、液晶用カラーフィルタとしての
透明性、機械的強度等の必要特性を有するものであれば
ガラス基板に限定されるものではない。
【００２０】図１（ａ）は、ガラス基板上に遮光部２で
あるブラックマトリクスが形成された図を示したもので
ある。まず、ブラックマトリクスの形成された基板上
に、水性インク吸収性を有し、光照射又は光照射と熱処
理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物を
塗布し、必要に応じてプリベークを行って光照射又は光
照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下す
る組成物層３を形成する（図１（ｂ））。
あるブラックマトリクスが形成された図を示したもので
ある。まず、ブラックマトリクスの形成された基板上
に、水性インク吸収性を有し、光照射又は光照射と熱処
理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物を
塗布し、必要に応じてプリベークを行って光照射又は光
照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が低下す
る組成物層３を形成する（図１（ｂ））。
【００２１】この組成物層は、前記したような（ａ）、
（ｂ）の２種の化合物を少なくとも含んでいる。以下そ
れぞれについて説明する。
（ｂ）の２種の化合物を少なくとも含んでいる。以下そ
れぞれについて説明する。
【００２２】（ａ）の上記式（Ｉ）で表される構造単位
からなる単量体としては、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシ
メチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロポキシメチルアク
リルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−メ
トキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルメ
タクリルアミド等を挙げられるが、これらに限られるも
のではない。これらの単量体は、単独、あるいは、他の
ビニル系単量体と共重合される。他のビニル系単量体と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エ
ステル、ヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシメチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基を含有し
たビニル系単量体、その他スチレン、α−メチルスチレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、アリルアミン、ビニルアミン、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル等を挙げることが出来るが、もちろんこ
れらに限られるものではない。
からなる単量体としては、Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシ
メチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロポキシメチルアク
リルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−メ
トキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルメ
タクリルアミド等を挙げられるが、これらに限られるも
のではない。これらの単量体は、単独、あるいは、他の
ビニル系単量体と共重合される。他のビニル系単量体と
しては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、メタク
リル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エ
ステル、ヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロキシ
エチルメタクリレート、ヒドロキシメチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基を含有し
たビニル系単量体、その他スチレン、α−メチルスチレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、アリルアミン、ビニルアミン、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル等を挙げることが出来るが、もちろんこ
れらに限られるものではない。
【００２３】次に、（ｂ）のハロゲン化トリアジン化合
物としては、下記式（ＩＩ）で表される化合物が挙げら
れ、
物としては、下記式（ＩＩ）で表される化合物が挙げら
れ、
【００２４】
【外４】 （但し、Ｚはハロゲン原子、ＹはＣＺ3（Ｚはハロゲン
原子）、フェニル、ハロゲン化フェニル、
原子）、フェニル、ハロゲン化フェニル、
【００２５】
【外５】 Ｒ7は炭素数１〜５のアルキル基であり、１つの基にＲ7
が２つある場合、互いに異なっていても良い） その好ましいものとしては、光開始剤として機能するも
のであれば良く、前記の一般式（Ｉ）で表される化合物
のように、トリアジン環にトリクロロメチル基を導入し
た化合物が好ましく、具体的には、２−（ｐ−メトキシ
フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンが挙げられる。
が２つある場合、互いに異なっていても良い） その好ましいものとしては、光開始剤として機能するも
のであれば良く、前記の一般式（Ｉ）で表される化合物
のように、トリアジン環にトリクロロメチル基を導入し
た化合物が好ましく、具体的には、２−（ｐ−メトキシ
フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンが挙げられる。
【００２６】ジフェニルヨードニウム塩誘導体として
は、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げられ、
は、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物が挙げられ、
【００２７】
【外６】 （但し、Ｒ4、Ｒ5は水素原子、炭素数１〜５のアルコキ
シ基もしくはｔ−ブチル基、Ｘ-はＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｓ
ｂＦ6 -又はＣＦ3ＳＯ3 -を表す。） その好ましいものとしては、光開始剤として機能するも
のではあれば良く、具体的には、ジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニ
ウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム
ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム
トリフラート、またこれらの誘導体等が挙げられるが、
もちろん、これらに限られるものではない。
シ基もしくはｔ−ブチル基、Ｘ-はＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｓ
ｂＦ6 -又はＣＦ3ＳＯ3 -を表す。） その好ましいものとしては、光開始剤として機能するも
のではあれば良く、具体的には、ジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニ
ウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム
ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム
トリフラート、またこれらの誘導体等が挙げられるが、
もちろん、これらに限られるものではない。
【００２８】トリフェニルスルホニウム塩誘導体として
は、下記式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられ、
は、下記式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられ、
【００２９】
【外７】 （但し、Ｒ6は水素原子、炭素数１〜５のアルコキシ
基、炭素数１〜５のアルキル基、
基、炭素数１〜５のアルキル基、
【００３０】
【外８】 又はフッ素原子を表し、Ｘ-は上記と同じである） その好ましいものとしては、光開始剤として機能するも
のではあれば良く、具体的には、トリフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスル
ホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスル
ホニウムトリフラート、またこれらの誘導体等が挙げら
れるが、もちろん、これらに限られるものではない。
のではあれば良く、具体的には、トリフェニルスルホニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスル
ホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスル
ホニウムトリフラート、またこれらの誘導体等が挙げら
れるが、もちろん、これらに限られるものではない。
【００３１】上記（ａ）の重合体１００重量部に対して
（ｂ）の化合物を０．０１〜１０重量部、好ましくは
０．０１〜５重量部含有せしめる。
（ｂ）の化合物を０．０１〜１０重量部、好ましくは
０．０１〜５重量部含有せしめる。
【００３２】上記重合体の分子量は１０2〜１０7の範囲
が好ましい。かかる樹脂を使用することにより、光照射
部と未照射部との間でインク吸収性に明確な差を生じ、
インクの混色を防止することができる。
が好ましい。かかる樹脂を使用することにより、光照射
部と未照射部との間でインク吸収性に明確な差を生じ、
インクの混色を防止することができる。
【００３３】また、この組成物層の形成には、スピンコ
ート、ロールコート、バーコート、スプレーコート、デ
ィップコート等の塗布方法を用いることができ、特に限
定されるものではない。また、組成物層中には増感剤と
してペリレン、アントラセン等の化合物を加えても良
い。
ート、ロールコート、バーコート、スプレーコート、デ
ィップコート等の塗布方法を用いることができ、特に限
定されるものではない。また、組成物層中には増感剤と
してペリレン、アントラセン等の化合物を加えても良
い。
【００３４】次いで、ブラックマトリクスにより遮光さ
れる部分の組成物層をあらかじめ、フォトマスク４を使
用してパターン露光を行うことにより、組成物層のイン
ク吸収性を低下させた後（図１（ｃ））、インクジェッ
トヘッド５を用いて未露光部分である開口部をＲ、Ｇ、
Ｂの各色で同一層に着色し（図１（ｄ））、必要に応じ
てインクの乾燥を行う。
れる部分の組成物層をあらかじめ、フォトマスク４を使
用してパターン露光を行うことにより、組成物層のイン
ク吸収性を低下させた後（図１（ｃ））、インクジェッ
トヘッド５を用いて未露光部分である開口部をＲ、Ｇ、
Ｂの各色で同一層に着色し（図１（ｄ））、必要に応じ
てインクの乾燥を行う。
【００３５】パターン露光の際のフォトマスク４として
は、ブラックマトリクスによる遮光部分のインク吸収性
を低下させるための開口部を有するものを使用する。こ
の際、ブラックマトリクスに接する部分での色抜けを防
止するためには、多めのインクを吐出する必要があるこ
とを考慮すると、ブラックマトリクスの遮光幅よりも狭
い開口部を有するマスクを用いることが好ましい。ま
た、着色に用いるインクとしては、色素系、顔料系共に
用いることが可能であり、また液状インク、ソリッドイ
ンク共に使用可能である。
は、ブラックマトリクスによる遮光部分のインク吸収性
を低下させるための開口部を有するものを使用する。こ
の際、ブラックマトリクスに接する部分での色抜けを防
止するためには、多めのインクを吐出する必要があるこ
とを考慮すると、ブラックマトリクスの遮光幅よりも狭
い開口部を有するマスクを用いることが好ましい。ま
た、着色に用いるインクとしては、色素系、顔料系共に
用いることが可能であり、また液状インク、ソリッドイ
ンク共に使用可能である。
【００３６】さらにインクジェット方式としては、エネ
ルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェ
ットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能であり、着色面積および着色パター
ンは任意に設定することができる。また、本例において
は基板上にブラックマトリクスが形成された例を示して
あるが、ブラックマトリクスは、水性インク吸収性を有
し、光照射または光照射と熱処理により光照射部分のイ
ンク吸収性が低下する組成を形成後、あるいは着色後に
組成物層上に形成されたものであっても特に問題はな
く、その形態は本例に限定されるものではない。また、
その形成方法としては、基板上にスパッタもしくは蒸着
により金属薄膜を形成し、フォトリソ工程によりパター
ニングすることあるいは感光性の黒色樹脂をパターニン
グすることが好ましいが、これに限定されるものではな
い。
ルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェ
ットタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェット
タイプ等が使用可能であり、着色面積および着色パター
ンは任意に設定することができる。また、本例において
は基板上にブラックマトリクスが形成された例を示して
あるが、ブラックマトリクスは、水性インク吸収性を有
し、光照射または光照射と熱処理により光照射部分のイ
ンク吸収性が低下する組成を形成後、あるいは着色後に
組成物層上に形成されたものであっても特に問題はな
く、その形態は本例に限定されるものではない。また、
その形成方法としては、基板上にスパッタもしくは蒸着
により金属薄膜を形成し、フォトリソ工程によりパター
ニングすることあるいは感光性の黒色樹脂をパターニン
グすることが好ましいが、これに限定されるものではな
い。
【００３７】次いで光照射あるいは、熱処理あるいは光
照射と熱処理を行って着色された組成物を硬化させ（図
１（ｅ））、必要に応じて保護層６を形成（図１
（ｆ））する。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパ
ッタ等によって形成された無機膜等を用いることがで
き、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後
のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えう
るものであれば使用可能である。
照射と熱処理を行って着色された組成物を硬化させ（図
１（ｅ））、必要に応じて保護層６を形成（図１
（ｆ））する。保護層としては、光硬化タイプ、熱硬化
タイプあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパ
ッタ等によって形成された無機膜等を用いることがで
き、カラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後
のＩＴＯ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えう
るものであれば使用可能である。
【００３８】図２に、対向する基板にブラックマトリク
スを設けた液晶パネルに用いるカラーフィルタの製造方
法を示す。
スを設けた液晶パネルに用いるカラーフィルタの製造方
法を示す。
【００３９】カラーフィルタ側にではなく、対向する基
板にブラックマトリクスを設ける方法は、開口率を向上
させる方法として有効である。
板にブラックマトリクスを設ける方法は、開口率を向上
させる方法として有効である。
【００４０】図２（ａ）に示すガラス基板１上に、光照
射あるいは光照射及び熱処理により光照射部分のインク
吸収性が低下する組成物を塗布し、必要に応じてプリベ
ークを行って光照射あるいは光照射及び熱処理により光
照射部分のインク吸収性が低下する組成物層３を形成す
る（図２（ｂ））。
射あるいは光照射及び熱処理により光照射部分のインク
吸収性が低下する組成物を塗布し、必要に応じてプリベ
ークを行って光照射あるいは光照射及び熱処理により光
照射部分のインク吸収性が低下する組成物層３を形成す
る（図２（ｂ））。
【００４１】次いでフォトマスク４を使用してパターン
露光を行うことにより組成物層３の露光部のインク吸収
性を低下させた後（図２（ｃ））、インクジェットヘッ
ド５を用いて未露光部をＲ、Ｇ、Ｂの各色で同一層を着
色し（図２（ｄ））、必要に応じて乾燥させる。色抜け
を防止するために、非着色部８の幅は対向する基板に設
けられたブラックマトリクス（不図示）の幅よりも狭く
することが重要である。
露光を行うことにより組成物層３の露光部のインク吸収
性を低下させた後（図２（ｃ））、インクジェットヘッ
ド５を用いて未露光部をＲ、Ｇ、Ｂの各色で同一層を着
色し（図２（ｄ））、必要に応じて乾燥させる。色抜け
を防止するために、非着色部８の幅は対向する基板に設
けられたブラックマトリクス（不図示）の幅よりも狭く
することが重要である。
【００４２】次いで着色された樹脂組成物層を光照射及
び／又は熱処理により硬化させ（図２（ｅ））、必要に
応じて保護層６を形成（図２（ｆ））してカラーフィル
タを得る。保護層としては、光硬化タイプ、熱効果タイ
プあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ
等によって形成された無機膜等を用いることができ、カ
ラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴ
Ｏ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるもの
であれば使用可能である。
び／又は熱処理により硬化させ（図２（ｅ））、必要に
応じて保護層６を形成（図２（ｆ））してカラーフィル
タを得る。保護層としては、光硬化タイプ、熱効果タイ
プあるいは光熱併用タイプの樹脂材料、蒸着、スパッタ
等によって形成された無機膜等を用いることができ、カ
ラーフィルタとした場合の透明性を有し、その後のＩＴ
Ｏ形成プロセス、配向膜形成プロセス等に耐えうるもの
であれば使用可能である。
【００４３】このようにして基板上に樹脂層を有し、該
樹脂層が異なる色で着色された複数の着色部と非着色部
を有するカラーフィルタが製造される。
樹脂層が異なる色で着色された複数の着色部と非着色部
を有するカラーフィルタが製造される。
【００４４】図３、図４に、本発明によるカラーフィル
タを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す。
なお、その形態は本例に限定されるものではない。
タを組み込んだＴＦＴカラー液晶パネルの断面を示す。
なお、その形態は本例に限定されるものではない。
【００４５】カラー液晶パネルは、一般的にカラーフィ
ルタ基板１と対向基板１１４を合わせ込み、液晶化合物
１２を封入することにより形成される。液晶パネルの一
方の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素
電極１３がマトリックス状に形成される。また、もう一
方の基板１の内側には、画素電極に対向する位置にＲＧ
Ｂの色材が配列するようカラーフィルタ９が設置され、
その上に透明な対向電極（共通電極）１０が一面に形成
される。ブラックマトリクスは、通常カラーフィルター
基板側に形成されるが（図３）、ＢＭオンアレイタイプ
の液晶パネルにおいては対向するＴＦＴ基板側に形成さ
れる（図４）。さらに、両基板の面内には配向膜１１が
形成されており、これをラビング処理することにより液
晶分子を一定方向に配列させることができる。また、そ
れぞれのガラス基板の外側には偏光板１５が接着されて
おり、液晶化合物１２は、これらのガラス基板の間隙
（２〜５μｍ程度）に充填される。また、バックライト
としては蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合
わせが一般的に用いられており、液晶化合物をバックラ
イト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能さ
せることにより表示を行う。
ルタ基板１と対向基板１１４を合わせ込み、液晶化合物
１２を封入することにより形成される。液晶パネルの一
方の基板１４の内側に、ＴＦＴ（不図示）と透明な画素
電極１３がマトリックス状に形成される。また、もう一
方の基板１の内側には、画素電極に対向する位置にＲＧ
Ｂの色材が配列するようカラーフィルタ９が設置され、
その上に透明な対向電極（共通電極）１０が一面に形成
される。ブラックマトリクスは、通常カラーフィルター
基板側に形成されるが（図３）、ＢＭオンアレイタイプ
の液晶パネルにおいては対向するＴＦＴ基板側に形成さ
れる（図４）。さらに、両基板の面内には配向膜１１が
形成されており、これをラビング処理することにより液
晶分子を一定方向に配列させることができる。また、そ
れぞれのガラス基板の外側には偏光板１５が接着されて
おり、液晶化合物１２は、これらのガラス基板の間隙
（２〜５μｍ程度）に充填される。また、バックライト
としては蛍光灯（不図示）と散乱板（不図示）の組み合
わせが一般的に用いられており、液晶化合物をバックラ
イト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能さ
せることにより表示を行う。
【００４６】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００４７】実施例１ （ａ）Ｎ−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
１０重量部と、（ｂ）以下の構造からなるハロゲン化ト
リアジン化合物（ミドリ化学製 ＴＡＺ−１０１）０．
５重量部
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
１０重量部と、（ｂ）以下の構造からなるハロゲン化ト
リアジン化合物（ミドリ化学製 ＴＡＺ−１０１）０．
５重量部
【００４８】
【外９】 からなる水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と熱
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、５０℃で１０分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する組成物層を形成した。この時
その膜厚は、１μｍであった。
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、５０℃で１０分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する組成物層を形成した。この時
その膜厚は、１μｍであった。
【００４９】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の組成物層の一部をパターン露光し、その部分の
インク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッ
ド５を用いて染料インクにより開口部のＲ、Ｇ、Ｂのマ
トリクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のイン
ク乾燥を行った。引き続き２３０℃、１時間の熱処理に
よりこの着色ずみ組成物層を硬化させて、本発明による
カラーフィルタを作成した。
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の組成物層の一部をパターン露光し、その部分の
インク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッ
ド５を用いて染料インクにより開口部のＲ、Ｇ、Ｂのマ
トリクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のイン
ク乾燥を行った。引き続き２３０℃、１時間の熱処理に
よりこの着色ずみ組成物層を硬化させて、本発明による
カラーフィルタを作成した。
【００５０】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００５１】実施例２〜１０ 表１に示す組成物を用いた他は、実施例１と同様にして
本発明によるカラーフィルタを作成した。その結果、実
施例１と同様の効果が認められた。
本発明によるカラーフィルタを作成した。その結果、実
施例１と同様の効果が認められた。
【００５２】
【表１】
【００５３】実施例１１ 実施例１により得られた着色済の基板上に、二液型の熱
硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコート
し、９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹脂
層を形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理を
行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カラ
ーフィルタを作成した。
硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコート
し、９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹脂
層を形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理を
行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カラ
ーフィルタを作成した。
【００５４】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００５５】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
【００５６】実施例１２ （ａ）Ｎ−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
１０重量部 （ｂ）トリフェニルスルホニウムトリフラート（ミドリ
化学製 ＴＰＳ−１０５） ０．２重量部 からなる水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と熱
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、６０℃で１０分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する組成物層を形成した。この時
その膜厚は、１μｍであった。
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
１０重量部 （ｂ）トリフェニルスルホニウムトリフラート（ミドリ
化学製 ＴＰＳ−１０５） ０．２重量部 からなる水性インク吸収性を有し光照射又は光照射と熱
処理により光照射部分のインク吸収性が低下する組成物
を調製し、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板
上に、スピンコートし、６０℃で１０分間のプリベーク
を行って、光照射又は光照射と熱処理により光照射部分
のインク吸収性が低下する組成物層を形成した。この時
その膜厚は、１μｍであった。
【００５７】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の組成物層の一部をパターン露光し、その部分の
インク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッ
ド５を用いて染料インクにより開口部のＲ、Ｇ、Ｂのマ
トリクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のイン
ク乾燥を行った。引き続き２３０℃、１時間の熱処理に
よりこの着色ずみ組成物層を硬化させて、本発明による
カラーフィルタを作成した。
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の組成物層の一部をパターン露光し、その部分の
インク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッ
ド５を用いて染料インクにより開口部のＲ、Ｇ、Ｂのマ
トリクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のイン
ク乾燥を行った。引き続き２３０℃、１時間の熱処理に
よりこの着色ずみ組成物層を硬化させて、本発明による
カラーフィルタを作成した。
【００５８】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００５９】実施例１３〜２１ 表２に示す組成物を用いた他は、実施例１２と同様にし
てカラーフィルタを作成した。その結果、実施例１２と
同様の効果が認められた。
てカラーフィルタを作成した。その結果、実施例１２と
同様の効果が認められた。
【００６０】
【表２】
【００６１】実施例２２ 実施例１２により得られた着色済の基板上に、二液型の
熱硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコー
トし、９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹
脂層を形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理
を行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カ
ラーフィルタを作成した。
熱硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコー
トし、９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹
脂層を形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理
を行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カ
ラーフィルタを作成した。
【００６２】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００６３】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
【００６４】実施例２３ （ａ）Ｎ−メチロールアクリルアミドとメタクリル酸メ
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
１０重量部 （ｂ）ジフェニルヨードニウムトリフラート（ミドリ化
学製 ＤＰＩ−１０５）０．２重量部からなる水性イン
ク吸収性を有し光照射又は光照射と熱処理により光照射
部分のインク吸収性が低下する組成物を調製し、ブラッ
クマトリクスの形成されたガラス基板上に、スピンコー
トし、５０℃で１０分間のプリベークを行って、光照射
又は光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が
低下する組成物層を形成した。この時その膜厚は、１μ
ｍであった。
チルとヒドロキシエチルメタクリレートの３元共重合体
１０重量部 （ｂ）ジフェニルヨードニウムトリフラート（ミドリ化
学製 ＤＰＩ−１０５）０．２重量部からなる水性イン
ク吸収性を有し光照射又は光照射と熱処理により光照射
部分のインク吸収性が低下する組成物を調製し、ブラッ
クマトリクスの形成されたガラス基板上に、スピンコー
トし、５０℃で１０分間のプリベークを行って、光照射
又は光照射と熱処理により光照射部分のインク吸収性が
低下する組成物層を形成した。この時その膜厚は、１μ
ｍであった。
【００６５】次いで、ブラックマトリクスの幅よりも狭
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の組成物層の一部をパターン露光し、その部分の
インク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッ
ド５を用いて染料インクにより開口部のＲ、Ｇ、Ｂのマ
トリクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のイン
ク乾燥を行った。引き続き２３０℃、１時間の熱処理に
よりこの着色ずみ組成物層を硬化させて、本発明による
カラーフィルタを作成した。
い開口部を有するフォトマスクを介してブラックマトリ
クス上の組成物層の一部をパターン露光し、その部分の
インク吸収性を低下させた。さらにインクジェットヘッ
ド５を用いて染料インクにより開口部のＲ、Ｇ、Ｂのマ
トリクスパターンを着色した後、９０℃で５分間のイン
ク乾燥を行った。引き続き２３０℃、１時間の熱処理に
よりこの着色ずみ組成物層を硬化させて、本発明による
カラーフィルタを作成した。
【００６６】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００６７】実施例２４〜３２ 表３に示す組成物を用いたことを除いて、実施例２３と
同様にしてカラーフィルタを作成した。その結果、実施
例２３と同様の効果が確認できた。
同様にしてカラーフィルタを作成した。その結果、実施
例２３と同様の効果が確認できた。
【００６８】
【表３】
【００６９】実施例３３ 実施例２３により得られた着色済の基板上に、二液型の
熱硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコー
トし、９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹
脂層を形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理
を行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カ
ラーフィルタを作成した。
熱硬化型樹脂組成物を膜厚１μｍとなるようスピンコー
トし、９０℃で３０分間のプリベークを行って第二の樹
脂層を形成した。次いで、２３０℃で３０分間の熱処理
を行って第二の樹脂層を硬化させることにより液晶用カ
ラーフィルタを作成した。
【００７０】このようにして作成された液晶用カラーフ
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
ィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色ム
ラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００７１】又、このカラーフィルタを用いて図３に示
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動したところ、高精細なカラ
ー表示が可能であった。
【００７２】実施例３４ 実施例１、１２、２３の各組成物を図２に示すとおり、
ガラス基板１上に塗布し、樹脂組成物層３を形成した。
次いでフォトマスク４を用いて樹脂層３側からパターン
露光し、露光部の樹脂のインク吸収性を低下させた。更
にインクジェットヘッド５を用いて染料インクにより露
光部にＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色した後、
各実施例と同様の条件で熱処理を行った。
ガラス基板１上に塗布し、樹脂組成物層３を形成した。
次いでフォトマスク４を用いて樹脂層３側からパターン
露光し、露光部の樹脂のインク吸収性を低下させた。更
にインクジェットヘッド５を用いて染料インクにより露
光部にＲ、Ｇ、Ｂのマトリクスパターンを着色した後、
各実施例と同様の条件で熱処理を行った。
【００７３】更に実施例１１と同様にして保護層６を形
成し、液晶用のカラーフィルタを作成した。
成し、液晶用のカラーフィルタを作成した。
【００７４】このようにして作成された液晶用のカラー
フィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色
ムラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
フィルタを光学顕微鏡により観察したところ、混色、色
ムラ、色抜け等の障害は観察されなかった。
【００７５】又、このカラーフィルタを用いて図４に示
す液晶パネルを作成し、駆動させたところ、高精細なカ
ラー表示が可能であった。
す液晶パネルを作成し、駆動させたところ、高精細なカ
ラー表示が可能であった。
【００７６】
【発明の効果】本発明による液晶用カラーフィルタの製
造方法を採用することにより、混色、色ムラ、色抜け等
の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価
に製造することができる。
造方法を採用することにより、混色、色ムラ、色抜け等
の障害のない信頼性の高い液晶用カラーフィルタを安価
に製造することができる。
【図１】本発明による液晶用カラーフィルタの製造方法
を示す図である。
を示す図である。
【図２】本発明による液晶用カラーフィルタの別の製造
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図３】液晶パネルの断面を示す図である。
【図４】別の液晶パネルの断面を示す図である。
１ 基板 ２ ブラックマトリクス ３ 光硬化型インク受容層 ４ フォトマスク ５ インクジェットヘッド ６ 保護層 ７ 光透過部 ８ 非着色部 ９ カラーフィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城田 勝浩 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 宮▲崎▼ 健 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 佐藤 博 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 光透過部を有する基板上に樹脂層を有
し、該樹脂層が着色された光透過部を備えたカラーフィ
ルタであって、該樹脂層が、（ａ）下記式（Ｉ）で表さ
れる構造単位からなる単量体の単独及び／又は他のビニ
ル系単量体との共重合体と、（ｂ）ハロゲン化トリアジ
ン化合物、ジフェニルヨードニウム塩誘導体及びトリフ
ェニルスルホニウム塩誘導体から選択される化合物とを
少なくとも含むことを特徴とするカラーフィルタ。 【外１】 （但し、Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2は水素原子又
は炭素数１〜５のアルキル基を表す。） - 【請求項２】 基板上に遮光部を有し、該基板上に樹脂
層が設けられている請求項１に記載のカラーフィルタ。 - 【請求項３】 遮光部上の樹脂層が一部着色されている
請求項２に記載のカラーフィルタ。 - 【請求項４】 遮光部上の樹脂層の着色されていない部
分の幅が、遮光部の幅より小さい請求項３に記載のカラ
ーフィルタ。 - 【請求項５】 （ａ）の重合体１００重量部に対して
（ｂ）の化合物が０．０１〜１０重量部含まれる請求項
１に記載のカラーフィルタ。 - 【請求項６】 インクジェット方式を用いて基板上に着
色剤を配列させてなるカラーフィルタの製造方法であっ
て、 １）基板上に、インク吸収性を有し、光照射又は光照射
及び熱処理により、処理された部分のインク吸収性が低
下する組成物を含む層を設ける工程、 ２）基板上の該組成物層の一部を光照射又は光照射及び
熱処理によりインク吸収性を低下させる工程、 ３）インクジェット方式を用いてインク滴を付与して該
組成物層の未処理部分を着色する工程と、 ４）該組成物層に光照射及び／又は熱処理を行って、該
組成物層を硬化させる工程とを有してなり、該組成物層
が、（ａ）下記式（Ｉ）で表される構造単位からなる単
量体の単独及び／又は他のビニル系単量体との共重合体
と、（ｂ）ハロゲン化トリアジン化合物、ジフェニルヨ
ードニウム塩誘導体及びトリフェニルスルホニウム塩誘
導体から選択される化合物とを少なくとも含むことを特
徴とするカラーフィルタの製造方法。 【外２】 （但し、Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2は水素原子又
は炭素数１〜５のアルキル基を表す。） - 【請求項７】 基板に遮光部を有し、該遮光部上のイン
ク吸収性を低下させた組成物層の幅が、遮光部の幅より
小さい請求項６に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項８】 前記（ａ）の重合体１００重量部に対し
て（ｂ）の化合物の量が、０．０１〜１０重量部含まれ
る請求項６に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項９】 請求項１乃至５に記載のカラーフィルタ
と、これに対向する位置に基板を設け、カラーフィルタ
と基板との間に液晶組成物を封入したことを特徴とする
液晶パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28985194A JP2872595B2 (ja) | 1994-07-01 | 1994-11-24 | カラーフィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15087494 | 1994-07-01 | ||
| JP6-150874 | 1994-07-01 | ||
| JP28985194A JP2872595B2 (ja) | 1994-07-01 | 1994-11-24 | カラーフィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0875917A true JPH0875917A (ja) | 1996-03-22 |
| JP2872595B2 JP2872595B2 (ja) | 1999-03-17 |
Family
ID=26480324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28985194A Expired - Fee Related JP2872595B2 (ja) | 1994-07-01 | 1994-11-24 | カラーフィルタの製造方法及び液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2872595B2 (ja) |
Cited By (1)
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| CN101493648A (zh) * | 2008-01-25 | 2009-07-29 | 富士胶片株式会社 | 滤色器及其制造方法以及液晶显示装置 |
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1994
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