JPH0875097A - 圧力調整弁の出流れ防止方法と防止装置 - Google Patents
圧力調整弁の出流れ防止方法と防止装置Info
- Publication number
- JPH0875097A JPH0875097A JP20845194A JP20845194A JPH0875097A JP H0875097 A JPH0875097 A JP H0875097A JP 20845194 A JP20845194 A JP 20845194A JP 20845194 A JP20845194 A JP 20845194A JP H0875097 A JPH0875097 A JP H0875097A
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- Japan
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- gas
- regulating valve
- pressure regulating
- pressurized gas
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高沸点不純物が原因で発生する出流れ現象を
防止する。 【構成】 加圧ガス容器１と圧力調整弁８との中間に冷
却手段７を設けて加圧ガスを冷却し、加圧ガス中に含ま
れる高沸点ガスを液化または固化して分離する。ジボラ
ン混合ガスを使用する半導体製造工場では、出流れ現象
がなくなり不純物である高級ボラン類が除去され、従来
よりも高純度の安定したジボラン混合ガスの供給を受け
られる。
防止する。 【構成】 加圧ガス容器１と圧力調整弁８との中間に冷
却手段７を設けて加圧ガスを冷却し、加圧ガス中に含ま
れる高沸点ガスを液化または固化して分離する。ジボラ
ン混合ガスを使用する半導体製造工場では、出流れ現象
がなくなり不純物である高級ボラン類が除去され、従来
よりも高純度の安定したジボラン混合ガスの供給を受け
られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加圧ガスを減圧使用す
るに際し、圧力調整弁に発生する出流れ現象を防止する
方法および装置に関する。とくに、ジボラン含有加圧ガ
スを供給する際の出流れ現象を防止するのに有効に利用
することができる。
るに際し、圧力調整弁に発生する出流れ現象を防止する
方法および装置に関する。とくに、ジボラン含有加圧ガ
スを供給する際の出流れ現象を防止するのに有効に利用
することができる。
【０００２】
【従来の技術】加圧ガスを圧力調整弁を用いて自由膨脹
させ減圧する際に、ガス温度が降下して圧力調整弁の温
度が下がり、加圧ガス中に含まれる高沸点不純物などが
液化または固化して弁に挟まれ、よって調整弁の安定し
た圧力調整機能を阻害される、いわゆる出流れ現象と称
されるトラブルが発生することがある。たとえば、最
近、半導体製造に多く使用されるようになったジボラン
含有加圧ガスでは、貯蔵中などにジボランが分解重合し
て生成したデカボラン、ヘキサボラン、ペンタボランな
どの高級ボラン類が微量でもガス中に混入すると、ガス
を減圧供給する際の圧力調整弁の温度低下により、高級
ボラン類が液化または固化して弁に挟まり圧力調整弁に
出流れ現象を発生させる。
させ減圧する際に、ガス温度が降下して圧力調整弁の温
度が下がり、加圧ガス中に含まれる高沸点不純物などが
液化または固化して弁に挟まれ、よって調整弁の安定し
た圧力調整機能を阻害される、いわゆる出流れ現象と称
されるトラブルが発生することがある。たとえば、最
近、半導体製造に多く使用されるようになったジボラン
含有加圧ガスでは、貯蔵中などにジボランが分解重合し
て生成したデカボラン、ヘキサボラン、ペンタボランな
どの高級ボラン類が微量でもガス中に混入すると、ガス
を減圧供給する際の圧力調整弁の温度低下により、高級
ボラン類が液化または固化して弁に挟まり圧力調整弁に
出流れ現象を発生させる。
【０００３】この出流れ現象を防止するために、高圧ガ
ス源から供給される高圧ガスを圧力調整弁の通過前に加
熱する特公平６−３３８５８号公報記載の方法や複数の
圧力調整弁を直列に接続して段階的に減圧操作し、各弁
でのガスの温度低下をそれぞれ小幅に止める方法などが
提案されている。
ス源から供給される高圧ガスを圧力調整弁の通過前に加
熱する特公平６−３３８５８号公報記載の方法や複数の
圧力調整弁を直列に接続して段階的に減圧操作し、各弁
でのガスの温度低下をそれぞれ小幅に止める方法などが
提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、加圧ガスを加
熱する方法は、加圧ガスの供給を停止したとき加熱部分
に滞留する加圧ガス、たとえば、ジボランが加熱され分
解重合して高級ボラン類を生成し、出流れ現象の原因に
なったり、重合物として供給ガスに混入するおそれがあ
る。また、段階的減圧を利用する方法でも、過飽和また
は飽和状態に近い高級ボラン類が存在すると、減圧時の
温度低下によって出流れ現象が発生するおそれがある。
本発明は、高沸点化合物が原因で発生する出流れ現象を
根本的に解決すること、さらに、高沸点化合物、たとえ
ば高級ボラン類などの不純物の混入を抑制することを目
的に研究の結果、完成されたものである。
熱する方法は、加圧ガスの供給を停止したとき加熱部分
に滞留する加圧ガス、たとえば、ジボランが加熱され分
解重合して高級ボラン類を生成し、出流れ現象の原因に
なったり、重合物として供給ガスに混入するおそれがあ
る。また、段階的減圧を利用する方法でも、過飽和また
は飽和状態に近い高級ボラン類が存在すると、減圧時の
温度低下によって出流れ現象が発生するおそれがある。
本発明は、高沸点化合物が原因で発生する出流れ現象を
根本的に解決すること、さらに、高沸点化合物、たとえ
ば高級ボラン類などの不純物の混入を抑制することを目
的に研究の結果、完成されたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】従来に提案された出流れ
防止策は、単に減圧による過度の温度低下を防止して、
高沸点化合物の液化や固化を回避する対症療法的な手段
であり、出流れ現象の根本原因は除去されていない。本
発明者は、研究の結果、この問題の発生原因を除去する
ことこそが問題解決に最も有効であるとの結論に達し、
本発明を完成した。
防止策は、単に減圧による過度の温度低下を防止して、
高沸点化合物の液化や固化を回避する対症療法的な手段
であり、出流れ現象の根本原因は除去されていない。本
発明者は、研究の結果、この問題の発生原因を除去する
ことこそが問題解決に最も有効であるとの結論に達し、
本発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、加圧ガスを圧力調整
弁を用い減圧して供給する際に、加圧ガスの出口と圧力
調整弁との中間に冷却手段を設けて供給する加圧ガスを
冷却し、加圧ガス中に含まれる高沸点ガスを液化または
固化して分離し、圧力調整弁の出流れを防止することを
特徴とする、圧力調整弁の出流れ防止方法を提供する。
本発明は、高級ボラン類を高沸点化合物としてガス中に
生成しやすい、ジボラン含有加圧ガスに対し、とくに有
効である。たとえば、１容量％のジボランを含む圧力１
００ｋｇ／ｃｍ2 の室温の窒素を大気圧近くまで断熱自
由膨脹させると、約１８℃の温度降下があり、圧力調整
弁の温度は０℃近くになるものと推定される。このた
め、冷却されて液化または固化した高級ボラン類が圧力
調整弁に挟まれ、出流れ現象が発生する。そこで、加圧
ガスを冷却してあらかじめ高沸点不純物、たとえば、高
級ボラン類を分離、除去し、出流れ現象を防止するので
ある。圧力１００ｋｇ／ｃｍ2 程度のジボラン含有加圧
ガスを減圧する場合には、通常、加圧ガスを−２５℃〜
２５℃の範囲内の適当な温度に冷却するとよい。−２５
℃よりも低い温度では冷却コストが高くなり、また、２
５℃を超えると気体状になって同伴する高級ボラン類に
よる純度低下を無視できなくなるため、ともに好ましく
ない。
弁を用い減圧して供給する際に、加圧ガスの出口と圧力
調整弁との中間に冷却手段を設けて供給する加圧ガスを
冷却し、加圧ガス中に含まれる高沸点ガスを液化または
固化して分離し、圧力調整弁の出流れを防止することを
特徴とする、圧力調整弁の出流れ防止方法を提供する。
本発明は、高級ボラン類を高沸点化合物としてガス中に
生成しやすい、ジボラン含有加圧ガスに対し、とくに有
効である。たとえば、１容量％のジボランを含む圧力１
００ｋｇ／ｃｍ2 の室温の窒素を大気圧近くまで断熱自
由膨脹させると、約１８℃の温度降下があり、圧力調整
弁の温度は０℃近くになるものと推定される。このた
め、冷却されて液化または固化した高級ボラン類が圧力
調整弁に挟まれ、出流れ現象が発生する。そこで、加圧
ガスを冷却してあらかじめ高沸点不純物、たとえば、高
級ボラン類を分離、除去し、出流れ現象を防止するので
ある。圧力１００ｋｇ／ｃｍ2 程度のジボラン含有加圧
ガスを減圧する場合には、通常、加圧ガスを−２５℃〜
２５℃の範囲内の適当な温度に冷却するとよい。−２５
℃よりも低い温度では冷却コストが高くなり、また、２
５℃を超えると気体状になって同伴する高級ボラン類に
よる純度低下を無視できなくなるため、ともに好ましく
ない。
【０００７】さらに、ジボランを含有する加圧ガスに対
しては、加圧ジボラン含有ガスの容器から、圧力調整弁
を用いジボラン含有ガスを減圧して供給する際に、前記
容器を冷却してガス中に含まれる高沸点化合物を容器内
に貯留させ、圧力調整弁の出流れを防止することを特徴
とする、圧力調整弁の出流れ防止方法も有効である。前
記と同様の理由により、ジボラン含有加圧ガスは−２５
℃〜２５℃に冷却するとよい。
しては、加圧ジボラン含有ガスの容器から、圧力調整弁
を用いジボラン含有ガスを減圧して供給する際に、前記
容器を冷却してガス中に含まれる高沸点化合物を容器内
に貯留させ、圧力調整弁の出流れを防止することを特徴
とする、圧力調整弁の出流れ防止方法も有効である。前
記と同様の理由により、ジボラン含有加圧ガスは−２５
℃〜２５℃に冷却するとよい。
【０００８】また、ジボラン含有加圧ガスの容器のガス
出口とガス出口に接続される減圧用の圧力調整弁との間
に装着され、かつ、ガス出口から圧力調整弁へ流れるジ
ボラン含有加圧ガスを冷却する装置と、流れるガスの温
度を少なくとも−２５℃〜２５℃の範囲の任意の温度に
制御することのできる温度制御装置とからなることを特
徴とする、圧力調整弁の出流れ防止装置を提供する。冷
却装置には、ペルチエ効果を利用する電子冷却装置が好
適である。
出口とガス出口に接続される減圧用の圧力調整弁との間
に装着され、かつ、ガス出口から圧力調整弁へ流れるジ
ボラン含有加圧ガスを冷却する装置と、流れるガスの温
度を少なくとも−２５℃〜２５℃の範囲の任意の温度に
制御することのできる温度制御装置とからなることを特
徴とする、圧力調整弁の出流れ防止装置を提供する。冷
却装置には、ペルチエ効果を利用する電子冷却装置が好
適である。
【０００９】
【作用と実施態様例】本発明を図面を参照しながら、実
施態様例をあげて説明する。図１は、本発明のうち、加
圧ガス容器１のガス出口２と圧力調整弁８との間に、冷
却手段３を設けた実施態様例を示すフローシートであ
る。本発明、とくに本方式を採用する場合には、加圧ガ
ス容器１の形状や容量に制限はない。加圧ガス容器１内
の加圧ガスは、ガス出口２を経て、冷却手段３である、
冷却恒温槽７内に設けた高沸点不純物の分離器４に導か
れる。分離器４には、必要に応じ出入弁５および６を取
付けておく。分離器４の形状に制限はなく、ガス冷却に
適当な筒状容器、管状コイルなどを使用する。冷却方式
に制限はないが、温度制御が容易な、ペルチエ効果を利
用する電子冷却恒温槽が好ましい。通常、断熱自由膨脹
によって降下する温度はさほど大きいものではなく、気
体の熱容量も小さいので、本発明に使用する冷却手段は
簡易な装置で足りる。たとえば、一般的に多く使用され
ている圧力１００ｋｇ／ｃｍ2 程度のジボラン−窒素混
合ガスを、１段で常圧まで減圧した場合に生じる温度降
下は約２０℃であって、圧力調整弁の出流れ防止には、
加圧ガスを約２０℃冷却すればよい。したがって、ジボ
ラン含有加圧ガスを一般的な条件で減圧する場合、冷却
温度は、加圧ガスの圧力や温度などにもとづいて設定さ
れ、本発明を制限するものではないが、−２５℃〜２５
℃、好ましくは、−２０℃〜２０℃の範囲に調整制御す
る。温度制御装置には公知の手段を用いればよい。対象
となるジボラン含有加圧ガスは、通常、０．０１〜３０
容量％、多くの場合、０．１〜１０容量％のジボランを
含む、圧力１０〜１５０ｋｇ／ｃｍ2 の不活性ガス、た
とえば窒素またはアルゴンなどがあげられる。減圧ガス
は、減圧配管９から安定して供給される。
施態様例をあげて説明する。図１は、本発明のうち、加
圧ガス容器１のガス出口２と圧力調整弁８との間に、冷
却手段３を設けた実施態様例を示すフローシートであ
る。本発明、とくに本方式を採用する場合には、加圧ガ
ス容器１の形状や容量に制限はない。加圧ガス容器１内
の加圧ガスは、ガス出口２を経て、冷却手段３である、
冷却恒温槽７内に設けた高沸点不純物の分離器４に導か
れる。分離器４には、必要に応じ出入弁５および６を取
付けておく。分離器４の形状に制限はなく、ガス冷却に
適当な筒状容器、管状コイルなどを使用する。冷却方式
に制限はないが、温度制御が容易な、ペルチエ効果を利
用する電子冷却恒温槽が好ましい。通常、断熱自由膨脹
によって降下する温度はさほど大きいものではなく、気
体の熱容量も小さいので、本発明に使用する冷却手段は
簡易な装置で足りる。たとえば、一般的に多く使用され
ている圧力１００ｋｇ／ｃｍ2 程度のジボラン−窒素混
合ガスを、１段で常圧まで減圧した場合に生じる温度降
下は約２０℃であって、圧力調整弁の出流れ防止には、
加圧ガスを約２０℃冷却すればよい。したがって、ジボ
ラン含有加圧ガスを一般的な条件で減圧する場合、冷却
温度は、加圧ガスの圧力や温度などにもとづいて設定さ
れ、本発明を制限するものではないが、−２５℃〜２５
℃、好ましくは、−２０℃〜２０℃の範囲に調整制御す
る。温度制御装置には公知の手段を用いればよい。対象
となるジボラン含有加圧ガスは、通常、０．０１〜３０
容量％、多くの場合、０．１〜１０容量％のジボランを
含む、圧力１０〜１５０ｋｇ／ｃｍ2 の不活性ガス、た
とえば窒素またはアルゴンなどがあげられる。減圧ガス
は、減圧配管９から安定して供給される。
【００１０】本発明では、加圧ジボラン含有ガスの容器
から、圧力調整弁を用いジボラン含有加圧ガスを減圧し
て供給する際に、図２に実施態様例として示すように、
加圧ガス容器２１を、冷却槽２３に入れたり、冷却コイ
ルを巻き付けたりするなどして冷却し、ガス中に含まれ
る高沸点化合物を容器２１内に貯留させてもよい。ガス
出口から導出された加圧ガスは、高沸点化合物がすでに
除去されているので、圧力調整弁で出流れを生じること
なく、減圧ガス配管２５から導出される。市販の小さな
ジボラン含有加圧ガス容器を使用するときに、大した設
備を要せず手軽に実施できる有効な方法である。
から、圧力調整弁を用いジボラン含有加圧ガスを減圧し
て供給する際に、図２に実施態様例として示すように、
加圧ガス容器２１を、冷却槽２３に入れたり、冷却コイ
ルを巻き付けたりするなどして冷却し、ガス中に含まれ
る高沸点化合物を容器２１内に貯留させてもよい。ガス
出口から導出された加圧ガスは、高沸点化合物がすでに
除去されているので、圧力調整弁で出流れを生じること
なく、減圧ガス配管２５から導出される。市販の小さな
ジボラン含有加圧ガス容器を使用するときに、大した設
備を要せず手軽に実施できる有効な方法である。
【００１１】
【実施例】以下に本発明の実施例及び比較例を挙げ、本
発明を具体的に説明する。
発明を具体的に説明する。
【００１２】加圧ガス容器中のジボラン１容量％を含有
する圧力９５ｋｇ／ｃｍ2 の窒素を本発明を利用して
０．５ｋｇ／ｃｍ2 Ｇに１段で減圧した。加圧ガス容器
は室温（約２０℃）で保持され、ほぼ飽和状態に近いデ
カボランが含まれていた。本実施例では、加圧ガス容器
のガス出口に内径５ｍｍ長さ４ｍのＳＵＳ３１６Ｌ管の
一端を接続し、中央部をコイル構造として冷却部とし、
冷却用の恒温槽内に設置した。恒温槽には電子冷却を用
いて冷却した冷気を導入した。恒温槽から導出した管の
他端には、半導体製造に多く使用されているダイヤフラ
ム式圧力調整弁を接続した。ガス温度は約２０℃降下す
ると推定されたので恒温槽の温度を０℃に保持した。圧
力調整弁の２次側圧力を０．５ｋｇ／ｃｍ2 Ｇに設定
し、４Ｎリットル／分の流量で減圧した。約１００分
間、連続操作したが、出流れ現象はまったく発生せず、
安定して減圧ガスを供給することができた。
する圧力９５ｋｇ／ｃｍ2 の窒素を本発明を利用して
０．５ｋｇ／ｃｍ2 Ｇに１段で減圧した。加圧ガス容器
は室温（約２０℃）で保持され、ほぼ飽和状態に近いデ
カボランが含まれていた。本実施例では、加圧ガス容器
のガス出口に内径５ｍｍ長さ４ｍのＳＵＳ３１６Ｌ管の
一端を接続し、中央部をコイル構造として冷却部とし、
冷却用の恒温槽内に設置した。恒温槽には電子冷却を用
いて冷却した冷気を導入した。恒温槽から導出した管の
他端には、半導体製造に多く使用されているダイヤフラ
ム式圧力調整弁を接続した。ガス温度は約２０℃降下す
ると推定されたので恒温槽の温度を０℃に保持した。圧
力調整弁の２次側圧力を０．５ｋｇ／ｃｍ2 Ｇに設定
し、４Ｎリットル／分の流量で減圧した。約１００分
間、連続操作したが、出流れ現象はまったく発生せず、
安定して減圧ガスを供給することができた。
【００１３】さらに、比較のために同じ装置を用い同じ
条件で、ただし、冷却部を冷却せず室温に保持したまま
で減圧操作を実施したところ、減圧操作を始めて約３分
後には２次側の圧力が不安定になり、圧力のハンチング
が発生した。また、これらの操作中に、恒温槽からの出
口近くでガスをサンプリングし、デカボラン濃度を測定
した。その結果、冷却管を０℃に保持したときのデカボ
ラン濃度は、室温に保持したときの約１／５に減少して
いることが判った。
条件で、ただし、冷却部を冷却せず室温に保持したまま
で減圧操作を実施したところ、減圧操作を始めて約３分
後には２次側の圧力が不安定になり、圧力のハンチング
が発生した。また、これらの操作中に、恒温槽からの出
口近くでガスをサンプリングし、デカボラン濃度を測定
した。その結果、冷却管を０℃に保持したときのデカボ
ラン濃度は、室温に保持したときの約１／５に減少して
いることが判った。
【００１４】次に、前記の加圧ガス容器そのものを恒温
槽に入れて減圧弁に接続し、内部の温度が０℃になるま
で冷却した後、前記と同じ条件で約１００分間、減圧操
作を実施した。この間、出流れ現象はまったく発生せ
ず、安定して減圧ガスを供給することができた。
槽に入れて減圧弁に接続し、内部の温度が０℃になるま
で冷却した後、前記と同じ条件で約１００分間、減圧操
作を実施した。この間、出流れ現象はまったく発生せ
ず、安定して減圧ガスを供給することができた。
【００１５】
【発明の効果】本発明を利用すれば、加圧ガスを減圧す
る際の高沸点化合物に起因する出流れ現象が効果的に防
止され、安定した減圧ガスを供給することができる。し
かも本発明では不純物である高沸点化合物が除去される
ので、減圧ガスの純度が向上するという効果をも奏す
る。たとえば、ジボラン混合ガスを使用する半導体製造
工場では、出流れ現象がなくなり不純物である高級ボラ
ン類が除去され、従来よりも高純度の安定したジボラン
混合ガスの供給を受けられるという効果がある。
る際の高沸点化合物に起因する出流れ現象が効果的に防
止され、安定した減圧ガスを供給することができる。し
かも本発明では不純物である高沸点化合物が除去される
ので、減圧ガスの純度が向上するという効果をも奏す
る。たとえば、ジボラン混合ガスを使用する半導体製造
工場では、出流れ現象がなくなり不純物である高級ボラ
ン類が除去され、従来よりも高純度の安定したジボラン
混合ガスの供給を受けられるという効果がある。
【図１】 本発明の実施態様例を示すフローシート
【図２】 本発明の実施態様例を示すフローシート
１：加圧ガス容器 ２：ガス出口 ３：冷却手段 ４：高沸点不純物の分離器 ５：出入弁 ６：出入
弁 ７：冷却恒温槽（冷却手段） ８：圧力調整弁 ９：
減圧ガス配管 ２１：加圧ガス容器 ２２：ガス出口 ２３：冷却
恒温槽（冷却手段） ２４：圧力調整弁 ２５：減圧ガス配管
弁 ７：冷却恒温槽（冷却手段） ８：圧力調整弁 ９：
減圧ガス配管 ２１：加圧ガス容器 ２２：ガス出口 ２３：冷却
恒温槽（冷却手段） ２４：圧力調整弁 ２５：減圧ガス配管
Claims (6)
- 【請求項１】加圧ガスを圧力調整弁を用い減圧して供給
する際に、加圧ガスの出口と圧力調整弁との中間に冷却
手段を設けて供給する加圧ガスを冷却し、加圧ガス中に
含まれる高沸点ガスを液化または固化して分離し、圧力
調整弁の出流れを防止することを特徴とする、圧力調整
弁の出流れ防止方法。 - 【請求項２】加圧ガスがジボランを含有する加圧ガスで
あることを特徴とする、請求項１記載の圧力調整弁の出
流れ防止方法。 - 【請求項３】加圧ジボラン含有ガスの容器から、圧力調
整弁を用いジボラン含有ガスを減圧して供給する際に、
前記容器を冷却してガス中に含まれる高沸点化合物を容
器内に貯留させ、圧力調整弁の出流れを防止することを
特徴とする、圧力調整弁の出流れ防止方法。 - 【請求項４】ジボラン含有加圧ガスを−２５℃〜２５℃
に冷却することを特徴とする、請求項２または３記載の
圧力調整弁の出流れ防止方法。 - 【請求項５】ジボラン含有加圧ガスの容器のガス出口と
ガス出口に接続される減圧用の圧力調整弁との間に装着
され、かつ、ガス出口から圧力調整弁へ流れるジボラン
含有加圧ガスを冷却する装置と、流れるガスの温度を少
なくとも−２５℃〜２５℃の範囲の任意の温度に制御す
ることのできる温度制御装置とからなることを特徴とす
る、圧力調整弁の出流れ防止装置。 - 【請求項６】電子冷却装置を冷却装置に利用することを
特徴とする、請求項５記載の加圧ガスの圧力調整弁の出
流れ防止装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20845194A JPH0875097A (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | 圧力調整弁の出流れ防止方法と防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20845194A JPH0875097A (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | 圧力調整弁の出流れ防止方法と防止装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0875097A true JPH0875097A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=16556420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20845194A Pending JPH0875097A (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | 圧力調整弁の出流れ防止方法と防止装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0875097A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3188214A1 (en) * | 2015-12-29 | 2017-07-05 | Praxair Technology, Inc. | Boron-containing dopant compositions, systems and methods of use thereof for improving ion beam current and performance during boron ion implantation |
| JP2017120755A (ja) * | 2014-03-03 | 2017-07-06 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | ホウ素イオン注入中のイオン・ビーム電流及びパフォーマンスを向上させるためのホウ素含有ドーパント組成物、システム及びこれらの使用方法 |
| JP2020070838A (ja) * | 2018-10-30 | 2020-05-07 | 大陽日酸株式会社 | 高純度原料ガス供給方法、及び高純度原料ガス供給設備 |
-
1994
- 1994-09-01 JP JP20845194A patent/JPH0875097A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017120755A (ja) * | 2014-03-03 | 2017-07-06 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | ホウ素イオン注入中のイオン・ビーム電流及びパフォーマンスを向上させるためのホウ素含有ドーパント組成物、システム及びこれらの使用方法 |
| CN106935465A (zh) * | 2014-03-03 | 2017-07-07 | 普莱克斯技术有限公司 | 用于改善在硼离子注入期间离子束电流和性能的含硼掺杂剂组合物、系统和其使用方法 |
| EP3188214A1 (en) * | 2015-12-29 | 2017-07-05 | Praxair Technology, Inc. | Boron-containing dopant compositions, systems and methods of use thereof for improving ion beam current and performance during boron ion implantation |
| JP2020070838A (ja) * | 2018-10-30 | 2020-05-07 | 大陽日酸株式会社 | 高純度原料ガス供給方法、及び高純度原料ガス供給設備 |
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