JPH0868907A - Difraction grating and its forming method - Google Patents
Difraction grating and its forming methodInfo
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- JPH0868907A JPH0868907A JP20632994A JP20632994A JPH0868907A JP H0868907 A JPH0868907 A JP H0868907A JP 20632994 A JP20632994 A JP 20632994A JP 20632994 A JP20632994 A JP 20632994A JP H0868907 A JPH0868907 A JP H0868907A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、高屈折率層と低屈折率
層からなるホログラムによる回折格子、又は高屈折率膜
と低屈折率膜からなる多層膜による回折格子であって、
透明でかつ高回折効率が得られる回折格子に関し、自動
車用の表示、熱線反射膜等に使用される回折格子に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hologram diffraction grating composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer, or a diffraction grating composed of a multilayer film composed of a high refractive index film and a low refractive index film,
The present invention relates to a transparent diffraction grating having high diffraction efficiency, and to a diffraction grating used for automobile displays, heat ray reflective films, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】回折格子には、干渉縞を形成したもの、
即ちホログラムによるものと、2種類の屈折率の異なる
物質を交互に積層することによるものとがある。2. Description of the Related Art A diffraction grating having interference fringes formed thereon,
That is, there is a hologram and a method in which two kinds of substances having different refractive indexes are alternately laminated.
【0003】ホログラムによる回折格子の場合、従来、
ホログラム材料として、漂白銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、フォトポリマ、フォトレジスト、サーモプラスチッ
ク、無機ガラス、強誘電体など多くの材料が提案されて
いる。この中で、漂白銀塩および重クロム酸ゼラチンは
ある程度まで実用化の域に達しているが、それでも漂白
銀塩はホログラムにノイズが多く、また、通常の処理に
加えて漂白処理が必要である。また、漂白銀塩は耐湿
性、耐光性などの耐久性に劣るという問題がある。ま
た、重クロム酸ゼラチンは高い屈折率変調すなわち高い
回折効率を得ることができ、解像性が高く、また、透明
性が高いなど、優れたホログラム特性を示すもののホロ
グラムの耐湿性が悪く、保存安定性や製造安定性での欠
陥が指摘されている。In the case of a diffraction grating using a hologram, conventionally,
Many materials such as bleached silver salts, dichromated gelatin, photopolymers, photoresists, thermoplastics, inorganic glasses, and ferroelectrics have been proposed as hologram materials. Of these, bleached silver salts and dichromated gelatin have reached the level of practical use to some extent, but bleached silver salts still have a lot of noise in the hologram, and bleaching is required in addition to normal processing. . Further, the bleached silver salt has a problem that it is inferior in durability such as moisture resistance and light resistance. In addition, dichromated gelatin has excellent hologram characteristics such as high refractive index modulation, that is, high diffraction efficiency, high resolution, and high transparency, but the hologram has poor moisture resistance and storage. Defects in stability and manufacturing stability have been pointed out.
【0004】そこで、最近は有機材料を用いた多くの材
料が提案されている。有機材料を用いた材料は光架橋反
応を利用した材料と光重合反応を利用した材料に大別す
ることができる。光架橋反応を利用した材料では、特開
昭53−15153号等でカルバゾール環を含む重合体
とハロゲン含有化合物からなる材料が提案されている。
例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾールと四沃化炭素か
らなる膜厚4μmの感光膜をホログラム露光した後、溶
剤処理を施すことで90%の高い回折効率が得られてい
る。Therefore, recently, many materials using organic materials have been proposed. The material using an organic material can be roughly classified into a material utilizing a photocrosslinking reaction and a material utilizing a photopolymerization reaction. As a material utilizing a photocrosslinking reaction, a material composed of a polymer containing a carbazole ring and a halogen-containing compound has been proposed in JP-A-53-15153.
For example, a hologram film is exposed to a photosensitive film made of poly-N-vinylcarbazole and carbon tetraiodide and having a thickness of 4 μm, and then a solvent treatment is performed to obtain a high diffraction efficiency of 90%.
【0005】また、光重合反応を利用した材料でも多く
の材料が提案されている。例えば、特開平2−2161
80号公報では、ポリ−N−ビニルカルバゾール、多官
能性モノマおよび光重合開始剤からなる材料が提案され
ており、例えば、多官能モノマとしてトリス(アクリロ
イルオキシエチル)イソシアヌレート、重合開始剤とし
て3,3’,4,4’−〔テトラ(t−ブチルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン〕および3,3’−カル
ボニビス(7−ジエチルアミノクマリン)を用いた膜厚
9μmの感光膜をホログラム露光し、溶剤処理すること
で約80%の回折効率を得ている。Many materials have been proposed as materials utilizing photopolymerization reaction. For example, JP-A-2-2161
In Japanese Patent Publication No. 80, a material composed of poly-N-vinylcarbazole, a polyfunctional monomer and a photopolymerization initiator is proposed. For example, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate as a polyfunctional monomer and 3 as a polymerization initiator. , 3 ′, 4,4 ′-[Tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone] and 3,3′-carbonibis (7-diethylaminocoumarin) were subjected to hologram exposure of a photosensitive film having a thickness of 9 μm, and subjected to solvent treatment. By doing so, a diffraction efficiency of about 80% is obtained.
【0006】また、特公昭60−502125号では、
エチレン性不飽和単量体と増感剤および分枝鎖状ポリエ
チレンイミンからなる材料が提案されており、例えば、
バインダとしてポリ−N−ビニルピロリドン、不飽和単
量体としてLiアクリレート、感光剤として分枝状ポリ
エチレンイミンおよびメチレンブルー等からなる膜厚5
μmの感光膜をホログラム露光した後、溶剤処理するこ
とで約60%の回折効率を得ている。In Japanese Patent Publication No. 60-502125,
A material composed of an ethylenically unsaturated monomer, a sensitizer and a branched polyethyleneimine has been proposed.
A film thickness of poly-N-vinylpyrrolidone as a binder, Li acrylate as an unsaturated monomer, branched polyethyleneimine and methylene blue as a photosensitizer, etc. 5
After the hologram exposure of the photosensitive film having a thickness of μm, a solvent treatment is performed to obtain a diffraction efficiency of about 60%.
【0007】これらの材料は、屈折率変調を実現するた
めに溶剤浸漬という湿式の現像処理が必須であるが、一
方では溶剤に浸漬する工程を要しない材料も提案されて
いる。米国特許第3,694,218号では、金属アク
リレート等のエチレン性不飽和単量体と光重合開始剤か
らなる材料が提案されており、金属アクリレートとして
バリウムアクリレート等を、重合開始剤としてトルエン
スルホン酸ナトリウム塩等を用いた液状の材料を10〜
20μmのガラス板間に封入し、これにホログラム露光
することで、3%程度の回折効率を得ている。[0007] For these materials, a wet development process called immersion in a solvent is indispensable in order to realize the refractive index modulation, but on the other hand, materials which do not require a step of immersion in a solvent have been proposed. U.S. Pat. No. 3,694,218 proposes a material comprising an ethylenically unsaturated monomer such as a metal acrylate and a photopolymerization initiator. Barium acrylate is used as the metal acrylate and toluene sulfone is used as the polymerization initiator. Liquid materials using sodium acid salt, etc.
By enclosing it between glass plates of 20 μm and hologram-exposing it, a diffraction efficiency of about 3% is obtained.
【0008】また、米国特許第3,658,526号で
は、100℃以上の沸点を有するエチレン性不飽和単量
体とバインダおよびフリーラジカル重合開始剤を用いた
材料が提案されており、エチレン性不飽和単量体とし
て、トリエチレングリコールジアクリレート、バインダ
としてセルロースアセテートブチレート、重合開始剤と
してイミダゾイルダイマ化合物を用いた材料を露光する
ことでホログラムを製造している。US Pat. No. 3,658,526 proposes a material using an ethylenically unsaturated monomer having a boiling point of 100 ° C. or higher, a binder and a free radical polymerization initiator. A hologram is produced by exposing a material using triethylene glycol diacrylate as an unsaturated monomer, cellulose acetate butyrate as a binder, and an imidazoyl dimer compound as a polymerization initiator.
【0009】また、特開平2−3081号公報では、バ
インダをセルロースアセテートブチレート、エチレン性
不飽和モノマを2−フェノキシエチルアクリレートとN
−ビニルカルバゾールの混合物とし、膜厚10μmの感
光膜で回折効率53%を得ている。Further, in JP-A-2-3081, a binder is cellulose acetate butyrate, and an ethylenically unsaturated monomer is 2-phenoxyethyl acrylate and N.
As a mixture of vinylcarbazole, a photosensitive film having a film thickness of 10 μm has a diffraction efficiency of 53%.
【0010】更に、特開平3−36582号公報では、
アリルジグリコールカーボネートと、2,2−ビス
〔3,5−ジブロモ−4−(2−メタクリロイルオキシ
エトキシ)フェニル〕プロパンおよび光重合開始剤から
なる材料をガラス板の間に挟み、加熱後に露光すること
で40%程度の回折効率を得ている。Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 3-36582,
A material consisting of allyl diglycol carbonate, 2,2-bis [3,5-dibromo-4- (2-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane and a photopolymerization initiator is sandwiched between glass plates and exposed after heating. The diffraction efficiency is about 40%.
【0011】このように、各種のホログラム材料が提案
されているものの、現状では屈折率変調強度やホログラ
ム膜の透明性等のホログラム特性の点で重クロム酸ゼラ
チンに匹敵するような特性を示す材料はなく、従来のホ
ログラム材料は依然として改良すべき点を残している。As described above, although various hologram materials have been proposed, at present, materials exhibiting characteristics comparable to those of dichromated gelatin in terms of hologram characteristics such as refractive index modulation strength and transparency of hologram film. However, the conventional hologram material still has some points to be improved.
【0012】また、2種類の屈折率の相違する物質層を
交互に積層することにより得られる回折格子の場合、従
来、低屈折率膜として弗素含有樹脂〔例えば旭化成
(株)製の商品名「サイトップ」等、屈折率1.34〕
や弗化マグネシウム(MgF2 、屈折率1.38)等の
化合物が使用されているが、屈折率は高々1.3程度で
あり、これより低いものを得ることはできなかった。Further, in the case of a diffraction grating obtained by alternately laminating two kinds of material layers having different refractive indexes, a fluorine-containing resin [eg, a product name of Asahi Kasei Co., Ltd. CYTOP, etc., refractive index 1.34]
Compounds such as magnesium fluoride (MgF 2 , refractive index 1.38) and the like are used, but the refractive index is at most about 1.3, and it was not possible to obtain a lower one.
【0013】また、それらの超微粒子を樹脂中に分散さ
せた超微粒子分散系材料では、その屈折率はマグネシウ
ム材料の屈折率と超微粒子の屈折率との中間の値しかと
ることができず、フッ化マグネシウムの超微粒子を用い
ても、1.38以下の値をとることはできない。Further, in the ultrafine particle dispersed material in which the ultrafine particles are dispersed in the resin, the refractive index thereof can take only a value between the refractive index of the magnesium material and the refractive index of the ultrafine particles, Even if ultrafine particles of magnesium fluoride are used, a value of 1.38 or less cannot be obtained.
【0014】[0014]
【発明が解決しようとする課題】ホログラムによる回折
格子の場合、従来の湿式材料(漂白銀塩、重クロム酸ゼ
ラチンあるいは現像工程が必要なフトポリマー等)は、
屈折率変調強度が大きいという長所を有するが、空隙の
大きさの安定性、再現性、直径分布の制御が困難であ
り、また、ノイズが多くホログラムの膜の透明性が悪
い、或いは重クロムゼラチンは透明性は良いが、耐湿性
や保存安定性が悪いという問題がある。従来の乾式材料
(現像工程が不要で、モノマーの拡散により屈折率分布
が得られる)は、透明性、耐湿性、保存安定性に優れて
いるが、有機化合物の屈折率差によりなるため、屈折率
変調強度は小さいという問題を有する。In the case of a hologram diffraction grating, conventional wet materials (bleached silver salt, dichromated gelatin or futopolymer requiring a developing step) are
Although it has the advantage that the refractive index modulation intensity is large, it is difficult to control the stability of the size of voids, reproducibility, and the diameter distribution, and there is a lot of noise, and the transparency of the hologram film is poor, or heavy chromium gelatin. Has good transparency, but has a problem of poor moisture resistance and storage stability. Conventional dry materials (which do not require a development process and can obtain a refractive index distribution by diffusing a monomer) have excellent transparency, moisture resistance, and storage stability. There is a problem that the rate modulation intensity is small.
【0015】また、多層膜による回折格子の場合には、
低屈折率膜、高屈折率膜との屈折率差が大きいほど、高
回折効率を得られ、低屈折率膜を空気の屈折率(=1)
に近づけるほどその効果は大きい。そのためには、従来
にない低い屈折率を持つ材料が必要とされている。Further, in the case of a diffraction grating formed of a multilayer film,
The larger the difference in refractive index between the low refractive index film and the high refractive index film, the higher the diffraction efficiency, and the lower the refractive index film, the higher the refractive index of air (= 1).
The closer to, the greater the effect. For that purpose, a material having a low refractive index which has never been obtained is required.
【0016】本発明は、第1に、光重合反応を利用した
系で、空隙の大きさが安定で、再現性がよく、直径分布
を均一とでき、かつ屈折率変調強度が大きく、透明性、
耐湿性、保存安定性等に優れたホログラムによる回折格
子を提供することを課題とする。The present invention is, firstly, a system utilizing a photopolymerization reaction, in which the size of voids is stable, the reproducibility is good, the diameter distribution can be made uniform, the refractive index modulation strength is large, and the transparency is high. ,
It is an object of the present invention to provide a hologram diffraction grating having excellent moisture resistance and storage stability.
【0017】また、本発明は、第2に、従来にない透明
でかつ高回折効率を得ることを可能にする多層膜による
回折格子を提供することを課題とする。A second object of the present invention is to provide a diffraction grating having a multilayer film which is transparent and has a high diffraction efficiency which has never been obtained.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明は、ホログラムに
よる回折格子の場合、現像により未重合モノマーを除去
し屈折率差を得る(湿式)方式や、重合時のモノマーの
拡散により屈折率分布を得る(乾式)方式に代わり、干
渉縞の暗部あるいは明部に、中空粒子を存在させること
により、従来のホログラムよりも透明でかつ高回折効率
の回折格子が得られることを見いだし、本発明を完成し
たものである。According to the present invention, in the case of a hologram diffraction grating, a non-polymerized monomer is removed by development to obtain a refractive index difference (wet type), or a refractive index distribution is obtained by diffusion of a monomer during polymerization. The present invention was completed by discovering that a hollow particle is present in the dark part or the bright part of the interference fringes instead of the obtained (dry) method, and that a diffraction grating that is more transparent and has higher diffraction efficiency than conventional holograms can be obtained. It was done.
【0019】また、本発明は、多層膜による回折格子の
場合も同様で、低屈折率膜のマトリクス材料中に超微粒
子の代わりに中空粒子を分散させることにより、マトリ
クス材料より低い屈折率が得られ、高屈折率膜との屈折
率差が大きく得られることにより、透明でかつ高回折効
率の回折格子が得られることを見いだし、本発明を完成
したものである。The present invention is also applicable to a diffraction grating formed of a multilayer film. By dispersing hollow particles instead of ultrafine particles in the matrix material of the low refractive index film, a refractive index lower than that of the matrix material can be obtained. The inventors have found that a transparent diffraction grating having a high diffraction efficiency can be obtained by obtaining a large difference in refractive index from the high refractive index film, thus completing the present invention.
【0020】即ち、本発明の第1の回折格子は、高屈折
率層と低屈折率層からなるホログラムであって、高屈折
率層と低屈折率層とが中空粒子の疎密により形成された
ものであり、該中空粒子の最大断面積の直径が、可視光
波長以下であることを特徴とする。That is, the first diffraction grating of the present invention is a hologram composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer, and the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed by sparse and dense hollow particles. The diameter of the maximum cross-sectional area of the hollow particles is equal to or less than the visible light wavelength.
【0021】また、その低屈折率層が、ホログラム記録
時における干渉光が弱め合う部分であることを特徴とす
る。Further, the low refractive index layer is a portion where the interference lights at the time of hologram recording are weakened.
【0022】また、その低屈折率層が、ホログラム記録
時における干渉光が強め合う部分であることを特徴とす
る。Further, the low refractive index layer is a portion where the interference lights during hologram recording are mutually strengthened.
【0023】本発明の第2の回折格子は、高屈折率膜と
低屈折率膜とを積層した多層膜であって、低屈折率膜が
中空粒子を含有し、かつ該中空粒子の最大断面積の直径
が、可視光波長以下であることを特徴とする。The second diffraction grating of the present invention is a multilayer film in which a high refractive index film and a low refractive index film are laminated, wherein the low refractive index film contains hollow particles and the maximum cutoff of the hollow particles. The diameter of the area is less than or equal to the visible light wavelength.
【0024】また、その高屈折率膜が、低屈折率膜上に
コーティングにより積層されたものであることを特徴と
する。Further, the high refractive index film is characterized by being laminated on the low refractive index film by coating.
【0025】また、その高屈折率膜が、低屈折率膜上に
押出し成形により積層されたものであることを特徴とす
る。Further, the high refractive index film is characterized by being laminated on the low refractive index film by extrusion molding.
【0026】また、上記の第1及び第2の回折格子ピッ
チが200〜700nmであることを特徴とする。Further, the above-mentioned first and second diffraction grating pitches are characterized in that they are 200 to 700 nm.
【0027】また、上記の第1及び第2の回折格子にお
ける中空粒子の形状が扁平球状であって、その短軸方向
を回折格子の膜厚方向と同一方向として存在することを
特徴とする。Further, the hollow particles in the first and second diffraction gratings have a shape of a flat sphere, and the minor axis direction thereof is present in the same direction as the film thickness direction of the diffraction grating.
【0028】また、本発明の第1の回折格子における第
1の形成方法は、中空粒子、光重合性モノマー、バイン
ダーボリマー、光重合開始剤からなる記録媒体にレーザ
ー光を干渉縞を形成するように照射し、干渉光が強め合
う部分における光重合性モノマーを重合させて中空粒子
を干渉光が弱め合う部分に拡散移動させた後、後露光
し、干渉光が弱め合う部分を重合させ、干渉光が強め合
う部分を高屈折率層とし、干渉光が弱め合う部分を低屈
折率層とすることを特徴とする。In the first method for forming the first diffraction grating of the present invention, laser light interference fringes are formed on a recording medium composed of hollow particles, a photopolymerizable monomer, a binder polymer and a photopolymerization initiator. As such, the photopolymerizable monomer in the portion where the interference light strengthens is polymerized to cause the hollow particles to diffuse and move to the portion where the interference light weakens, after-exposure, and the portion where the interference light weakens is polymerized, The high refractive index layer is a portion where the interference light is strengthened, and the low refractive index layer is a portion where the interference light is weakened.
【0029】また、本発明の第1の回折格子の第2の形
成方法は、中空粒子、光重合性モノマー、バインダーボ
リマー、光重合開始剤からなり、該中空粒子がその外側
に光重合性官能基を有する中空粒子である記録媒体に、
レーザー光を干渉縞を形成するように照射し、干渉光が
強め合う部分における光重合性モノマーと中空粒子にお
ける光重合性官能基とを重合させて中空粒子を干渉光が
強め合う部分に拡散移動させた後、後露光し、干渉光が
弱め合う部分における光重合性モノマーを重合させ、干
渉光が強め合う部分を低屈折率層とし、干渉光が弱め合
う部分を高屈折率層とすることを特徴とする。The second method for forming the first diffraction grating of the present invention comprises hollow particles, a photopolymerizable monomer, a binder polymer, and a photopolymerization initiator, and the hollow particles are photopolymerizable on the outside. The recording medium is a hollow particle having a functional group,
Irradiate laser light so as to form interference fringes, polymerize the photopolymerizable monomer in the area where the interference light strengthens with the photopolymerizable functional group in the hollow particles, and diffuse and move the hollow particles to the area where the interference light strengthens. After that, post-exposure to polymerize the photopolymerizable monomer in the part where the interference light weakens, and make the part where the interference light strengthens a low refractive index layer, and the part where the interference light weakens a high refractive index layer. Is characterized by.
【0030】また、本発明の第1の回折格子の第3の形
成方法は、中空粒子、バインダーポリマー、光重合開始
剤からなり、該中空粒子がその外側に光重合性官能基を
有する中空粒子である記録媒体にレーザー光を干渉縞を
形成するように照射し、干渉光が強め合う部分において
中空粒子における光重合性官能基相互を重合させ、中空
粒子を干渉光が強め合う部分に拡散移動させ、干渉光が
強め合う部分を低屈折率層とし、干渉光が弱め合う部分
を高屈折率層とすることを特徴とする。The third method of forming the first diffraction grating of the present invention comprises hollow particles, a binder polymer and a photopolymerization initiator, the hollow particles having a photopolymerizable functional group on the outside thereof. The recording medium is irradiated with laser light so as to form interference fringes, and the photopolymerizable functional groups in the hollow particles are polymerized at the portions where the interference lights are strengthened, and the hollow particles are diffused and moved to the portions where the interference lights are strengthened. It is characterized in that the portion where the interference light is strengthened is a low refractive index layer and the portion where the interference light is weakened is a high refractive index layer.
【0031】また、上記の第1の回折格子の形成方法に
おいて、中空粒子がその中に充填物を有しており、回折
格子形成後に中空粒子中の充填物が選択的に除去され、
中空粒子とされることができる。In the above first method for forming a diffraction grating, the hollow particles have a filling material therein, and after the diffraction grating is formed, the filling material in the hollow particles is selectively removed,
It can be a hollow particle.
【0032】本発明の第1の回折格子及びその形成方法
について説明する。The first diffraction grating of the present invention and the method for forming the same will be described.
【0033】本発明における中空粒子は、乳化重合によ
り得られるその粒子径がサブミクロンオーダーの中空ポ
リマー粒子であり、その最大断面積の直径が、可視光波
長以下、即ち、300nm以下、好ましくは10nm〜
100nmのものである。中空粒子の最大断面積の直径
が、可視光波長以上であると、可視光を反射するので好
ましくない。The hollow particles in the present invention are hollow polymer particles having a particle size of submicron order obtained by emulsion polymerization, and the diameter of the maximum cross-sectional area thereof is below the visible light wavelength, that is, below 300 nm, preferably below 10 nm. ~
It is 100 nm. If the diameter of the maximum cross-sectional area of the hollow particles is not less than the visible light wavelength, visible light is reflected, which is not preferable.
【0034】このような中空粒子は、例えば特開平2−
300204号公報に記載されているシード乳化重合に
より得られるもので、シード粒子としてポリスチレンエ
マルジョン、重合モノマーとしてメチルメタクリレート
/ジビニルベンゼンの混合モノマーをそれぞれ使用し、
重合開始前にシード粒子にモノマーを吸収させてシード
粒子/モノマー溶液の水分散体を形成させた後、水溶性
重合開始剤により重合させて得られるものである。Such hollow particles are disclosed, for example, in JP-A-2-
Which is obtained by seed emulsion polymerization described in Japanese Patent No. 300204, using polystyrene emulsion as seed particles and a mixed monomer of methyl methacrylate / divinylbenzene as a polymerization monomer.
It is obtained by allowing the seed particles to absorb a monomer before the initiation of polymerization to form an aqueous dispersion of seed particles / monomer solution, and then polymerizing with a water-soluble polymerization initiator.
【0035】中空粒子内部における中空部は、単一中空
型(中空部分が樹脂粒子の内部に1個存在する)、多中
空型(中空部分が樹脂粒子の内部に複数個存在する)の
いずれでもよいが、空気部分を多くする観点からは単一
中空型であるのが好ましい。また、その中空径は粒子直
径の1/10〜3/4である。The hollow portion inside the hollow particles may be a single hollow type (one hollow portion exists inside the resin particle) or a multi-hollow type (a plurality of hollow portions exist inside the resin particle). However, the single hollow type is preferable from the viewpoint of increasing the air portion. The hollow diameter is 1/10 to 3/4 of the particle diameter.
【0036】中空粒子を形成するポリマーとしては、ス
チレン−アクリル共重合樹脂、スチレン樹脂等が挙げら
れるが、その樹脂粒子におけるシェル部分は、微細孔を
有しない非多孔型でもよいが、微細孔を有する多孔型の
ものとするとホログラムまたは多層膜を形成した後、中
空粒子内部の充填物を除去することが可能である。Examples of the polymer forming the hollow particles include styrene-acrylic copolymer resin and styrene resin. The shell portion of the resin particles may be non-porous type having no fine pores, but may have fine pores. With the porous type, it is possible to remove the filling material inside the hollow particles after forming the hologram or the multilayer film.
【0037】第1の形成方法に使用される記録媒体は、
上述した中空粒子、光重合性モノマー、バインダーポリ
マー、光重合開始剤からなる。The recording medium used in the first forming method is
It is composed of the hollow particles, the photopolymerizable monomer, the binder polymer, and the photopolymerization initiator described above.
【0038】光重合性モノマーとしては、1分子中に少
なくともエチレン性不飽和二重結合を1個有するモノマ
ー、オリゴマー、プレポリマー及びそれらの混合物が挙
げられる。具体的には不飽和カルボン酸及びその塩、不
飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエス
テル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物のア
ミド類等である。具体的には、不飽和カルボン酸として
は、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸、及びそれらのハロゲ
ン置換不飽和カルボン酸、例えば塩素化不飽和カルボン
酸、臭素化不飽和カルボン酸、弗素化不飽和カルボン酸
等が挙げられる。不飽和カルボン酸の塩としては前述の
酸のナトリウム塩及びカリウム塩等がある。Examples of the photopolymerizable monomer include monomers having at least one ethylenically unsaturated double bond in one molecule, oligomers, prepolymers and mixtures thereof. Specific examples thereof include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, esters of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amine compounds. Specifically, as the unsaturated carboxylic acid, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and halogen-substituted unsaturated carboxylic acids thereof, for example, chlorinated unsaturated carboxylic acid, brominated Examples thereof include unsaturated carboxylic acid and fluorinated unsaturated carboxylic acid. Examples of the salts of unsaturated carboxylic acids include sodium salts and potassium salts of the above-mentioned acids.
【0039】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、エチレングリコールジア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレ
ングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)
エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘ
キサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサ
ンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコール
ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアク
リレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチ
ル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、また、エチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレー
ト、テトラメチレングリコールジメタクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレ
ート、ヘキサンジオールジメタクリレート、1,4−シ
クロヘキサンジオールジメタクリレート、テトラエチレ
ングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、
ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトール
ペンタメタクリレート、ソルビゾトールヘキサメタクリ
レート、ビス−〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒ
ドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス
−〔p−(アクリルオキシエトキシフェニル〕ジメチル
メタン〕、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等が
挙げられる。As the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate,
1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl)
Ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, diether Pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, 2-hydroxy Propyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, tetramethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane Trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate,
Dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, sorbitol pentamethacrylate, sorbizol hexamethacrylate, bis- [p- (3- Methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis- [p- (acryloxyethoxyphenyl] dimethylmethane], 2-hydroxypropyl methacrylate and the like can be mentioned.
【0040】イタコン酸エステルとしてはエチレングリ
コールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコ
ネート、1,3−ブタンジオールイタコネート、1,4
−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリ
コールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコ
ネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙げられ
る。As the itaconic acid ester, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol itaconate, 1,4
-Butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
【0041】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラクロトネート等が挙げられる。As the crotonic acid ester, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
And sorbitol tetracrotonate.
【0042】イソクロトン酸エステルとしてはエチレン
グリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトール
ジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネ
ート等が挙げられる。Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate and sorbitol tetraisocrotonate.
【0043】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレー
ト、ソルビゾトールテトラマレート等が挙げられる。Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate and sorbizole tetramaleate.
【0044】ハロゲン化不飽和カルボン酸としては、
2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレー
ト、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシ
ルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロ
ピルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタ
デカフルオロデシルメタクリレート等が挙げられる。As the halogenated unsaturated carboxylic acid,
2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadeca Examples thereof include fluorodecyl methacrylate.
【0045】また、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミ
ン化合物とのアミド類としては、メチレンビスアクリル
アミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6−ヘキ
サメチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレ
ンメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド、アクリルアミドブチルアルデ
ヒドジメチルアセタール等が挙げられる。Examples of amides of unsaturated carboxylic acid and aliphatic polyvalent amine compound include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebisacrylamide, 1,6-hexamethylenemethacrylamide, Diethylenetriamine tris acrylamide, xylylene bis acrylamide, xylylene bis methacrylamide, acrylamido butyraldehyde dimethyl acetal and the like can be mentioned.
【0046】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報に記載された1分子中に2個以上のイソシア
ネート基を有するポリイソシアネート化合物、下記一般
式 CH2 =C(R)COOCH2 CH(R1 )OH (式中R,R1 は水素原子或いはメチル基を表す)で示
される水酸基を有するビニルモノマーを付加させた1分
子中に2個以上の重合性ビニル基を有するビニルウレタ
ン化合物等が挙げられる。Other examples include Japanese Examined Patent Publication No. 48-417.
Polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-A-08, the following general formula CH 2 ═C (R) COOCH 2 CH (R 1 ) OH (wherein R and R 1 are hydrogen A vinyl urethane compound having two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by an atom or a methyl group) is added.
【0047】また、特開昭51−37193号公報に記
載されたウレタンアクリレート類、特開昭52−304
90号公報、特公昭49−43191号公報、特開昭4
8−64183号公報にそれぞれ記載されているような
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル等の多官能性アクリレートやメタクリレートを
挙げることができる。Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-A-52-304
No. 90, Japanese Patent Publication No. 49-43191, and Japanese Patent Laid-Open No. 4
Polyester acrylates, epoxy resins and (meth) as described in JP-A 8-64183, respectively.
Mention may be made of polyfunctional acrylates such as acrylics and methacrylates.
【0048】エポキシアクリレートのハロゲン化物、例
えば弗素化物、臭素化物なども用いることができる。さ
らに、日本接着協会誌Vol.20、No7、300〜
308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。例えば、トリ
ブーモフェノキシエチルアクリレート、トリブロモフェ
ノールアクリレート、トリブロモフェノールメタクリレ
ート、テトラブロモフェノールアクリレート、テトラブ
ロモビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等も使用
することができる。例えば、第1工業(株)製、商品
名、ニューフロンティアBR−31、東亜合成化学工業
(株)製、商品名、アロニックスM−315およびM−
325、また、2,2’−ビス(4−アクリロキシ・ジ
エトキシフェニル)プロパン(新中村化学(株)製、商
品名、NKエステル A−BPE−4)、テトラメチロ
ールメタンテトラアクリレート(新中村化学(株)製、
商品名、NKエステル A−TMMT)等も使用するこ
とができる。Halides of epoxy acrylates such as fluorides and bromides can also be used. Furthermore, the Journal of Adhesion Society of Japan, Vol. 20, No7, 300-
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 308 can also be used. For example, tribumophenoxyethyl acrylate, tribromophenol acrylate, tribromophenol methacrylate, tetrabromophenol acrylate, tetrabromobisphenol A di (meth) acrylate and the like can also be used. For example, Dai-ichi Kogyo Co., Ltd., trade name, New Frontier BR-31, Toa Gosei Chemical Co., Ltd., trade name, Aronix M-315 and M-
325, 2,2'-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) propane (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name, NK ester A-BPE-4), tetramethylolmethane tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical) Manufactured by
Trade names, NK ester A-TMMT) and the like can also be used.
【0049】バインダーポリマーとしては、ポリメタク
リル酸エステル又はその部分加水分解物、ポリ酢酸ビニ
ル又はその加水分解物、ポリスチレン、ポリビニルブチ
ラール、ポリクロロプレン、ポリ塩化ビニル、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ−N−ビニル
カルバゾール、又はその誘導体、ポリ−N−ビニルピロ
リドン又はその誘導体、スチレンと無水マレイン酸の共
重合体またはその半エステル、アクリル酸、アクリル酸
エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、アク
リルアミド、アクリルニトリル等の共重合可能なモノマ
ーの群から選択されるモノマーを重合成分とする共重合
体等、ビニルカルバゾール−スチレン共重合体、ビニル
カルバゾール−塩化ビニル共重合体、ビニルカルバゾー
ル−メチルメタクリレート共重合体、ビニルカルバゾー
ル−ビニルアンスラセン共重合体、ビニルカルバゾール
−ビニルピリジン共重合体、ビニルカルバゾール−アク
リレート共重合体、ビニルカルバゾール−エチルアクリ
レート共重合体、ビニルカルバゾール−アクリロニトリ
ル共重合体、ビニルカルバゾール−ブチルアクリレート
共重合体、ビニルカルバゾール−ニトロビニルカルバゾ
ール共重合体、ニトロ化ポリ−N−ビニルカルバゾー
ル、ポリビニルアミノカルバゾール、ビニルカルバゾー
ル−N−メチルアミノビニルカルバゾール共重合体、ハ
ロゲン置換ポリ−N−ビニルカルバゾール、ビニルカル
バゾール−ジブロムビニルカルバゾール共重合体、ポリ
ヨードビニルカルバゾール、ポリベンジリデンビニルカ
ルバゾール、ポリプロペニルカルバゾール等が挙げられ
る。As the binder polymer, polymethacrylic acid ester or its partial hydrolyzate, polyvinyl acetate or its hydrolyzate, polystyrene, polyvinyl butyral, polychloroprene, polyvinyl chloride, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, poly- N-vinylcarbazole or a derivative thereof, poly-N-vinylpyrrolidone or a derivative thereof, a copolymer of styrene and maleic anhydride or a half ester thereof, acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, acrylamide, acrylic Copolymers having a monomer selected from the group of copolymerizable monomers such as nitrile as a polymerization component, vinylcarbazole-styrene copolymers, vinylcarbazole-vinyl chloride copolymers, vinylcarbazole-methylmethacryl Rate copolymer, vinylcarbazole-vinylanthracene copolymer, vinylcarbazole-vinylpyridine copolymer, vinylcarbazole-acrylate copolymer, vinylcarbazole-ethylacrylate copolymer, vinylcarbazole-acrylonitrile copolymer, vinyl Carbazole-butyl acrylate copolymer, vinylcarbazole-nitrovinylcarbazole copolymer, nitrated poly-N-vinylcarbazole, polyvinylaminocarbazole, vinylcarbazole-N-methylaminovinylcarbazole copolymer, halogen-substituted poly-N- Vinylcarbazole, vinylcarbazole-dibromovinylcarbazole copolymer, polyiodovinylcarbazole, polybenzylidenevinylcarbazole, polypropenylcarbazo Le, and the like.
【0050】光重合開始剤としては、トリアジン類、ベ
ンゾインアルキルエーテル類、ケタール類、オキシムエ
ステル類、ベンゾフェノン、チオキサントン誘導体、キ
ノン、チオアクリドンなどの芳香族ケトン類、1,3−
ジ(t−ブチルジオキシカルボニル)ベンゼン、ヨード
ニウム塩類、ジアニン、ローダミン、サフラニン、マラ
イトグリーン、メチレンブルーなどのアルキルまたはア
ルキルほう酸塩、鉄−アレーン錯体、ビスイミダゾール
類、N−アリールグリシンなどを使用することができ
る。Examples of the photopolymerization initiator include triazines, benzoin alkyl ethers, ketals, oxime esters, benzophenones, thioxanthone derivatives, quinones, aromatic ketones such as thioacridone, and 1,3-
Alkyl or alkyl borate such as di (t-butyldioxycarbonyl) benzene, iodonium salts, dianine, rhodamine, safranine, malite green, methylene blue, iron-arene complex, bisimidazoles, N-arylglycine, etc. are used. be able to.
【0051】また、光重合開始剤の感度を増すために
は、可視光増感色素を加えた系とする事が望ましい。可
視光増感色素としては、例えば、スクワリリウム系色
素、ミヒラーズケトンなどの芳香族アミン、キサンテン
系色素、チオピリリウム塩、メロシニン・キノリン系色
素、クマリン・ケトクマリン系色素、アクリジンオレン
ジ、ベンゾフラビン、ジアニン、フタロシアニン、ポル
フィン、ローダミン、サフラニン、マラカイトグリー
ン、メチレングリコール等が用いられる。In order to increase the sensitivity of the photopolymerization initiator, it is desirable to use a system containing a visible light sensitizing dye. Examples of visible light sensitizing dyes include squarylium dyes, aromatic amines such as Michler's ketone, xanthene dyes, thiopyrylium salts, merosinin / quinoline dyes, coumarin / ketocoumarin dyes, acridine orange, benzoflavin, dianine, phthalocyanine, Porphin, rhodamine, safranine, malachite green, methylene glycol and the like are used.
【0052】特に好ましいのは、下記一般式Particularly preferred is the following general formula
【0053】[0053]
【化1】 Embedded image
【0054】(式中R4 、R5 、R6 はそれぞれ水素原
子、又は塩素原子、低級ジアルキルアミノ基、低級ジア
ルケニルアミノ基又は脂環式アミノ基、Xは水素原子及
びヘテロ原子の総数が5〜9個の複素環基又は−COY
基を示す。ここでYは炭素数1〜4の置換又は非置換の
アルキル基、低級アルコキシ基、置換又は非置換フェニ
ル基、置換又は非置換のステリル基、又は置換又は非置
換の3’−クマリノ基を表す。Zは水素原子又はシアノ
基を示す。)で表わされるクマリン化合物と有機過酸化
物からなる重合開始剤系である。(Wherein R 4 , R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, or a chlorine atom, a lower dialkylamino group, a lower dialkenylamino group or an alicyclic amino group, and X is a total number of hydrogen atoms and heteroatoms. 5 to 9 heterocyclic groups or -COY
Indicates a group. Here, Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a lower alkoxy group, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted steryl group, or a substituted or unsubstituted 3'-coumarino group. . Z represents a hydrogen atom or a cyano group. ) Is a polymerization initiator system consisting of a coumarin compound and an organic peroxide.
【0055】上式においてR4 、R5 、R6 として好ま
しくは水素原子、塩素原子、メトキシ、エトキシ、ブト
キシ等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、N−メチル−N−プロピルアミノ等の低級ジア
ルキルアミノ基、N−モノホリノ、N−ピペリジノ等の
脂環式アミノ基、ジプロペニルアミノ、ジ、(α−メチ
ルプロペニル)アミノ基等の低級ジアルケニルアミノ基
等が挙げられる。In the above formula, R 4 , R 5 and R 6 are preferably hydrogen atoms, chlorine atoms, lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy and butoxy, lower groups such as dimethylamino, diethylamino and N-methyl-N-propylamino. Examples thereof include dialkylamino groups, alicyclic amino groups such as N-monophorino and N-piperidino, and lower dialkenylamino groups such as dipropenylamino, di, (α-methylpropenyl) amino groups.
【0056】Xにおける複素環基としては2−イミダゾ
ール、2−N−メチルイミダゾール、2−ベンズイミダ
ゾール、2−(4−フェニル)イミダゾール、2−オキ
サゾール、2−ベンズオキサゾール、2−(4−フェニ
ル)オキサゾール、2−チアゾール、2−ベンズチアゾ
ール、2−(4−フェニル)チアゾール、2−(5−フ
ェニル)チアジアゾール、2−(5−トリル)チアジア
ゾール、2−(5−ビフェニル)チアジアゾール、2−
(5−フェニル)オキサジアゾール、2−p−−メトキ
シフェニル)オキサジアゾール、2−(5−p−クロル
フェニオキサジアゾール等の残基が挙げられる。The heterocyclic group for X is 2-imidazole, 2-N-methylimidazole, 2-benzimidazole, 2- (4-phenyl) imidazole, 2-oxazole, 2-benzoxazole, 2- (4-phenyl). ) Oxazole, 2-thiazole, 2-benzthiazole, 2- (4-phenyl) thiazole, 2- (5-phenyl) thiadiazole, 2- (5-tolyl) thiadiazole, 2- (5-biphenyl) thiadiazole, 2-
Examples thereof include residues such as (5-phenyl) oxadiazole, 2-p-methoxyphenyl) oxadiazole, and 2- (5-p-chlorophenyoxadiazole).
【0057】また、−COY基におけるYとしてはメチ
ル、エチル、プロピル、ヘキシル、β−シアノエチル、
エトキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル
などの置換又は非置換のC1 〜C6 のアルキル基、フェ
ニル、p−シアノフェニル、p−メチルフェニル、p−
メトキシフェニル、m−ヒドロキシカルボニルフェニル
等の置換又は非置換のフェニル基、ステリル、p−メト
キシステリル、p−シアノステリル、m−クロルステリ
ル等のステリル基、及び下記一般式As Y in the --COY group, methyl, ethyl, propyl, hexyl, β-cyanoethyl,
A substituted or unsubstituted C 1 -C 6 alkyl group such as ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, phenyl, p-cyanophenyl, p-methylphenyl, p-
A substituted or unsubstituted phenyl group such as methoxyphenyl and m-hydroxycarbonylphenyl, a steryl group such as steryl, p-methoxysteryl, p-cyanosteryl, and m-chlorsteryl, and the following general formula
【0058】[0058]
【化2】 Embedded image
【0059】(式中R4 、R5 、R6 、Zは前記化1に
おけると同じ)で示される3−クマリノ基が挙げられ
る。The 3-coumarino group represented by the formula (wherein R 4 , R 5 , R 6 and Z are the same as those in the above chemical formula 1) can be mentioned.
【0060】クマリン化合物の具体例としては3−アセ
チル−7−ジメチルアミノクマリン、3−ベンゾイル−
7−ジメチル−アミノクマリン、3−ベンゾイル−5、
7−ジメトキシクマリン、メチル7−ジエチルアミノ−
3−クマリノイルアセテート、3−シンナモイル−7−
ジエチルアミノクマリン、3,3’−カルボニルビス
(7−ジエチルアミノ)クマリン、3,3’−カルボニ
ルビス(5,7−ジメトキシアミノ)クマリン、7−ジ
エチルアミノ−5,7’−ジメトキシ−3,3’−ビス
クマリン、3−(2’−ベンズイミダゾイル)−7−ジ
エチルアミノクマリン、3−(2’−ベンズオキサゾイ
ル)−7−ジエチルアミノクマリン、3−(5’−フェ
ニルチアジアゾイル−2’)−7−ジエチルアミノクマ
リン、3−(2’−ベンズチアゾイル)−7−ジエチル
アミノクマリン、3,3’−カルボニルビス(4−シア
ノ−7−ジエチルアミノ)クマリン等が挙げられる。Specific examples of the coumarin compound include 3-acetyl-7-dimethylaminocoumarin and 3-benzoyl-
7-dimethyl-aminocoumarin, 3-benzoyl-5,
7-dimethoxycoumarin, methyl 7-diethylamino-
3-coumarinoyl acetate, 3-cinnamoyl-7-
Diethylaminocoumarin, 3,3'-carbonylbis (7-diethylamino) coumarin, 3,3'-carbonylbis (5,7-dimethoxyamino) coumarin, 7-diethylamino-5,7'-dimethoxy-3,3'- Biscoumarin, 3- (2'-benzimidazoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2'-benzoxazoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (5'-phenylthiadiazoyl-2 ')- 7-diethylaminocoumarin, 3- (2'-benzthiazoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3'-carbonylbis (4-cyano-7-diethylamino) coumarin and the like can be mentioned.
【0061】トリアジン化合物とスクワリリウム化合物
との割合は、スクワリリウム化合物1重量部に対してト
リアジン化合物1重量部〜100重量部、好ましくは1
重量部〜50重量部の割合で使用される。The ratio of the triazine compound to the squarylium compound is 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight, relative to 1 part by weight of the squarylium compound.
It is used in the proportion of 50 parts by weight to 50 parts by weight.
【0062】記録担体を構成する各成分の組成比は、バ
インダーポリマー100重量部に対して、中空粒子10
重量部〜1000重量部、好ましくは50重量部〜20
0重量部、光重合性モノマーは300重量部以下、好ま
しくは30重量部〜150重量部、光重合開始剤と可視
光増感色素を合わせて1重量部〜100重量部、好まし
くは1重量部〜30重量部とするとよい。The composition ratio of each component constituting the record carrier is such that 100 parts by weight of the binder polymer and 10 hollow particles are used.
Parts by weight to 1000 parts by weight, preferably 50 parts by weight to 20
0 parts by weight, 300 parts by weight or less of the photopolymerizable monomer, preferably 30 parts by weight to 150 parts by weight, 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight, including the photopolymerization initiator and the visible light sensitizing dye. -30 parts by weight is recommended.
【0063】また、上記組成物の他に記録媒体には酸素
捕獲剤、熱重合禁止剤、可塑剤、紫外線吸収剤などの成
分を添加してもよい。In addition to the above composition, components such as an oxygen scavenger, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer and an ultraviolet absorber may be added to the recording medium.
【0064】溶媒としては、例えばベンゼン、クロルベ
ンゼン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、
1,2−ジクロルエタン、ジクロメタン、クロロホルム
等が使用されるが、塗布液としては、これらの溶媒にバ
インダーポリマー、光重合性モノマー等を溶解すると共
に中空粒子を分散させた状態として、ガラス板、透明樹
脂板又は透明樹脂フィルム上に、スピンナーコーティン
グ、ブレードコーティング、ロールコーティング等によ
り、塗布し、乾燥させ、膜厚が0.1μm〜100μ
m、好ましくは5μm〜50μmの記録媒体とする。膜
厚の調整は溶媒中の組成物の濃度、塗布時の膜厚などで
行われる。また、場合によっては数回の塗布及び乾燥を
繰り返し、厚膜としてもよい。さらに、バインダーポリ
マー自体の支持性を利用してそれ自身をフィルム化して
もよい。Examples of the solvent include benzene, chlorobenzene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane,
1,2-dichloroethane, dichloromethane, chloroform and the like are used, but as a coating liquid, a binder polymer, a photopolymerizable monomer and the like are dissolved in these solvents and hollow particles are dispersed, and a glass plate, transparent A resin plate or a transparent resin film is applied by spinner coating, blade coating, roll coating, etc. and dried to a film thickness of 0.1 μm to 100 μm.
m, preferably 5 μm to 50 μm. The film thickness is adjusted by the concentration of the composition in the solvent, the film thickness at the time of coating, and the like. In some cases, coating and drying may be repeated several times to form a thick film. Furthermore, the support itself of the binder polymer itself may be used to form a film itself.
【0065】また、記録媒体において、空気に接触して
いる面にポリビニルアルコール水溶液等をコーティング
して空気との接触を遮断しておくと、酸素による重合阻
害が生じず、ホログラムの感度を上げることが出来る。If the surface of the recording medium that is in contact with air is coated with an aqueous solution of polyvinyl alcohol or the like to block the contact with air, polymerization inhibition by oxygen does not occur and the sensitivity of the hologram is increased. Can be done.
【0066】このようにして得られる記録担体は、例え
ば457.9nm、488nm、514.7nm、52
8.7nm、647.1nm等に輝線を有するレーザー
光に感度を有しており、例えば647.1nmの波長を
有するクリプトンイオンレーザーに対して1〜500m
J/cm2 のエネルギーで実用域での回折効率を与える
ものである。The record carrier thus obtained is, for example, 457.9 nm, 488 nm, 514.7 nm, 52.
It is sensitive to laser light having emission lines at 8.7 nm, 647.1 nm, etc., and is 1 to 500 m for a krypton ion laser having a wavelength of 647.1 nm, for example.
The energy of J / cm 2 gives diffraction efficiency in a practical range.
【0067】また、回折格子ピッチを0.2μm〜0.
7μmとすると熱線反射膜として使用できるし、また、
カラー記録を行うことにより、カラーホログラムとする
こともできる。The diffraction grating pitch is 0.2 μm to 0.
If it is 7 μm, it can be used as a heat ray reflective film, and
A color hologram can also be formed by performing color recording.
【0068】この第1の形成方法によると、記録媒体に
レーザー光を照射し干渉縞を形成させると、干渉縞の明
部(干渉光が強め合う部分)ではモノマーが重合し、そ
の際、中空粒子は暗部(干渉光が弱め合う部分)へ押し
出される現象が生じる。次いで、加熱、紫外線或いは電
子線による後露光をすると、暗部では密となった中空微
粒子を取り込む形で残存したモノマーを重合させて、ホ
ログラムとなしうる。すなわち、第1の形成方法では、
干渉縞の明部には光重合性モノマーが重合した高屈折率
層、干渉縞の暗部には中空粒子が充填した低屈折率層が
得られる。According to this first forming method, when the recording medium is irradiated with laser light to form interference fringes, the monomer is polymerized in the bright portion of the interference fringes (the portion where the interference light is intensified), and at that time, hollow There is a phenomenon that particles are pushed out to a dark part (a part where interference light is weakened). Then, by heating, post-exposure with ultraviolet rays or electron beams, the remaining monomer is polymerized in the form of taking in the hollow fine particles that have become dense in the dark portion, whereby a hologram can be formed. That is, in the first forming method,
A high refractive index layer in which a photopolymerizable monomer is polymerized is obtained in the bright portion of the interference fringe, and a low refractive index layer filled with hollow particles is obtained in the dark portion of the interference fringe.
【0069】また、バインダーポリマーを使用せず、光
重合性モノマーと中空粒子とからなる塗布液を記録媒体
とすることができる。この場合には、記録媒体を2枚の
ガラス板間に挟持した後、ホログラム記録するとよい。
バインダーポリマーを使用しない場合における記録媒体
としては、光重合性モノマー100重量部に対して、中
空粒子1重量部〜1000重量部、好ましくは1重量部
〜100重量部、光重合開始剤と可視光増感色素を合わ
せて1重量部〜100重量部、好ましくは1重量部〜5
0重量部とするとよい。Further, a coating liquid comprising a photopolymerizable monomer and hollow particles can be used as a recording medium without using a binder polymer. In this case, hologram recording may be performed after the recording medium is sandwiched between two glass plates.
When the binder polymer is not used, as the recording medium, 1 part by weight to 1000 parts by weight, preferably 1 part by weight to 100 parts by weight of hollow particles, 100 parts by weight of the photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator and visible light are used. 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight to 5 parts by weight including the sensitizing dye.
It is recommended to set it to 0 parts by weight.
【0070】次に、第1の回折格子における第2の形成
方法について説明する。第2の形成方法に使用される記
録媒体は、光重合性基をシエル外側に有する中空粒子、
光重合性モノマー、バインダーポリマー、光重合開始剤
からなり、第1の形成方法で使用した中空粒子に代え
て、中空粒子を形成するシエル外側に光重合性基を有す
る中空ポリマー粒子を使用するものである。Next, the second method of forming the first diffraction grating will be described. The recording medium used in the second forming method is hollow particles having a photopolymerizable group on the outside of the shell,
A hollow polymer particle consisting of a photopolymerizable monomer, a binder polymer, and a photopolymerization initiator, which uses a hollow polymer particle having a photopolymerizable group on the outside of the shell forming the hollow particle, instead of the hollow particle used in the first forming method. Is.
【0071】この中空粒子は、(1)メチルメタクリレ
ートやメタクリレート等の重合性ビニル系モノマーと、
ジビニルベンゼンやエチレングリコールジアクリレート
等のビニル基を2個以上有する架橋性ポリマーとから、
末端ビニル基を粒子表面に有するシード粒子を形成し、
次いで、メチルメタクリレートやジビニルベンゼン等の
モノマーを添加してシード粒子中に吸収させてシードポ
リマー/モノマー溶液の水分散体を形成させた後、水溶
性重合開始剤を使用してモノマーを重合させると、末端
ビニル基を粒子表面に有する中空粒子を形成させる方
法、(2)スチレンとメチルメタクリレートやメタクリ
レート等の重合性ビニル系モノマーに、更にグリシジル
メタクリレート等のエポキシ化合物を添加し、重合させ
て、末端ビニル基を粒子表面に有するシード粒子を形成
させ、次いで、上記(1)同様に、メチルメタクリレー
トやジビニルベンゼン等のモノマーを添加してシード粒
子中に吸収させてシードポリマー/モノマー溶液の水分
散体を形成させた後、水溶性重合開始剤を使用してモノ
マーを重合させると、末端ビニル基を粒子表面に有する
中空粒子を形成させる方法等により作製することができ
る。中空粒子表面における光重合性基としては、ビニル
基、アクリル基、メタクリル基等が挙げられる。The hollow particles are (1) a polymerizable vinyl monomer such as methyl methacrylate or methacrylate,
From a crosslinkable polymer having two or more vinyl groups such as divinylbenzene and ethylene glycol diacrylate,
Forming seed particles having a terminal vinyl group on the particle surface,
Then, a monomer such as methyl methacrylate or divinylbenzene is added and absorbed in the seed particles to form an aqueous dispersion of the seed polymer / monomer solution, and then the monomer is polymerized using a water-soluble polymerization initiator. A method of forming hollow particles having a terminal vinyl group on the particle surface, (2) adding an epoxy compound such as glycidyl methacrylate to a polymerizable vinyl-based monomer such as styrene and methyl methacrylate or methacrylate, and polymerizing it An aqueous dispersion of a seed polymer / monomer solution is formed by forming seed particles having a vinyl group on the particle surface, and then adding a monomer such as methyl methacrylate or divinylbenzene and absorbing the seed particles in the same manner as in (1) above. And then polymerize the monomers using a water-soluble polymerization initiator The terminal vinyl group can be produced by the method to form hollow particles having the particle surface or the like. Examples of the photopolymerizable group on the surface of the hollow particles include a vinyl group, an acryl group and a methacryl group.
【0072】光重合性モノマーは、第1の形成方法で記
載したものの中で、中空粒子の表面に結合している光重
合性基と光重合性を有するものが使用される。また、バ
インダーポリマー、光重合開始剤等は、上述した第1の
形成方法で記載したものが同様に使用され、同様に記録
媒体とすることができ、また、その記録条件にしても同
様である。Among the photopolymerizable monomers described in the first forming method, those having photopolymerizability with the photopolymerizable group bonded to the surface of the hollow particles are used. Further, as the binder polymer, the photopolymerization initiator and the like, those described in the above-mentioned first forming method are used in the same manner, and the same recording medium can be used, and the same recording conditions can be applied. .
【0073】第2の形成方法によると、記録媒体にレー
ザー光を照射し干渉縞を形成させると、干渉縞の明部で
はモノマーが中空粒子に結合している光重合性基を引き
込みながら重合させることができ、干渉縞の明部に中空
微粒子が引き込まれる現象が生じる。次いで、加熱、紫
外線或いは電子線による後露光を行い、干渉縞の暗部に
おけるモノマーを硬化させて、ホログラムとできる。According to the second forming method, when the recording medium is irradiated with laser light to form interference fringes, the monomer is polymerized while drawing in the photopolymerizable group bonded to the hollow particles in the bright portion of the interference fringe. The hollow fine particles are drawn into the bright part of the interference fringes. Next, heating, post-exposure with ultraviolet rays or electron beams is performed to cure the monomer in the dark portion of the interference fringes, and a hologram can be obtained.
【0074】この第2の形成方法においても、第1の形
成方法同様に、バインダーポリマーを使用しないで記録
媒体とすることができ、2枚のガラス板間に挟持してホ
ログラムを形成することができる。その場合の記録媒体
における成分比は、第1の形成方法と同様である。Also in this second forming method, like the first forming method, a recording medium can be formed without using a binder polymer, and a hologram can be formed by sandwiching it between two glass plates. it can. The component ratio in the recording medium in that case is the same as that in the first forming method.
【0075】次に、本発明の第1の回折格子における第
3の形成方法について説明する。第3の形成方法に使用
する記録媒体は、光重合性基をシエル外側に有する中空
粒子、バインダーポリマー、光重合開始剤からなる。Next, a third method of forming the first diffraction grating of the present invention will be described. The recording medium used in the third forming method is composed of hollow particles having a photopolymerizable group on the outside of the shell, a binder polymer, and a photopolymerization initiator.
【0076】この方法は、第2の形成方法で使用した光
重合性モノマーを不要とするもので記録媒体におけるそ
の他の成分は、第2の形成方法で使用する記録媒体と同
じである。This method does not require the photopolymerizable monomer used in the second forming method, and the other components in the recording medium are the same as those in the recording medium used in the second forming method.
【0077】記録担体を構成する各成分の組成比は、バ
インダーポリマー100重量部に対して、中空粒子1重
量部〜1000重量部、好ましくは10重量部〜200
重量部、光重合開始剤と可視光増感色素を合わせて1重
量部〜100重量部、好ましくは1重量部〜50重量部
とするとよい。The composition ratio of each component constituting the record carrier is 1 part by weight to 1000 parts by weight, preferably 10 parts by weight to 200 parts by weight of hollow particles to 100 parts by weight of the binder polymer.
1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight to 50 parts by weight, in combination with the photopolymerization initiator and the visible light sensitizing dye.
【0078】この形成方法では、記録媒体にレーザー光
で干渉縞を形成すると、その中空微粒子の外側についた
光重合性基を光反応により重合させることができ、干渉
縞の明部に中空粒子を引き込むことができ、また、干渉
縞の暗部は中空粒子が粗となりバインダーポリマーから
なる高屈折率層とでき、ホログラムが得られる。In this forming method, when the interference fringes are formed on the recording medium by laser light, the photopolymerizable groups attached to the outside of the hollow fine particles can be polymerized by photoreaction, and the hollow particles are formed in the bright portion of the interference fringes. Hollow particles can be drawn in, and hollow particles become coarse in the dark portion of the interference fringes to form a high refractive index layer made of a binder polymer, and a hologram can be obtained.
【0079】なお、この形成方法においては、レーザー
露光後、加熱することにより、干渉縞暗部に残存する中
空微粒子を破壊することができ、更に高屈折率のものと
できる。In this forming method, the hollow fine particles remaining in the dark portion of the interference fringes can be destroyed by heating after the laser exposure, and the refractive index can be further increased.
【0080】次に、本発明の第2の回折格子及びその形
成方法について説明する。第2の回折格子は、高屈折率
膜と中空粒子からなる低屈折率膜とを積層した多層膜に
よるものである。Next, the second diffraction grating of the present invention and the method for forming the same will be described. The second diffraction grating is a multilayer film in which a high refractive index film and a low refractive index film made of hollow particles are laminated.
【0081】第2の回折格子における低屈折率膜は、第
1の回折格子の形成方法で使用した記録媒体を均一露光
して得られるものを使用できるが、中空粒子の割合を多
くすることが必要であり、低屈折率膜における組成とし
ては、バインダーポリマー100重量部に対して、中空
粒子1重量部〜1000重量部、好ましくは10重量部
〜200重量部、光重合性モノマー30重量部〜300
重量部、好ましくは30重量部〜150重量部、光重合
開始剤と可視光増感色素を合わせて1重量部〜100重
量部、好ましくは1重量部〜30重量部とするとよい。As the low refractive index film in the second diffraction grating, a film obtained by uniformly exposing the recording medium used in the method for forming the first diffraction grating can be used, but the proportion of hollow particles can be increased. The composition of the low refractive index film is required to be 1 part by weight to 1000 parts by weight of hollow particles, preferably 10 parts by weight to 200 parts by weight, and 30 parts by weight of a photopolymerizable monomer to 100 parts by weight of the binder polymer. 300
The amount of the photopolymerization initiator and the visible light sensitizing dye is 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight to 30 parts by weight, preferably 30 parts by weight to 150 parts by weight.
【0082】また、バインダーポリマーを使用しない場
合における低屈折率膜としては、光重合性モノマー10
0重量部に対して、中空粒子1重量部〜1000重量
部、好ましくは10重量部〜200重量部、光重合開始
剤と可視光増感色素を合わせて1重量部〜100重量
部、好ましくは1重量部〜50重量部とするとよい。As the low refractive index film when the binder polymer is not used, the photopolymerizable monomer 10 is used.
1 part by weight to 1000 parts by weight, preferably 10 parts by weight to 200 parts by weight, and 1 part by weight to 100 parts by weight of the photopolymerization initiator and the visible light sensitizing dye together, preferably 0 part by weight. It may be 1 to 50 parts by weight.
【0083】第2の回折格子の作製方法としては、低屈
折率膜の塗布液を支持体上に塗布、乾燥後、均一露光し
て、低屈折率膜を成膜した後、この低屈折率膜上に、第
1の回折格子で使用した、光重合性モノマー及び/また
はバインダーポリマーを適宜溶媒に溶解した後、スピン
ナーコーティング、ブレードコーティング、ロールコー
ティング等により塗布するか、または押し出し成形した
後、硬化または成膜化し、高屈折率膜とするとよい。The second method for producing the diffraction grating is as follows. A low-refractive-index film coating liquid is applied onto a support, dried, and uniformly exposed to form a low-refractive-index film. On the film, after the photopolymerizable monomer and / or binder polymer used in the first diffraction grating is appropriately dissolved in a solvent, spinner coating, blade coating, roll coating or the like is applied, or after extrusion molding, A high refractive index film may be formed by curing or forming a film.
【0084】低屈折率膜の膜厚と高屈折率膜の膜厚は、
乾燥後でそれぞれ0.2μm〜0.7μmとすることが
できるが、低屈折率膜と高屈折率膜とからなる層を5層
〜50層積層して多層膜とするとよく、例えば回折格子
ピッチを0.2μm〜0.7μmとすることにより、赤
外線のみを反射して、可視光は透過させることもでき、
建築物の窓ガラスや自動車のフロントガラスに用いる熱
線反射膜や農業用のビニールハウスとして有用なき多層
膜によるホログラムとできる。また、レンズやプリズム
等に構成して用いることもできる。The film thickness of the low refractive index film and the film thickness of the high refractive index film are
After drying, the thickness can be adjusted to 0.2 μm to 0.7 μm, but it is preferable to stack 5 to 50 layers of a low refractive index film and a high refractive index film to form a multilayer film, for example, a diffraction grating pitch. Is 0.2 μm to 0.7 μm, only infrared rays can be reflected and visible light can be transmitted.
The hologram can be a multilayer film that is useful as a heat-reflecting film used for window glass of buildings and windshields of automobiles and as a greenhouse for agriculture. Further, it can be configured and used as a lens or a prism.
【0085】以上、第1及び第2の回折格子について説
明したが、いずれの回折格子においても、回折格子をそ
の膜厚方向に5 Kg/cm2 〜50 Kg/cm2 の圧力で加圧す
ると、中空粒子をその短軸方向を膜厚方向として偏平化
でき、回折格子をより透明化できる。The first and second diffraction gratings have been described above. However, in any diffraction grating, if the diffraction grating is pressurized at a pressure of 5 Kg / cm 2 to 50 Kg / cm 2 in its film thickness direction. The hollow particles can be flattened with the minor axis direction as the film thickness direction, and the diffraction grating can be made more transparent.
【0086】また、回折格子の形成に使用する中空粒子
がその中空部に充填物を含有する場合、回折格子を形成
後、その充填物をシエルにおける多孔性を利用して除去
し、中空部を空気とすることにより、低屈折率層におけ
る屈折率を空気(n=1)に近づけることができ、より
回折効率を向上させることができる。When the hollow particles used for forming the diffraction grating contain a filling material in the hollow portion, after forming the diffraction grating, the filling material is removed by utilizing the porosity of the shell to remove the hollow portion. By using air, the refractive index of the low refractive index layer can be brought close to that of air (n = 1), and the diffraction efficiency can be further improved.
【0087】例えば充填物が光重合性モノマーであれ
ば、回折格子を溶媒等に浸漬して、光重合性モノマーを
除去し、更に溶媒を乾燥処理等により除去して内部を空
気等で置換するとよい。For example, when the packing is a photopolymerizable monomer, the diffraction grating is immersed in a solvent or the like to remove the photopolymerizable monomer, and then the solvent is removed by a drying treatment or the like to replace the inside with air or the like. Good.
【0088】また、充填物がシリカ微粒子、或いは硫酸
銅、塩化マグネシウム等の金属塩微粒子のような複合ラ
テックスのような場合には、回折格子を形成した後、例
えばシリカ微粒子の場合にはアンモニア水、トリエチル
アミン等のアルカリ水溶液に浸漬して溶出するか、金属
塩微粒子の場合には水に浸漬して溶出し、更に乾燥処理
等により溶媒を除去して内部を空気等で置換し、中空粒
子とするとよい。When the filler is silica fine particles or a composite latex such as metal salt fine particles of copper sulfate, magnesium chloride, etc., after forming a diffraction grating, for example, in the case of silica fine particles, an aqueous ammonia solution is used. , Elute by immersing in an alkaline aqueous solution such as triethylamine, or in the case of metal salt fine particles, immerse in water to elute, and further remove the solvent by a drying treatment or the like to replace the inside with air etc. to form hollow particles. Good to do.
【0089】[0089]
【作用及び発明の効果】本発明は、回折格子における高
屈折率層と低屈折率層とを、内部に空気を充填した中空
粒子の疎密により形成することができることを見いだし
たものであり、内部に空気を充填した中空粒子を密に分
散させることにより、低屈折率化でき、中空粒子が粗の
状態の高屈折率層に比較して、屈折率変調強度がとれ、
高回折効率化できるものである。また、中空粒子を直径
が可視光波長以下で、可視光を反射しない大きさとし、
かつその粒径の揃ったものとすることにより、ヘイズ1
%未満と透明性を良好にできるものである。The present invention has found that the high-refractive index layer and the low-refractive index layer in the diffraction grating can be formed by sparse and dense hollow particles filled with air inside. By densely dispersing the hollow particles filled with air to, the refractive index can be lowered, and the hollow particles have a higher refractive index modulation strength than the high refractive index layer in a coarse state,
It is possible to improve the diffraction efficiency. In addition, the hollow particles have a diameter equal to or less than the visible light wavelength and have a size that does not reflect visible light,
In addition, by making the particle diameters uniform, haze 1
When it is less than%, the transparency can be improved.
【0090】このように、本発明の回折格子は、従来の
湿式材料における、高回折効率が得られても、現像時に
発生する膜の乱れ等により不透明してしまうことや、乾
式材料における、透明性が得られても屈折率差が得られ
ないという問題を解消できるものであり、建築物の窓ガ
ラスや自動車のフロントガラスに用いる熱線反射膜、ま
た農業用ビニールハウス、更に高回折効率でかつ透明性
を要求される光学部品として利用することができる。As described above, the diffraction grating of the present invention is opaque due to the disturbance of the film generated during development even if the high diffraction efficiency of the conventional wet material is obtained, and the transparency of the dry material is high. It is possible to solve the problem that the difference in refractive index cannot be obtained even if the property is obtained, a heat ray reflective film used for a window glass of a building or a windshield of an automobile, an agricultural vinyl house, and a high diffraction efficiency and It can be used as an optical component that requires transparency.
【0091】以下、本発明の回折格子の実施例について
説明する。Examples of the diffraction grating of the present invention will be described below.
【0092】[0092]
【実施例1】 ・ポリ−N−ビニルカルバゾール(亜南香料産業(株)製、ツビコール210、 Mw=50万〜80万、屈折率=1.68) ・・・1.0g ・トリブロモフェノキシエチルアクリレート(第一工業製薬(株)製、ニュウフ ロンティアBR−31) ・・・1.0g ・トリクロロ−s−トリアジン(みどり化学(株)製、TAZ−101) ・・・0.07g ・スクワリリウム系色素(日本感光色素(株)製、NK−2990、λmax= 650nm) ・・・0.002g ・中空粒子(粒子径250μm、内孔径50μm) ・・・1.4504g を、クロロベンゼン13.0536g中に投入し、中空
粒子分散液を得、感光液とした。Example 1 Poly-N-vinylcarbazole (manufactured by Anan Fragrance Industry Co., Ltd., Tubicor 210, Mw = 500,000 to 800,000, refractive index = 1.68) ... 1.0 g Tribromophenoxy Ethyl acrylate (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., New Frontier BR-31) ... 1.0 g-Trichloro-s-triazine (Midori Kagaku Co., Ltd., TAZ-101) ... 0.07 g-squalilium -Based dye (NK-2990, λmax = 650 nm, manufactured by Nippon Senshoku Co., Ltd.) ... 0.002 g-Hollow particles (particle diameter 250 μm, inner pore diameter 50 μm) 1.4504 g in chlorobenzene 13.0536 g To obtain a hollow particle dispersion liquid, which was used as a photosensitive liquid.
【0093】この感光液を、PETフィルム(帝人製H
−7W、50μm厚)基材上にアプリケーターにより
0.1mm(4ミル)の厚さに製膜し、1分間静止後、
オーブン中じ、70℃、10分間乾燥させ、厚さ7μm
の記録媒体を得た。This photosensitive solution was applied to a PET film
-7 W, 50 μm thick) A film was formed on a substrate with an applicator to a thickness of 0.1 mm (4 mils), and after standing still for 1 minute,
Dry in an oven, 70 ° C for 10 minutes, thickness: 7 μm
The recording medium of
【0094】次いで、記録媒体の表面に、ポリビニルア
ルコール〔クラレ(株)製、PVA205、鹸化度88
%、重合度500〕の5重量%純水溶液を、スピンナー
で塗布し(500rpm/5sec→1000rpm/
20sec)、風乾した。Then, polyvinyl alcohol [PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree: 88] was applied on the surface of the recording medium.
%, The degree of polymerization of 500], a 5% by weight pure aqueous solution was applied by a spinner (500 rpm / 5 sec → 1000 rpm /
Air dried for 20 sec).
【0095】次いで、図4に示す光学系を用いて、クリ
プトンレーザー〔647.1nm〕光を、露光エネルギ
ーが10mJ/cm2 となるように、照射した。Then, using the optical system shown in FIG. 4, krypton laser [647.1 nm] light was irradiated so that the exposure energy was 10 mJ / cm 2 .
【0096】露光後、紫外線を50mJ/cm2 照射
し、残留モノマーを重合させた。After exposure, ultraviolet rays were irradiated at 50 mJ / cm 2 to polymerize the residual monomer.
【0097】得られたホログラムの回折効率は80%、
再生波長は1000nm、ヘイズは約1%であり、透明
でかつ高回折効率の回折格子であった。The diffraction efficiency of the obtained hologram is 80%,
The reproduction wavelength was 1000 nm, the haze was about 1%, and the diffraction grating was transparent and had high diffraction efficiency.
【0098】[0098]
【実施例2】 ・ポリ−N−ビニルカルバゾール(亜南香料産業(株)製、ツビコール210、 Mw=50万〜80万、屈折率=1.68) ・・・ 1g ・中空粒子(粒子径250μm、内孔径50μm) ・・・ 1g ・トリクロロ−s−トリアジン ・・・・・ 0.07g ・ケトクマリン色素(コダック社製、λmax =460nm)・・0.003g を、クロロベンゼン14.511g中に投入し、中空粒
子分散液を得、感光液とし、同様に厚さ7μmの記録媒
体を得た。Example 2 Poly-N-vinylcarbazole (manufactured by Anan Fragrance Industry Co., Ltd., Tubicor 210, Mw = 500,000 to 800,000, refractive index = 1.68) ... 1 g Hollow particles (particle diameter 250 μm, inner pore diameter 50 μm) 1 g Trichloro-s-triazine 0.07 g Ketocoumarin dye (manufactured by Kodak Co., λ max = 460 nm) 0.003 g in 14.51 g chlorobenzene Then, a hollow particle dispersion liquid was added to obtain a photosensitive liquid, and a recording medium having a thickness of 7 μm was similarly obtained.
【0099】次いで、記録媒体の表面に、実施例1同様
にポリビニルアルコール膜を設けた後、図2に示す光学
系を用いて、アルゴンレーザー〔488nm〕光を、露
光エネルギーが200mJ/cm2 となるように、照射
した。Then, a polyvinyl alcohol film was provided on the surface of the recording medium in the same manner as in Example 1, and then an argon laser [488 nm] light was used to obtain an exposure energy of 200 mJ / cm 2 using the optical system shown in FIG. It was irradiated so that
【0100】露光後、紫外線を500mJ/cm2 照射
し、残留モノマーを重合させた。After the exposure, the residual monomer was polymerized by irradiating with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 .
【0101】得られたホログラムの回折効率は70%、
再生波長は514nm、ヘイズは約1%であり、透明で
かつ高回折効率の回折格子であった。The diffraction efficiency of the obtained hologram was 70%,
The reproduction wavelength was 514 nm, the haze was about 1%, and the diffraction grating was transparent and had high diffraction efficiency.
【0102】[0102]
【実施例3】 ・ポリ−N−ビニルカルバゾール(亜南香料産業(株)製、ツビコール210、 Mw=50万〜80万、屈折率=1.68) ・・・ 1g ・トリブロモフェノキシエチルアクリレート(第一工業製薬(株)製、ニュウフ ロンティアBR−31) ・・・0.2g ・トリクロロ−s−トリアジン(みどり化学(株)製、TAZ−101) ・・・0.07g ・中空粒子(粒子径250μm、内孔径50μm) ・・・0.8g を、クロロベンゼン41.4g中に投入し、中空粒子分
散液を得、感光液とした。Example 3 Poly-N-vinylcarbazole (manufactured by Anan Fragrance Industry Co., Ltd., Tubicor 210, Mw = 500,000 to 800,000, refractive index = 1.68) ... 1 g Tribromophenoxyethyl acrylate (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., New Frontier BR-31) ... 0.2 g-Trichloro-s-triazine (Midori Kagaku Co., Ltd., TAZ-101) ... 0.07 g-Hollow particles ( 0.8 g was charged into 41.4 g of chlorobenzene to obtain a hollow particle dispersion liquid, which was used as a photosensitive liquid.
【0103】この感光液を、PETフィルム(帝人製H
−7W、50μm厚)基材上に、スピンナー(500r
pm/5sec及び1000rpm/20sec)で塗
布した後、ドライヤー3分間乾燥させた後、紫外線(F
USION JAPAN K.K.製)を100mJ/
cm2 照射し、厚さ0.367μmの低屈折率膜を設け
た。This photosensitive solution was applied to a PET film
-7W, 50μm thick) on a spinner (500r
pm / 5 sec and 1000 rpm / 20 sec) and then dried for 3 minutes with a drier and then exposed to ultraviolet rays (F
USION JAPAN K. K. Made) 100 mJ /
cm 2 was irradiated to form a low refractive index film having a thickness of 0.367 μm.
【0104】次いで、この低屈折率膜表面に、ポリ−N
−ビニルカルバゾール(亜南香料産業(株)製、ツビコ
ール210、Mw=50万〜80万、屈折率=1.6
8)のクロロベンゼン5重量%溶液をスピンナーで塗布
(500rpm/5sec及び1000rpm/20s
ec)した後、ドライヤー3分間乾燥させ、膜厚0.3
67μmで積層し、高屈折率膜を設けた。Then, poly-N was formed on the surface of the low refractive index film.
-Vinylcarbazole (Tsubicol 210, manufactured by Anan Fragrance Industry Co., Ltd., Mw = 500,000 to 800,000, refractive index = 1.6)
5% by weight chlorobenzene solution of 8) was applied with a spinner (500 rpm / 5 sec and 1000 rpm / 20 s).
ec) and then dried for 3 minutes with a drier to give a film thickness of 0.3
The layers were laminated with a thickness of 67 μm to provide a high refractive index film.
【0105】この低屈折率膜と高屈折率膜とからなる積
層を15回行い、本発明の第2の回折格子を得た。The low refractive index film and the high refractive index film were laminated 15 times to obtain the second diffraction grating of the present invention.
【0106】得られたホログラムの回折効率は90%
で、このフィルムを窓ガラスに貼ったところ、1100
nm付近の太陽光の赤外線を反射し、窓ガラス近傍の温
度の低下が見られた。The diffraction efficiency of the obtained hologram is 90%.
Then, when I put this film on the window glass, it was 1100
Reflecting the infrared rays of sunlight in the vicinity of nm, a decrease in temperature near the window glass was observed.
【0107】[0107]
【比較例1】実施例1における感光液として、中空粒子
を除いて感光液とし、実施例1同様に記録媒体を作製し
た後、同様に露光した。Comparative Example 1 As the photosensitive liquid in Example 1, the photosensitive liquid was prepared by removing the hollow particles, and a recording medium was prepared in the same manner as in Example 1, and then similarly exposed.
【0108】露光後、記録媒体をメチルイソブチルケト
ンに浸漬し、膜の干渉縞の明部を中心に膨潤させ、暗部
におけるモノマー(オリゴマー)を現像液中に溶出させ
た後、ヘプタン中に浸漬させ、モノマー溶出領域の膨潤
液をヘプタンで置換し、乾燥させてホログラムとした。After the exposure, the recording medium was dipped in methyl isobutyl ketone to swell mainly in the bright part of the interference fringes of the film, and the monomer (oligomer) in the dark part was dissolved in the developing solution and then dipped in heptane. The swelling liquid in the monomer elution region was replaced with heptane and dried to form a hologram.
【0109】得られたホログラムにおける空隙は、TE
M写真観察で、最小のものでも、数100nmであり、
ホログラムの回折効率は、90%が得られたが、ヘイズ
は3%となり、不透明な膜しか得られなかった。The voids in the obtained hologram are TE
In the M photograph observation, even the smallest one is several 100 nm,
The diffraction efficiency of the hologram was 90%, but the haze was 3%, and only an opaque film was obtained.
【図1】図1は、特定の可視光線を反射するミラー型ホ
ログラムを露光するためのリップマン式露光光学系の概
略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a Lippmann type exposure optical system for exposing a mirror hologram that reflects a specific visible ray.
【図2】図2は、特定の可視光線を反射するミラー型ホ
ログラムを露光するためのデニシューク式露光光学系の
概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a Denishuke type exposure optical system for exposing a mirror hologram that reflects a specific visible ray.
【図3】図3は、特定の赤外線を反射するミラー型ホロ
グラムを露光するためのリップマン式露光光学系の概略
図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a Lippmann type exposure optical system for exposing a mirror hologram that reflects a specific infrared ray.
【図4】図4は、特定の赤外線を反射するミラー型ホロ
グラムを露光するためのデニシューク式露光光学系の概
略図である。FIG. 4 is a schematic diagram of a Denishuke type exposure optical system for exposing a mirror hologram that reflects a specific infrared ray.
1…アルゴンレーザー、2…ハーフミラー、3…ミラ
ー、4…スペシャルフィルター、5…記録担体、6…レ
ンズ、7…マッチング溶液、8…ガラスブロック1 ... Argon laser, 2 ... Half mirror, 3 ... Mirror, 4 ... Special filter, 5 ... Record carrier, 6 ... Lens, 7 ... Matching solution, 8 ... Glass block
Claims (12)
ラムであって、高屈折率層と低屈折率層とが中空粒子の
疎密により形成されたものであり、該中空粒子の最大断
面積の直径が、可視光波長以下であることを特徴とする
回折格子。1. A hologram comprising a high-refractive index layer and a low-refractive index layer, wherein the high-refractive index layer and the low-refractive index layer are formed by sparse and dense hollow particles, and the maximum cutoff of the hollow particles. A diffraction grating characterized in that the diameter of the area is not more than the wavelength of visible light.
る干渉光が弱め合う部分であることを特徴とする請求項
1記載の回折格子。2. The diffraction grating according to claim 1, wherein the low-refractive-index layer is a portion where interference lights are weakened during hologram recording.
る干渉光が強め合う部分であることを特徴とする請求項
1記載の回折格子。3. The diffraction grating according to claim 1, wherein the low-refractive-index layer is a portion where interference lights during hologram recording are mutually strengthened.
層膜であって、低屈折率膜が中空粒子を含有し、かつ該
中空粒子の最大断面積の直径が、可視光波長以下である
ことを特徴とする回折格子。4. A multilayer film in which a high refractive index film and a low refractive index film are laminated, wherein the low refractive index film contains hollow particles, and the diameter of the maximum cross-sectional area of the hollow particles is the visible light wavelength. A diffraction grating characterized in that:
ングにより積層されたものである請求項4記載の回折格
子。5. The diffraction grating according to claim 4, wherein the high refractive index film is laminated on the low refractive index film by coating.
形により積層されたものである請求項4記載の回折格
子。6. The diffraction grating according to claim 4, wherein the high refractive index film is laminated on the low refractive index film by extrusion molding.
あることを特徴とする請求項1〜6の何れか1つ記載の
回折格子。7. The diffraction grating according to claim 1, wherein the diffraction grating pitch is 200 to 700 nm.
の短軸方向を回折格子の膜厚方向と同一方向として存在
することを特徴とする請求項1〜6の何れか1つ記載の
回折格子。8. The hollow particle has a flat spherical shape, and its minor axis direction is present in the same direction as the film thickness direction of the diffraction grating. Diffraction grating.
始剤からなる記録媒体にレーザー光を干渉縞を形成する
ように照射し、干渉光が強め合う部分における光重合性
モノマーを重合させて中空粒子を干渉光が弱め合う部分
に拡散移動させた後、後露光し、干渉光が弱め合う部分
を硬化させ、干渉光が強め合う部分を高屈折率層とし、
干渉光が弱め合う部分を低屈折率層とすることを特徴と
する回折格子形成方法。9. A recording medium composed of hollow particles, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator is irradiated with laser light so as to form interference fringes, and the photopolymerizable monomer in the portion where the interference lights are intensified is polymerized. After diffusing and moving the hollow particles to the part where the interference light weakens, post-exposure is performed to cure the part where the interference light weakens, and the part where the interference light strengthens is a high refractive index layer,
A method of forming a diffraction grating, characterized in that a portion where the interference light is weakened is a low refractive index layer.
開始剤からなり、該中空粒子がその外側に光重合性官能
基を有する中空粒子である記録媒体に、レーザー光を干
渉縞を形成するように照射し、干渉光が強め合う部分に
おける光重合性モノマーと中空粒子における光重合性官
能基とを重合させて中空粒子を干渉光が強め合う部分に
拡散移動させた後、後露光し、干渉光が弱め合う部分に
おける光重合性モノマーを硬化させ、干渉光が強め合う
部分を低屈折率層とし、干渉光が弱め合う部分を高屈折
率層とすることを特徴とする回折格子形成方法。10. A recording medium comprising hollow particles, a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator, wherein the hollow particles are hollow particles having a photopolymerizable functional group on the outside thereof, to form interference fringes with laser light. As such, the interference light is polymerized with the photopolymerizable monomer in the portion where the interference light strengthens and the photopolymerizable functional group in the hollow particles to diffuse and move the hollow particles to the portion where the interference light strengthens, and then post-exposed, A method of forming a diffraction grating, characterized in that a photopolymerizable monomer in a portion where interference light is weakened is cured, a portion where interference light is strengthened is a low refractive index layer, and a portion where interference light is weakened is a high refractive index layer. .
合開始剤からなり、該中空粒子がその外側に光重合性官
能基を有する中空粒子である記録媒体にレーザー光を干
渉縞を形成するように照射し、干渉光が強め合う部分に
おいて中空粒子における光重合性官能基相互を重合さ
せ、中空粒子を干渉光が強め合う部分に拡散移動させ、
干渉光が強め合う部分を低屈折率層とし、干渉光が弱め
合う部分を高屈折率層とすることを特徴とする回折格子
形成方法。11. A recording medium comprising hollow particles, a binder polymer and a photopolymerization initiator, the hollow particles being hollow particles having a photopolymerizable functional group on the outside thereof, is irradiated with laser light so as to form interference fringes. Then, the photopolymerizable functional groups in the hollow particles are polymerized with each other in the portion where the interference light is strengthened, and the hollow particles are diffused and moved to the portion where the interference light strengthens,
A method of forming a diffraction grating, characterized in that a portion where interference light is strengthened is a low refractive index layer and a portion where interference light is weakened is a high refractive index layer.
り、回折格子形成後に中空粒子中の充填物が選択的に除
去され、中空粒子とされることを特徴とする請求項9〜
11の何れか1つ記載の回折格子形成方法。12. A hollow particle having a filling material therein, and after forming the diffraction grating, the filling material in the hollow particle is selectively removed to form a hollow particle.
11. The method for forming a diffraction grating according to any one of 11.
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002317152A (en) * | 2001-02-16 | 2002-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | Coating agent having low refractive index and reflection preventive film |
WO2003002330A1 (en) * | 2001-06-28 | 2003-01-09 | Arjo Wiggins Fine Papers Limited | A method for making holograms |
US7006286B2 (en) | 2003-02-25 | 2006-02-28 | Nitto Denko Corporation | Optical member, method for producing the same, adhesive optical member and image viewing display |
JP2007127810A (en) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Fujifilm Corp | Optical recording medium and its production method |
CN110191797A (en) * | 2017-01-04 | 2019-08-30 | 韩国化学研究院 | Photon crystal structure and anti-fake color conversion coatings film comprising it |
CN114080550A (en) * | 2019-06-20 | 2022-02-22 | 脸谱科技有限责任公司 | Surface relief grating with patterned refractive index modulation and method of manufacture |
WO2022070600A1 (en) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | 富士フイルム株式会社 | Transmissive diffractive optical element, bonding optical element, intraocular lens, contact lens, and method for manufacturing transmissive diffractive optical element |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP20632994A patent/JP3516274B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002317152A (en) * | 2001-02-16 | 2002-10-31 | Toppan Printing Co Ltd | Coating agent having low refractive index and reflection preventive film |
WO2003002330A1 (en) * | 2001-06-28 | 2003-01-09 | Arjo Wiggins Fine Papers Limited | A method for making holograms |
US7006286B2 (en) | 2003-02-25 | 2006-02-28 | Nitto Denko Corporation | Optical member, method for producing the same, adhesive optical member and image viewing display |
JP2007127810A (en) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Fujifilm Corp | Optical recording medium and its production method |
CN110191797A (en) * | 2017-01-04 | 2019-08-30 | 韩国化学研究院 | Photon crystal structure and anti-fake color conversion coatings film comprising it |
EP3566863A4 (en) * | 2017-01-04 | 2020-07-15 | Korea Research Institute of Chemical Technology | Photonic crystal structure and anti-forgery color conversion film comprising same |
CN110191797B (en) * | 2017-01-04 | 2022-01-18 | 韩国化学研究院 | Photonic crystal structure and anti-counterfeiting color conversion film comprising same |
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