WO1992020016A1 - Hologram and its formation method - Google Patents

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WO1992020016A1
WO1992020016A1 PCT/JP1992/000585 JP9200585W WO9220016A1 WO 1992020016 A1 WO1992020016 A1 WO 1992020016A1 JP 9200585 W JP9200585 W JP 9200585W WO 9220016 A1 WO9220016 A1 WO 9220016A1
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polymer
light
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PCT/JP1992/000585
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Tsuguo Yamaoka
Shuichi Namai
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Nissan Motor Co., Ltd.
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a hologram, in particular, to a configuration and a material of a volume phase type photogram and a method of forming the same.
  • Holography is a technique for recording interference fringes generated using a light source with good coherence such as a laser on a recording medium.
  • Photoresist, gelatin dichromate, silver halide emulsion, etc. are known as recording materials, but all have problems in resolution, cost, moisture resistance, etc. Has not yet been obtained.
  • a hologram recording material comprising poly (vinyl carbazole), a polyfunctional monomer, and a photopolymerization initiator
  • Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-216180, 2-221 Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-216180, 2-221
  • the development is performed by the swelling and shrinking steps, and the reproducibility of the hologram greatly depends on the temperature and humidity at that time, making it difficult to maintain the same reproduction wavelength and diffraction efficiency.
  • the crosslink density of the polymer was low, and it was difficult to avoid the occurrence of whitening due to rapid film shrinkage.
  • Each of the above recording media is composed of a matrix recording medium and interference fringes, and the space between the interference fringes is composed of only a matrix composition.
  • the present invention firstly provides a novel hologram configuration and a hologram-forming material. Second, it is to provide a hologram having a high diffraction efficiency and no variation in the diffraction efficiency and reproduction wavelength depending on the developing conditions, and a method of forming the hologram.
  • interference fringes due to a photopolymer are formed in the matrix polymer, and light or a heat polymer having a different light refractive index from that of the photopolymer is present between the interference fringes.
  • a diffraction grating is formed.
  • the photopolymer or the ripened polymer replaces the photopolymerized component in the interference of the photopolymer with another polymerized component, and has a photorefractive index different from that of the photopolymer.
  • the feature is.
  • one of the photopolymer and the light or heat polymer is a polymerization product of an aromatic (meth) acrylate that may be halogenated, and the other may be halogenated. It is characterized by being a polymerization product of an aliphatic (meth) acrylate.
  • the method for forming a hologram of the present invention comprises exposing a recording carrier comprising a matrix polymer, a photopolymerizable compound (hereinafter referred to as a host monomer), and a photopolymerization initiator to a light interference pattern. Polymerizing the photopolymerizable compound with the record carrier Light or heat polymerizable compound with different refractive index after curing
  • a guest monomer (Hereinafter referred to as a guest monomer) in a developing solution having the same, and then the recording medium is cured by heat or light.
  • a volume phase hologram using a photopolymer greatly depends on the composition of the recording carrier and the developing method.
  • the developing process involves two steps of swelling and shrinking. Therefore, reproducibility was difficult to obtain, and clouding due to film shrinkage and drying process was an inevitable problem.
  • a hologram image can be formed by inserting a polymerized component different from the polymerized component in the record carrier into the unpolymerized region of the interference fringe dark portion, and the refractive index difference.
  • the volume phase hologram has the property of reflecting and reproducing only specific light, and its wavelength depends on the interval between interference fringes recorded in the hologram layer.
  • a hologram having a uniform reproduction wavelength can be produced with good reproducibility, and the reproduction wavelength can be controlled by selecting a solvent and a combination of a host monomer and a guest monomer.
  • the hologram can be formed as a transparent hologram that does not cause any whitening phenomenon due to cracks or the like generated when a conventional swollen record carrier is contracted. It is.
  • the photorefractive index of the polymerization component in the record carrier that is, the host monomer
  • the diffraction efficiency can be obtained, and the brightness can be improved.
  • It can be a hologram.
  • a reproduction wavelength can be controlled and a hologram having a ⁇ ⁇ diffraction index can be produced with good reproducibility, so that a hologram can be used for, for example, a light control device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a Lippmann hologram forming apparatus.
  • FIG. 2 is a schematic view of a denishook type hologram forming apparatus.
  • FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the difference in the optical refractive index between the host monomer and the guest monomer and the maximum diffraction efficiency of the hologram produced according to the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a hologram of the present invention.
  • Matrix polymers include polymethacrylic acid ester or its partial hydrolyzate, polyvinyl acetate or its hydrolysate, polystyrene, polyvinyl butyral, poly (c-prene), polyvinyl chloride, chlorinated polyethylene, Chlorinated polypropylene, poly (N-vinylcarbazole) or its derivative N-vinylpyrrolidone or a derivative thereof, a copolymer of styrene and maleic anhydride or a half ester thereof, acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, acrylic acid A copolymer containing a monomer selected from a group of copolymerizable monomers such as luamide and acrylonitrile as a polymerization component is used.
  • poly (N-vinyl carbazole) and derivatives thereof are particularly preferred.
  • poly-N-vinyl carbazoles When these poly-N-vinyl carbazoles are used as a matrix polymer, a hologram having good moisture resistance can be obtained.
  • Ma Also preferred are poly (N-vinylpyrrolidone) and derivatives thereof. For example, copolymers of poly (N-butylpyrrolidone) with butyl acetate, glycidyl methacrylate, alkyl (meth) acrylate, styrene, etc. And the like.
  • Examples of the host monomer include photopolymerization, photocrosslinkable monomers, oligomers, prepolymers, and mixtures thereof having at least one ethylenically unsaturated double bond in one molecule, and examples of the monomer and its copolymer.
  • Examples include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, esters of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amine compounds, etc. .
  • unsaturated carboxylic acid monomers include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, oxalic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and halogen-substituted unsaturated carboxylic acids such as chlorinated acids.
  • unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, oxalic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and halogen-substituted unsaturated carboxylic acids such as chlorinated acids.
  • unsaturated carboxylic acids, brominated unsaturated carboxylic acids, fluorinated unsaturated carboxylic acids and the like examples include the sodium salts and potassium salts of the aforementioned acids.
  • ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diethanolate, and the like.
  • Methacrylates include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate. Tactylate, trimethicone methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate Rate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythrate Retort Rudimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis- [P- (3-methacryloxyl-2-hydroxypropoxy) f: ⁇ Nyl] dimethylmethane, bis- [
  • Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, and pentaerythritol. Diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
  • croton acid esters examples include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetracrotonate.
  • halogenated unsaturated carboxylic acids 2, 2, 3, 3- Tetrafluoropropyl pyratarate, 1H, 1H, 2H, 2H—Heptadecafluorodecylatarate, 2,2,3,3—Tetrafluoropropylpyramethacrylate, 1H, 1H , 2H, 2H—Heptadecafluoro ⁇ -decyl methacrylate, methacrylic acid mono 2,4,6—Tripromophanil, Jib ⁇ -moneopentyl dimethacrylate (trade name: ⁇ ⁇ ester D ⁇ Nakamura Chemical Co., Ltd.), dibromopropyl acrylate (trade name: Ester-DBP, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipromopropyl methacrylate (trade name: NK ester DBP, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), methacrylic acid chloride, 1,2,4,6-methacryl
  • amide monomers of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1, 6—Hexamethylene bismethacrylamide, diethylene triammonium triacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide, N-phenylmethacrylamide, die And acrylamide.
  • urethane acrylates described in JP-A-51-371193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191
  • Polyester acrylates such as polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-B-52-34090 Rate can be mentioned.
  • the monomers containing the signal include mono (2-atalyi kishechil) acid phosphate (trade name: Lightester PA, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and mono (2-methacrylic acid ethyl).
  • Dofosphate (trade name: Liteester PM, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.); and epoxy acrylate-based product name: Lipposi VR-60 (manufactured by Showa Kogyo Co., Ltd.) ), Trade name: Lipoxy VR-90 (manufactured by Showa Kagaku ( ⁇ )).
  • NK ester M-230G manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • NK ester 23G Tin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • aromatic (meth) acrylate in which 0 to 10 bromine or iodine atoms are present in one molecule, or vinyl ether, Or an epoxy compound, an aliphatic (meth) acrylate which has 0 to 20 fluorine or silicon atoms in one molecule, or a vinyl ether, or an epoxy compound.
  • a halogenated compound particularly preferred is a halogenated compound. Examples include good aromatic (meth) acrylates and optionally halogenated aliphatic (meth) acrylates.
  • These host monomers are used in an amount of 1 to 3 parts by weight, preferably 0.3 to 1.5 parts by weight, based on 1 part by weight of the matrix polymer.
  • the photopolymerization initiator and sensitizer were 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 2-dimethylaminobenzoate, ethyl 2-dimethylaminobenzoate, ethyl ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoate.
  • R 2 and R 3 each independently represent a chromium atom, a chloro atom, a lower alkoxy group, a lower dialkylamino group, a lower dialkenylamino group or an alicyclic group.
  • X represents a heterocyclic group having a total number of carbon atoms and hetero atoms of 5 to 9 or a COY group, wherein Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 1, R 2 , and R 3 are preferably a hydrogen atom, a carbonyl atom, a lower alkoxy group such as methoxy, ethoxy, butoxy, dimethylamino, getylamino, N-methyl-N-propyl.
  • Lower dialkylamino groups such as pyrinomino; alicyclic amino groups such as N-morpholino and N-piperidino; lower groups such as dipropidinylamino and di (monomethylprobenyl) amino groups; And dialkylamine.
  • the heterocyclic group represented by X is 2 — imidazole, 2 — N— Methylimidazole, 2-benzimidazole, 2- (4-phenyl) -imidazole, 2-oxazole, 2-benzoxazole, 2- (4-phenyl) oxazole, 2-thiazole, 2-butyl N-thiazole, 2- (4-phenyl) thiazole, 2- (5-phenyl) thiadiazole, 2- (5-tolyl) thiadiazole, 2- (5-biphenyl) thiazyl, 2- ( 5—Phenyl) oxaziazole, 2— (5-p-methoxyphenyl) oxazine, 2- (5-p-chlorophenyl) oxazine, etc.
  • Y in one COY group is a substituted or unsubstituted group such as methyl, ethyl, propyl, hexyl, ⁇ -silinoethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, etc.
  • a steryl group such as methoxisteryl, p-cyanosteryl and m-chlorsteryl, and a 3-coumarino group represented by the following general formula:
  • coumarin compounds include 3-cetyl-7-dimethylaminocoumaline, 3-benzoyl-17-dimethyl-aminocoumarin, 3-benzoyl-15, 7-dimethoxycoumarin, methyl, methyl, 7—Jetylamino-1-3-coumarinyl acetate, 3-cinnamoyl-1 7—Jetylaminoc, malin, 3,3,1-carbonylbis (7-jetylamino) coumarin, 3,3′-carbonyl Bis (5,7-dimethoxyamino) coumarin, 7-Jethylamino-5,7'-Dimethoxy-1,3,3,1-biscoumarin, 3- (2'-Benzimidazoline) -17, Jethylamino bear Lin, 3 -— (2'-Benzoxazolyl) -1 7-Jetil-L-minocumaline, 3- (5'-Phenylthiadiazol-1 2,)-7-Jetilamino-coumarin, 3-( 2'-P
  • Preferred compounds of the organic peroxide used in admixture with the tamarin compound include methyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, acetyl aceton peroxide, t-butyl peroxide, and methoxide.
  • di (t-butyloxy) isophthalate di (t-butyloxy) terephthalate, di (t-butylperoxy) phthalate, 3,3 ′, 4; 4′—tetral (T-butyloxycarbonyl) benzophenone.
  • the proportion of the organic peroxide added to the coumarin compound is 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight to 50 parts by weight, based on 1 part by weight of the bear'J compound.
  • photopolymerization initiators are used in an amount of 1 part by weight to 80 parts by weight, preferably 1 part by weight to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the above-mentioned matrix polymer and host monomer. Is performed.
  • a composition for forming a recording carrier is prepared by adding a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, and the like in addition to the above composition.
  • the record carrier according to the present invention comprises the above composition, for example, benzene, black J-lebenzene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dichloroethane, dichloromethane,
  • the film is dissolved in a film or the like and coated on a support such as a glass or a transparent resin film.
  • a coating method the film is applied to a film thickness of 0.5 m to 50 m after drying by a spinner coating, a blade coating, a roll coating, or the like.
  • the film itself may be formed by utilizing the supportability of the matrix polymer itself.
  • the record carrier thus obtained is sensitive to laser light having a bright line at, for example, 4579 A, 488 A, 515 A, 528 A, etc. For example, it provides diffraction efficiency in a practical range with an energy of 1 to 500 mJ / cm 2 for an argon laser having a wavelength of 488 A, for example.
  • the hologram forming method of the present invention comprises a step of exposing a record carrier to radiation, a step of using a developer containing a guest monomer, and a step of light or heat curing the record carrier after development.
  • Radiation that can be used in the step of exposing the recording unit to radiation is preferably radiation using a laser beam, a mercury lamp, or the like as a light source.
  • a Lippmann hologram forming apparatus that forms a volume phase hologram by irradiating the subject with two coherent bundles of radiation as shown in FIG. 1 at a predetermined offset angle, or As shown in Fig. 2, a denier-type hologram forming device that forms a volume phase hologram by interference between irradiation light and reflected light from a subject is used.
  • the development step is performed by immersing the record carrier on which the hologram latent image is formed in a developer having a guest monomer.
  • This development step shows the features of the present invention, and causes the record carrier 5 to swell or shrink according to the formed hologram pattern, and to elute unreacted photosensitive components in the unexposed portions.
  • a developer having a guest monomer in the unexposed area is permeated to replace the host monomer in the unexposed area with the guest monomer, or to add a guest 0 monomer to the host monomer.
  • the solvent in the developer has a function of causing a swelling or shrinking action in a short time to a polymer crosslinked product generated by a photopolymerization reaction of a photosensitive component, and a function of eluting an unreacted photosensitive component.
  • swelling liquids include benzene, toluene, 5-xylene, ethylpentene, Ti-propylbenzene, cumene, phenosole, cresolene, chlorylbenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, and benzyl alcohol.
  • benzene and naphthalene derivatives such as benzyl chloride, benzyl butylamide, monomethylnaphthalene and ⁇ -chloronaphthaline, and a mixed solvent thereof may be used.
  • the contracting liquid is a solvent that does not dissolve or swell the recording material, such as ⁇ -pentane, hexane, ⁇ -heptane, n-octane, isooctane, and cyclohexane.
  • Ethers, ketones such as acetate and methylethyl ketone and the like, esters such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl formate and methyl propionate, and a mixed solvent thereof may be used.
  • guest monomers are allowed to enter between interference fringes.
  • the distance between interference fringes can be controlled by appropriately selecting the solvent in the developer.
  • the guest monomer capable of being photopolymerized or thermally polymerized those described as the host monomer may be used, and the same compound as the host monomer may be used, but the guest monomer and the host monomer are used in the light monomer.
  • a monomer having a refractive index difference a high diffraction efficiency can be obtained when a hologram is formed, and a hologram having a high diffraction efficiency can be obtained as the difference in the light refractive index increases.
  • one of the host monomer and the guest monomer is an aromatic (meth) acrylate containing 0 to 10 bromine or iodine atoms in one molecule thereof, or a vinyl ether.
  • an epoxy compound and the other is an aliphatic (meth) acrylate having 0 to 20 fluorine or silicon atoms in one molecule thereof.
  • a vinyl ether or epoxy compound or
  • one of the host monomer and the guest monomer is an aromatic (meth) acrylate which may be halogenated, and the other is an aliphatic (meth) acrylate which may be halogenated. ) Atari rate.
  • the guest monomer it is preferable to use a liquid having a molecular weight (viscosity) of 25: 100, which is liquid and soluble in a solvent in a developing solution. Furthermore, if the molecular weight of the guest monomer is too low, it flows out of the unexposed portion during the hologram production step, and as a result, the refractive index difference required for the hologram cannot be obtained, and the obtained ⁇ -gram tends to gradually disappear. .
  • the recording carrier is directly immersed in the developing solution, but the photosensitive component in the unexposed portion of the recording carrier is first removed using only a solvent, and then immersed in the developing solution.
  • the concentration of the guest monomer in the developer is appropriately set, but is preferably at least 1% by weight or more.
  • the record carrier thus developed is then subjected to a curing step.
  • the record carrier is irradiated with light such as ultraviolet rays or heated to cure the guest monomer in the unexposed portion and fix the record carrier.
  • the hologram obtained in this manner is composed of a host monomer polymer 10 and a guest monomer polymer 20 as shown in FIG.
  • the surface of the obtained mouth gram can be used as it is. However, glass or plastic film may be attached.
  • the present invention will be described with reference to specific examples.
  • Tripromophenol methacrylate (trade name: BR-31, manufactured by Dai-Ichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.) ⁇ 0.5 g ⁇ 3, 3 ', 4, 4, 1 tera Benzofuyunone 0.08 g
  • a composition having 0.03 g was dissolved in 10 g of 1,4-dioxane, and after a 0.25 ⁇ m filtration, a photosensitive solution was obtained.
  • This photosensitive solution was applied on a 3 mm thick glass plate using a replicator so that the film thickness after drying was 9 m, dried at 70: for 45 minutes, and then dried with a polyvinyl alcohol. (Kuraray Co., Ltd., degree of polymerization: 500, degree of polymerization: 88%) A 10% permanent solution was applied with a spin coater at 200 rpm. This was dried at 60 t for 10 minutes to obtain a record carrier.
  • the record carrier was exposed to light using a wavelength of 488 Tim from a Lugon laser using the Lippmann type diffraction grating photographing optical system shown in FIG. Exposure was performed at a light intensity ratio of 1: 1 and an exposure energy of 2 O mJ / cm 2 .
  • 1 is an argon laser
  • 2 is Neuf mirror
  • 3 is a mirror
  • 4 is a spatial filter
  • 5 is a photosensitive plate.
  • the whole surface was exposed for 60 seconds using a chemical lamp (FL-20BL, manufactured by Toshiba Hayashi). At this time, only a visible light of 400 nm or more was irradiated using a sharp cut filter L39.
  • the record carrier is washed for 1 minute in running water to remove the polyvinyl alcohol layer. After drying, the record carrier is washed in a 10% by weight acetone solution of trimethylolpropane acrylate (developer). For 3 minutes.
  • the record carrier was taken out of the developer and irradiated with a xenon lamp to be cured to produce a hologram.
  • each of the holograms was produced using the guest monomers shown in the following table instead of the guest monomer, ie, trimethicone monocyclic panacrylate.
  • the difference in the optical refractive index between the guest monomer and the host monomer and the maximum diffraction efficiency of the obtained holegram are also shown in the following table.
  • ACTICRYL are all made by France SNPE, and ACTICRY CL959 has the following structural formula
  • CH 2 CHCOCH 2 CH 2 N- CH 2
  • ACTICRYL CL993 has the following structural formula (wherein R and R 2 represent alkylene groups)
  • the ACTICRYL CL1039 has the following structural formula
  • a hologram was produced 10 times under the same conditions for a record carrier using Tri-Mn-phenol-methacrylate as the guest monomer, and the reproducibility was examined. At 10%, the reproduction wavelength ( ⁇ ⁇ ) changed only ⁇ 10%.
  • the dendritic hologram forming apparatus shown in FIG. Exposure was performed using light with a wavelength of nm.
  • the exposure energy is 2 OmJ / cm 2 .
  • the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same contents, and 6 indicates a subject.
  • the diffraction grating obtained by performing the same processing as above is the maximum number of times A hologram similar to that of the Lippmann type was obtained with an index of 50% ⁇ .
  • the relationship between the refractive index difference in the above table and its maximum diffraction efficiency is shown in FIG.
  • a specific example was made by using a polyurethane monomer ACT I CRY SH CL960, a product of SNPE, France, as a guest monomer, and a host monomer shown in the following table as a guest monomer.
  • a record carrier was prepared in the same manner as in 1 and developed in the same manner as in Example 1 to produce a Lippmann hologram. Hologram The following table also shows the evaluation as a room. The sensitivity of this gram was 5 mJZcm 2 , which was a low sensitivity.
  • the hologram of the present invention provides a diffraction efficiency by providing a difference between the optical refractive index of the polymer in the interference fringe portion and the optical refractive index of the polymer in the portion between the interference fringes. It is possible to improve it.
  • the hologram forming method of the present invention can control the hologram reproduction wavelength, has high diffraction efficiency, and can produce a hologram with high brightness with good reproducibility.
  • the obtained hologram is used for an information recording medium, a light control device, and the like.

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Abstract

A hologram shown in the figure, wherein a photopolymer in a matrix polymer produces interference fringes (10), and a photopolymer or thermal polymer (20) having a refractive index different from that of the photopolymer exists between the fringes, thereby forming a diffraction grating. A recording medium consisting of a matrix polymer, a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator is exposed to an interference pattern of light, and is then dipped into a developing solution containing a polymer of the photo-polymerizable compound and a photo- or thermally-polymerizable compound having a different refractive index after curing from that of the polymer of the photo-polymerizable compound. The recording medium is then cured by heat or light. In this way, non-uniformity of diffraction efficiency and reproduction wavelength and whitening can be prevented, the reproduction wavelength can be controlled, and a hologram having high diffraction efficiency and high brightness can be obtained.

Description

明細書  Specification
ホログラム及びその形成方法  Hologram and method for forming the same
技術分野  Technical field
本発明はホログラム、 特に体積位相型ホ口グラムの構成、 材料及びその形成方法に関する。  The present invention relates to a hologram, in particular, to a configuration and a material of a volume phase type photogram and a method of forming the same.
背景技術  Background art
ホログラフィ一は、 レーザーのような干渉性良好な光源を 利用して生じた干渉縞を記録媒体に記録する技術である。 記 録材料としてはフォ トレジス ト、 重クロム酸ゼラチン、 ハロ ゲン化銀乳剤等が知られているが、 いずれも解像性、 コス ト 、 耐湿性等に問題があり、 良質な体積位相型ホログラムは未 だ得られていないのが現状である。  Holography is a technique for recording interference fringes generated using a light source with good coherence such as a laser on a recording medium. Photoresist, gelatin dichromate, silver halide emulsion, etc. are known as recording materials, but all have problems in resolution, cost, moisture resistance, etc. Has not yet been obtained.
また、 記録材料としてポリ一 Ν—ビニルカルバゾール、 多 官能性モノマー、 光重合開始剤からなるホログラム記録材料 が知られているが (特開平 2— 2 1 6 1 8 0号、 同 2— 2 1 6 1 8 1号) 、 現像に際しては膨潤工程及び収縮工程により 行われており、 ホログラムの再現性がその時の気温や湿度に 大きく依存し、 同じ再生波長や回折効率を保持することが困 難であり、 また低露光エネルギーではポリマ—の架橋密度が 低く、 急激な膜収縮による白化現象の発生を避けることは困 難であった。 そして、 上記記録媒体はいずれもマ ト リ ックス 記録媒体と干渉縞とからなり、 各干渉縞間はマ ト リ ックス組 成物のみから構成されている。  As a recording material, a hologram recording material comprising poly (vinyl carbazole), a polyfunctional monomer, and a photopolymerization initiator has been known (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-216180, 2-221). However, the development is performed by the swelling and shrinking steps, and the reproducibility of the hologram greatly depends on the temperature and humidity at that time, making it difficult to maintain the same reproduction wavelength and diffraction efficiency. In addition, at low exposure energy, the crosslink density of the polymer was low, and it was difficult to avoid the occurrence of whitening due to rapid film shrinkage. Each of the above recording media is composed of a matrix recording medium and interference fringes, and the space between the interference fringes is composed of only a matrix composition.
本発明は、 第 1に新規なホログラムの構成及びホログラム 形成材料の提供にある。 第 2には、 回折効率が髙くて、 現像条件による回折効率や 再生波長のばらつきのないホログラム及びその形成方法の提 供にある。 The present invention firstly provides a novel hologram configuration and a hologram-forming material. Second, it is to provide a hologram having a high diffraction efficiency and no variation in the diffraction efficiency and reproduction wavelength depending on the developing conditions, and a method of forming the hologram.
第 3には、 白化現象のないホログラム及びその形成方法の 提供にある。  Third, there is a need to provide a hologram free from whitening and a method for forming the hologram.
第 4には、 再生色を制御しうるホログラム及びその形成方 法の提供にある。  Fourth, it is to provide a hologram capable of controlling a reproduction color and a method of forming the hologram.
発明の開示  Disclosure of the invention
本発明のホログラムは、 マト リ ツクスポリマー中において 光重合体による干渉縞が形成され、 該干渉縞の間に前記光重 合体とは光屈折率を相違する光又は熱重合体が存在すること により回折格子が形成されたことを特徴とする。  In the hologram of the present invention, interference fringes due to a photopolymer are formed in the matrix polymer, and light or a heat polymer having a different light refractive index from that of the photopolymer is present between the interference fringes. A diffraction grating is formed.
更に、 詳しくは、 前記光又は熟重合体が、 光重合体による 干渉縝の藺における光重合成分を他の重合成分により置換し 、 前記光重合体と光屈折率を相違するものとされたことを特 徴とする。  More specifically, the photopolymer or the ripened polymer replaces the photopolymerized component in the interference of the photopolymer with another polymerized component, and has a photorefractive index different from that of the photopolymer. The feature is.
また、 前記光重合体及び光又は熱重合体の何れか一方が、 ハロゲン化されていてもよい芳香族 (メタ) アタ リ レー トの 重合生成物であり、 他方がハロゲン化されていてもよい脂肪 族 (メタ) ァク リ レートの重合生成物であることを特徴とす る。  Further, one of the photopolymer and the light or heat polymer is a polymerization product of an aromatic (meth) acrylate that may be halogenated, and the other may be halogenated. It is characterized by being a polymerization product of an aliphatic (meth) acrylate.
本発明のホログラム形成方法は、 マ ト リ ッ クスポリマー、 及び光重合可能な化合物 ( 下、 ホス トモノマーという) 、 更に光重合開始剤とからなる記録担体を光の千渉パターンに 露出した後、 該記録担体を、 前記光重合可能な化合物の重合 体と硬化後に光屈折率を相違する光又は熱重合可能な化合物The method for forming a hologram of the present invention comprises exposing a recording carrier comprising a matrix polymer, a photopolymerizable compound (hereinafter referred to as a host monomer), and a photopolymerization initiator to a light interference pattern. Polymerizing the photopolymerizable compound with the record carrier Light or heat polymerizable compound with different refractive index after curing
(以下、 ゲス トモノマーという) を舍有する現像液に浸漬し 、 次いで該記録担体を熱又は光により硬化させることを特徴 とする。 (Hereinafter referred to as a guest monomer) in a developing solution having the same, and then the recording medium is cured by heat or light.
フォ トポリマ ーを用いた体積位相型ホログラムは、 その記 録担体における組成と現像方法に大きく依存しているが、 従 来のこの種ホログラムの製造にあたっては、 その現像工程を 膨潤、 収縮の 2工程を必須としているために再現性が得にく く、 また膜収縮、 乾燥工程による白濁化現象は避けられない 問題であった。 本発明は干渉縞暗部の未重合領域に記録担体 における重合成分とは相違する重合成分を挿入して、 その屈 折率差によりホログラム像を形成させうることを見出したも のである。  A volume phase hologram using a photopolymer greatly depends on the composition of the recording carrier and the developing method.In the conventional production of this kind of hologram, the developing process involves two steps of swelling and shrinking. Therefore, reproducibility was difficult to obtain, and clouding due to film shrinkage and drying process was an inevitable problem. According to the present invention, it has been found that a hologram image can be formed by inserting a polymerized component different from the polymerized component in the record carrier into the unpolymerized region of the interference fringe dark portion, and the refractive index difference.
体積位相型ホログラムにあっては、 特定の光のみを反射再 生するという性質を有し、 その波長はホログラム層中に記録 された干渉縞の間隔に依存するが、 本発明のホログラム形成 方法は、 光硬化または熱硬化性重合成分を含有した現像液に より現像し、 次いで記録担体を硬化させることにより、 干渉 縞の間隔を膨潤及び収縮により変動させることなく、 固定す ることを可能とするものであり、 これにより再生波長の均一 なホログラムを再現性よく製造しうると共に、 溶媒、 及びホ ス トモノマーとゲス トモノマーの組合せを選択することによ り再生波長を制御することができるものであり、 更に、 従来 の膨潤状態の記録担体を収縮させる際に生じたクラック等に よる白化現象の全く生じない透明なホログラムとなしえるも のである。 The volume phase hologram has the property of reflecting and reproducing only specific light, and its wavelength depends on the interval between interference fringes recorded in the hologram layer. By developing with a developer containing a photocurable or thermosetting polymerizable component and then curing the record carrier, it is possible to fix the interference fringes without changing the distance between the interference fringes due to swelling and shrinkage. Thus, a hologram having a uniform reproduction wavelength can be produced with good reproducibility, and the reproduction wavelength can be controlled by selecting a solvent and a combination of a host monomer and a guest monomer. Further, the hologram can be formed as a transparent hologram that does not cause any whitening phenomenon due to cracks or the like generated when a conventional swollen record carrier is contracted. It is.
また、 記録担体中の重合成分、 即ちホス トモノマーと現像 液中の重合成分、 即ちゲス トモノマーとの光屈折率を相違さ せておくことにより、 髙ぃ回折効率を得ることができ、 明度 の髙ぃホログラムとすることができる。  In addition, by making the photorefractive index of the polymerization component in the record carrier, that is, the host monomer, different from that of the polymerization component in the developing solution, that is, the guest monomer, the diffraction efficiency can be obtained, and the brightness can be improved.ぃ It can be a hologram.
本発明により、 再生波長が制御され、 かつ髙ぃ回折率のホ ログラムを再現性よく製造することができるので、 例えば調 光装置等へのホログラムの用途を可能とするものである。  According to the present invention, a reproduction wavelength can be controlled and a hologram having a 髙 ぃ diffraction index can be produced with good reproducibility, so that a hologram can be used for, for example, a light control device.
図面の簡単な説明  BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
第 1図は、 リ ップマン型ホログラム形成装置の概略図であ る 0  FIG. 1 is a schematic diagram of a Lippmann hologram forming apparatus.
第 2図は、 デニシューク型ホログラム形成装置の概略図で のる。  FIG. 2 is a schematic view of a denishook type hologram forming apparatus.
第 3図は、 本発明により作製したホログラムについて、 そ のホス トモノマーとゲス トモノマーの光屈折率差と最大回折 効率との闋係を示す図である。  FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the difference in the optical refractive index between the host monomer and the guest monomer and the maximum diffraction efficiency of the hologram produced according to the present invention.
第 4図は、 本発明のホログラムの構成を示す図である。  FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a hologram of the present invention.
発明を実施するための最良の形態  BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
まず、 本発明における記録担体を構成する成分について説 明する。  First, the components constituting the record carrier in the present invention will be described.
マ ト リ ックスポリマ一としては、 ポリメタアタ リル酸ェス テル又はその部分加水分解物、 ポリ齚酸ビニル又はその加水 分解物、 ポリスチレン、 ポリビニルブチラール、 ポ リ クロ c プレン、 ポリ塩化ビニル、 塩素化ポリエチレン、 塩素化ポリ プロピレン、 ポリ 一 N—ビニルカルバゾール又はその誘導体 、 ポ リ 一 N—ビニルピロ リ ドン又はその誘導体、 スチレンと 無水マレイ ン酸の共重合体またはその半エステル、 アク リ ル 酸、 アタ リル酸エステル、 メタク リル酸、 メタク リル酸エス テル、 アク リ ルアミ ド、 アク リ ルニ ト リル等の共重合可能な モノマー群から選択されるモノマーを重合成分とする共重合 体等が用いられる。 Matrix polymers include polymethacrylic acid ester or its partial hydrolyzate, polyvinyl acetate or its hydrolysate, polystyrene, polyvinyl butyral, poly (c-prene), polyvinyl chloride, chlorinated polyethylene, Chlorinated polypropylene, poly (N-vinylcarbazole) or its derivative N-vinylpyrrolidone or a derivative thereof, a copolymer of styrene and maleic anhydride or a half ester thereof, acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid, methacrylic acid ester, acrylic acid A copolymer containing a monomer selected from a group of copolymerizable monomers such as luamide and acrylonitrile as a polymerization component is used.
特に好ましく は、 ポ リ 一 N—ビニルカルバゾール又はその 誘導体であり、 例えばポ リ 一 N—ビニルカルバゾール、 ビニ ルカルバゾ一ルースチレン共重合体、 ビニルカルバゾ一ルー 塩化ビニル共重合体、 ビニルカルバゾ一ルーメチルメ タ了ク リ レート共重合体、 ビニルカルバゾールーピニルァンスラセ ン共重合体、 ビニルカルバゾールービニルピリ ジン共重合体 Particularly preferred are poly (N-vinyl carbazole) and derivatives thereof. For example, poly (N-vinyl carbazole), vinyl carbazo-l-vinyl styrene copolymer, vinyl carbazo-l-vinyl chloride copolymer, vinyl carbazo-l-methyl methacrylate Relate copolymer, vinylcarbazole-pynylanthracene copolymer, vinylcarbazole-vinylpyridine copolymer
、 ビニルカルパゾ一ルーァク リ レー ト共重合体、 ビニルカル ノ ゾール一ェチルァク リ レー ト共重合体、 ビニルカルバゾー ルーァク リ ニ ト リ ル共重合体、 ビニルカルバゾ一ル一ブチ ルァク リ レー ト共重合体、 ビニルカルバゾール一二 ト 口 ビニ ルカルバゾ一ル共重合体、 ニトロ化ポ リ 一 N—ビニルカルバ ゾール、 ポ リ ビュル了ミ ノ力ルハ'ゾール、 ビニルカルパ'ゾ一 ルー N—メチルァ ミ ノ ビニルカルバゾール共重合体、 ハ口ゲ ン置換ポ リ 一 N—ビニルカルバゾール、 ビニルカルバゾール 一ジブロムビニルカルバゾ一ル共重合体、 ポ リ ョー ドビ二ル 力ルバゾ一ル、 ポ リ ベンジ リデンビ二ルカルバゾ一ル、 ポ リ プロぺニルカルバゾール等が挙げられる。 これらのポ リ 一 N —ビニルカルバゾ一ル類をマ ト リ ッ クスポ リ マーとして使用 すると、 耐湿性の良好なホログラムとすることができる。 ま た、 ポリ一 N—ビニルピロ リ ドン又はその誘導体も好ましく 、 例えばポリ一 N—ビュルピロ リ ドンと酢酸ビュル、 グリ シ ジルメタク リ レート、 アルキル (メタ) アタ リ レー ト、 スチ レン等との共重合体等が挙げられる。 , Vinyl carbazole monoacrylate copolymer, vinyl carbazole monoethyl acrylate copolymer, vinyl carbazole monoethyl acrylate copolymer, vinyl carbazole monobutyl acrylate copolymer, vinyl Carbazole 22-port vinyl carbazole copolymer, nitrated poly-N-vinyl carbazole, poly-vinyl carbazole, vinyl carbazole mono-N-methylamino vinyl carbazole copolymer, Haguchigen-substituted poly-N-vinylcarbazole, vinylcarbazole-dibromovinylcarbazole copolymer, polyvinylvinylcarbazole, polybenzylidenevinylcarbazole, polypro Zinc carbazole and the like. When these poly-N-vinyl carbazoles are used as a matrix polymer, a hologram having good moisture resistance can be obtained. Ma Also preferred are poly (N-vinylpyrrolidone) and derivatives thereof. For example, copolymers of poly (N-butylpyrrolidone) with butyl acetate, glycidyl methacrylate, alkyl (meth) acrylate, styrene, etc. And the like.
次に、 エチレン性不飽和結合を有する光重合可能な化合物 (ホス トモノマ一) について説明する。  Next, the photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond (host monomer) will be described.
ホス トモノマーとしては、 1分子中に少なくともエチレン 性不飽和二重結合を 1個有する光重合、 光架橋可能なモノマ 一、 オリゴマー、 プレボリマー及びそれらの混合物であり、 モノマー及びその共重合体の例としては、 不飽和カルボン酸 及びその塩、 不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合 物とのエス'テル、 不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミ ン化合 物とのァミ ド等が挙げられる。  Examples of the host monomer include photopolymerization, photocrosslinkable monomers, oligomers, prepolymers, and mixtures thereof having at least one ethylenically unsaturated double bond in one molecule, and examples of the monomer and its copolymer. Examples include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, esters of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric amine compounds, etc. .
不飽和カルボン酸のモノマーの具体例としてはァク リル酸 、 メタク リル酸、 イタコン酸、 ク口 ト ン酸、 イソクロ トン酸 、 マレイ ン酸、 及びそれらのハロゲン置換不飽和カルボン酸 、 例えば塩素化不飽和カルボン酸、 臭素化不飽和カルボン酸 、 弗素化不飽和カルボン酸等が挙げられる。 不飽和カルボン 酸の塩としては前述の酸のナト リゥム塩及び力 リゥム塩等が ある。  Specific examples of unsaturated carboxylic acid monomers include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, oxalic acid, isocrotonic acid, maleic acid, and halogen-substituted unsaturated carboxylic acids such as chlorinated acids. And unsaturated carboxylic acids, brominated unsaturated carboxylic acids, fluorinated unsaturated carboxylic acids and the like. Examples of the salts of unsaturated carboxylic acids include the sodium salts and potassium salts of the aforementioned acids.
また、 脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸と のエステルのモノマーの具体例としては、 ァク リル酸エステ Jレとして、 エチレングリコールジ了ク リ レー ト、 ト リ エチレ ングリ コ一ルジアタ リ レート、 1, 3 —ブタンジオールジァ ク リ レー ト、 テ トラメチレングリ コールジ了ク リ レー ト、 プ ロ ピレングリ コ ールジァク リ レー ト、 ネオペンチルグリ コ ー ルジァク リ レー ト、 ト リ メチロールプ Dパン ト リ 了ク リ レー ト、 ト リ メチロールプロハ0ン ト リ (ァク リ ロイ ルォキシプロ ピル) エーテル、 ト リ メチ σ —ルェタ ン ト リ アク リ レー ト、 へキサンジオールジアタ リ レー ト、 1 , 4 —シク ロへキサン ジオールジァク リ レー ト、 テ ト ラエチレングリ コ ールジァク リ レー ト、 ペンタエ リ ス リ ト ールジァク リ レー ト、 ペンタエ , リス リ トールト リ アタ リ レー ト、 ペンタエ リ ス リ ト ールテ ト ラァク リ レー ト、 ジペンタエ リ ス リ トールジ了ク リ レー ト、 ジペンタエ リ ス リ トール ト リ ァク リ レー ト、 ジペンタ エ リ ス リ トールテ ト ラアタ リ レー ト、 ジペンタエ リ ス リ ト ールへキ サァク リ レー ト、 ソルビ ト ール ト リ 了タ リ レー ト、 ソルビ ト —ルテ ト ラァク リ レー ト、 ソルビ トールペンタァク リ レー ト 、 ソルビ トールへキサ了ク リ レー ト、 ト リ (ァク リ ロイ ルォ キシェチル) イ ソシ了ヌレー ト、 ポ リ エステルァク リ レー ト ォ リゴマ一等がある。 Further, specific examples of the ester monomer of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diethanolate, and the like. 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, B Pirenguri co Rujiaku Li rate, neopentyl Legris co over Rujiaku Li rate, Application Benefits Mechirorupu D pan Application Benefits Ryouku Li rate, Application Benefits Mechirorupuroha 0 down Application Benefits (§ click Li Roy Ruokishipuro pills) ether, Trimethy sigma —luentant acrylate, hexanediol diatalylate, 1,4 —cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol Penta-erythrate, penta-erythritol, tri-acrylate, dipenta-erythritol, penta-erythritol, tri-acrylate, dipenta-erythritol , Dipentaerythritol tetraatrate, dipentaerythrate Toll hex rate, sorbitol toll rate, sorbitol-lute tollate rate, sorbitol pentaacrylate rate, sorbitol tox rate, trill rate (Acriroy Loquischetil) There are several types of products, such as Polyester Acrylate and oligomas.
メタ ク リ ル酸エステルと しては、 テ ト ラメチレングリ コー ルジメタク リ レー ト、 ト リ エチレングリ コールジメ タ ク リ レ — ト、 ネオペンチルグリ コールジメ タ ク リ レー ト、 ト リ メチ ロールプロパン ト リ メ タ ク リ レー ト、 ト リ メチ口一ルェタ ン ト リ メ タ ク リ レー ト、 エチレングリ コ一ルジメ タ ク リ レー ト 、 1 , 3 —ブタ ンジオールジメタ タ リ レー ト、 へキサンジォ ールジメ タ ク リ レー ト、 ペンタエ リ ス リ トールジメ タ ク リ レ — ト、 ペンタエ リ ス リ ト ール ト リ メ タ ク リ レー ト、 ペンタ エ リ 'ス リ ト ールテ ト ラメ タ ク リ レー ト、 ジペンタエ リ ス リ ト ー ルジメタク リ レー ト、 ジペンタエ リス リ トールへキサメタク リ レート、 ソルビトールト リメタク リ レー ト、 ソルビトール テ トラメタク リ レート、 ビス一 〔P— ( 3—メタク リルォキ シ一 2—ヒ ドロキシプロボキシ) フ: ϋニル〕 ジメチルメタン 、 ビス一 〔 ρ — (アク リルォキシエ トキシフヱニル〕 ジメチ ルメタン、 2 , 2 —ビス ( 4 —メタタ リ ロイルォキシフエ二 ル) プロパン、 メタク リル酸ー 2—ナフチル等がある。 Methacrylates include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate. Tactylate, trimethicone methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate Rate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythrate Retort Rudimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis- [P- (3-methacryloxyl-2-hydroxypropoxy) f: ϋ Nyl] dimethylmethane, bis- [ρ- (acryloxyethoxyphenyl) dimethylmethane, 2,2-bis (4-methacryloyloxyphenyl) propane, methacrylic acid-2-naphthyl, and the like.
ィタコン酸エステルとしてはエチレングリ コールジイタコ ネート、 プロピレングリコールジイタコネー ト、 1, 3 —ブ タンジオールジイタコネー ト、 1 , 4—ブタンジオールジィ タコネート、 テ トラメチレングリ コ一ルジイタコネー ト、 ぺ ンタエリスリ トールジイタコネー ト、 ソルビトールテ トライ タコネート等が挙げられる。  Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, and pentaerythritol. Diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
クロ トン.酸エステルとしては、 エチレングリコールジクロ トネ一ト、 テ トラメチレングリコ一ルジクロ トネー ト、 ペン タエ リス リ トールジクロ トネー ト、 ソルビトールテ トラクロ トネート等が挙げられる。  Examples of croton acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetracrotonate.
イソク トン酸エステルとしては、 エチレングリ コールジ イソクロ トネー ト、 ペンタエリス リ トールジイ ソクロ トネ一 ト、 ソルビトールテ トライ ソクロ トネ一 ト等が挙げられる c マレイ ン酸エステルとしては、 エチレングリコールジマレ ート、 ト リエチレングリ コ一ルジマレー ト、 ペンタエリス リ ト一ルジマレ一 ト、 ソルビトールテ トラマレー ト等が挙げら れる。 Isoku The Tonsan esters, ethylene glycidyl Koruji Isokuro Tone DOO, Pentaerisu Li Torujii Sokuro TONNAY one DOO, as the c maleic phosphate ester sorbitol Te tri Sokuro Tone one bets, and the like, ethylene glycol di maleate over preparative, preparative Riechiren Glycolymate, pentaerythritol and maleic acid, sorbitol tetramarate and the like can be mentioned.
ハロゲン化不飽和カルボン酸としては、 2, 2 , 3 , 3 - テ トラフルォロプロ ピルアタ リ レー ト、 1 H , 1 H , 2 H , 2 H—ヘプタデカフルォロデシルアタ リ レー ト、 2 , 2 , 3 , 3 —テ トラフルォロプロ ピルメタク リ レー ト、 1 H, 1 H , 2 H , 2 H—ヘプタデカフルォ σデシルメタク リ レー ト、 メタク リ ル酸一 2 , 4, 6 — ト リプロモフヱニル、 ジブ σモ ネオペンチルジメタク リ レー ト (商品名 : Ν Κエステル D Β Ν、 新中村化学工業 (株) 製) 、 ジブロモプロピルァク リ レ 一ト (商品名 : Ν Κエステル Α— D B P、 新中村化学工業 ( 株) 製) 、 ジプロモプロピルメタク リ レー ト (商品名 : N K エステル D B P、 新中村化学工業 (株) 製) 、 メタク リル酸 クロライ ド、 メタク リル酸一 2 , 4 , 6 — ト リ クロ口フエ二 ル、 p —クロロスチレン、 メチルー 2—クロロアク リ レー ト 、 ェチル一 2 _クロロアク リ レー ト、 n—プチルー 2—クロ ロアタ リ レー ト、 ト リプロモフヱノ ールアタ リ レー ト、 テ ト ラブロモフ ノールァク リ レート等が挙げられる。 As the halogenated unsaturated carboxylic acids, 2, 2, 3, 3- Tetrafluoropropyl pyratarate, 1H, 1H, 2H, 2H—Heptadecafluorodecylatarate, 2,2,3,3—Tetrafluoropropylpyramethacrylate, 1H, 1H , 2H, 2H—Heptadecafluoro σ-decyl methacrylate, methacrylic acid mono 2,4,6—Tripromophanil, Jib σ-moneopentyl dimethacrylate (trade name: Κ Κester D Β Nakamura Chemical Co., Ltd.), dibromopropyl acrylate (trade name: Ester-DBP, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipromopropyl methacrylate (trade name: NK ester DBP, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), methacrylic acid chloride, 1,2,4,6-methacrylic acid triphenyl mouth, p-chlorostyrene, methyl-2-chloroacrylate , Le one 2 _ Kuroroaku Li rate, n- Puchiru 2 Black Roata Li rate, preparative Ripuromofuweno Ruata Li rate, Te preparative Raburomofu Noruaku Li rate, and the like.
また、 不飽和カルボン酸と脂肪族多価ァミ ン化合物とのァ ミ ドのモノマーの具体例としてはメチレンビスァク リルアミ ド、 メチレンビスメタク リルァミ ド、 1 , 6—へキサメチレ ンビスアク リルアミ ド、 1, 6 —へキサメチレンビスメタク リ ルア ミ ド、 ジエチレン ト リ ァ ミ ン ト リ スアク リ ル了 ミ ド、 キシリ レンビスアク リルアミ ド、 キシリ レンビスメタク リル ア ミ ド、 N—フエニルメタク リルア ミ ド、 ダイ了セ ト ンァク リルァミ ド等が挙げられる。  Specific examples of amide monomers of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1, 6—Hexamethylene bismethacrylamide, diethylene triammonium triacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide, N-phenylmethacrylamide, die And acrylamide.
その他の例としては、 特公昭 4 8 - 4 1 7 0 8号公報に記 載された 1分子に 2個以上のィソシァネー ト基を有するポリ イ ソシァネート化合物、 下記一般式 As another example, a polymer described in Japanese Patent Publication No. 48-41708, which has two or more isocyanate groups in one molecule, may be used. Isocyanate compound, the following general formula
CH8 =C(R) C00CH2CH(R' )0H CH 8 = C (R) C00CH 2 CH (R ') 0H
(式中 R、 R' は永素或いはメチル基を表す。 )  (In the formula, R and R 'each represent an amino or methyl group.)
で示される永酸基を含有するビニルモノマーを付加させた 1分子中に 2倔 J£i上の重合性ビニル基を舍有するビニルゥレ タン化合物等が挙げられる。  And a vinylurethane compound having a polymerizable vinyl group on a rigid substrate in one molecule to which a vinyl monomer having a permanent acid group represented by the formula (1) is added.
また、 特開昭 5 1 - 3 7 1 9 3号公報に記載されたウレタ ン了ク リレート類、 特開昭 4 8 - 6 4 1 8 3号公報、 特公昭 4 9 - 4 3 1 9 1号公報、 特公昭 5 2— 3 0 4 9 0号公報に それぞれ記載されているようなポリエステルアタ リレート類 、 エポキシ樹脂と (メタ) アク リル酸等の多官能性のアタ リ レー トゃメタク リ レートを挙げることができる。  Also, urethane acrylates described in JP-A-51-371193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 Polyester acrylates such as polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-B-52-34090 Rate can be mentioned.
さらに、 日本接着協会誌 V o 1. 2 0. N o ? . 3 0 0 - 3 0 8頁に光硬化性モノマー及びォリゴマーとして紹介され ているものも使用することができる。  Furthermore, those described as photocurable monomers and oligomers in the Journal of the Adhesion Society of Japan, Vo1.20. No? .300-308, can also be used.
その他、 烽を含むモノマーとしてはモノ ( 2—アタ リ イ 口キシェチル) アシッ ドフォスフヱー ト (商品名 : ライ トェ ステル P A、 共栄社油脂化学工業 (株) 製) 、 モノ ( 2—メ タク リ ロイキエチル) ァシッ ドフォスフェー ト (商品名 : ラ ィ トエステル PM、 共栄社油脂化学工業 (株) 製) が挙げら れ、 またエポキシァク リ レ一ト系である商品名 : リポヰシ V R— 6 0 (昭和高分子 (株) 製) 、 商品名 : リポキシ V R— 9 0 (昭和髙分子 (铢) 製) 等が挙げられる。  In addition, the monomers containing the signal include mono (2-atalyi kishechil) acid phosphate (trade name: Lightester PA, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and mono (2-methacrylic acid ethyl). Dofosphate (trade name: Liteester PM, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.); and epoxy acrylate-based product name: Lipposi VR-60 (manufactured by Showa Kogyo Co., Ltd.) ), Trade name: Lipoxy VR-90 (manufactured by Showa Kagaku (铢)).
また、 商品名 : NKエステル M— 2 3 0 G (新中村化学ェ 業 (株) 製) 、 商品名 : NKエステル 2 3 G (新中村化学ェ 業 (株) 製) も挙げられる。 Trade name: NK ester M-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Trade name: NK ester 23G (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.).
更に、 下記の構造式を有する ト リアタ リ レート類、  Further, triarylates having the following structural formula,
CH2=CHCOOCH2CH CH2COOCH = CH2
Figure imgf000013_0001
CH 2 = CHCOOCH 2 CH CH 2 COOCH = CH 2
Figure imgf000013_0001
CH2CH2C00CH = CH2 CH 2 CH 2 C00CH = CH 2
(東亜合成化学工業 (株) 製、 商品名、 ァロニッ クス M 3 1 5 ) (Toagosei Chemical Industry Co., Ltd., trade name, ARONIX M3 15)
Figure imgf000013_0002
Figure imgf000013_0002
CH2CH20( CH2)5OCOCH = CH: (東亜合成化学工業 (株) 製、 商品名、 ァロニッ クス M—CH 2 CH 20 (CH 2 ) 5 OCOCH = CH : (Toagosei Chemical Industry Co., Ltd., trade name, ARONIX M—
3 2 5 ) 、 また、 2 , 2 ' —ビス U-ァク リ ロキシ · ジエ ト キシフ -ニル) プロパン (新中村化学 (株) 製、 商品名、 N Kエステル A-BPB-4 ) 、 テ ト ラメチロールメ タ ンテ ト ラ了 ク リ レー ト (新中村化学 (株) 製、 商品名、 NKエステル A-丽) 等が挙げられる。 3 2 5), and 2,2'-bis-U-acryloxy-diethoxy-nil) propane (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name, NK ester A-BPB-4), Tet Lamethylol methane acrylate (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name, NK ester A-II) and the like.
好ましくは、 その一分子中に臭素又は沃素原子を 0〜 1 0 個会む芳香族 (メタ) ァク リ レー ト、 又はビニルエーテル、 又はエポキシ化合物、 一分子中に弗素又は珪素原子を 0〜 2 0個舍む脂肪族 (メタ) アタ リ レート、 又はビニルエーテル 、 又はエポキシ化合物が挙げられ、 特に好ましくは、 ハロゲ ン化されていてもよい芳香族 (メタ) アタ リ レート、 ハロゲ ン化されていてもよい脂肪族 (メタ) アタ リ レートが挙げら れる。 Preferably, aromatic (meth) acrylate in which 0 to 10 bromine or iodine atoms are present in one molecule, or vinyl ether, Or an epoxy compound, an aliphatic (meth) acrylate which has 0 to 20 fluorine or silicon atoms in one molecule, or a vinyl ether, or an epoxy compound. Particularly preferred is a halogenated compound. Examples include good aromatic (meth) acrylates and optionally halogenated aliphatic (meth) acrylates.
これらのホス トモノマーはマ ト リ ックスポリマー 1重量部 に対して 1重量部〜 3重量部、 好ましくは 0 . 3重量部 〜1 . 5重量部の範囲で使用される。  These host monomers are used in an amount of 1 to 3 parts by weight, preferably 0.3 to 1.5 parts by weight, based on 1 part by weight of the matrix polymer.
次に、 光重合開始剤 ·増感剤は、 4ージメチルァミノ安息 香酸、 4ージメチルァミノ安息香酸メチル、 2—ジメチルァ ミノ安息香酸ェチル、 2—ジメチルァミノ安息香酸ェチル、 4ージメチルァミノ安息香酸ェチル、 4—ジメチルァミノ安 息香酸プチル、 4ージメチルァミノ安息香酸 2—ェチルへキ シル、 4—ジメチルァミノ安息香酸イ ソァミル、 2 , 2—ジ エ トキシァセ トフヱノ ン、 ペンジルジメチルケタール、 ベン ジルー β—メ トキシェチルァセタール、 1—フエニル一 1, 2一プロパンジオン— 2— ( 0—エ トキシカルボニル) ォキ シ厶、 ペンゾフヱノ ン、 0—ベンゾィル安息香酸メチル、 ミ ヒラースケ トン、 4 , 4 ' 一ビスジェチルァミノベンゾフヱ ノ ン、 4, 4 ' ージクロ口べンゾフエノ ン、 ジベンゾィル ( 1 , 2—ジフエニルエタンジオン) 、 ベンゾイ ン ( 2—フ エ 二ルー 2—ヒ ドロキシー了セ トフエノ ン) 、 ベンゾイ ンメチ jレエ一テ レ、 ベンゾイ ンェチ jレエ一テリレ、 ベンゾイ ンイ ソプ 口 ピルエーテル、 ベンゾィ ン一 Ti一ブチルエーテル、 ベンゾ イ ンイ ソブチルエーテル、 ベンゾイ ンブチルエーテル ( nと i s 0の 5 0 : 5 0混合物) 、 ベンゾィ ンアルキルエーテル 、 4 ' 一イ ソプロ ピル一 2—ヒ ドロキシ一 2—メ チループ口 ピオフエノ ン、 2—ヒ ドロキシ一 2—メチループ口 ピオフ エ ノ ン、 p—ジメチルア ミ ノ アセ ト フエノ ン、 p— t—ブチル ト リ ク D ロアセ ト フヱノ ン、 p— t—ブチ Jレジク ロ ロアセ ト フエノ ン、 p—アジ ドペンズアルデヒ ド、 p—アジ ドアセ ト フエノ ン、 p—アジ ドベンゾイ ン酸、 p—アジ ドベンザル了 セ ト フエノ ン、 p—アジ ドベンザルアセ ト ン、 4 , 4 ' —ジ アジドカルコ ン、 1 , 3—ビス一 (4, 一アジ ドペンザル) —アセ ト ン、 2 , 6—ビス一 ( 4 ' —了ジ ドベンザル) 一シ ク ロへキサノ ン、 2, 6—ビス一 ( 4, 一了ジシ トベンザル ) 一 4—メチルシク ロへキサノ ン、 4 , 4 ' —ジアジ ドスチ ルペン一 2 , 2, 一ジスルホン酸、 1 , 3—ビス一 ( 4, 一 アジ ドベンザル) 一 2—プロパノ ン一 2, スルホン酸、 1 , 3—ビス一 ( 4' —アジ ドベンザル) 一 2—プロパノ ン一 2 , 2, 一ジスルホン酸ナ ト リ ウム、 1, 3—ビス一 ( 4 ' 一 了ジ ドシンナシ リデン) 一 2—プロパノ ン、 アジ ド ピレン、 3—スルホニルァジド安息香酸、 4一スルホニルァジ ド安息 香酸、 2 , 6—ビス一 ( 4 ' 一了ジドペンザル) ーシク ロへ キサノ ン一 2 ' , 2ジスルホン酸 (ナ ト リ ウム塩) 、 2 , 6 —ビス一 ( 4' —アジ ドベンザル) 一メチル一シク ロへキサ ノ ン 2 , 2 ' 一ジスルホン酸 (ナ ト リ ウム塩) 、 4一ジァゾ ジフエニルァ ミ ン硫酸塩、 4一ジ了ゾ一 4' —メ トキシージ フ'ェニルァ ミ ン硫酸塩、 4一ジ了ゾ一 3—メ トキシ一ジフ エ ニル了ミ ン、 ナフ トキノ ン ( 1, 2 ) ジァジド ( 2 ) — 4— スルホン酸のナ ト リウム塩、 ナフ トキノ ン ( 1 , 2 ) ジアジ ド ( 2 ) — 5—スルホン酸のナト リ ゥ厶塩、 ナフ トキノ ン ( 1 , 2 ) ジ了ジド ( 2 ) — 5—スルホン酸エステル ( 1 ) 、 ナフ トキノ ン ( 1 , 2 ) ジァジド ( 2 ) — 5 —スルホン酸ェ ステル、 ナフ トキノ ン ( 1 , 2 ) ジアジド ( 2 ) — 5—スル ホン酸エステル ( 3 ) —ノポラック樹脂エステル、 ジ了ゾ樹 脂 (ジァゾジフヱニルァミ ン 'パラホルム了ルデヒ ド縮合物 の硫酸塩及び塩化亜鉛複塩等) 、 ト リ フエニルピリ リ ウム過 塩素酸塩、 4ーメ トキシフヱニル一 2 , 6—ジフヱニルピリ リ ウム過塩素酸塩、 4一ブトキシフヱ二ルー 2 , 6—ジフエ 二ルビリ リゥ厶過塩素酸塩、 ト リフヱ二ルチオピリ リゥム過 塩素酸塩、 4—メ トキシフヱ二ルー 2, 6—ジフヱ二ルチオ ピリ リ ゥム過塩素酸塩、 チォキサン ト ン、 2—メチルチオキ サントン ( 2—メチルー 9 H—チォキサンセン一 9—オン) 、 クロ口チォキサント ン ( 2—クロ口一 9 H—チォキサンセ ン一 9一オン) 、 2—イ ソプロ ピルチオキサンソン ( 2—ィ ソプ口ピル一 9 H—チォキサンセン一 9一オン) 、 ジベンゾ スベロン、 2 , 5—ビス一 ( 4, 一ジェチルァミノべンザル ) シクロペンタノ ン、 1 ーァセチルアミ ノ ー 4 一二 トロナフ タレン、 5—ニトロァセナフテン、 1 —ニトロ ピレン、 or—ジクロ口一 4ーフヱノキシァセ ト フヱノ ン、 1 一ヒ ド キシシクロへキシルフェニルケ ト ン、 又、 商品名 : カャキュ ァ MB P (日本化薬 (株) 製) 、 商品名 : UVE C R Y L P 3 6 (UC B) 等が挙げられ、 これらは単独でも、 また澄 合して使用することができる。 Next, the photopolymerization initiator and sensitizer were 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 2-dimethylaminobenzoate, ethyl 2-dimethylaminobenzoate, ethyl ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoate. Butyl benzoate, 2-Ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, Isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2,2-Diethoxyacetatophenone, Penzyldimethylketal, Benziru-β-Methoxyxacetal, 1-Phenyl-1-, 2-propanedione-2- (0-ethoxycarbonyl) oxam, benzophenone, 0-methyl benzoylbenzoate, Michler's skeleton, 4,4'-Bisethylamino benzo Phenonone, 4,4 'dicyclo benzophenone, dibenzoyl (1,2-diphenyl Tandione), benzoin (2-phenyl 2-hydrogen-terminated), benzoin methyl, benzoin ethyl j, benzoin ethyl teryl, benzoin isobutyl butyl ether, benzoin thiobutyl ether The benzo Benzoin butyl ether, benzoin butyl ether (50:50 mixture of n and is 0), benzoin alkyl ether, 4'-isopropyl-12-hydroxy-12-methyl loop mouth piofenonone, 2-hi Droxy-l 2-methyl methyl piophenonone, p-dimethylamino acetophenone, pt-butyl trichloride D-loacetophenone, p-t-buty J regichloroacetone phenone, p- Azidopenzaldehyde, p-azidoacetophenone, p-azidobenzoic acid, p-azidobenzalcetocetphenon, p-azidobenzalaceton, 4,4'-diazidochalcone, 1,3-bis 1 (4,1 azidopenzal) —aceton, 2,6-bis (4'-dibenzo) 1 cyclohexanone, 2,6-bis (4,1 dicisben) (Monkey) 1-Methylcyclohexanone, 4,4'-diazidostyrpene 1,2,2,1-disulfonic acid, 1,3-bis- (4,1-azidobenzal) 1-2-propanone 1,2-sulfone Acid, 1,3-bis- (4'-azidobenzal) 1-2-propanone 1,2,2,1-sodium sodium sulfonate, 1,3-bis (4'-iso-docinnasiliden) 1 2 —Propanone, azidopyrene, 3-sulfonylazide benzoic acid, 4-sulfonylazidobenzoic acid, 2,6-bis- (4′-one-didopenzal) 2,6-bis- (4'-azidobenzal) monomethyl-cyclohexanone 2,2'-disulfonic acid (sodium salt), 4-diazodiphenylamine Sulphate, 4'4'-methoxy Rua Mi emissions sulfuric acid salt, 4 temporary Ryozo one 3-menu butoxy one Ziff et Niryomin, naphthoquinone (1,2) diazide (2) — 4-—Sulfonate sodium salt, naphthoquinone (1,2) diazide (2) — 5-—Sulfonate sodium Salt, naphthoquinone (1,2) dihydrozide (2) — 5-sulfonate (1), naphthoquinone (1,2) diazide (2) — 5 — sulfonate ester, naphthoquinone (1,2) diazide (2)-5-sulfonate (3) -nopolak resin ester, diazo resin (sulfate of diazodiphenylamine, paraform aldehyde condensate and Zinc chloride double salt), triphenylpyrium perchlorate, 4-methoxyphenyl-1,2,6-diphenylpyrium perchlorate, 4-butoxyphenyl 2,2,6-diphenylpyrium perchlorate Acid salt, triphenylthiopyri perm Acid salt, 4-methoxyphenyl 2,6-diphenylthiopyrimidine perchlorate, thioxanthone, 2-methylthioxanthone (2-methyl-9H-thioxancene-1 9-one), (2-chloro-one 9H-thioxanthone-one-one), 2-isopropylpyrthioxanthone (2-iso-propyl-one nine-H-thioxancene-one-one), dibenzosuberon, 2,5 —Bis (4,1 getylaminobenzal) cyclopentanone, 1-acetylamino 412 tronaphtalene, 5-nitroacenaphthene, 1-nitropyrene, or dicyclo mouth, 4-phenoxyacetophenone, 1-hydroxy Doxycyclohexyl phenyl ketone, trade name: Kayakua MBP (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), trade name: UVE CRYLP 36 (UCB), etc. Luo alone, also Kiyoshi Can be used in combination.
また、 下記一般式 ( 1 ) で示されるクマ リ ン化合物と有機 過酸化物が挙げられる。  In addition, a coumarin compound and an organic peroxide represented by the following general formula (1) can be mentioned.
一般式 ( 1 )  General formula (1)
Figure imgf000017_0001
Figure imgf000017_0001
1  1
(式中、 、 R 2 、 R 3 はそ 5れぞれ独立して氷素原子、 ク ロル原子、 低級アルコキシ基、 低級ジアルキルァミノ基、 低 級ジァルケニルァミノ基又は脂環式ァミノ基を示す。 Xは炭 素及びへテロ原子の総数が 5〜 9個の複素環基、 又は一 C O Y基を表す。 ここに Yは炭素数 1〜 4の置換又は非置換のァ ルキル基、 低級アルコキシ基、 置換又は非置換のフユニル基 、 置換又は非置換のステ リル基、 又は置換又は非置換の 3 ' ークマ リノ基を表す。 また Zは水素原子又はシァノ基を表す(Wherein,, R 2 and R 3 each independently represent a chromium atom, a chloro atom, a lower alkoxy group, a lower dialkylamino group, a lower dialkenylamino group or an alicyclic group. X represents a heterocyclic group having a total number of carbon atoms and hetero atoms of 5 to 9 or a COY group, wherein Y represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a lower alkoxy group, a substituted or unsubstituted fuunyl group, a substituted or unsubstituted steryl group, or a substituted or unsubstituted 3 ′ coumarino group, and Z represents a hydrogen atom or a cyano group.
0 ) 0)
式中、 R , 、 R 2 、 R 3 として好ましく は水素原子、 ク口 ル原子、 メ トキシ、 エ トキシ、 ブトキシ等の低級アルコキシ 基、 ジメチル了ミノ、 ジェチルァミ ノ、 N—メチル一 N—プ 口 ピル了ミノ等の低級ジアルキルァミ ノ基、 N—モルホ リ ノ 、 N—ピペリ ジノ等の脂環式了ミ ノ基、 ジプロぺニル了ミ ノ 、 ジ ( 一メチルプロべニル) アミ ノ基等の低級ジ了ルケ二 ルァミノ基等があげられる。 In the formula, R 1, R 2 , and R 3 are preferably a hydrogen atom, a carbonyl atom, a lower alkoxy group such as methoxy, ethoxy, butoxy, dimethylamino, getylamino, N-methyl-N-propyl. Lower dialkylamino groups such as pyrinomino; alicyclic amino groups such as N-morpholino and N-piperidino; lower groups such as dipropidinylamino and di (monomethylprobenyl) amino groups; And dialkylamine.
Xにおける複素環基としては 2 —イ ミダゾール、 2— N— メチルイ ミダゾール、 2—ベンズイ ミダゾ—ル、 2— ( 4— フエニル) 一イ ミダゾール、 2—ォキサゾ一ル、 2 —べンズ ォキサゾール、 2— (4—フヱニル) ォキサゾール、 2—チ ァゾール、 2 —べンズチアゾール、 2— ( 4—フヱニル) チ ァゾール、 2— (5 —フヱニル) チアジアゾール、 2— ( 5 — ト リル) チ了ジァゾール、 2— ( 5—ビフヱニル) チアジ 了ゾ一ル、 2— ( 5 —フヱニル) ォキサジァゾ一ル、 2— ( 5— pーメ トキシフエ二ル) ォキサジァゾール、 2— ( 5 - p—クロルフヱニル) ォキサジァゾ一ル等の残基があげられ o The heterocyclic group represented by X is 2 — imidazole, 2 — N— Methylimidazole, 2-benzimidazole, 2- (4-phenyl) -imidazole, 2-oxazole, 2-benzoxazole, 2- (4-phenyl) oxazole, 2-thiazole, 2-butyl N-thiazole, 2- (4-phenyl) thiazole, 2- (5-phenyl) thiadiazole, 2- (5-tolyl) thiadiazole, 2- (5-biphenyl) thiazyl, 2- ( 5—Phenyl) oxaziazole, 2— (5-p-methoxyphenyl) oxazine, 2- (5-p-chlorophenyl) oxazine, etc.
また、 一 C O Y基における Yとしてはメチル、 ェチル、 プ 口 ピル、 へキシル、 β—シ了ノ エチル、 エ トキシカルボニル メチル、 ブトキシカルボニルメチルなどの置換又は非置換の In addition, Y in one COY group is a substituted or unsubstituted group such as methyl, ethyl, propyl, hexyl, β-silinoethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, etc.
C 1 〜 C s のアルキル基、 フヱニル、 ρ—シァノ フヱニル、 Ρ—メチルフヱニル、 ρ—メ トキシフエニル、 m—ヒ ドロキ シカルボニルフヱニル等の置換又は穽置換のフヱニル基、 ス テ リル、 P—メ トキシステ リル、 p—シァノステ リル、 m— クロルステリル等のステリル基、 及び下記一般式で示される 3—クマリノ基、 C1-Cs alkyl group, phenyl, ρ-cyanophenyl, Ρ-methylphenyl, ρ-methoxyphenyl, m-hydroxycarbonylphenyl, etc. A steryl group such as methoxisteryl, p-cyanosteryl and m-chlorsteryl, and a 3-coumarino group represented by the following general formula:
Figure imgf000018_0001
(式中 R , 、 R 2 、 R 3 、 Zは前記一般式 ( 1 ) 式における と同じ)
Figure imgf000018_0001
(Where R,, R 2 , R 3 , and Z are the same as those in the general formula (1))
等があげられる。  And the like.
クマリ ン化合物の具体例としては 3—了セチル一 7—ジメ チルァミ ノ クマ リ ン、 3—ベンゾィル一 7 —ジメチル一アミ ノ クマリ ン、 3—ベンゾィル一 5 , 7 —ジメ トキシクマ リ ン 、 メチル, 7—ジェチルァミノ 一 3—クマ リ ノィル了セテー ト、 3—シンナモイル一 7 —ジェチルアミ ノ ク,マ リ ン、 3 , 3, 一カルボニルビス ( 7—ジェチルァミ ノ) クマ リ ン、 3 , 3 ' 一カルボニルビス ( 5 , 7—ジメ トキシァミ ノ) クマ リ ン、 7—ジェチルアミ ノー 5 , 7 ' —ジメ トキシ一 3 , 3 , 一ビスクマ リ ン、 3— ( 2 ' —ベンズイ ミダゾィ ル) 一 7 —ジェチルァミノ クマ リ ン、 3— ( 2 ' —ベンズォキサゾィ ル) 一 7 —ジェチル了ミ ノ クマ リ ン、 3— ( 5 ' —フエニル チアジアゾィル一 2 , ) — 7 —ジェチルァミ ノ クマ リ ン、 3 ― ( 2 ' —ベンズチアゾィル) 一 7 —ジェチルアミ ノ クマ リ ン、 3 , 3 ' —カルボニルビス ( 4—シ了ノ 一 7 —ジェチル ァミノ) クマ リ ン等があげられる。 。  Specific examples of coumarin compounds include 3-cetyl-7-dimethylaminocoumaline, 3-benzoyl-17-dimethyl-aminocoumarin, 3-benzoyl-15, 7-dimethoxycoumarin, methyl, methyl, 7—Jetylamino-1-3-coumarinyl acetate, 3-cinnamoyl-1 7—Jetylaminoc, malin, 3,3,1-carbonylbis (7-jetylamino) coumarin, 3,3′-carbonyl Bis (5,7-dimethoxyamino) coumarin, 7-Jethylamino-5,7'-Dimethoxy-1,3,3,1-biscoumarin, 3- (2'-Benzimidazoline) -17, Jethylamino bear Lin, 3 -— (2'-Benzoxazolyl) -1 7-Jetil-L-minocumaline, 3- (5'-Phenylthiadiazol-1 2,)-7-Jetilamino-coumarin, 3-( 2'-benzthiazolyl-17-getylaminocoumarin, 3,3'-carbonylbis (4-synono-17-getylamino) coumarin and the like. .
タマリ ン化合物と混合して使用される有機過酸化物の好ま しい化合物としては、 メチルケ ト ンパーォキサイ ド、 シク口 へキサノ ン一パーォキサイ ド、 ァセチルアセ ト ンパーォキサ イ ド、 t一ブチルパーオキサイ ド、 クメ ンハイ ド 1 pパーォキ サイ ド、 ジイ ソプロ ピルベンゼン一パ一ォキサイ ド、 t ーブ チルク ミルパーォキサイ ド、 ジク ミルパーォキサイ ド、 、 な, 一ビス ( t—ブチルク ミルパ一ォキシイ ソプロ ピル) ベ ンゼン、 tーブチルパ一ォキシイ ソプロ ピル力—ポネー ト、 ベンゾィルパーォキサイ ド、 ジ ( t一ブチルパーォキシ) ィ ソフタレー ト、 ジ ( t一ブチルパーォキシ) テレフタレー ト 、 ジ ( tーブチルバ一ォキシ) フタレー ト、 t一ブチルパー ォキシベンゾエー ト、 3 , 3 ' , 4、 4, ーテ トラー ( t— ブチルパ一ォキシカルボニル) ベンゾフヱノ ン、 2 , 5—ジ メチルー 2 , 5— (ジベンゾィルパ一ォキシ) へキサン等が 使用される。 Preferred compounds of the organic peroxide used in admixture with the tamarin compound include methyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, acetyl aceton peroxide, t-butyl peroxide, and methoxide. Nhai de 1 p Paoki rhino de, diisopropyl Sopuro Pirubenzen Ichipa one Okisai de, t chromatography Bed Chiruku Mirupaokisai de, dichloroethylene Mirupaokisai de, Do, one-bis (t-Buchiruku Mirupa one Okishii Sopuro pill) Baie Benzene, tert-butyl peroxy isopropyl propylate, ponates, benzoyl peroxyside, di (t-butyl peroxy) disophthalate, di (t-butyl peroxy) terephthalate, di (t-butyl peroxy) phthalate, t Monobutyloxybenzoate, 3,3 ', 4,4, -tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,5-dimethyl-2,5- (dibenzoylperoxy) hexane, etc. are used. You.
これらの中で特に好ましいものとしてはジ ( tーブチルバ ーォキシ) イソフタレー ト、 ジ ( tーブチルバ一ォキシ) テ レフタレ一 ト、 ジ ( t—ブチルパーォキシ) フタレート、 3 , 3 ' , 4; 4 ' —テ トラー ( tーブチルバ一ォキシカルボ ニル) ベンゾフヱノ ンが挙げられる。  Among them, particularly preferred are di (t-butyloxy) isophthalate, di (t-butyloxy) terephthalate, di (t-butylperoxy) phthalate, 3,3 ′, 4; 4′—tetral (T-butyloxycarbonyl) benzophenone.
クマリ ン化合物に添加される有機過酸化物の割合は、 クマ 'J ン化合物 1重量部に対して 1重量部〜 1 0 0重量部、 好ま しくは 1重量部〜 5 0重量部である。  The proportion of the organic peroxide added to the coumarin compound is 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 1 part by weight to 50 parts by weight, based on 1 part by weight of the bear'J compound.
これら光重合開始剤は前述のマ ト リ ックスポリマー及びホ ストモノマーの合計量 1 0 0重量部に対して 1重量部〜 8 0 重量部、 好ましくは 1重量部〜 2 0重量部の割合で使用され る。  These photopolymerization initiators are used in an amount of 1 part by weight to 80 parts by weight, preferably 1 part by weight to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the above-mentioned matrix polymer and host monomer. Is performed.
また、 上記組成の他に熱重合禁止剤、 可塑剤等が添加され て記録担体形成用組成物が調製される。  A composition for forming a recording carrier is prepared by adding a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, and the like in addition to the above composition.
本発明における記録担体は、 上記組成物を、 例えばべンゼ ン、 クロ Jレベンゼン、 テ トラヒ ドロフラン、 1、 4一ジォキ サン、 1、 2—ジク ルェタン、 ジクロルメタン、 クロ口丁、 ルム等に溶解して、 ガラス、 透明性樹脂フィ ルム等の支持体 上に塗膜される。 塗布方法としてはス ピンナ一コーティ ング 、 ブレードコーティ ング、 ロールコーティ ング等により、 乾. 煶後膜厚 0 . 5 m ~ 5 0 mに塗布される。 尚、 マ ト リ ツ クスポリマ一自体の支持性を利用してそれ自身フィ ルム化し てもよい。 The record carrier according to the present invention comprises the above composition, for example, benzene, black J-lebenzene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, The film is dissolved in a film or the like and coated on a support such as a glass or a transparent resin film. As a coating method, the film is applied to a film thickness of 0.5 m to 50 m after drying by a spinner coating, a blade coating, a roll coating, or the like. The film itself may be formed by utilizing the supportability of the matrix polymer itself.
このようにして得られる記録担体は、 例えば 4 5 7 9 A , 4 8 8 0 A . 5 1 4 5 A、 5 2 8 7 A等に輝線を有するレ一 ザ一光に感度を有しており、 例えば 4 8 8 0 Aの波長を有す るアルゴンレーザ一に対して 1〜 5 0 0 mJ/cm 2のエネルギー で実用域での回折効率を与えるものである。 The record carrier thus obtained is sensitive to laser light having a bright line at, for example, 4579 A, 488 A, 515 A, 528 A, etc. For example, it provides diffraction efficiency in a practical range with an energy of 1 to 500 mJ / cm 2 for an argon laser having a wavelength of 488 A, for example.
次に、 本発明のホ口グラム形成方法を説明する。  Next, a method for forming a mouth gram according to the present invention will be described.
本発明のホログラム形成方法は、 輻射線への記録担体の露 出工程、 ゲス トモノマーを含有する現像液を使用しての現像 工程、 現像後の記録担体の光又は熱硬化工程よりなる。  The hologram forming method of the present invention comprises a step of exposing a record carrier to radiation, a step of using a developer containing a guest monomer, and a step of light or heat curing the record carrier after development.
記録単体の輻射線への露出工程において使用しうる輻射線 としては、 レーザ一光線、 水銀ラ ンプ等を光源とする輻射線 が好ましい。  Radiation that can be used in the step of exposing the recording unit to radiation is preferably radiation using a laser beam, a mercury lamp, or the like as a light source.
ホログラム形成に際しては、 第 1図に示すような可干渉性 の 2束の輻射線を所定のオフセッ トアングルで被写体に照射 することにより体積位相型ホログラムを形成する リ ップマン 型ホログラム形成装置、 または、 第 2図に示すような照射光 と被写体による反射光との干渉により体積位相型ホログラム を形成するデニシュ一ク型ホログラム形成装置が使用される 1 次に、 現像工程は、 ホログラム潜像が形成された記録担体 をゲス トモノマーを舍有する現像液に浸液することにより行 われる。 At the time of hologram formation, a Lippmann hologram forming apparatus that forms a volume phase hologram by irradiating the subject with two coherent bundles of radiation as shown in FIG. 1 at a predetermined offset angle, or As shown in Fig. 2, a denier-type hologram forming device that forms a volume phase hologram by interference between irradiation light and reflected light from a subject is used. 1 Next, the development step is performed by immersing the record carrier on which the hologram latent image is formed in a developer having a guest monomer.
この現像工程は本発明の特徴を示すものであり、 記録担体 5 に、 その形成されたホログラムパターンに応じて膨潤又は収 綰作用を生起させると共に、 未露光部における未反応の感光 成分を溶出させると同時に、 未露光部中にゲス トモノマーを 舍有する現像液を浸透させて、 未露光部におけるホス トモノ マーをゲス トモノマーと置換、 又はホス トモノ マーにゲス ト 0 モノマーを付加させるものである。  This development step shows the features of the present invention, and causes the record carrier 5 to swell or shrink according to the formed hologram pattern, and to elute unreacted photosensitive components in the unexposed portions. At the same time, a developer having a guest monomer in the unexposed area is permeated to replace the host monomer in the unexposed area with the guest monomer, or to add a guest 0 monomer to the host monomer.
現像液における溶媒は、 感光成分の光重合反応により生起 される重合体架橋物に対して短時間で膨潤又は収縮作用を生 起させると共に、 未反応の感光成分を溶出させる機能を有す るものであ-り、 例えば膨潤液としてはベンゼン、 トルエン、 5 キシレン、 ェチルペンゼン、 Ti —プロ ピルベンゼン、 クメ ン 、 フエノ ーゾレ、 ク レゾ一 レ、 ク ロリレベンゼン、 ジク ロ レベン ゼン、 ニ トロベンゼン、 ペンジルアルコ ール、 ベンジルクロ ライ ド、 ベンジルブ口マイ ド、 一メチルナフタ リ ン、 α— クロルナフタ リ ン等のベンゼン、 ナフタ リ ンの誘導体があげ 0 られ、 またこれらの混合溶媒を使用してもよい。 また、 収縮 液は記録材料に対して溶解、 または膨潤作用を有しない溶媒 であり、 例えば η —ペンタ ン、 ΤΊ 一へキサン、 η —ヘプタ ン 、 n—オクタ ン、 イ ソオクタ ン、 シクロへキサン等のアル力 ン、 シクロ了ルカ ン類、 メチルアルコ ール、 ェチルアルコ 一 δ ル、 n—プ π ピル了ルコール、 イ ソプロ ピルアルコール、 n ーブチル了ルコール、 t —ブ.チルアルコ ール、 T1 —ア ミ ル了 ルコール、 イ ソア ミ ルアルコ ール等のアルコ ール類、 ジェチ ルェ一テル、 メチ Jレエチルエーテル、 ジイ ソプ ピルエーテ ル等のエーテル類、 アセ ト ン、 メチルェチルケ トン等のケ ト ン類、 酢酸ェチル、 酢酸メチル、 蟻酸ェチル、 プ ピオン酸 メチル等のエステル類等が使用され、 又これらの混合溶媒を 使用してもよい。 The solvent in the developer has a function of causing a swelling or shrinking action in a short time to a polymer crosslinked product generated by a photopolymerization reaction of a photosensitive component, and a function of eluting an unreacted photosensitive component. For example, swelling liquids include benzene, toluene, 5-xylene, ethylpentene, Ti-propylbenzene, cumene, phenosole, cresolene, chlorylbenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, and benzyl alcohol. And benzene and naphthalene derivatives such as benzyl chloride, benzyl butylamide, monomethylnaphthalene and α-chloronaphthaline, and a mixed solvent thereof may be used. The contracting liquid is a solvent that does not dissolve or swell the recording material, such as η-pentane, hexane, η-heptane, n-octane, isooctane, and cyclohexane. Alcohols, cycloalkanes, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl, alcohol, isopropyl alcohol, n Alcohols such as t-butyl alcohol, t-butyl alcohol, T1—amyl alcohol, iso-amyl alcohol, etc., ethyl alcohol, methyl ethyl ether, diisopropyl ether, etc. Ethers, ketones such as acetate and methylethyl ketone and the like, esters such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl formate and methyl propionate, and a mixed solvent thereof may be used.
本発明においては干渉縞間にゲス トモノ マーを侵入させる  In the present invention, guest monomers are allowed to enter between interference fringes.
2  Two
ことが必要であり、 好ましくは _ 1膨潤作用を有する溶媒を使用 することが望ましい。 現像液における溶媒を適宜選択するこ とにより干渉縞の間隔を制御できる。 It is necessary to use a solvent having an —1 swelling action. The distance between interference fringes can be controlled by appropriately selecting the solvent in the developer.
次に、 現像液における光又は熱重合可能な化合物 (ゲス ト モノ マー) について説明する。  Next, the photo- or heat-polymerizable compound (guest monomer) in the developer will be described.
まず、 光又は熱重合可能なゲス トモノ マーとしては、 ホス トモノ マーとして記載したものが使用され、 ホス トモノマー と同なじ化合物を使用してもよいが、 ゲス トモノ マーとホス トモノマ一とでその光屈折率差を有するモノ マーを使用する ことにより、 ホログラムとした時に高い回折効率を得ること ができ、 その光屈折率の差が大きい程、 高い回折効率を有す るホログラムとすることができる。  First, as the guest monomer capable of being photopolymerized or thermally polymerized, those described as the host monomer may be used, and the same compound as the host monomer may be used, but the guest monomer and the host monomer are used in the light monomer. By using a monomer having a refractive index difference, a high diffraction efficiency can be obtained when a hologram is formed, and a hologram having a high diffraction efficiency can be obtained as the difference in the light refractive index increases.
そのため、 好ましくは、 ホス トモノ マ一、 ゲス トモノ マー の何れか一方が、 その一分子中に臭素又は沃素原子を 0〜 1 0個含む芳香族 (メタ) ァク リ レー ト、 又はビニルエーテル Therefore, preferably, one of the host monomer and the guest monomer is an aromatic (meth) acrylate containing 0 to 10 bromine or iodine atoms in one molecule thereof, or a vinyl ether.
、 又はエポキシ化合物であり、 他方がその一分子中に弗素又 は珪素原子を 0 ~ 2 0個舍む脂肪族 (メタ) アタ リ レー ト、 又はビニルエーテル、 又はエポキシ化合物であるのが好まし い。 Or an epoxy compound, and the other is an aliphatic (meth) acrylate having 0 to 20 fluorine or silicon atoms in one molecule thereof. Or a vinyl ether or epoxy compound.
特に好ましくは、 ホス トモノマー、 ゲス トモノマ一の何れ か一方が、 ハ πゲン化されていてもよい芳番族 (メタ) ァク リレートであり、 他方がハロゲン化されていてもよい脂肪族 (メタ) アタ リ レートである。  Particularly preferably, one of the host monomer and the guest monomer is an aromatic (meth) acrylate which may be halogenated, and the other is an aliphatic (meth) acrylate which may be halogenated. ) Atari rate.
ゲス トモノマ一としては、 好ましくは 2 5 :〜 1 0 0 で 液体であって、 現像液における溶媒に可溶のもので、 分子量 (粘度) の髙いものを使用するとよい。 更に、 ゲス トモノマ 一の分子量が低すぎるとホログラム作製段階で未露光部から 流出し、 結果としてホログラムに必要な屈折率差が得られず 、 又得られたホ πグラムも次第に消失する傾向がある。  As the guest monomer, it is preferable to use a liquid having a molecular weight (viscosity) of 25: 100, which is liquid and soluble in a solvent in a developing solution. Furthermore, if the molecular weight of the guest monomer is too low, it flows out of the unexposed portion during the hologram production step, and as a result, the refractive index difference required for the hologram cannot be obtained, and the obtained π-gram tends to gradually disappear. .
現像工程においては、 記録担体を現像液に直接、 浸漬して 行われるが、 まず溶媒のみを使用して記録担体の未露光部に おける感光成分を除去してから、 現像液に浸漬してもよい。 現像液におけるゲス トモノマーの濃度は適宜設定されるが、 少なくとも 1重量%以上とするとよい。  In the development step, the recording carrier is directly immersed in the developing solution, but the photosensitive component in the unexposed portion of the recording carrier is first removed using only a solvent, and then immersed in the developing solution. Good. The concentration of the guest monomer in the developer is appropriately set, but is preferably at least 1% by weight or more.
このようにして現像された記録担体は、 次に硬化工程に付 される。  The record carrier thus developed is then subjected to a curing step.
硬化工程は、 記録担体を紫外線等の光照射するか又は加熱 することにより、 未露光部におけるゲス トモノマーを硬化さ せ、 記録担体を固定させる。  In the curing step, the record carrier is irradiated with light such as ultraviolet rays or heated to cure the guest monomer in the unexposed portion and fix the record carrier.
このようにして得られるホログラムは、 第 4図に示すよう に、 ホス トモノマー重合体 1 0、 ゲス トモノマ一重合体 2 0 とからなる。 得られたホ口グラムの表面は、 そのままでもよ いが、 ガラス、 プラスチックフィ ルム等を貼着してもよい。 以下、 本発明を具体例により説明する。 The hologram obtained in this manner is composed of a host monomer polymer 10 and a guest monomer polymer 20 as shown in FIG. The surface of the obtained mouth gram can be used as it is. However, glass or plastic film may be attached. Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples.
具体例 1 Example 1
下記組成  The following composition
' ポ リ 一 N—ビニルカルバゾ一ル {亜南産業 (株) 製、 ツビ コール No.210 (商品名) 平均分子量 40万〜 50万)  '' Poly N-vinyl carbazole (manufactured by Anan Sangyo Co., Ltd., Tsubikol No. 210 (trade name) average molecular weight 400,000 to 500,000)
• · · 1. 0 g · · · 1.0 g
• ト リプロモフエノ 一ルメタク リ レー ト 〔第 工業製薬 (株) 製、 商品名 BR— 3 1〕 · · · 0. 5 g · 3, 3 ' , 4 , 4, 一テ ト ラ ( t—プチルパーォキシカル ボニル) ベンゾフユノ ン · · · 0. 0 8 g• Tripromophenol methacrylate (trade name: BR-31, manufactured by Dai-Ichi Kogyo Pharmaceutical Co., Ltd.) · 0.5 g · 3, 3 ', 4, 4, 1 tera Benzofuyunone 0.08 g
• 3, 3 ' —カルポニルビス ( 7—ジェチル了 ミ ノ クマ リ ン)• 3, 3'—Carbonylbis (7—Jetil R)
• · · 0. 0 0 3 g を有する組成物を 1、 4—ジォキサン 1 0 gに溶解し、 0 . 2 5〃mフィ ルタ レーシヨ ン後、 感光液を得た。 A composition having 0.03 g was dissolved in 10 g of 1,4-dioxane, and after a 0.25 μm filtration, a photosensitive solution was obtained.
この感光液を、 3 mm厚のガラス板上に了プリケーターを使 用し、 乾燥後膜厚が 9 mとなるように塗布し、 7 0 :で 4 5分間乾燥した後、 ポ リ ビニルアルコ ール (ク ラ レ (株) 製 重合度 5 0 0 餘化度 8 8 %) 1 0 %永溶液を、 ス ピンコ —ターで 2 0 0 0 r. p. m.で回耘塗布した。 これを 6 0 tで 1 0分間乾燥して記録担体を得た。  This photosensitive solution was applied on a 3 mm thick glass plate using a replicator so that the film thickness after drying was 9 m, dried at 70: for 45 minutes, and then dried with a polyvinyl alcohol. (Kuraray Co., Ltd., degree of polymerization: 500, degree of polymerization: 88%) A 10% permanent solution was applied with a spin coater at 200 rpm. This was dried at 60 t for 10 minutes to obtain a record carrier.
次いで、 第 1図に示すリ ップマン型回折格子撮影光学系を 使用して記録担体に了ルゴンレ一ザ一による 4 8 8 Timの波 長光を用いて露光した。 光強度比 1 : 1、 露光エネルギー 2 O mJ/cm2で露光した。 尚、 図中 1はアルゴンレーザ—、 2は ノヽーフ ミ ラー、 3 はミ ラー、 4 はスペイ シャルフィ ルタ—、 5は感光板を示す。 Next, the record carrier was exposed to light using a wavelength of 488 Tim from a Lugon laser using the Lippmann type diffraction grating photographing optical system shown in FIG. Exposure was performed at a light intensity ratio of 1: 1 and an exposure energy of 2 O mJ / cm 2 . In the figure, 1 is an argon laser, and 2 is Neuf mirror, 3 is a mirror, 4 is a spatial filter, and 5 is a photosensitive plate.
了ルゴンレーザーによる露光後、 ケ ミカルラ ンプ (東芝 ( 秣) 製 FL- 20BL) を使用して 60秒間全面露光した。 この時シ ヤープカ ッ トフィルター L 3 9を用い、 4 0 0 n m以上の可 視光だけ照射した。 露光後、 記録担体を流水中で 1分間永洗 し、 ポリビニル了ルコール層を除去し、 乾燥後、 記録担体を ト リメチロ一ルプロパンァク リ レー トの 1 0重量%ァセ トン 溶液 (現像液) 中に 3分簡浸漬した。  After exposure by Lugon laser, the whole surface was exposed for 60 seconds using a chemical lamp (FL-20BL, manufactured by Toshiba Hayashi). At this time, only a visible light of 400 nm or more was irradiated using a sharp cut filter L39. After exposure, the record carrier is washed for 1 minute in running water to remove the polyvinyl alcohol layer. After drying, the record carrier is washed in a 10% by weight acetone solution of trimethylolpropane acrylate (developer). For 3 minutes.
次いで、 記録担体を現像液から取り出し、 キセノ ンラ ンプ 光線を照射して硬化させ、 ホログラムを作製した。  Next, the record carrier was taken out of the developer and irradiated with a xenon lamp to be cured to produce a hologram.
上記具体 ¼において、 ゲス トモノ マーである ト リメチ口一 ルプ パンァク リ レートに代えて、 下記表に記載のゲス トモ ノマーを使用してそれぞれホログラムを作製した。 尚、 下表 には、 ゲス トモノマーとホス トモノマーとの光屈折率差、 得 られたホ口グラムの最大回折効率とを同時に下記表に示す。 In the above specific example, each of the holograms was produced using the guest monomers shown in the following table instead of the guest monomer, ie, trimethicone monocyclic panacrylate. In the table below, the difference in the optical refractive index between the guest monomer and the host monomer and the maximum diffraction efficiency of the obtained holegram are also shown in the following table.
第 1表 Table 1
2 Two
5  Five
Figure imgf000027_0001
尚、 上記商品名: ACTICRYL で示されるものは、 いずれも 仏 · SNPE社製であり、 ACTICRYし CL959は下記構造式
Figure imgf000027_0001
The above product name: ACTICRYL are all made by France SNPE, and ACTICRY CL959 has the following structural formula
CH2=CHCOCH2CH2N- CH2 CH 2 = CHCOCH 2 CH 2 N- CH 2
C CH;  C CH;
//\/  // \ /
0 0 で示され、 また同 ACTICRYし CL960 は下記構造式  It is indicated by 0 0, and the ACTICRY CL960 has the following structural formula
0 0 0 0
CH2=CHCOCH2CH2NHCOCH( CH3) で示され、 また同 ACTICRYL CL993は下記構造式 (式中 R 、 R2 はアルキレン基を表わす) CH 2 = CHCOCH 2 CH 2 NHCOCH (CH 3 ) And ACTICRYL CL993 has the following structural formula (wherein R and R 2 represent alkylene groups)
0 0 0 0 0 0 0 0
II II II II II II II II
CH2=CHC0Ri0C0R20C0R,0CCH = CH: CH 2 = CHC0Ri0C0R20C0R, 0CCH = CH :
で示され、 また同 ACTICRYL CL1039は下記構造式
Figure imgf000028_0001
The ACTICRYL CL1039 has the following structural formula
Figure imgf000028_0001
で示されるものである。 It is shown by.
また、 上記具体例において、 ゲス トモノ マ一としてト リブ 口モフヱノ-.ールメタク リレートを使用した記録担体について 、 同一条件でホログラムを 1 0回作製し、 その再現性をみた ところ、 最大回折効率は ± 1 0 %、 再生波長 ( ^χ ) は ± 1 0 %しか変勖しなかった。 Further, in the above specific example, a hologram was produced 10 times under the same conditions for a record carrier using Tri-Mn-phenol-methacrylate as the guest monomer, and the reproducibility was examined. At 10%, the reproduction wavelength (^ χ ) changed only ± 10%.
更に、 上記記録担体においてゲス トモノマーとしてぺプタ デカフルォロブ ピル了ク リ レートを使用したホログラムに ついて、 第 2図に示すデニシュ一ク型ホログラム形成装置に より、 この記録担体を了ルゴンレーザーによる 4 8 8 nmの 波長光を用いて露光した。 露光エネルギーは 2 OmJ/cm2であ る。 尚、 図中、 第 1図と同一符号は同一内容を示し、 6は被 写钵を示す。 Further, for a hologram using peptadecafluoropropyl as a guest monomer in the above-described record carrier, the dendritic hologram forming apparatus shown in FIG. Exposure was performed using light with a wavelength of nm. The exposure energy is 2 OmJ / cm 2 . In the drawing, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same contents, and 6 indicates a subject.
上記と同様の処理をして得られた回折格子は、 最大回^ ¾ 率 5 0 % ^上とリ ップマン型と同様のホログラムが得られた また、 上記表における屈折率差とその最大回折効率との関 係を第 3図に示した。 The diffraction grating obtained by performing the same processing as above is the maximum number of times A hologram similar to that of the Lippmann type was obtained with an index of 50% ^. The relationship between the refractive index difference in the above table and its maximum diffraction efficiency is shown in FIG.
上記表及び第 3図から、 ゲス トモノ マーとホス トモノ マ一 との屈折率の差が大きい程高い回折効率が得られること、 ま た、 ゲス トモノマーとホス トモノマ一との組合せにより再生 波長を変化させることができることがわかる。  From the above table and Fig. 3, it can be seen that the higher the difference in the refractive index between the guest monomer and the host monomer, the higher the diffraction efficiency is obtained, and the reproduction wavelength is changed by the combination of the guest monomer and the host monomer. It can be seen that it can be done.
比較例 1  Comparative Example 1
上記具体例における記録担体を、 現像液としてトルエン中 に 3分間浸漬して観光成分を除去し、 乾燥し、 更に トルエン. : キシレン = 1 : 1の混合溶媒中に 1分間浸漬して膨潤させ 次いで、 n —ぺプタン中に 1分間浸潰して収縮させた後、 ドライヤーにより強制乾燥させてホログラムを作成したとこ ろ白化現象が生じ、 また、 同一条件でホログラムを 1 0回作 製し、 その再現性をみたところ、 最大回折効率は 0〜 8 0 % の間で変動し、 また、 再生波長 ( i m a x ) は 4 0 0 n m〜 8 0 0 ri mの間で変動し、 再現性に問題があった。 The record carrier in the above example was immersed in toluene as a developing solution for 3 minutes to remove the tourist component, dried, and further immersed in a mixed solvent of toluene: xylene = 1: 1 for 1 minute to swell. , N-Peptide immersed for 1 minute to shrink, then forcibly dried with a drier to form a hologram, whitening phenomenon occurred.Also, the hologram was made 10 times under the same conditions and reproduced. As a result, the maximum diffraction efficiency fluctuated between 0 and 80%, and the reproduction wavelength (i max ) fluctuated between 400 nm and 800 rim. there were.
具体例 2  Example 2
上記具体例 1において、 ゲス トモノ マーとしてゥレタン系 ァク リ レートモノマーである商品名 ACT I CRYし CL960 、 仏 · S N P E社製を使用すると共に、 下表に示すホス トモノ マー を使用して具体例 1同様に記録担体を作成し、 具体例 1同様 に現像して、 リ ップマン型ホログラムを作製した。 ホログラ 厶としての評価を同時に下表に示す。 このホ グラムの感度 は 5mJZcm2 と髙感度であった。 In the specific example 1 above, a specific example was made by using a polyurethane monomer ACT I CRY SH CL960, a product of SNPE, France, as a guest monomer, and a host monomer shown in the following table as a guest monomer. A record carrier was prepared in the same manner as in 1 and developed in the same manner as in Example 1 to produce a Lippmann hologram. Hologram The following table also shows the evaluation as a room. The sensitivity of this gram was 5 mJZcm 2 , which was a low sensitivity.
第 2表  Table 2
Figure imgf000030_0001
Figure imgf000030_0001
2  Two
8  8
上記表から、 再生波長はホス トモノマ一により変化するこ とがわかる。  From the above table, it can be seen that the reproduction wavelength changes depending on the host monomer.
具体例 3  Example 3
上記具体例 1において、 ホス トモノマーとしてト リアタ リ レート (東亜合成 (株) 製ァロニックス M- 315 (商品名) } を同様に使用すると共に、 下表に示すゲス トモノ マーを使用 して具体例 1同様に記録担体を作成し、 具体例 1同様に現像 して、 リ ップマン型ホログラムを作製した。 ホログラムとし ての評価を同時に下表に示す。  In the above specific example 1, while using triatalylate (ALONIX M-315 (trade name) manufactured by Toagosei Co., Ltd.) as a host monomer in the same manner as in the specific example 1 using the guest monomer shown in the table below. Similarly, a record carrier was prepared and developed in the same manner as in Example 1 to produce a Lippmann-type hologram, and the evaluation as a hologram is shown in the following table.
第 3表 ゲス トモノマー 屈折率差 最大回折効率 maK j トリメチ プ iiアタリレ-ト 0.034  Table 3 Guest monomer Refractive index difference Maximum diffraction efficiency maK j Trimethi ii Atarilate 0.034
商品名: ACTICRYL CL959 0.028 36 620 i 商品名: ACTICRYL CL960 0.053 42 610 商品名: ACTICRYL CL993 0.043 40 600 商品名: ACTICRYL CL1039 0.052 42 i  Product name: ACTICRYL CL959 0.028 36 620 i Product name: ACTICRYL CL960 0.053 42 610 Product name: ACTICRYL CL993 0.043 40 600 Product name: ACTICRYL CL1039 0.052 42 i
! 610 ! (尚、 上記商品名のゲス トモノマ一は、 具体例 1において使 用したそれぞれのものと同一である。 ) ! 610! (Note that the guest monomers in the above trade names are the same as those used in Example 1.)
上記表から、 光屈折率差の大きなゲス トモノマーを使用す ると、 回折効率を向上させることができることがわかる。  From the above table, it can be seen that the use of a guest monomer having a large difference in light refractive index can improve the diffraction efficiency.
産業上の利用可能性  Industrial applicability
以上に例示したように、 本発明のホログラムは、 干渉縞部 の重合体の光屈折率とその干渉縞の間の部分の重合体の光屈 折率とに差を設けることにより、 回折効率を向上させること を可能としたものである。  As exemplified above, the hologram of the present invention provides a diffraction efficiency by providing a difference between the optical refractive index of the polymer in the interference fringe portion and the optical refractive index of the polymer in the portion between the interference fringes. It is possible to improve it.
そして、 本発明のホログラム形成方法は、 ホログラムの再 生波長を制御することができ、 かつ高い回折効率を有し、 ま た、 明度の高いホログラムを再現性よく製造することができ るものであり、 得られたホログラムは情報記録媒体、 また調 光装置等に利用される。  The hologram forming method of the present invention can control the hologram reproduction wavelength, has high diffraction efficiency, and can produce a hologram with high brightness with good reproducibility. The obtained hologram is used for an information recording medium, a light control device, and the like.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
( 1 ) マト リ ックスポリマー中において光重合体による干渉 槁が形成され、 該干渉縞の間に前記光重合体とは光屈折率を 相違する光又は熱重合体が存在することにより回折格子が形 成されたことを特徴とするホログラム。  (1) An interference clog by a photopolymer is formed in the matrix polymer, and a diffraction grating is formed due to the presence of light or a heat polymer having a different refractive index from the photopolymer between the interference fringes. A hologram characterized by being formed.
( 2 ) 光又は熱重合体が、 光重合体による干渉縞の間におけ る光重合成分を他の重合成分により置換し、 前記光重合体と 光屈折率を相違するものとされたことを特徴とする請求項 1 記載のホログラム。  (2) The light or heat polymer replaces the photopolymer component between the interference fringes of the photopolymer with another polymer component, and has a different light refractive index from that of the photopolymer. The hologram according to claim 1, characterized in that:
( 3 ) 光重合体及び光又は熱重合体の何れか一方が、 ハロゲ ン化されていてもよい芳香族 (メタ) アタ リ レー トの重合生 成物であり'、 他方がハロゲン化されていてもよい脂肪族 (メ タ) アタ リ レートの重合生成物である請求項 1又は 2記載の ホログラム。  (3) Either the photopolymer or the photopolymer or the thermal polymer is a polymerization product of an aromatic (meth) acrylate which may be halogenated, and the other is halogenated. 3. The hologram according to claim 1, wherein the hologram is a polymerization product of an aliphatic (meta) acrylate.
( 4 ) マ ト リ ッ クスポリマー、 及び光重合可能な化合物、 更 に光重合開始剤とからなる記録担体を光の干渉パターンに露 出した後、 該記録担体を、 前記光重合可能な化合物の重合体 と硬化後に光屈折率を相違する光又は熱重合可能な化合物を 舍有する現像液に浸潦し、 次いで該記録担体を熱又は光によ り硬化させることを特徴とするホログラム形成方法。  (4) After exposing a recording carrier comprising a matrix polymer, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator to a light interference pattern, the recording carrier is subjected to the photopolymerizable compound. A hologram forming method comprising: immersing the recording medium in a developing solution containing a light or heat polymerizable compound having a different light refractive index after curing from the polymer; and then curing the recording carrier by heat or light. .
( 5 ) 光重合可能な化合物及び光又は熱重合可能な化合物の 何れか一方が、 ハロゲン化されていてもよい芳香族 (メタ) ァク リ レートであり、 他方がハロゲン化されていてもよい脂 肪族 (メタ) ァク リ レートである請求項 4記載のホログラム 形成方法。  (5) One of the photo-polymerizable compound and the photo- or heat-polymerizable compound is an aromatic (meth) acrylate which may be halogenated, and the other may be halogenated. 5. The hologram forming method according to claim 4, wherein the hologram is an aliphatic (meth) acrylate.
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