JPH0866620A - 排ガス処理の制御方法 - Google Patents
排ガス処理の制御方法Info
- Publication number
- JPH0866620A JPH0866620A JP6203739A JP20373994A JPH0866620A JP H0866620 A JPH0866620 A JP H0866620A JP 6203739 A JP6203739 A JP 6203739A JP 20373994 A JP20373994 A JP 20373994A JP H0866620 A JPH0866620 A JP H0866620A
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- JP
- Japan
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- exhaust gas
- pulse
- concentration
- gas treatment
- discharge
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/10—Capture or disposal of greenhouse gases of nitrous oxide (N2O)
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏによる環境汚染の問題を発生さ
せることなくＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の
排ガス中の有害成分の処理を効率的に行う。 【構成】 電極８においてパルス・コロナ放電を発生さ
せることにより排ガス中のＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシ
ン，水銀等の被処理成分を処理する排ガス処理におい
て、この排ガス中のＯ3 ，Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度を超
えるとＯ3 ，Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度より低くなるよう
に回転スパークギャップ２５の回転数を落とすまたは自
動変圧器２２により電圧を低下させる。
せることなくＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の
排ガス中の有害成分の処理を効率的に行う。 【構成】 電極８においてパルス・コロナ放電を発生さ
せることにより排ガス中のＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシ
ン，水銀等の被処理成分を処理する排ガス処理におい
て、この排ガス中のＯ3 ，Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度を超
えるとＯ3 ，Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度より低くなるよう
に回転スパークギャップ２５の回転数を落とすまたは自
動変圧器２２により電圧を低下させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＮＯx ，Ｓ
Ｏx ，ダイオキシン，水銀等を含む排ガス処理の制御方
法に関するものである。
Ｏx ，ダイオキシン，水銀等を含む排ガス処理の制御方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、低温プラズマを利用して排ガス処
理を行うためにパルス・コロナ放電をその排ガスに作用
させることが行われている。このパルス・コロナ放電に
より発生した低温プラズマは、前記排ガス中のＮＯx ，
ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の有害成分を処理する、
すなわちそれら有害成分を化学反応させることにより無
害成分に分解したり、除去しやすい物質に変えるもので
ある。
理を行うためにパルス・コロナ放電をその排ガスに作用
させることが行われている。このパルス・コロナ放電に
より発生した低温プラズマは、前記排ガス中のＮＯx ，
ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の有害成分を処理する、
すなわちそれら有害成分を化学反応させることにより無
害成分に分解したり、除去しやすい物質に変えるもので
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなパルス・コロナ放電の実施中、Ｏラジカルが発生し
排ガス中のＯ2 と反応してＯ3 が生じる。また排ガス中
にＮ2 が含まれており、このＮ2 がパルス・コロナ放電
により反応することによりＮラジカルが発生し排ガス中
のＮＯ2 と反応してＮ2 Ｏが生じる。これらＯ3 および
Ｎ2 Ｏはいずれも環境汚染物質であるのでそれらの生成
は抑制されなくてはならない。
うなパルス・コロナ放電の実施中、Ｏラジカルが発生し
排ガス中のＯ2 と反応してＯ3 が生じる。また排ガス中
にＮ2 が含まれており、このＮ2 がパルス・コロナ放電
により反応することによりＮラジカルが発生し排ガス中
のＮＯ2 と反応してＮ2 Ｏが生じる。これらＯ3 および
Ｎ2 Ｏはいずれも環境汚染物質であるのでそれらの生成
は抑制されなくてはならない。
【０００４】本発明は前記問題点に鑑みてなされたもの
で、排ガス中の有害成分を効率的に処理するとともに環
境汚染物質であるＯ3 ，Ｎ2 Ｏの発生を抑制する排ガス
処理の制御方法を提供することを目的とするものであ
る。
で、排ガス中の有害成分を効率的に処理するとともに環
境汚染物質であるＯ3 ，Ｎ2 Ｏの発生を抑制する排ガス
処理の制御方法を提供することを目的とするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を達成し得る本
発明の排ガス処理の制御方法は、排ガス中にパルス・コ
ロナ放電を発生させることによりその排ガス中の被処理
成分を処理する排ガス処理において、このパルス・コロ
ナ放電が発生される排ガス中のＯ3 またはＮ2Ｏの濃度
が基準濃度を超えるとＯ3 またはＮ2 Ｏの濃度がその基
準濃度より低くなるようにそのパルス・コロナ放電によ
るパルス放電電力を制御することを特徴とする。ここ
で、基準濃度とはそれ以下であれば大気中に排出される
排ガスに含まれる有害物質の量が問題とならない程度で
あると判断される境界となる濃度である。
発明の排ガス処理の制御方法は、排ガス中にパルス・コ
ロナ放電を発生させることによりその排ガス中の被処理
成分を処理する排ガス処理において、このパルス・コロ
ナ放電が発生される排ガス中のＯ3 またはＮ2Ｏの濃度
が基準濃度を超えるとＯ3 またはＮ2 Ｏの濃度がその基
準濃度より低くなるようにそのパルス・コロナ放電によ
るパルス放電電力を制御することを特徴とする。ここ
で、基準濃度とはそれ以下であれば大気中に排出される
排ガスに含まれる有害物質の量が問題とならない程度で
あると判断される境界となる濃度である。
【０００６】
【作用】この本発明の排ガス処理の制御方法によれば、
排ガス処理中に排ガス中のＯ3またはＮ2 Ｏの濃度が基
準濃度を超えるとそのパルス・コロナ放電によるパルス
放電電力が制御、すなわち低下される。このパルス放電
電力の低下により、Ｏラジカル，Ｎラジカルの発生が低
下しその結果Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏの発生量が減少しそのＯ3 ，
Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度より低くなり、Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏに
よる環境汚染の問題が回避される。このことは逆に、Ｏ
3 ，Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度に至らない範囲での最大の
パルス放電電力でＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀
等の有害成分の処理が行われ、それら有害成分の処理が
効率的に行われることを意味する。
排ガス処理中に排ガス中のＯ3またはＮ2 Ｏの濃度が基
準濃度を超えるとそのパルス・コロナ放電によるパルス
放電電力が制御、すなわち低下される。このパルス放電
電力の低下により、Ｏラジカル，Ｎラジカルの発生が低
下しその結果Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏの発生量が減少しそのＯ3 ，
Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度より低くなり、Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏに
よる環境汚染の問題が回避される。このことは逆に、Ｏ
3 ，Ｎ2 Ｏの濃度が基準濃度に至らない範囲での最大の
パルス放電電力でＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀
等の有害成分の処理が行われ、それら有害成分の処理が
効率的に行われることを意味する。
【０００７】この本発明において、Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏはいず
れも環境汚染物質であることから、前述のようにいずれ
か一方の濃度によりパルス放電電力を制御するのみなら
ず、排ガス中のＯ3 濃度およびＮ2 Ｏ濃度の両方を測定
しいずれか一方でも基準濃度を超えるとＯ3 の濃度およ
びＮ2 Ｏの濃度のいずれもが各基準濃度より低くなるよ
うにそのパルス・コロナ放電によるパルス放電電力を制
御（低下）することが好ましい。
れも環境汚染物質であることから、前述のようにいずれ
か一方の濃度によりパルス放電電力を制御するのみなら
ず、排ガス中のＯ3 濃度およびＮ2 Ｏ濃度の両方を測定
しいずれか一方でも基準濃度を超えるとＯ3 の濃度およ
びＮ2 Ｏの濃度のいずれもが各基準濃度より低くなるよ
うにそのパルス・コロナ放電によるパルス放電電力を制
御（低下）することが好ましい。
【０００８】また、このようなパルス放電電力の制御
は、パルス・コロナ放電のパルス周波数の制御またはパ
ルス放電電圧の制御により達成されるがパルス周波数の
制御の方が好ましい。
は、パルス・コロナ放電のパルス周波数の制御またはパ
ルス放電電圧の制御により達成されるがパルス周波数の
制御の方が好ましい。
【０００９】本発明においてパルス・コロナ放電を発生
させるための手段として例えば回転スパークギャップま
たはサイラトロンが用いられる。
させるための手段として例えば回転スパークギャップま
たはサイラトロンが用いられる。
【００１０】
【実施例】次に、本発明による排ガス処理の制御方法の
具体的実施例について図面を参照しつつ説明する。
具体的実施例について図面を参照しつつ説明する。
【００１１】図１に本発明の一実施例に係る排ガス処理
の制御方法が適用される排ガス処理装置１が示されてい
る。この排ガス処理装置１において、まず、ゴミ焼却炉
廃熱ボイラよりの排ガスが矢印２に示されているように
冷却室３に送り込まれる。この冷却室３に送り込まれる
排ガスは、矢印４に従って供給される水がシャワー状に
降りかけられることにより冷却されて導管５を通って放
電室６に送り込まれる。この放電室６に送り込まれる前
記排ガス中にパルス発生装置７から電極８を介してパル
ス・コロナ放電が発生させられる。このパルス・コロナ
放電には、パルス放電電力をできるだけ大きくし有害物
質を効率的に処理するために火花放電を起こさない範囲
で可能な限り高いパルス電圧が用いられることが好まし
い。また、パルス周波数は基本的には高い方が大きな電
力が得られるが高くなりすぎるとコンデンサーに溜まる
電力が少なくなり個々のパルス放電電力が少なくなり有
害物質の処理能力が低下するので、個々のパルス放電電
力が低下しない程度にパルス周波数を調節することが好
ましい。このようにパルス電圧，パルス周波数を調節し
て得られる最も大きい電力（以下、最大パルス放電電力
と呼ぶ。）を用いて排ガス処理が行われることが望まし
い。
の制御方法が適用される排ガス処理装置１が示されてい
る。この排ガス処理装置１において、まず、ゴミ焼却炉
廃熱ボイラよりの排ガスが矢印２に示されているように
冷却室３に送り込まれる。この冷却室３に送り込まれる
排ガスは、矢印４に従って供給される水がシャワー状に
降りかけられることにより冷却されて導管５を通って放
電室６に送り込まれる。この放電室６に送り込まれる前
記排ガス中にパルス発生装置７から電極８を介してパル
ス・コロナ放電が発生させられる。このパルス・コロナ
放電には、パルス放電電力をできるだけ大きくし有害物
質を効率的に処理するために火花放電を起こさない範囲
で可能な限り高いパルス電圧が用いられることが好まし
い。また、パルス周波数は基本的には高い方が大きな電
力が得られるが高くなりすぎるとコンデンサーに溜まる
電力が少なくなり個々のパルス放電電力が少なくなり有
害物質の処理能力が低下するので、個々のパルス放電電
力が低下しない程度にパルス周波数を調節することが好
ましい。このようにパルス電圧，パルス周波数を調節し
て得られる最も大きい電力（以下、最大パルス放電電力
と呼ぶ。）を用いて排ガス処理が行われることが望まし
い。
【００１２】すなわち、最大パルス放電電力を得るよう
なパルス・コロナ放電により前記排ガス中に含まれてい
るＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の有害物質が
化学反応を起こし分解されて無害な物質に変わったり、
あるいは除去されやすい物質に変化する。この除去され
やすい物質は所定の処理が施されて放電室６の下方に設
けられている灰出装置９から灰として矢印１０に示され
るように排出される。また、同時に、パルス・コロナ放
電により前述のようにＯラジカル，Ｎラジカルが発生し
てＯ3 ，Ｎ2 Ｏが形成され、排ガス中のＯ3 濃度，Ｎ2
Ｏ濃度が上昇する。これらＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度は、放
電室６から排出される排ガスが通過する導管１１内に設
けられるセンサ１２により測定される。このセンサ１２
はＯ3 検出部とＮ2 Ｏ検出部とを備えＯ3 濃度とＮ2 Ｏ
濃度の両方を測定することができ、Ｏ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃
度の両方のデータが前記パルス発生装置７に伝えられ
る。これらＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度のデータはそのパルス
発生装置７において基準濃度と比較される。そしてＯ3
濃度およびＮ2 Ｏ濃度のいずれか一方でも基準濃度より
高い場合、パルス発生装置７のパルス放電電力は、Ｏ3
濃度，Ｎ2 Ｏ濃度のいずれもが基準濃度を下回るように
低下される。このようなパルス放電電力の制御は、Ｏ3
濃度またはＮ2 Ｏ濃度のいずれか一方が測定されいずれ
か一方が基準濃度より低くなるように行われてもよい
が、前述のように両方の濃度を測定しその両方の濃度が
各基準値より低くなるように行われる方が環境保護の点
から望ましい。
なパルス・コロナ放電により前記排ガス中に含まれてい
るＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の有害物質が
化学反応を起こし分解されて無害な物質に変わったり、
あるいは除去されやすい物質に変化する。この除去され
やすい物質は所定の処理が施されて放電室６の下方に設
けられている灰出装置９から灰として矢印１０に示され
るように排出される。また、同時に、パルス・コロナ放
電により前述のようにＯラジカル，Ｎラジカルが発生し
てＯ3 ，Ｎ2 Ｏが形成され、排ガス中のＯ3 濃度，Ｎ2
Ｏ濃度が上昇する。これらＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度は、放
電室６から排出される排ガスが通過する導管１１内に設
けられるセンサ１２により測定される。このセンサ１２
はＯ3 検出部とＮ2 Ｏ検出部とを備えＯ3 濃度とＮ2 Ｏ
濃度の両方を測定することができ、Ｏ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃
度の両方のデータが前記パルス発生装置７に伝えられ
る。これらＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度のデータはそのパルス
発生装置７において基準濃度と比較される。そしてＯ3
濃度およびＮ2 Ｏ濃度のいずれか一方でも基準濃度より
高い場合、パルス発生装置７のパルス放電電力は、Ｏ3
濃度，Ｎ2 Ｏ濃度のいずれもが基準濃度を下回るように
低下される。このようなパルス放電電力の制御は、Ｏ3
濃度またはＮ2 Ｏ濃度のいずれか一方が測定されいずれ
か一方が基準濃度より低くなるように行われてもよい
が、前述のように両方の濃度を測定しその両方の濃度が
各基準値より低くなるように行われる方が環境保護の点
から望ましい。
【００１３】このようにＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度が低下さ
れた後は、放電電力が再び最大パルス放電電力まで上昇
されてパルス・コロナ放電処理が続行され、Ｏ3 濃度，
Ｎ2Ｏ濃度が基準濃度を超えると再度放電電力が低下さ
れる。
れた後は、放電電力が再び最大パルス放電電力まで上昇
されてパルス・コロナ放電処理が続行され、Ｏ3 濃度，
Ｎ2Ｏ濃度が基準濃度を超えると再度放電電力が低下さ
れる。
【００１４】前記導管１１を通過した排ガスは細粒の除
去のためバグフィルタ１３を通され、誘導通風機１４よ
り矢印１５で示されるように排出される。
去のためバグフィルタ１３を通され、誘導通風機１４よ
り矢印１５で示されるように排出される。
【００１５】前記排ガス処理装置１のパルス発生装置７
および電極８に対応する回路２０が図２に示されてい
る。この回路２０において、サイリスタ制御交流電源２
１から交流電流が流され、自動変圧機２２により電圧が
任意の値に変換される。変圧された電流は整流回路２３
により整流され、得られた直流電流はコンデンサ２４に
蓄電される。このコンデンサ２４に蓄電された電気は、
回転している回転スパークギャップ２５を通過してパル
ス電流となり、前記排ガス処理装置１の放電室６内に設
けられている電極８に送られ、電極８からパルス・コロ
ナ放電が発生する。このパルス・コロナ放電が発生する
領域における陽極と負極とのギャップは例えば１０〜１
５ｃｍであり、例えば１０〜１５ｋＶの電圧がかけられ
る。パルス電流の発生手段としては回転スパークギャッ
プ２５の代わりに図２のサークル中に示されるようなサ
イラトロン２６が用いられてもよい。
および電極８に対応する回路２０が図２に示されてい
る。この回路２０において、サイリスタ制御交流電源２
１から交流電流が流され、自動変圧機２２により電圧が
任意の値に変換される。変圧された電流は整流回路２３
により整流され、得られた直流電流はコンデンサ２４に
蓄電される。このコンデンサ２４に蓄電された電気は、
回転している回転スパークギャップ２５を通過してパル
ス電流となり、前記排ガス処理装置１の放電室６内に設
けられている電極８に送られ、電極８からパルス・コロ
ナ放電が発生する。このパルス・コロナ放電が発生する
領域における陽極と負極とのギャップは例えば１０〜１
５ｃｍであり、例えば１０〜１５ｋＶの電圧がかけられ
る。パルス電流の発生手段としては回転スパークギャッ
プ２５の代わりに図２のサークル中に示されるようなサ
イラトロン２６が用いられてもよい。
【００１６】このような回路２０において、前記センサ
１２からのＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度に関するデータが前記
パルス発生装置７に伝えられると、図示しない判断機構
がＯ 3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度と各基準濃度とを比較し、Ｏ3
濃度，Ｎ2 Ｏ濃度が高ければ回転スパークギャップ２５
または自動変圧器２２に指令が出される。指令を受けた
回転スパークギャップ２５は回転速度を遅くすることに
よりパルス周波数を低くしてパルス放電電力を低下さ
せ、指令を受けた自動変圧器２２はパルス放電電圧を下
げることによりパルス放電電力を低下させる。パルス周
波数を低くすることもパルス放電電圧を下げることもい
ずれもパルス放電電力を低下させラジカルを発生させる
ための電子の数を少なくすることになるが、電圧を低下
させる場合は電子の速度を低下させることになりダイオ
キシン，水銀，ＮＯx ，ＳＯx の除去性能に大きく影響
を与えることになる。それに対し、パルス周波数を低く
する場合は電子の速度が変わらないため、有害物質の除
去性能低下に与える影響が少なく有利である。
１２からのＯ3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度に関するデータが前記
パルス発生装置７に伝えられると、図示しない判断機構
がＯ 3 濃度，Ｎ2 Ｏ濃度と各基準濃度とを比較し、Ｏ3
濃度，Ｎ2 Ｏ濃度が高ければ回転スパークギャップ２５
または自動変圧器２２に指令が出される。指令を受けた
回転スパークギャップ２５は回転速度を遅くすることに
よりパルス周波数を低くしてパルス放電電力を低下さ
せ、指令を受けた自動変圧器２２はパルス放電電圧を下
げることによりパルス放電電力を低下させる。パルス周
波数を低くすることもパルス放電電圧を下げることもい
ずれもパルス放電電力を低下させラジカルを発生させる
ための電子の数を少なくすることになるが、電圧を低下
させる場合は電子の速度を低下させることになりダイオ
キシン，水銀，ＮＯx ，ＳＯx の除去性能に大きく影響
を与えることになる。それに対し、パルス周波数を低く
する場合は電子の速度が変わらないため、有害物質の除
去性能低下に与える影響が少なく有利である。
【００１７】以上の実施例では、パルス放電電力の制御
のためにパルス周波数、パルス放電電圧を変化させてい
るがパルス放電電流、パルス波形を変化させることによ
りパルス放電電力を制御してもよい。
のためにパルス周波数、パルス放電電圧を変化させてい
るがパルス放電電流、パルス波形を変化させることによ
りパルス放電電力を制御してもよい。
【００１８】
【発明の効果】この本発明の排ガス処理の制御方法によ
れば、Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏによる環境汚染の問題を発生させる
ことなくＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の排ガ
ス中の有害成分の処理を効率的に行うことができる。
れば、Ｏ3 ，Ｎ2 Ｏによる環境汚染の問題を発生させる
ことなくＮＯx ，ＳＯx ，ダイオキシン，水銀等の排ガ
ス中の有害成分の処理を効率的に行うことができる。
【図１】図１は、本発明の一実施例にかかる排ガス処理
の制御方法が適用される排ガス処理装置を示す図であ
る。
の制御方法が適用される排ガス処理装置を示す図であ
る。
【図２】図２は、図１の排ガス処理装置におけるパルス
・コロナ放電発生のための回路を示す図である。
・コロナ放電発生のための回路を示す図である。
１ 排ガス処理装置 ３ 冷却室 ６ 放電室 ７ パルス発生装置 ８ 電極 ９ 灰出装置 １２ センサ １３ バグフィルタ １４ 誘導通風機 ２２ 自動変圧器 ２３ 整流回路 ２５ 回転スパークギャップ ２６ サイラトロン
Claims (5)
- 【請求項１】 排ガス中にパルス・コロナ放電を発生さ
せることによりその排ガス中の被処理成分を処理する排
ガス処理において、このパルス・コロナ放電が発生され
る排ガス中のＯ3 またはＮ2 Ｏの濃度が基準濃度を超え
るとＯ3 またはＮ2 Ｏの濃度がその基準濃度より低くな
るようにそのパルス・コロナ放電によるパルス放電電力
を制御することを特徴とする排ガス処理の制御方法。 - 【請求項２】 前記排ガス中のＯ3 の濃度およびＮ2 Ｏ
の濃度のいずれか一方でも基準濃度を超えるとＯ3 の濃
度およびＮ2 Ｏの濃度のいずれもが各基準濃度より低く
なるようにそのパルス・コロナ放電によるパルス放電電
力を制御することを特徴とする請求項１に記載の排ガス
処理の制御方法。 - 【請求項３】 前記パルス放電電力の制御は前記パルス
・コロナ放電のパルス周波数の制御またはパルス放電電
圧の制御により行うことを特徴とする請求項１または２
に記載の排ガス処理の制御方法。 - 【請求項４】 前記パルス・コロナ放電を発生させるた
めに回転スパークギャップまたはサイラトロンを利用す
ることを特徴とする請求項１乃至３のうちのいずれかに
記載の排ガス処理の制御方法。 - 【請求項５】 前記被処理成分がＮＯx ，ＳＯx ，ダイ
オキシン，水銀のうちの一種または二種以上であること
を特徴とする請求項１乃至４のうちのいずれかに記載の
排ガス処理の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6203739A JPH0866620A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | 排ガス処理の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6203739A JPH0866620A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | 排ガス処理の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0866620A true JPH0866620A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16479057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6203739A Withdrawn JPH0866620A (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | 排ガス処理の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0866620A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005000450A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Ngk Insulators, Ltd. | 排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法 |
| CN109260916A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-01-25 | 东莞市恒升环保科技有限公司 | 一种等离子废气处理设备 |
-
1994
- 1994-08-29 JP JP6203739A patent/JPH0866620A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005000450A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Ngk Insulators, Ltd. | 排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法 |
| US7700051B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-04-20 | Ngk Insulators, Ltd. | Apparatus and method of treating exhaust gas |
| CN109260916A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-01-25 | 东莞市恒升环保科技有限公司 | 一种等离子废气处理设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011106 |