JPH0859214A - オゾン発生装置 - Google Patents
オゾン発生装置Info
- Publication number
- JPH0859214A JPH0859214A JP6224151A JP22415194A JPH0859214A JP H0859214 A JPH0859214 A JP H0859214A JP 6224151 A JP6224151 A JP 6224151A JP 22415194 A JP22415194 A JP 22415194A JP H0859214 A JPH0859214 A JP H0859214A
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- JP
- Japan
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- ozone
- ozone gas
- gas
- nox
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】Ｃｒ化合物発生の要因となるオゾンガスに含ま
れるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを除去し、Ｃｒ化合物に汚染
されないか、或いは高集積度の半導体製造等に問題にな
らない程度の微量な汚染で済むオゾン発生装置を提供す
ること。 【構成】 高電圧を印加しているオゾン発生セル１１に
原料ガスを供給し、該オゾン発生セル１１で発生したオ
ゾンガスをオゾンガス移送流路（管１４，１５）を通し
て送出するオゾン発生装置１０において、オゾンガス移
送流路にＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘのいずれか１つ又は２つ
以上を除去する除去手段（図ではＮＯｘの除去手段）を
設け、オゾン発生セル１１からのオゾンガスを除去手段
を通して、該オゾンガスに含まれるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯ
ｘのいずれか１つ又は２つ以上を除去して送出する。
れるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを除去し、Ｃｒ化合物に汚染
されないか、或いは高集積度の半導体製造等に問題にな
らない程度の微量な汚染で済むオゾン発生装置を提供す
ること。 【構成】 高電圧を印加しているオゾン発生セル１１に
原料ガスを供給し、該オゾン発生セル１１で発生したオ
ゾンガスをオゾンガス移送流路（管１４，１５）を通し
て送出するオゾン発生装置１０において、オゾンガス移
送流路にＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘのいずれか１つ又は２つ
以上を除去する除去手段（図ではＮＯｘの除去手段）を
設け、オゾン発生セル１１からのオゾンガスを除去手段
を通して、該オゾンガスに含まれるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯ
ｘのいずれか１つ又は２つ以上を除去して送出する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造プロセス等に
使用する高純度のオゾンガスを製造するオゾン発生装置
に関するものである。
使用する高純度のオゾンガスを製造するオゾン発生装置
に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、この種の高純度のオゾンガスを製造
するオゾン発生装置においては、オゾンガスと接する部
分の材料にステンレス鋼が用いられ、パーティクルやア
ウトガス（ＯＵＴ ＧＡＳ）の発生を嫌う半導体製造プ
ロセスでは、その電解研磨処理を施したものを使用して
いた。
するオゾン発生装置においては、オゾンガスと接する部
分の材料にステンレス鋼が用いられ、パーティクルやア
ウトガス（ＯＵＴ ＧＡＳ）の発生を嫌う半導体製造プ
ロセスでは、その電解研磨処理を施したものを使用して
いた。
【０００３】上記のようなオゾンガス接触部の材料にス
テンレス鋼材を用いた場合、オゾンガスに微量のクロム
（Ｃｒ）化合物が含まれる。このＣｒ化合物の発生原因
としては、原料ガスとして酸素（Ｏ2）ガスに窒素
（Ｎ2）ガスを添加したものを用いることから、この窒
素により、オゾン発生セル内でＮＯｘが生成され、該Ｎ
Ｏｘとステンレス鋼の表面にごく微量に吸着されている
水分とが反応し、硝酸となり、該硝酸がステンレス鋼と
反応してＣｒ化合物が発生するものと推測される。ま
た、原料として酸素（Ｏ2）ガスにＣＦ4，ＳＦ6，ＮＦ3
等を添加した場合もＳＯｘやＨＦの生成も予測され、Ｃ
ｒ化合物が発生すると推測される。
テンレス鋼材を用いた場合、オゾンガスに微量のクロム
（Ｃｒ）化合物が含まれる。このＣｒ化合物の発生原因
としては、原料ガスとして酸素（Ｏ2）ガスに窒素
（Ｎ2）ガスを添加したものを用いることから、この窒
素により、オゾン発生セル内でＮＯｘが生成され、該Ｎ
Ｏｘとステンレス鋼の表面にごく微量に吸着されている
水分とが反応し、硝酸となり、該硝酸がステンレス鋼と
反応してＣｒ化合物が発生するものと推測される。ま
た、原料として酸素（Ｏ2）ガスにＣＦ4，ＳＦ6，ＮＦ3
等を添加した場合もＳＯｘやＨＦの生成も予測され、Ｃ
ｒ化合物が発生すると推測される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来、半導体製造プロ
セスにおいては、使用するオゾンガスが微量なＣｒ化合
物で汚染されていても特に問題とならなかった。しかし
ながらオゾンガスの用途が広まっていくに伴い、半導体
製造プロセスに用いるオゾンガス中に含まれるＣｒ化合
物が問題となってきているが、従来この問題に対処する
有効な手段は無かった。
セスにおいては、使用するオゾンガスが微量なＣｒ化合
物で汚染されていても特に問題とならなかった。しかし
ながらオゾンガスの用途が広まっていくに伴い、半導体
製造プロセスに用いるオゾンガス中に含まれるＣｒ化合
物が問題となってきているが、従来この問題に対処する
有効な手段は無かった。
【０００５】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、Ｃｒ化合物の発生の要因となるオゾンガスに含まれ
るＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを除去し、Ｃｒ化合物の発生を
大幅に低減できるオゾン発生装置を提供することを目的
とする。
で、Ｃｒ化合物の発生の要因となるオゾンガスに含まれ
るＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを除去し、Ｃｒ化合物の発生を
大幅に低減できるオゾン発生装置を提供することを目的
とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、高電圧を印加しているオゾン発生セルに原料
ガスを供給し、該オゾン発生セルで発生したオゾンガス
をオゾンガス移送流路を通して送出するオゾン発生装置
において、オゾンガス移送流路にＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘ
のいずれか１つ又は２つ以上を除去する除去手段を設
け、オゾン発生セルからのオゾンガスを除去手段を通し
て、該オゾンガスに含まれるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘのい
ずれか１つ又は２つ以上を除去して送出することを特徴
とする。
本発明は、高電圧を印加しているオゾン発生セルに原料
ガスを供給し、該オゾン発生セルで発生したオゾンガス
をオゾンガス移送流路を通して送出するオゾン発生装置
において、オゾンガス移送流路にＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘ
のいずれか１つ又は２つ以上を除去する除去手段を設
け、オゾン発生セルからのオゾンガスを除去手段を通し
て、該オゾンガスに含まれるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘのい
ずれか１つ又は２つ以上を除去して送出することを特徴
とする。
【０００７】また、前記除去手段は内部にゼオライト材
を充填した容器であり、オゾン発生セルからのオゾンガ
スを該容器中を通すように構成したことを特徴とする。
を充填した容器であり、オゾン発生セルからのオゾンガ
スを該容器中を通すように構成したことを特徴とする。
【０００８】また、前記除去手段は容器に収容した純水
を有し、オゾン発生セルからのオゾンガスは微細な気泡
として純水中に気散させて通すように構成したことを特
徴とする。
を有し、オゾン発生セルからのオゾンガスは微細な気泡
として純水中に気散させて通すように構成したことを特
徴とする。
【０００９】
【作用】本発明は上記のように、オゾン発生セルからの
オゾンガスを内部にゼオライト材を充填した容器中に通
すことにより、オゾンガス中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘは
該ゼオライトに吸着され除去される。また、容器に収容
された純水中を通すことにより、オゾンガス中のＮＯ
ｘ、ＨＦ、ＳＯｘは純水中に溶解し除去される。従っ
て、オゾンガス中にＣｒ化合物発生の要因となるＮＯ
ｘ、ＨＦ、ＳＯｘが含まれないから、移送流路のオゾン
ガスとの接触部をステンレス鋼のようなＣｒを含む材料
で構成しても、Ｃｒ化合物が生成されることなくオゾン
ガスはＣｒ化合物に汚染されることはない。
オゾンガスを内部にゼオライト材を充填した容器中に通
すことにより、オゾンガス中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘは
該ゼオライトに吸着され除去される。また、容器に収容
された純水中を通すことにより、オゾンガス中のＮＯ
ｘ、ＨＦ、ＳＯｘは純水中に溶解し除去される。従っ
て、オゾンガス中にＣｒ化合物発生の要因となるＮＯ
ｘ、ＨＦ、ＳＯｘが含まれないから、移送流路のオゾン
ガスとの接触部をステンレス鋼のようなＣｒを含む材料
で構成しても、Ｃｒ化合物が生成されることなくオゾン
ガスはＣｒ化合物に汚染されることはない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明のオゾン発生装置の構成例を示す図
である。図示するように、本オゾン発生装置１０はオゾ
ン発生セル１１、ＮＯｘの除去手段１２、フィルタ１３
を具備し、オゾン発生セル１１とＮＯｘの除去手段１２
は少なくともオゾンガスと接触する部分はテフロン等の
構成材料にＣｒを含まない材料を用いた管１４で接続
し、該ＮＯｘの除去手段１２とフィルタ１３はテフロン
又はステンレス鋼等からなる管１５で接続している。
する。図１は本発明のオゾン発生装置の構成例を示す図
である。図示するように、本オゾン発生装置１０はオゾ
ン発生セル１１、ＮＯｘの除去手段１２、フィルタ１３
を具備し、オゾン発生セル１１とＮＯｘの除去手段１２
は少なくともオゾンガスと接触する部分はテフロン等の
構成材料にＣｒを含まない材料を用いた管１４で接続
し、該ＮＯｘの除去手段１２とフィルタ１３はテフロン
又はステンレス鋼等からなる管１５で接続している。
【００１１】オゾン発生セル１１はその電極に高周波高
電圧が印加され、無声放電等の放電が発生し、原料ガス
として酸素（Ｏ2）ガスに窒素（Ｎ2）ガスを添加したも
のを供給しオゾン（Ｏ3）ガス（８ｖｏｌ％）を発生さ
せるものである。このように原料ガスとして酸素
（Ｏ2）ガスに窒素（Ｎ2）ガスを添加したものを供給し
た場合は、上記のようにオゾンガス中にＮＯｘが含まれ
る。該ＮＯｘの含むオゾンガスを管１４を通してＮＯｘ
の除去手段１２を通すことにより、オゾンガス中のＮＯ
ｘが除去される。ＮＯｘの除去されたオゾンガスは更に
フィルタ１３を通ることにより、パーティクル等が除去
され、オゾン発生装置１０から次のプロセスへ送出され
る。
電圧が印加され、無声放電等の放電が発生し、原料ガス
として酸素（Ｏ2）ガスに窒素（Ｎ2）ガスを添加したも
のを供給しオゾン（Ｏ3）ガス（８ｖｏｌ％）を発生さ
せるものである。このように原料ガスとして酸素
（Ｏ2）ガスに窒素（Ｎ2）ガスを添加したものを供給し
た場合は、上記のようにオゾンガス中にＮＯｘが含まれ
る。該ＮＯｘの含むオゾンガスを管１４を通してＮＯｘ
の除去手段１２を通すことにより、オゾンガス中のＮＯ
ｘが除去される。ＮＯｘの除去されたオゾンガスは更に
フィルタ１３を通ることにより、パーティクル等が除去
され、オゾン発生装置１０から次のプロセスへ送出され
る。
【００１２】上記のようにオゾン発生セル１１からのオ
ゾンガスはＮＯｘの除去手段１２でその中に含まれるＮ
Ｏｘが除去される。従って、該除去手段１２以降の管１
５等のオゾンガス移送流路のオゾンガス接触部に構成材
料にＣｒ化合物を含む、例えばステンレス管を用いても
Ｃｒ化合物を生成する要因となるＮＯｘがなく、オゾン
ガスはＣｒ化合物で汚染されることはない。
ゾンガスはＮＯｘの除去手段１２でその中に含まれるＮ
Ｏｘが除去される。従って、該除去手段１２以降の管１
５等のオゾンガス移送流路のオゾンガス接触部に構成材
料にＣｒ化合物を含む、例えばステンレス管を用いても
Ｃｒ化合物を生成する要因となるＮＯｘがなく、オゾン
ガスはＣｒ化合物で汚染されることはない。
【００１３】図２はＮＯｘの除去手段１２の構成例を示
す図である。ＮＯｘの除去手段１２は容器２０にＮＯｘ
吸着剤２１が充填された構造である。容器２０は円筒状
の外筒２２をその上下開口をフランジ２３，２３で閉塞
した構造で、外筒２２の内側に上下に二枚のメッシュ板
２５，２５を所定の間隔を設けて保持リング２６，２６
で保持し、該メッシュ板２５と２５の間に前記ＮＯｘ吸
着剤２１を充填した構造である。なお、図２において、
２４，２４はフランジ２３，２３を外筒２２に固定する
ボルト、２７，２７は気密を保つためのＯリングであ
る。
す図である。ＮＯｘの除去手段１２は容器２０にＮＯｘ
吸着剤２１が充填された構造である。容器２０は円筒状
の外筒２２をその上下開口をフランジ２３，２３で閉塞
した構造で、外筒２２の内側に上下に二枚のメッシュ板
２５，２５を所定の間隔を設けて保持リング２６，２６
で保持し、該メッシュ板２５と２５の間に前記ＮＯｘ吸
着剤２１を充填した構造である。なお、図２において、
２４，２４はフランジ２３，２３を外筒２２に固定する
ボルト、２７，２７は気密を保つためのＯリングであ
る。
【００１４】下側のフランジ２３には継手２８を介して
一端が図１のオゾン発生セル１１に接続された管１４の
他端が接続され、上側のフランジ２３には継手２８を介
して一端が図１のフィルタ１３に接続された管１５の他
端が接続される。管１４を通してオゾン発生セル１１か
らのオゾンガスを外筒２２内に流すと、該オゾンガスは
下側のメッシュ板２５、ＮＯｘ吸着剤２１及び上側のメ
ッシュ板２５を通って管１５へと流れる。該オゾンガス
がＮＯｘ吸着剤２１を通る間にその中に含まれるＮＯｘ
はＮＯｘ吸着剤２１に吸着される。
一端が図１のオゾン発生セル１１に接続された管１４の
他端が接続され、上側のフランジ２３には継手２８を介
して一端が図１のフィルタ１３に接続された管１５の他
端が接続される。管１４を通してオゾン発生セル１１か
らのオゾンガスを外筒２２内に流すと、該オゾンガスは
下側のメッシュ板２５、ＮＯｘ吸着剤２１及び上側のメ
ッシュ板２５を通って管１５へと流れる。該オゾンガス
がＮＯｘ吸着剤２１を通る間にその中に含まれるＮＯｘ
はＮＯｘ吸着剤２１に吸着される。
【００１５】上記構成のＮＯｘの除去手段１２におい
て、フランジ２３、外筒２２及び保持リング２６は純ア
ルミニウム又はステンレス鋼にＮｉコーティング又はテ
フロン、メッシュ板２５はテフロン、Ｏリング２７はフ
ロロカーボンエラストマで構成した。また、ＮＯｘ吸着
剤２１にはゼオライトを用いる。ゼオライトはオゾンガ
スに比べて多量のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを吸着する性質
を有している。また、オゾンガス中のＮＯｘ、ＨＦ、Ｓ
Ｏｘは極く微量であるため、ゼオライト中にこのＮＯ
ｘ、ＨＦ、ＳＯｘを微量に含むオゾンガスを通すと、オ
ゾンガスは短時間で吸着平衡状態に達し、それ以上は吸
着されないが、ＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘは長い時間かけて
吸着され続けることになる。この原理によりオゾンガス
中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを効果的に除去する。
て、フランジ２３、外筒２２及び保持リング２６は純ア
ルミニウム又はステンレス鋼にＮｉコーティング又はテ
フロン、メッシュ板２５はテフロン、Ｏリング２７はフ
ロロカーボンエラストマで構成した。また、ＮＯｘ吸着
剤２１にはゼオライトを用いる。ゼオライトはオゾンガ
スに比べて多量のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを吸着する性質
を有している。また、オゾンガス中のＮＯｘ、ＨＦ、Ｓ
Ｏｘは極く微量であるため、ゼオライト中にこのＮＯ
ｘ、ＨＦ、ＳＯｘを微量に含むオゾンガスを通すと、オ
ゾンガスは短時間で吸着平衡状態に達し、それ以上は吸
着されないが、ＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘは長い時間かけて
吸着され続けることになる。この原理によりオゾンガス
中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを効果的に除去する。
【００１６】図３は本発明のオゾン発生装置の他の構成
例を示す図である。図３において、図１と同一符号を付
した部分は同一又は相当部分を示す。１６はガラス又は
テフロンで構成された容器（水槽）であり内部に純水１
７が収容されている。オゾン発生セル１１からのオゾン
ガスは管１４を取って、水槽１６の純水１７の中に気散
される。純水１７の中を通ったオゾンガスは水槽１６の
上部から管１５を通って除湿器１８に導かれ、該除湿器
１８でオゾンガス中に含まれる湿気を除去し、乾燥した
オゾンガスとして次のプロセスに送られる。
例を示す図である。図３において、図１と同一符号を付
した部分は同一又は相当部分を示す。１６はガラス又は
テフロンで構成された容器（水槽）であり内部に純水１
７が収容されている。オゾン発生セル１１からのオゾン
ガスは管１４を取って、水槽１６の純水１７の中に気散
される。純水１７の中を通ったオゾンガスは水槽１６の
上部から管１５を通って除湿器１８に導かれ、該除湿器
１８でオゾンガス中に含まれる湿気を除去し、乾燥した
オゾンガスとして次のプロセスに送られる。
【００１７】また、管１４の先端には図示は省略する
が、オゾンガスを微細な気泡として気散させるため、例
えば孔径１０〜１００μｍの多数の微細孔が形成された
散気部を設け、該散気部からオゾンガスを微細気泡とし
て気散させる。なお、上記除湿器１８は次のプロセスが
水分を嫌う場合に用いればよく、水分を嫌わないプロセ
スの場合は必ずしも必要なものではない。上記除湿器１
８は凝縮方式又は吸着方式等が用いられる。
が、オゾンガスを微細な気泡として気散させるため、例
えば孔径１０〜１００μｍの多数の微細孔が形成された
散気部を設け、該散気部からオゾンガスを微細気泡とし
て気散させる。なお、上記除湿器１８は次のプロセスが
水分を嫌う場合に用いればよく、水分を嫌わないプロセ
スの場合は必ずしも必要なものではない。上記除湿器１
８は凝縮方式又は吸着方式等が用いられる。
【００１８】上記のようにオゾンガスを純水１７の中に
気散させることにより、オゾンガス中に含まれるＮＯｘ
が純水１７の中に溶解し除去される。また、上記例はオ
ゾン発生セル１１に供給する原料ガスとして酸素
（Ｏ2）ガスに窒素（Ｎ2）ガスを添加した場合に、オゾ
ンガスに含まれるＮＯｘを除去する例を説明したが、原
料ガスとして酸素（Ｏ2）ガスにＣＦ4，ＳＦ6，ＮＦ3を
添加したものを供給した場合はオゾンガス中にＨＦやＳ
Ｏｘも含まれることになるが、上記のような純水１７の
中にオゾンガスを気散させることにより、これらＨＦや
ＳＯｘも純水１７の中に溶解し、除去されることにな
る。
気散させることにより、オゾンガス中に含まれるＮＯｘ
が純水１７の中に溶解し除去される。また、上記例はオ
ゾン発生セル１１に供給する原料ガスとして酸素
（Ｏ2）ガスに窒素（Ｎ2）ガスを添加した場合に、オゾ
ンガスに含まれるＮＯｘを除去する例を説明したが、原
料ガスとして酸素（Ｏ2）ガスにＣＦ4，ＳＦ6，ＮＦ3を
添加したものを供給した場合はオゾンガス中にＨＦやＳ
Ｏｘも含まれることになるが、上記のような純水１７の
中にオゾンガスを気散させることにより、これらＨＦや
ＳＯｘも純水１７の中に溶解し、除去されることにな
る。
【００１９】水はオゾンガスに比べてＮＯｘ、ＨＦ、Ｓ
Ｏｘを多量に溶解する性質を有している。また、オゾン
ガス中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘは極く微量であるため、
純水中に該ＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを微量に含むオゾンガ
スを通すとオゾンガスは短時間で溶解平衡状態に達し、
それ以上は溶解しないが、オゾンガス中のＮＯｘ、Ｈ
Ｆ、ＳＯｘは長い時間溶解し続けることになる。この原
理により、オゾンガス中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを効果
的に除去する。
Ｏｘを多量に溶解する性質を有している。また、オゾン
ガス中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘは極く微量であるため、
純水中に該ＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを微量に含むオゾンガ
スを通すとオゾンガスは短時間で溶解平衡状態に達し、
それ以上は溶解しないが、オゾンガス中のＮＯｘ、Ｈ
Ｆ、ＳＯｘは長い時間溶解し続けることになる。この原
理により、オゾンガス中のＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘを効果
的に除去する。
【００２０】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
オゾン発生セル以降のオゾンガス移送流路にオゾンガス
中に含まれるＮＯｘ、ＨＦ及びＳＯｘを除去する除去手
段を設けるから、該除去手段以降のオゾンガス移送流路
のオゾンガスとの接触部の構成材料にステンレスＣｒを
含む材料を用いても、オゾンガスがＣｒ化合物に汚染さ
れることが無いという優れた効果が得られる。
オゾン発生セル以降のオゾンガス移送流路にオゾンガス
中に含まれるＮＯｘ、ＨＦ及びＳＯｘを除去する除去手
段を設けるから、該除去手段以降のオゾンガス移送流路
のオゾンガスとの接触部の構成材料にステンレスＣｒを
含む材料を用いても、オゾンガスがＣｒ化合物に汚染さ
れることが無いという優れた効果が得られる。
【図１】本発明のオゾン発生装置の構成例を示す図であ
る。
る。
【図２】本発明のオゾン発生装置に用いるＮＯｘの除去
手段の構成例を示す図である。
手段の構成例を示す図である。
【図３】本発明のオゾン発生装置の他の構成例を示す図
である。
である。
１０ オゾン発生装置 １１ オゾン発生セル １２ ＮＯｘの除去手段 １３ フィルタ １４ 管 １５ 管 １６ 水槽 １７ 純水 １８ 除湿器 ２０ 容器 ２１ ＮＯｘ吸着剤 ２２ 外筒 ２３ フランジ ２４ ボルト ２５ メッシュ板 ２６ 保持リング ２７ Ｏリング ２８ 継手
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辻村 学 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 中田 錬平 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 宮崎 邦浩 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 梶 成彦 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝堀川町工場内
Claims (4)
- 【請求項１】 高電圧を印加しているオゾン発生セルに
原料ガスを供給し、該オゾン発生セルで発生したオゾン
ガスをオゾンガス移送流路を通して送出するオゾン発生
装置において、 前記オゾンガス移送流路にＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘのいず
れか１つ又は２つ以上を除去する除去手段を設け、前記
オゾン発生セルからのオゾンガスを該除去手段を通し
て、該オゾンガスに含まれるＮＯｘ、ＨＦ、ＳＯｘのい
ずれか１つ又は２つ以上を除去して送出することを特徴
とするオゾン発生装置。 - 【請求項２】 前記除去手段は内部にゼオライト材を充
填した容器であり、前記オゾン発生セルからのオゾンガ
スは該容器中を通るように構成したことを特徴とする請
求項１に記載のオゾン発生装置。 - 【請求項３】 前記除去手段は容器に収容した純水を有
し、前記オゾン発生セルからのオゾンガスを該純水中を
通すように構成したことを特徴とする請求項１に記載の
オゾン発生装置。 - 【請求項４】 前記オゾン発生セルからのオゾンガスを
微細な気泡として前記純水中に気散させて通すことを特
徴とする請求項３に記載のオゾン発生装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6224151A JPH0859214A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | オゾン発生装置 |
| DE69535054T DE69535054T2 (de) | 1994-08-24 | 1995-08-23 | Verfahren zur Ozonerzeugung und Methoden zur Benutzung der Vorrichtung |
| US08/518,418 US5632868A (en) | 1994-08-24 | 1995-08-23 | Method and apparatus for generating ozone and methods of its use |
| TW084108787A TW350832B (en) | 1994-08-24 | 1995-08-23 | Method for generating ozone and its use |
| EP95113254A EP0703187B1 (en) | 1994-08-24 | 1995-08-23 | Method for generating ozone and methods of its use |
| KR1019950026263A KR960007449A (ko) | 1994-08-24 | 1995-08-24 | 오존발생방법 및 장치와 그 사용방법 |
| US08/782,390 US5792326A (en) | 1994-08-24 | 1997-01-13 | Method and apparatus for generating ozone and methods of its use |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6224151A JPH0859214A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | オゾン発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0859214A true JPH0859214A (ja) | 1996-03-05 |
Family
ID=16809344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6224151A Pending JPH0859214A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | オゾン発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0859214A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2746385A1 (fr) * | 1996-03-19 | 1997-09-26 | Ozonia Int Sa | Procede et dispositif pour eviter la corrosion dans les equipements de compression d'un gaz contenant de l'ozone |
| WO2005058753A1 (ja) * | 2003-12-17 | 2005-06-30 | Tokyo Electron Limited | オゾン処理方法及びオゾン処理装置 |
| JP2008297130A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Iwatani Internatl Corp | オゾンガス濃縮方法 |
| JP2013180931A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Iwatani Internatl Corp | オゾンガスに含まれる窒素酸化物除去用吸着剤の前処理方法と窒素酸化物除去用吸着剤および前処理装置。 |
| CN107648992A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-02-02 | 成都工业学院 | 一种景观式臭氧清除器 |
| US10245554B2 (en) | 2012-02-10 | 2019-04-02 | Entegris, Inc. | Gas purifier |
-
1994
- 1994-08-24 JP JP6224151A patent/JPH0859214A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2746385A1 (fr) * | 1996-03-19 | 1997-09-26 | Ozonia Int Sa | Procede et dispositif pour eviter la corrosion dans les equipements de compression d'un gaz contenant de l'ozone |
| WO2005058753A1 (ja) * | 2003-12-17 | 2005-06-30 | Tokyo Electron Limited | オゾン処理方法及びオゾン処理装置 |
| KR100681807B1 (ko) * | 2003-12-17 | 2007-02-15 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 오존 처리 방법 및 오존 처리 장치 |
| US7767006B2 (en) | 2003-12-17 | 2010-08-03 | Tokyo Electron Limited | Ozone processing apparatus and ozone processing method |
| JP2008297130A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Iwatani Internatl Corp | オゾンガス濃縮方法 |
| US10245554B2 (en) | 2012-02-10 | 2019-04-02 | Entegris, Inc. | Gas purifier |
| JP2013180931A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Iwatani Internatl Corp | オゾンガスに含まれる窒素酸化物除去用吸着剤の前処理方法と窒素酸化物除去用吸着剤および前処理装置。 |
| CN107648992A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-02-02 | 成都工业学院 | 一种景观式臭氧清除器 |
| CN107648992B (zh) * | 2017-10-19 | 2023-11-17 | 成都工业学院 | 一种景观式臭氧清除器 |
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