JPH0855342A - 複製防止パターン付き光ディスク及びその再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複製が困難な複製防止パターンを付加した光
ディスク、および、複製防止パターンの欠如を検出する
機能を備えた光ディスク再生装置を提供する。 【構成】 光ディスクは、透明基盤と光反射膜とを有
し、複製が困難となるような光学的加工が施されたもの
である。光学的加工は、複製防止パターンに基づいて、
ピット列の読取エラーを起こさない程度に施される。具
体的には、透明インクを透明基盤に印刷するか、透明基
盤の厚みを変えるか、光反射膜の厚みを変えるか、ピッ
トの幅または深さが最適値から変えるかして施される。
光ディスク再生装置は、再生出力からエンベロープパタ
ーンを検出し、複製防止パターンが検出できないとき
は、前記光ディスクから不法に複製された光ディスクで
あると判断して、光ディスクの再生動作を禁止させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ディジタルオーディオ
用コンパクトディスク（ＣＤ−ＤＡ、Ｃompact Ｄisk -
Digital Audio）やコンピュータ用のシーディーロム
（ＣＤ−ＲＯＭ、Ｃompact Ｄisk - Ｒead Ｏnly Ｍemo
ry）等のプリマスタード形光ディスクに、複製が困難な
複製防止パターンを付加した光ディスクに関するもので
ある。また、本発明は、前記光ディスクから不法に複製
された結果、前記複製防止パターンが欠如することとな
った光ディスクであることを検出できるる光ディスク再
生装置、さらに、前記複製防止パターンが欠如すること
となった光ディスクを再生できないようにする光ディス
ク再生装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、記録媒体の不法な複製を防止
する技術としては、例えば、複製の可、不可を表すフラ
グ、あるいは、複製を限定回数許すフラグ等が記録媒体
のデータ中に組み込まれたものが知られている。そし
て、再生装置に記録装置を接続して複製が試みられたと
き、前記フラグを再生して、記録装置が複製の不可を表
すフラグを検出した場合には、他の記録媒体にデータを
記録できないようにしてデータの複製ができないように
している。

【０００３】ところが、前記フラグを用いる方法では、
このフラグを変更したり、このフラグの効力を無効とす
る装置を前記再生装置と前記記録装置との間に入れれ
ば、容易に複製ができてしまう。

【０００４】また、特に、プリマスタード形光ディスク
の場合、前記フラグを用いたとしても、元の光ディスク
からのデータを忠実に複製した原盤によって複製光ディ
スクを製造することができる。あるいは、元の光ディス
クの光学的ピットを物理的に複製して得たスタンパによ
って複製光ディスクを製造することもできる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に鑑みてなされたもので、ピット列の変調パターンの
読み取りに影響を与えないで、かつ、複製が困難となる
ような複製防止パターンを光ディスクに施すものであ
る。また、本発明は、不法に複製された結果、前記複製
防止パターンが欠如することとなった光ディスクを検出
し、このような光ディスクの再生ができないようにする
ものである。本発明は、従来の光ディスクおよびその再
生装置の諸規格に合わせたものを前提とするものではな
いから、必ずしも、本発明の光ディスクを従来の再生装
置で再生したり、また、本発明の再生装置が従来の光デ
ィスクを再生するものではない。しかし、本発明の光デ
ィスクおよび再生装置が、複製防止パターンの点を除い
て、従来の光ディスクおよび再生装置と互換性を有する
規格のものとした場合でも、本発明の光ディスクを従来
の再生装置では再生できないようにしたり、本発明の再
生装置で従来の光ディスクをそのまま再生できるようす
ることも可能である。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、請求項１に記
載の発明においては、記録面にピット列が設けられた透
明基盤と、該透明基盤の記録面を覆う反射膜とを有する
光ディスクにおいて、ピット列の読み取りに影響を与え
ることがない程度に、光学的特性が複製防止パターンに
基づいて変化された部分を有することを特徴とするもの
である。

【０００７】請求項２に記載の発明においては、請求項
１に記載の複製防止パターン付き光ディスクにおいて、
前記透明基盤の再生光入射面に印刷された透明インク層
により前記光学的特性が変化されたことを特徴とするも
のである。

【０００８】請求項３に記載の発明においては、請求項
１に記載の複製防止パターン付き光ディスクにおいて、
前記透明基盤の厚みを変化させることにより前記光学的
特性が変化されたことを特徴とするものである。

【０００９】請求項４に記載の発明においては、請求項
３に記載の複製防止パターン付き光ディスクにおいて、
前記透明基盤の厚みの変化が、再生光入射面に凸部また
は凹部を形成することにより与えられたものであること
を特徴とするものである。

【００１０】請求項５に記載の発明においては、請求項
１に記載の複製防止パターン付き光ディスクにおいて、
前記反射膜の厚みを変化させることにより前記光学的特
性が変化されたことを特徴とするものである。

【００１１】請求項６に記載の発明においては、請求項
１に記載の複製防止パターン付き光ディスクにおいて、
前記ピット列の幅または深さの少なくとも一方を変化さ
せることにより前記光学的特性が変化されたことを特徴
とするものである。

【００１２】請求項７に記載の発明においては、請求項
１ないし６のいずれか１項に記載の複製防止パターン付
き光ディスクにおいて、前記複製防止パターンは、同期
パターンとデータパターンとからなることを特徴とする
ものである。

【００１３】請求項８に記載の発明においては、請求項
１ないし６のいずれか１項に記載の複製防止パターン付
き光ディスクにおいて、前記複製防止パターンは、バー
コードパターンであることを特徴とするものである。

【００１４】請求項９に記載の発明においては、請求項
１ないし８のいずれか１項に記載の複製防止パターン付
き光ディスクにおいて、前記複製防止パターンと関連を
有するパターンが、前記ピット列の変調パターンとして
記録されたことを特徴とするものである。

【００１５】請求項１０に記載の発明においては、請求
項１ないし９のいずれか１項に記載の複製防止パターン
付き光ディスクにおいて、前記複製防止パターンに基づ
くデータを使用するプログラムが、前記ピット列の変調
パターンとして記録されたことを特徴とするものであ
る。

【００１６】請求項１１に記載の発明においては、光デ
ィスク再生装置において、再生出力から復調データを検
出するデータ検出器と、前記再生出力のエンベロープを
検出するエンベロープ検出器と、エンベロープからエン
ベロープパターンを検出するエンベロープパターン検出
器と、前記エンベロープパターンと所定のパターンとを
比較する比較器と、該比較器の出力に基づいて再生動作
を制御する再生制御部とを有することを特徴とするもの
である。

【００１７】請求項１２に記載の発明においては、請求
項１１に記載の光ディスク再生装置において、前記所定
のパターンがメモリに記憶され、再生時に前記メモリか
ら読み出されることを特徴とするものである。

【００１８】請求項１３に記載の発明においては、請求
項１１に記載の光ディスク再生装置において、前記所定
のパターンは、光ディスクにピット列の変調パターンと
して記録されており、再生時に前記復調データから得ら
れるものであることを特徴とするものである。

【００１９】請求項１４に記載の発明においては、請求
項１１ないし１３のいずれか１項に記載の光ディスク再
生装置において、所定のプログラムまたは指示データが
光ディスクにピット列の変調パターンとして記録されて
おり、前記復調データから前記プログラムあるいは指示
データを得る手段と、前記プログラムあるいは指示デー
タに基づいて前記データ検出器、前記エンベロープ検出
器、前記パターン検出器、前記比較器、前記再生制御部
の動作を制御する制御部を有することを特徴とするもの
である。

【００２０】

【作用】本発明によれば、光ディスクに、光学的特性が
複製防止パターンに基づいて変化された部分を有する。
光学的特性の変化は、光ディスクの再生時に、再生光の
反射光量をピット列の変調パターンの読み取りに影響を
与えない程度である。光学的特性を変化させる加工は、
複製が困難なものとされ、例えば、透明基盤の再生光入
射面に透明インクを印刷したり、透明基盤に凸部または
凹部を設けたり、光反射膜の厚みを薄くまたは厚くした
り、ピットの幅または深さの少なくとも一方を小さくま
たは大きくすることによって施される。光ディスク再生
装置の再生出力のエンベロープ信号は、この光学的加工
に応じて変動するから、前記複製防止パターンがエンベ
ロープパターンとして検出される。再生装置において
は、複製防止パターンが検出されたときに、再生動作が
可能になるようにする。その結果、不法に複製されて、
前記パターンが欠如することとなった光ディスクの再生
ができないようにすることができる。

【００２１】複製防止パターンの欠如の検出は、エンベ
ロープパターンと、複製防止パターンに対応した所定の
パターンとを比較することによって行なわれる。複製防
止パターンに対応したパターンデータは、例えば、再生
装置のメモリに記憶されており、再生時に読み出され
る。あるいは、光ディスクにピットの変調パターンとし
て他のデータと共に変調記録されており、再生出力を復
調したデータから分離することによって得られる。

【００２２】複製防止パターンの検出動作等が、本発明
の光ディスクに記録されたプログラムあるいは指示デー
タによって実行されるようにすると、従来の光ディスク
のように、複製防止パターンが付加されていない本発明
の対象外の光ディスクは、前記プログラムや指示データ
が記録されていないために、上述したような実行を行な
わないから、再生できることになり、本発明の再生装置
で従来の光ディスクをそのまま再生できるようすること
が可能となる。

【００２３】

【実施例】図１は、本発明の光ディスクの第１の実施例
を示す図である。図１（Ａ）は、光ディスクの半径方向
の断面の概略構成図であって、光学的加工が施された領
域のものである。隣接するトラックにそれぞれピット部
が存在する場合の例を示す。なお、以下に示す各図面に
おいては、構成上の特徴を明らかにするため、図面上の
各部の大きさの比例関係は、実際のものとは一致しな
い。図１（Ｂ）は、図１（Ａ）に示される光学的加工が
施された領域を例えば３箇所再生したときの再生出力で
あるが、そのエンベロープ波形のみが示されている。一
方、図８（Ａ）は、本発明の各実施例における光学的加
工が施されない領域のもので、従来の光ディスクの断面
と同様である。図８（Ｂ）は、図８（Ａ）に示される領
域を再生したときの再生出力であり、従来の光ディスク
を再生したときの再生出力でもある。図中、１は光ディ
スク、２は透明基盤、３は透明基盤２の再生光入射面、
４は信号記録面、５は反射膜、６は保護層、７は透明イ
ンク層、８は再生光、Ｐはピット部、ｆは上側エンベロ
ープ波形、ｐは下側エンベロープ波形、ｓ，ｄは光学的
加工が施された領域を再生している期間である。

【００２４】この実施例では、複製防止パターンに基づ
いたパターンで光学的加工が施されるべき図１（Ａ）に
示される領域において、再生光入射面３に、透明インク
層７が印刷される。前記透明インク層７は、シルクスク
リーン法等の印刷手段で印刷され、厚さが約１０μｍで
あり、その屈折率は、透明基盤２の屈折率にほぼ等しい
ものとする。前記透明インク層７を除いては、図１
（Ａ）に示される領域は、図８（Ａ）に示される光学的
加工が施されない領域と変わらない。ディジタルオーデ
ィオ用のコンパクトディスク（ＣＤ−ＤＡ）において、
透明基盤２は、厚さが保護層６の分も含め１．２ｍｍ、
屈折率は、ポリカーボネートの場合約１．５である。反
射膜５の厚さは約８０ｎｍ、ピット部Ｐは幅が約５００
ｎｍ、深さが約１１０ｎｍ、トラック方向の長さが約
０．９〜３．３μｍ、再生光８は波長が７８０ｎｍであ
る。

【００２５】再生光８は、透明インク層７および透明基
盤２を通過し反射膜５で反射する。なお、透明インク層
７と透明基盤２との境界面となる光入射面３では、両者
の屈折率がほぼ等しいことから、反射が生じない。光デ
ィスク１の周方向のトラックは、図１（Ａ）および図８
（Ａ）の紙面垂直方向に相当し、このトラックを光ピッ
クアップが走査するときに、透明基盤２の記録面４のピ
ット部Ｐ以外の部分では、反射光が入射方向に戻るから
光ピックアップの受光量が多くなり、再生出力が大きく
なる。一方、ピット部Ｐでは、反射光が散乱現象のため
入射方向に戻る成分が少なくなり、光ピックアップの受
光量が少なくなって、再生出力が小さくなる。したがっ
て、再生出力の大きさを識別することによって、ピット
部Ｐを識別することができる。図１（Ｂ）および図８
（Ｂ）に示される再生出力において、個々のピットＰに
よる再生出力の変化は図示せず、再生出力の上側エンベ
ロープ波形ｆおよび下側エンベロープ波形ｐのみを図示
している。個々のピットＰの長さおよび間隔は、光学的
加工が施された領域の大きさに比べて十分に小さいから
である。上側エンベロープ波形ｆは、ピット部Ｐ以外の
部分の再生出力のピーク値に相当し、下側エンベロープ
波形ｐは、ピット部Ｐの部分の再生出力の基底レベルに
相当する。そして、透明インク層７は、透明基盤２の厚
みを部分的に変化させたことと同様の作用をするから、
光ディスク１の再生時に前記光学的加工が施された領域
と施されない領域とでは、焦点位置に収差ができ、図１
（Ｂ）に示すように、前記光学的加工が施された領域を
走査している期間ｓ，ｄでは、再生出力の下側エンベロ
ープ波形ｐのレベルが高くなる。

【００２６】この第１の実施例の変形例として、複製防
止パターンに基づいたパターンの領域においては、光学
的加工が施されないで、前記パターンの領域外におい
て、再生光入射面３に、透明インク層７が印刷されても
よい。

【００２７】図２は、本発明の光ディスクの第２の実施
例を示す図である。図２（Ａ）は、図１（Ａ）と同様
に、光ディスクの半径方向の断面の概略構成図であっ
て、光学的加工が施された領域のものである。光学的加
工が施されない領域は、図８（Ａ）と同様である。図２
（Ｂ）は、図１（Ｂ）と同様に、図２（Ａ）に示される
光学的加工が施された領域を例えば３箇所再生したとき
の再生出力である。図中、図１と同様な部分には同じ符
号を付して説明を省略する。９は光学的加工が施されな
い領域における透明基盤２の厚みを示す仮想線、２ａは
透明基盤２の凸部である。

【００２８】この実施例では、複製防止パターンに基づ
いたパターンで光学的加工が施された図２（Ａ）に示さ
れる領域において、再生光入射面３に凸部２ａが形成さ
れる。その結果、透明基盤２は、仮想線９に示されるよ
うに図８（Ａ）に示される光学的加工が施されない領域
における透明基盤２よりも厚くされる。凸部２ａを形成
するために、射出成型機に取付ける金型に凹型が刻印さ
れる。この凹型は、光学的加工が施される領域に対応し
て設けられる。一例では、凸部２ａの厚みは、約１０μ
ｍである。

【００２９】この第２の実施例の変形例として、金型に
凸型が刻印されてもよく、その場合、再生光入射面３側
には凹部が形成される。凹部が形成された部分はの透明
基盤２は、光学的加工が施されない領域における透明基
盤２よりも薄くされる。一例では、凹部の深さは、約１
０μｍである。

【００３０】透明基盤２の凸部２ａまたは凹部を形成す
る光学的加工は、透明基盤２の厚みを変化させ、光ディ
スク１の再生時に前記光学的加工が施された領域と施さ
れない領域とでは焦点位置に差ができ、図２（Ｂ）に示
すように、光学的加工が施された領域を再生している期
間ｓ，ｄでは、再生出力の下側エンベロープ波形ｐのレ
ベルが高くなる。凸部と凹部の両方を形成してもよい。

【００３１】この第２の実施例の変形例として、複製防
止パターンに基づいたパターンの領域においては、光学
的加工が施されないで、前記パターンの領域外におい
て、再生光入射面３に凸部２ａあるいは凹部が形成され
てもよい。

【００３２】図３は、本発明の光ディスクの第３の実施
例を示す図である。図３（Ａ）は、図１（Ａ）と同様
に、光ディスクの半径方向の断面の概略構成図であっ
て、光学的加工が施された領域のものである。図３
（Ｂ）は、図１（Ｂ）と同様に、図３（Ａ）に示される
光学的加工が施された領域を例えば３箇所再生したとき
の再生出力である。光学的加工が施されない領域は、図
８（Ａ）と同様である。図中、図１と同様な部分には同
じ符号を付して説明を省略する。

【００３３】この実施例では、図３（Ａ）に示すよう
に、複製防止パターンに基づいたパターンで、反射膜５
が薄くなるような光学的加工が施される。その結果、そ
の部分では、反射膜５の実効的な反射率が小さくなる。
具体例では、光学的加工が施された領域の反射膜５の膜
厚が５０ｎｍのとき反射率は６０％であり、光学的加工
が施されない領域の反射膜の膜厚が８０ｎｍのとき反射
率は８０％となる。

【００３４】光学的加工が施された領域の反射膜の膜厚
を、他の領域のものよりも薄く形成する方法の一例を説
明する。この方法は、成膜時に、アルミニウム蒸着のた
めのスパッタリングが２回行なわれる。最初に、反射膜
５が基盤全体に５０ｎｍの厚さに成膜され、次に、光学
的加工が施されない領域のみ開口したマスクが取付けら
れた上で、さらに反射膜が３０ｎｍの厚さで成膜され
る。

【００３５】反射膜５が薄くされることにより、反射率
が小さくなり、図３（Ｂ）に示すように、光学的加工が
施された領域を走査している期間ｓ，ｄでは、再生出力
の上側エンベロープ波形ｆのレベルが低くなる。

【００３６】この第３の実施例の変形例として、光学的
加工が施されない領域の光反射膜５の膜厚が５０ｎｍの
ときに、光学的加工が施される領域の反射膜５が厚くさ
れ、８０ｎｍとされてもよい。この場合は、上述した方
法では、２回目の成膜時に、光学的加工が施される領域
のみ開口したマスクを用いる。

【００３７】図４は、本発明の光ディスクの第４の実施
例を示す図である。図４（Ａ）は、図１（Ａ）と同様
に、光ディスクの半径方向の断面の概略構成図であっ
て、光学的加工が施された領域のものである。光学的加
工が施されない領域は、図８（Ａ）と同様である。図４
（Ｂ）、（Ｃ）は、図１（Ｂ）と同様に、図４（Ａ）に
示される光学的加工が施された領域を例えば３箇所再生
したときの再生出力であり、図４（Ｂ）は光学的加工が
施された領域のピットＰの幅および深さの少なくとも一
方が最適値よりも小さくされたときの再生出力、図４
（Ｃ）は光学的加工が施される領域のピットＰの幅およ
び深さの少なくとも一方が最適値よりも大きくされたと
きの再生出力である。図中、図１と同様な部分には同じ
符号を付して説明を省略する。なお、本実施例におい
て、ピットＰの幅の最適値は、再生出力の振幅の最大値
よりやや小さくなる幅とし、ピットＰの深さの最適値
は、ビーム波長をλ、基板の屈折力をｎとすると、λ／
４ｎとλ／８ｎの中間の深さになるように設定した。

【００３８】この実施例では、複製防止パターンに基づ
いたパターンで光学的加工が施される図４（Ａ）に示さ
れる領域において、光ディスク１のピットＰの幅および
深さの少なくとも一方が、ピットの最適値より小さくさ
れる。光ディスク１のピットＰの幅および深さを最適値
より小さくする方法の一例は、マスターリング工程にお
いて、光変調器をとおったレーザービームによりフォト
レジスト原板に信号が記録される際、記録パワーが減少
するようにされるようにする。具体例では、記録パワー
を最適値から約１５％減少させることにより、ピットＰ
の幅は最適値より約１０％小さく、深さは約１５％小さ
くなる。その際、ピットＰのトラック方向の長さも小さ
くなるとピットＰの変調パターンが変化し、データの復
調に悪影響を及ぼす。したがって、記録パワーの減少に
応じて光変調器の露光時間を増加させることが望まし
い。

【００３９】光学的加工を施す領域のピットＰの幅およ
び深さが最適値よりも小さくされたときには、図４
（Ｂ）に示すように光学的加工が施された領域を走査し
ている期間ｓ，ｄでは、再生出力の下側エンベロープ波
形ｐのレベルが高くなる。

【００４０】この第４の実施例の変形例として、光学的
加工が施される領域のピットＰの幅および深さが大きく
されてもよい。前記記録パワーを最適値から約１５％増
加させることにより、ピットＰの幅は最適値より約１０
％大きく、深さは約１５％大きくなる。

【００４１】光学的加工が施される領域のピットＰの幅
および深さが最適値よりも大きくされたときには、図４
（Ｃ）に示すように、光学的加工が施された領域を走査
している期間ｓ，ｄでは、再生出力の下側エンベロープ
波形ｐのレベルが低くなる。

【００４２】第４の実施例の第２の変形例として、複製
防止パターンに基づいたパターンの領域においては、光
学的加工が施されないで、前記パターンの領域外におい
て、ピットＰの幅および深さが最適値よりも小さく、あ
るいは、大きくされてもよい。

【００４３】第４の実施例の第３の変形例として、ピッ
トＰの幅および深さのいずれか一方だけが小さく、ある
いは、大きくなるように、レーザービームによる露光が
調整されてもよい。

【００４４】以上の第１ないし第４の実施例のように、
複製防止パターンに基づき、ピット列の読取エラーを起
こさない程度で、かつ、複製が困難となるような光学的
加工が施された光ディスが作成される。なお、上述した
各実施例における光学的加工は、単独に施されてもよい
が、複数の光学的加工が組み合わされて施されてもよ
い。

【００４５】図５は、本発明の複製防止パターンの配置
および記録形式の一実施例を示す図である。図中、Ｒ１
は記録内周、Ｒ２は記録外周、１１はリードイン領域、
１２は複製防止パターン、１３は同期パターン、１４は
全体としてのデータパターン、１５は個々のデータパタ
ーン、１６は回転方向である。

【００４６】図５に示されるように、複製防止パターン
１２が設けられる領域は、記録内周Ｒ１から記録外周Ｒ
２の領域に限らず、記録内周Ｒ１よりも内周にあるリー
ドイン領域１１を少なくとも含むようにしている。光ピ
ックアップは、最初にリードイン領域１１を読み出すよ
うに走査されるから、読み出し開始時に複製防止パター
ン１２の欠如が検出可能となる。

【００４７】複製防止パターン１２は、リードイン領域
１１外の領域に設けられてもよい。あるいは、複製防止
パターンを設ける領域は、従来の再生装置の光ピックア
ップでは走査しない領域としてもよい。いずれの場合で
も、最初に複製防止パターン１２の存在する領域を走査
した後に、従来どおりの走査を開始するよう光ピックア
ップの移動が制御されればよい。このような制御をさせ
るプログラムあるいは指示データは、再生装置自体に組
み込んでもよいが、光ディスク１の特定の領域、例え
ば、リードイン領域１１内に記録しておき、その特定の
領域をまず走査するようにしてもよい。特に、ＣＤ−Ｒ
ＯＭの場合は、ＣＤ−ＲＯＭの読み取り制御プログラ
ム、あるいは、ユーザが利用するプログラム自体に含ま
せて記録されていてもよい。後者の場合、再生装置が利
用装置側からプログラムデータあるいは指示データの供
給を受けてもよい。また、従来の光ピックアップとは別
に第２の光ピックアップを設け、複製防止パターン１２
の存在する領域を走査させてもよい。

【００４８】複製防止パターン１２を構成する同期パタ
ーン１３、および、個々のデータパターン１５は、ピッ
トＰに比べて充分大きくされる必要がある。それは、光
学的加工を容易にするためであるが、また、エンベロー
プ波形の急激な変動によりピットＰの変調パターンの読
取時にエラーが発生しないようにするためでもある。同
期パターン１３、および、個々のデータパターン１５の
大きさはトラックピッチよりも十分大きくなるため、光
ピックアップは複製防止パターン１２上を繰り返し走査
することになる。したがって、複製防止パターン１２を
複数回検出し、検出結果の多数決をとるようにすれば、
複製防止パターン１２の検出誤りを防止することができ
る。

【００４９】複製防止パターン１２の記録形式は、図５
に示されるように回転方向１６に沿って、広い幅の同期
パターン１３と狭い幅の個々のデータパターン１５とか
らなるものである。同期パターン１３と個々のデーター
パターン１５とは、所定角度の整数倍の角度上に配列さ
れており、個々のデータパターン１５の有無がデータの
１，０を表す。このような記録形式は、複製防止パター
ン１２をディジタルデータに復号した上で検出すること
を前提としたものである。

【００５０】しかし、複製防止パターン１２の記録形式
は、任意のものでよく、同期パターンＳが複数本の狭い
幅のパターンでもよい。複製防止パターン１２は、複製
防止パターン１２を構成する個々のパターンの幅や相互
の間隔あるいは両者の相対的比率等をアナログ的に検出
できるものでもよい。また、バーコードパターンを用い
ると、特に、透明インクを印刷するという光学的加工を
行なう場合に、従来のバーコードパターンの印刷および
検出の技術を利用することができる。

【００５１】さらにまた、複製防止パターン１２を周期
的なものとすれば、単に周期性のみを検出することによ
り、複製防止パターン１２を検出できる。光学的加工の
有無ではなく、光学的加工の量が調整されてもよく、そ
の場合は、エンベロープ波形のレベルが３値以上の多値
識別で検出されればよい。

【００５２】図６は、本発明の再生装置の一実施例を示
す図である。図中、２１は光ピックアップ、２２はヘッ
ドアンプ、２３は復調およびデータ検出器、２４はエン
ベロープ検出器、２６はエンベロープパターン検出器、
２７は複製防止パターンに対応して予め設定されたパタ
ーンデータの記憶回路、２８は比較器、２９は再生動作
制御部、３０は再生出力、３１は主データ出力、３２は
エンベロープ検出信号、３４はエンベロープパターンデ
ータ、３５はパターンデータ記憶回路から読み出された
パターンデータ、３６はパターン欠如を示す出力、３７
は複製防止パターンに対応して予め設定されたパターン
データであって復調され分離されたもの、３８は復調さ
れ分離された演奏時間情報である。この再生装置は、従
来の再生装置に、複製防止パターンを検出する機能を付
加したものであり、複製防止パターンを検出できないと
きに再生動作を禁止することにより、不法に複製された
結果、前記複製防止パターンが欠如した光ディスクを再
生できないようにするものである。

【００５３】図７は、図６に示される再生装置により、
図５に示される光ディスク１の複製防止パターン１２を
検出したときの各部波形図である。なお、複製防止パタ
ーン１２は、図１に示される透明インクの印刷によるも
のである。図７（Ａ）は再生出力３０、図７（Ｂ）はエ
ンベロープ検出信号３２、図７（Ｃ）は復号用のクロッ
ク信号、図７（Ｄ）はエンベロープパターンデータ３４
である。３９は、同期パターン１３に基づく同期パター
ン信号、４０は個々のデータパターンに基づくデータパ
ターン信号である。

【００５４】次に、光ディスク１上で光学的加工が施さ
れた領域を再生するときの動作を説明する。光ピックア
ップ２１の出力に対して増幅等を行うヘッドアンプ２２
の出力信号である再生出力３０は、そのエンベロープが
光学的加工の有無に応じて変化する。再生出力信号３０
は、復調およびデータ検出器２３において復調され、主
データ３１等が分離される。再生出力３０はまた、エン
ベロープ検出器２４に入力され、エンベロープ検出信号
３２となり、同期信号検出器２５に入力され同期信号３
３が抽出され、前記同期信号３３とともにエンベロープ
パターン検出器２６に入力され、エンベロープパターン
データ３４が復号化される。一方、複製防止パターンに
対応して予め設定されたパターンデータ３５がパターン
データ記憶回路２４に記憶されている。前記エンベロー
プパターンデータ３４と予め設定されたパターンデータ
３５とは、比較器２８に入力され、両者が一致していな
い場合には、パターン欠如を示す出力３６を再生動作制
御部２９に出力し、前記再生動作制御部は、復調および
データ検出器２３の動作を停止させたり、あるいは、再
生装置全体の動作を停止させたりすることによって、主
データ３１が出力されないようにする。

【００５５】複製防止パターンに対応して予め設定され
たパターンデータ３５は、固定的にパターンデータ記憶
回路２７に記憶されていてもよいが、演奏時間情報３８
と同様に光ディスク１のサブコードフレーム等に入れ、
光ディスクのピット列の変調パターンとして記録されて
もよい。特に、ＣＤ−ＲＯＭの場合は、ＣＤ−ＲＯＭの
読み取り制御プログラム、あるいは、ユーザが利用する
プログラム自体に含ませて記録されていてもよい。そし
て、これを復調しパターンデータ３７を分離してパター
ン信号記憶回路２７に入力してもよい。ユーザが利用す
るプログラム自体に含ませた場合、再生装置が利用装置
側から予め設定されたパターンデータ３５の供給を受け
てもよい。

【００５６】次に、エンベロープパターン検出器２６に
おいて、エンベロープパターンデータ３４を復号するた
めの手法の一例を説明する。図５に示される同期パター
ン１３は、個々のデータパターン１５と比較して回転方
向すなわちトラックに沿った幅が広いから、図７（Ｂ）
に示されるエンベロープ検出信号３２のパルス幅を弁別
することにより同期パターン信号３９が検出される。同
期パターン信号３９が検出されると、図７（Ｃ）に示さ
れる所定時間間隔で発生する復号用のクロック信号を新
たに発生開始させ、この復号用のクロック信号の発生毎
に、エンベロープ検出信号３２のレベルを判別すること
により、個々のデータパターン信号４０の有無を検出
し、エンベロープパターンデータ３４を復号することが
できる。復号用のクロック信号の発生間隔は、予め設定
した値でもよいが、同期パターン信号３９のパルス幅あ
るいは個々のデータパターン信号間の最短間隔等に基づ
いて、逐次最適値になるよう制御してもよい。特に、図
５に示すように、同期パターン１３および個々のデータ
パターン１５が、等角度に配列されている場合であっ
て、線速度一定で読み出す際には、パルス幅が変化する
から後者の制御は有効である。

【００５７】また、復調およびデータ検出器２３から出
力されるサブコードフレームに割当てられた演奏時間情
報３８に基づいて、ディスクが１回転するのに要する時
間を計測し、同期パターン信号３９の抽出に利用するこ
ともできる。

【００５８】また、複製防止パターン１２を周期的なも
のとしたときは、エンベロープ検出器２４の出力である
エンベロープ検出信号３２をフィルタに通して複製防止
パターン１２の欠如を検出することもできる。

【００５９】なお、従来の光ピックアップとは別に、複
製防止パターン１２専用の第２の光ピックアップを設け
た場合、複製防止パターン１２がピット形状やトラック
ピッチに比べて十分大きいものであるから、第２の光ピ
ックアップについては、トラッキングサーボ等の複雑な
位置制御回路が不要となる。

【００６０】再生装置の実施例の変形例として、複製防
止パターン１２を検出する機能だけを有し、不法に複製
された結果、前記複製防止パターン１２が欠如した光デ
ィスクであるかどうかを検出するだけの検査装置でもよ
い。

【００６１】次に、前記再生装置が、複製防止パターン
の検出の点を除いて、従来の光ディスク再生装置と互換
性を有する規格のものとした場合、本発明の再生装置が
従来の光ディスクをそのまま再生できるようにした変形
例を説明する。この例では、所定のプログラムあるいは
指示データが主データ、あるいは、パターンデータ３７
や演奏時間情報３８と同様のサブコードフレームに入れ
られて、光ディスクのピット列の変調パターンとして記
録されている。なお、パターンデータ３７が、指示デー
タを兼用するものであってもよい。再生時に、プログラ
ムあるいは指示データが復調およびデータ検出器２３か
ら主データ３１等として得られる。そして、プログラム
あるいは指示データに基づいて、エンベロープ検出器２
４、エンベロープパターン検出器２６、比較器２８、再
生制御部２９、復調およびデータ検出器２３等の動作等
が制御されるようにする。そして、複製防止パターンの
検出動作等が、本発明の光ディスクに記録されたプログ
ラムデータによって実行されるようにすると、従来の光
ディスクのように、複製防止パターンが付加されていな
くても、プログラムや指示データも記録されていないも
のは、再生できることになる。

【００６２】特に、ＣＤ−ＲＯＭの場合、前記プログラ
ムデータあるいは指示データが、ＣＤ−ＲＯＭの読み取
り制御プログラム、あるいは、ユーザが利用するプログ
ラム自体に含ませて記録されていてもよい。後者の場
合、ユーザーが利用するプログラム自体に含ませて記録
されることによって、再生装置が利用装置側からその動
作を制御されるようにしてもよい。

【００６３】次に、複製防止パターンが付加された光デ
ィスクが、複製防止パターンの検出の点を除いて、従来
の光ディスクと互換性を有する規格のものとした場合、
本発明の光ディスクが従来の再生装置では再生できない
ようにした変形例を説明する。この例では、複製防止パ
ターンが付加された光ディスクの主データあるいはサブ
コードフレームに入れられたデータの一部を規格を満た
さないものとし、従来の再生装置では、再生動作が不能
になるようにさせる。そして、本発明の再生装置では、
前記規格を満たさないデータが無視あるいは訂正される
ようにして、再生動作を行うようにする。

【００６４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光ディスクによれば、複製が困難な複製防止パターン
が付加されたので、本発明の光ディスクから従前の方法
で複製された光ディスクには、複製防止パターンが欠如
することになる。したがって、不法に複製された光ディ
スクであるかどうかが容易に判別できる。特に、光ディ
スク再生装置に複製防止パターンを検出する機能を付加
することによって、再生動作を禁止することができる。
また、本発明の光ディスク再生装置によれば、光ピック
アップの出力信号のエンベロープ波形に基づいて、複製
防止パターンの欠如を容易に検出することができる。ま
た、本発明の光ディスクを従来の再生装置では再生でき
ないようにしたり、本発明の再生装置で従来の光ディス
クをそのまま再生できるようすることも可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の光ディスクの第１の実施例を示す図
であり、図１（Ａ）は光ディスクの半径方向の断面の概
略構成図、図１（Ｂ）は再生出力である。

【図２】 本発明の光ディスクの第２の実施例を示す図
であり、図２（Ａ）は光ディスクの断面の概略構成図、
図２（Ｂ）は再生出力である。

【図３】 本発明の光ディスクの第３の実施例を示す図
であり、図３（Ａ）は半径方向の断面の概略構成図、図
３（Ｂ）は再生出力である。

【図４】 本発明の光ディスクの第４の実施例を示す図
であり、図４（Ａ）は光ディスクの断面の概略構成図、
図４（Ｂ）、（Ｃ）は再生出力である。

【図５】 本発明の光ディスクの複製防止パターンの配
置および記録形式を示す図である。

【図６】 本願の発明の再生装置を示す図である。

【図７】 図６に示される再生装置の各部波形を示す図
である。

【図８】 図８（Ａ）は本発明の各実施例における光学
的加工が施されない領域の光ディスクの断面の概略構成
図、図８（Ｂ）は再生出力である。

【符号の説明】

１…光ディスク、２…透明基盤、５…光反射膜、６…保
護層、Ｐ…ピット、７…透明インク層、８…再生光、２
Ａ…凸部、１２…複製防止パターン、１３…同期パター
ン、１４…データパターン、２１…光ピックアップ。

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録面にピット列が設けられた透明基盤
   と、該透明基盤の記録面を覆う反射膜とを有する光ディ
   スクにおいて、ピット列の読み取りに影響を与えること
   がない程度に、光学的特性が複製防止パターンに基づい
   て変化された部分を有することを特徴とする複製防止パ
   ターン付き光ディスク。
2. 【請求項２】 前記透明基盤の再生光入射面に印刷され
   た透明インク層により前記光学的特性が変化されたこと
   を特徴とする請求項１に記載の複製防止パターン付き光
   ディスク。
3. 【請求項３】 前記透明基盤の厚みを変化させることに
   より前記光学的特性が変化されたことを特徴とする請求
   項１に記載の複製防止パターン付き光ディスク。
4. 【請求項４】 前記透明基盤の厚みの変化が、再生光入
   射面に凸部または凹部を形成することにより与えられた
   ものであることを特徴とする請求項３に記載の複製防止
   パターン付き光ディスク。
5. 【請求項５】 前記反射膜の厚みを変化させることによ
   り前記光学的特性が変化されたことを特徴とする請求項
   １に記載の複製防止パターン付き光ディスク。
6. 【請求項６】 前記ピット列の幅または深さの少なくと
   も一方を変化させることにより前記光学的特性が変化さ
   れたことを特徴とする請求項１に記載の複製防止パター
   ン付き光ディスク。
7. 【請求項７】 前記複製防止パターンは、同期パターン
   とデータパターンとからなることを特徴とする請求項１
   ないし６のいずれか１項に記載の複製防止パターン付き
   光ディスク。
8. 【請求項８】 前記複製防止パターンは、バーコードパ
   ターンであることを特徴とする請求項１ないし６のいず
   れか１項に記載の複製防止パターン付き光ディスク。
9. 【請求項９】 前記複製防止パターンと関連を有するパ
   ターンが、前記ピット列の変調パターンとして記録され
   たことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に
   記載の複製防止パターン付き光ディスク。
10. 【請求項１０】 前記複製防止パターンに基づくデータ
    を使用するプログラムが、前記ピット列の変調パターン
    として記録されたことを特徴とする請求項１ないし９の
    いずれか１項にに記載の複製防止パターン付き光ディス
    ク。
11. 【請求項１１】 再生出力から復調データを検出するデ
    ータ検出器と、前記再生出力のエンベロープを検出する
    エンベロープ検出器と、エンベロープからエンベロープ
    パターンを検出するエンベロープパターン検出器と、前
    記エンベロープパターンと所定のパターンとを比較する
    比較器と、該比較器の出力に基づいて再生動作を制御す
    る再生制御部とを有することを特徴とする光ディスク再
    生装置。
12. 【請求項１２】 前記所定のパターンがメモリに記憶さ
    れ、再生時に前記メモリから読み出されることを特徴と
    する請求項１１に記載の光ディスク再生装置。
13. 【請求項１３】 前記所定のパターンは、光ディスクに
    ピット列の変調パターンとして記録されており、再生時
    に前記復調データから得られるものであることを特徴と
    する請求項１１に記載の光ディスク再生装置。
14. 【請求項１４】 所定のプログラムまたは指示データが
    光ディスクにピット列の変調パターンとして記録されて
    おり、前記復調データから前記プログラムあるいは指示
    データを得る手段と、前記プログラムあるいは指示デー
    タに基づいて前記データ検出器、前記エンベロープ検出
    器、前記パターン検出器、前記比較器、前記再生制御部
    の動作を制御する制御部を有することを特徴とする請求
    項１１ないし１３のいずれか１項に記載の光ディスク再
    生装置。