JPH08510409A - 流動床反応炉内の床材料を処理する方法と装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 流動床反応炉（例えば循環する流動床反応炉）内の粒子は、反応炉室１０から排出された後、処理室１６内で冷却される（熱がこれ等から回収される）。これは、上昇室１４内に（例えば非機械的シールまたは分級用壁を経て）第１レベルにおける反応炉室から粒子を排出することによって特に有利な態様で達成される。上昇室内で上方へ流れるガスは、粒子を同伴して処理室内にこれ等を持上げる。処理後、処理室内の粒子は、第１レベルよりも高いレベルで反応炉室へ戻され、この時点では、処理室内の圧力は、反応炉室内の圧力よりも高い。該粒子は、所定の寸法よりも小さい固体粒子を処理室へ移送するために流動化ガスを利用すると共に、上昇室の底３８から大きい粒子を排出することによって、上昇室内で分級可能である。

Description

【発明の詳細な説明】 流動床反応炉内の床材料を処理する 方法と装置 発明の背景および要約 本発明は、反応炉室の内部を画成する側壁を有する反応炉室と、反応炉室の下 部における固体粒子の流動床とを備える流動床反応炉内の床材料を処理する方法 および装置に関するものである。 或る流動床処理では、反応炉室内の床材料の一部を追加処理する前に、別の処 理（例えば、冷却）のために、床材料を形成する粒子の該部分を集めることが望 ましいだろう。反応炉室から別の処理室内に固体粒子を排出して、その処理（例 えば、冷却）後に、反応炉室内に該粒子を再循環して戻すことが提案された。 或る工程では、特定の寸法範囲の粒子のみを処理することが有利である。しか しながら、例えば熱回収に好適な小さい寸法の粒子は、反応炉室の下部における 分別により、大きい粒子またはその他の大きい物体に混合されることが多い。こ れは、最適の熱回収を妨げる傾向があり、熱伝達は、小さい粒子の床において一 層効率的である。また大きい物体は、例えば熱伝達表面を塞いで、また機械の損 傷を生じさせて問題を生じさせる傾向がある。 別の処理室において粒子を処理するときに解決されるべき別の問題は、反応炉 室から処理室へ材料を循環させ、処理室から反応炉室へ材料を戻す場合に生じる 。反応炉室の下部と処理室との間の圧力差が、粒子を強制して反応炉室から処理 室へ流す。しかしながら、反応炉室への粒子の逆循環は、圧力差を克服するため の機械的なまたはその他の移送装置を必要とする。 本発明は、流動床反応炉の反応炉室に結合される別体の処理室において、床材 料を処理する改良された方法および装置を提供する。特に、本発明は、反応炉室 と別体の処理室との間で床材料を循環させる改良された方法および装置を提供す る。本発明は、所定の寸法よりも小さい寸法の床材料を外部処理室を経て循環さ せて、外部処理室内の床材料から熱を回収するように流動床反応炉を使用する。 流動床の反応炉室において床材料を処理する本発明による方法は、処理室へ結 合された上昇室に連通する反応炉からの出口ダクトを利用する。該方法は、次の 段階を有する。（ａ）流動床の第１レベルにおける反応炉室の下部から出口ダク トを経て上昇室内に固体粒子を排出する段階。（ｂ）第１レベルよりも高い第２ レベルへ上昇室内で上方への粒子の浮遊物として搬送ガスによって処理室内へ固 体粒子を空気作用で搬送する段階。（ｃ）処理室内に固体粒子の流動床または固 定床を形成する段階。（ｄ）処理室内で固体粒子を処理する段階。および、（ｅ ）第１レベルよりも高い第３レベルにおいて処理室から反応炉室内へ搬送ガスま たは流動化ガスによって処理された固体粒子を再循環させる段階。 処理された固体粒子を、第３レベルよりも低い第４レベルにおいて処理室から 反応炉室内へ更に再循環させてもよい。 本発明による流動床反応炉において床材料を処理する好例の装置は、以下のも のを含む。反応炉室の下部へ結合される上昇室。反応炉室を上昇室に結合する出 口ダクト、該出口ダクトは、反応炉室から上昇室内に固体粒子を排出するために 反応炉室において第１レベルに配置される。上昇室へ結合される処理室、該処理 室は、固体粒子の床を有する。上昇室の上部を処理室に結合する連結ダクト。上 昇室から該ダクトを経て上昇室内に固体粒子を空気作用によって搬送するために 上昇室内に搬送ガスを導く装置。処理室内の固体粒子を処理する装置。そして、 処理室を反応炉室に結合する第１入口ダクト、該第１入口ダクトは、処理された 固体粒子を、搬送ガスまたは流動化ガスによって処理室から反応炉室内に再循環 させるために第１レベルよりも高い第２レベルに配置される。 上昇室と処理室は、好ましくはコンパクトなユニットを形成するように反応炉 室に隣接して配置される。反応炉室の側壁の一部は、上昇室と処理室を反応炉室 から区分できる。同様に、上昇室および処理室は、ユニットとして構成されて、 仕切り壁によって分離できる。 第１出口ダクトは、例えば格子より１０００ｍｍ高いレベルまでの側壁におい て、または格子のレベルより下の延長室において、反応炉室の耐火物内張りの下 部に配置できる。該出口ダクトは、好ましくは、＞１００ｋｇ固体／ｍ³ガス、 好ましくは５００〜１５００ｋｇ／ｍ³を有する稠密床領域レベルにおいて反応 炉室に配置される。次に、第１入口ダクトは、好ましくは、出口ダクトより５０ ０〜５０００ｍｍ高いレベルに配置される。 流動床反応炉内の圧力は、床の高さによって変化する。反応炉室の稠密床領域 内の第１低レベルにおける圧力Ｐ₁は、稠密度の低い床領域の一層高い第２レベ ルにおける圧力Ｐ₂よりもかなり高くてよい。 本発明は、機械的なまたはその他の複雑な搬送装置を必要とせずに、稠密床領 域における高い圧力Ｐ₁から処理室内に、また逆に反応炉室内に固体粒子を再循 環させる容易な方法を提供する。 固体粒子は、圧力差によって反応炉室の第１レベルにおける稠密床領域から上 昇室内に排出され、上昇室内の圧力Ｐ₃は、反応炉室の稠密床領域の圧力Ｐ₁より も低い。 上昇室から反応炉室内へのガス流を防止して、上昇室内への固体の流れを制御 するために、出口ダクトにギル（gill：えら）シールまたはＬ弁のような非機械 的シールを配置してもよい。ギルシールは、何本かの細いスロット（slot）、即 ち、相互の上に配置されるスロット形開口部によって形成される。該スロットは 、好ましくは水平から僅かに傾斜され、各スロットは、非機械的シールを形成す る。上昇室に流入する床材料の量は、非機械的シールに設けられる流動化空気ノ ズルによって制御可能である。 上昇室内では、固体粒子は、空気作用の搬送による粒子の浮遊物として一層高 い第２レベルまで上昇せしめられる。反応炉室の第２レベルにおける圧力Ｐ₂は 、低い第１レベルにおける稠密床領域の圧力Ｐ₁よりも著しく低い。粒子の浮遊 物は、この第２レベルにおいて処理室内へ更に搬送される。 第２レベルでは、小さい圧力差のみが反応炉室と処理室との間に広がる。従っ て、第１入口ダクトを経て反応炉室内に流れるように強制される搬送ガスは、ガ スが反応炉室から処理室内に逆に流れるのを防止する圧力差をもたらす。上昇室 から処理室内に搬送される固体粒子の一部は、第１入口ダクトを通る搬送ガスに よって反応炉室内に直接に戻るように流れてもよい。 処理室では、固体粒子は、流れの方向における変化により、また、粒子の立往 生の形成により、粒子の浮遊物から部分的に分離される。分離される粒子は、処 理室内に固体粒子の流動床または固定床を形成する。流動化ガスおよび該ガスに よって運ばれる粒子は、第１入口ダクトを経て反応炉室内に流れる。 第２入口ダクトは、圧力または重力によって流動床または固定床からの主とし て粒子を反応炉室内に再循環させるために処理室において一層低いレベルに配置 されてもよい。処理室内の圧力は、反応炉室内の圧力がそうであるように、床の 高さおよび密度によって変化する。処理室内の圧力Ｐ₄は、処理室内の床の密度 または床の高さを増大することによって相当するレベルにおける反応炉室内の圧 力Ｐ₂よりも高いレベルに保持可能である。圧力Ｐ₄は、圧力Ｐ₂が圧力Ｐ₄よりも 小さいように十分に高いレベルに処理室を設けることによって圧力Ｐ₂よりも高 く保持されてもよい。 本発明によると、反応炉室内の圧力に打ち克つために、必要であれば著しく高 いレベルに上昇室内の固体粒子を空気作用で持上げることが可能である。処理室 と反応炉室との間の圧力差は、処理室から反応炉室内に流れるように固体粒子に 強制し、ガスが反応炉室から処理室内に流れるのを防止する。 第２入口は、出口ダクトとほぼ同一のレベルに配置されてもよい。しかしなが ら、このとき、処理室内の流動床または固定床における圧力は、反応炉室内の圧 力を克服するために床の密度を増大することにより、または床の高さを増大する ことにより、増大されねばならない。 本発明は、反応炉室と上昇室と処理室との間で固体材料を再循環させるために これ等およびその他の圧力差を利用する。一方で反応炉室と上昇室との間の圧力 差と、他方で反応炉室と処理室との間の圧力差は、特に利用される。 処理室内で処理されるべき床材料は、出口ダクトの入口を横切る障壁すなわち 分級壁を設けることによって反応炉室に導入される以前に分級可能である。該障 壁は、所定の寸法よりも大きい寸法の粒子がそれを通って出口ダクトへ流れるの を防止する開口部ないしスロットを有する仕切り壁でもよい。 代りに、床材料の分割は、上昇室内で実施されてもよい。上昇室の底に配置さ れる流動化空気ノズルは、ダクトを経て処理室内に上方へ流れるのを許容される 粒子の寸法を制御するのに使用されてもよい。小さい粒子は、処理室内に空気作 用で移送され、一方、大きい物体は、上昇室の底を通って排出されるか、または 反応炉室内に戻るように機械的に再循環される。 上昇室は、流動床燃焼装置からの灰を排出するために使用されてもよい。次に 、灰は、上昇室内で分級されてもよい。大きい不活性灰粒子は、該系統から排出 され、微細な飛散灰（フライアッシュ）は、更に処理するために処理室内に移送 される。 本発明によると、所定の寸法の固体粒子の制御される小部分のみが処理室内に 流れるのを許容されてもよい。該分割は、粒子が反応炉室から排出されるとき、 または上昇室内で固体粒子を上方へ持上げるとき、実施されてもよい。次に、微 細な固体粒子は、大きい物体が故障を生じさせることなく、処理室内で有利に更 に処理され、例えば熱交換器において冷却される。 本発明は、熱伝達面を処理室内に配置することによって固体粒子から熱を回収 するために利用されてもよい。該熱伝達は、処理室に導入される流動化空気によ って制御可能である。該処理室は、そのガス雰囲気が、あるとしても非常に少量 の腐蝕性ガス状化合物のみを含むため、高温蒸気を発生するのに特に好適である 。 高温工程では、反応炉室と上昇室および処理室を有するハウジングとの間の壁 （該室における他の壁も同様に）は、水管パネルで構成されてもよい。該管パネ ルは、耐火物で内張りされて、それ等の間に開口部を形成するように曲げられて もよい。他方、材料の分級が必要であれば、障壁を有する出口ダクトが、隣接す る管の間の耐火物内張りに溝を作って２本の管を結合するフィンを露出させるこ とによって、耐火物内張り管パネルに容易に配置される。その後、所望の寸法の 丸孔またはスロットを、フィンに形成してもよい。 ギルシールは、ギルシールの配置のための空間を与えるのに十分に離れるよう に隣接する管を曲げることによって耐火物内張りの管パネルに挿入可能である。 該開口部は、異なる様式で形成されてもよい。 本発明は、外部処理室内で床材料を処理すると共に、反応炉室から処理室を経 て反応炉室内に戻るように材料の所望の小部分を改良された態様で循環する改良 された方法および装置を提供する。 これにより、本発明は、異なる温度、異なる流動状態または異なるガス雰囲気 において粒子の流動床または固定床における外部処理室内の材料を処理する方法 を提供する。 図面の簡単な説明 第１図は、図解の明快さのために側壁を切除した本発明による好例の上昇室お よび処理室の概略の等角投影図である。 第２図は、反応炉室に関連する第１図の上昇室の概略の横断面図である。 第３図は、第１図の処理室および反応炉室の概略の横断面図である。 第４図は、本発明による上昇室および反応炉室の他の実施例の概略の横断面図 である。 第５図は、本発明による処理室および反応炉室の他の実施例の他の横断面図で ある。 第６図は、本発明による上昇室および反応炉室の他の実施例の他の横断面図で ある。 発明の詳細な説明 第１図は、流動床反応炉の反応炉室１０の一部と、反応炉室１０に隣接して配 置され上昇室１４および処理室１６を有するハウジング１２とを示す。ハウジン グ１２は、反応炉室１０の一側壁１８に部分的に背中合わせに配置される。該ハ ウジング１２は、反応炉室１０の底１５より下のレベルまで部分的に延びる。 出口ダクト２０は、上昇室１４と反応炉室１０との間の共通壁部分２２の垂直 方向第１レベルに設けられる。固体粒子は、室１０，１４の間の圧力差によって 反応炉室１０から出口ダクト２０を通って上昇室１４内に流れる。ギルシール２ ４は、所定の寸法よりも大きい物体が反応炉室１０から上昇室１４内に流れるの を防止して、ガスが上昇室１４から反応炉室１０内に流れるのを防止するために 出口ダクト２０に配置される。 出口ダクト２０の代りに、複数の小さい孔（図示せず）が、反応炉室１０と上 昇室１４との間の壁１８に形成されてもよい。該孔は、所定の寸法の粒子が壁１ ８を流通するのを可能にするのに十分に大きいが、所定の寸法よりも大きい粒子 （例えば良好な熱交換を行う寸法よりも大きい）が壁１８を流通するのを防止す るのに十分に小さくなければならない。 第１入口ダクト２６は、そこに伴出するガスおよび固体粒子が反応炉室１０に 流入するのを可能にするように処理室１６と反応炉室１０との間の共通壁部分２ ８に第１レベルよりも高い第２レベルにおいて配置される。第２入口ダクト２７ は、第１入口ダクト２６よりも下に設けられる。粒子は、処理室１６から第２入 口ダクト２７を通って反応炉室１０内に重力または流動によって流れる。ギルシ ール３０（第１図）は、ガスおよび固体が反応炉室１０から処理室１６内に逆に 流れるのを防止して、第２入口ダクト２７を通る固体の流れを制御するために第 ２入口ダクト２７に設けられる。 ハウジング１２は、仕切り壁３２によって上昇室１４と、処理室１６とに区分 される。上昇室１４は、処理室１６の横断面よりもかなり小さい横断面を有する 単なる上昇路である。仕切り壁３２の上部のダクトないし開口部３４は、上昇室 １４のガス室間を処理室１６のガス空間に結合する。ダクト３４の開口面積は、 上昇室１４の水平横断面に相当する。格子３６の空気ノズルは、上昇室１４の底 ３８に設けられる。空気は、上昇室１４の上方へダクト３４を経て処理室１６内 に粒子浮遊物を空気作用で移送するように格子３６のノズルを経て導かれる。 空気ノズル４０は、処理室１６に形成される粒子の床４４を流動化するように 処理室１６の底４２に設けられる。 第２図は、反応炉室１０の下に設けられる上昇室１４の横断面図を示す。出口 ダクト２０は、側壁１８の耐火物内張りの下側部分に設けられ、出口ダクト２０ は、粒子が反応炉室１０から上昇室１４内に流れるのを可能にする。格子３６の 空気ノズルは、上昇室１４に導入される粒子を流動化して所定の寸法よりも小さ い粒子を仕切り壁３２のダクト３４に向って上方へ移送するように上昇室１４の 底に設けられる。単一の空気入口開口部が、ノズル３６を有する格子の代りに上 昇室１４の底に設けられてもよい。流動化空気によって移送されない一層大きい 粒子および物体は、上昇室１４の底に設けられる排出出口４６を経て排出される 。上昇室１４内の固体密度は、対応するレベルにおいて反応炉室１０の固体密度 よりもかなり小さい。この実施例では、格子３６は、室１０の空気導入格子５２ よりも十分に下にある。 第３図は、反応炉室１０に隣接して設けられる処理室１６の横断面図を示す。 第１、第２の入口ダクト２６，２７は、反応炉室１０と処理室１６との間の共通 壁部分２８に設けられる。第１入口ダクト２６は、処理室１６内の床の上側レベ ルよりも上にあり、第２入口ダクト２７は、床領域内の下側レベルにあり、固体 材料が入口ダクト２７を経て反応炉室１０内に流れるのを可能にする。 熱伝達面４８は、処理室１６内の粒子の床４４内に配置される。処理室１６の 底４２における空気ノズル４０は、粒子の床を流動化して熱伝達を制御するのに 使用される。 第４図、第５図の実施例では、第１図から第３図までの実施例のものに比較可 能な構成要素は最上位桁として数字「１」を付して示されている。 第４図は、反応炉室１１０の格子１５２と同一のレベルにその格子１３６を備 える本発明による上昇室１１４の実施例を示す。第５図は、反応炉室１１０の格 子１５２のレベルより上のレベルにその格子１４２を配置される本発明による処 理室１１６の実施例を示す。反応炉室１１０は、循環する流動床反応炉の部分で もよく、室１１０から排出されるガスから分離される粒子は、第５図に導管５３ で示されるように処理室１１６を経て室１１０へ再導入されてもよい。 第６図の実施例では、第４図、第５図の実施例のものに比較可能な構成要素は 最上位桁として数字「２」を付して示されている。 第６図の実施例では、上昇室２１４は、その少くとも半分が反応炉室２１０の 格子２５２のレベルよりも下にあるように配置される。また、反応炉室２１０の 延長５４は、格子２５２から固体材料を排出するように格子２５２の下に設けら れる。空気ノズル５６は、粗い物体から小さい粒子を区分するように延長５４の 側壁５８に設けられる。粗い物体は、出口６０を経て排出される。小さい固体粒 子は、延長５４に隣接して設けられる上昇室２１４内に出口ダクト２２０を経て 流入するのを許容される。 本発明は、最も実際的で好適な実施例であるように現在見做されるものに関連 して説明されたが、本発明は、開示される実施例に制限されるべきでなく、その 反対に、添付請求の範囲の精神および範囲の中に含まれる種々な変更および同等 な装置を包含するように意図されることが理解されるべきである。

【手続補正書】特許法第１８４条の８ 【提出日】１９９５年４月２６日 【補正内容】 請求の範囲 １．反応炉室の内部を画成する側壁を有する反応炉室と、該反応炉室内の固体 粒子の流動床と、次に処理室へ結合される上昇室へ結合される該反応炉室からの 出口ダクトとを備える流動床反応炉内の床材料を処理するために、 （ａ）前記流動床の第１レベルにおいて前記反応炉室の下部から前記出口ダク トを経て前記上昇室内に固定粒子を排出し， （ｃ）該処理室内に固体粒子の流動床または固定床を形成し， （ｄ）該処理室内で該固体粒子を処理し， （ｅ）処理された固体粒子を搬送ガスまたは流動化ガスによって前記第１レベ ルよりも高い第３レベルにおいて該処理室から前記反応炉室の壁を通して該反応 炉室内に再循環させる段階を有する方法において， （ｂ）前記第１レベルよりも高い第２レベルまで前記上昇室内で上方へ粒子浮 遊物として固体粒子を搬送ガスによって前記処理室のガス空間内に空気作用によ って搬送する段階を含むことを特徴とする方法。 １８．反応炉室の内部を限定する側壁を有する反応炉室と，該反応炉室の下部 における固体粒子の流動床と，該反応炉室の下部に結合される上昇室と，該反応 炉室を該上昇室に結合する出口ダクトを備え，該出口ダクトが、該反応炉室から 該上昇室内に固体粒子を排出するために該反応室において第１レベルに配置され ，更に、固体粒子の床と、処理室内の固体粒子を処理する装置とを有する処理室 と，該処理室を前記反応炉室に結合する第１入口ダクトを備え，該第１入口ダク トが、処理された固体粒子を搬送ガスまたは流動化ガスによって該処理室から該 反応炉室内に再循環させるために前記第１レベルよりも高い第３レベルに配置さ れる流動床反応炉内の床材料を処理する装置において，前記流動床反応炉が、前 記上昇室の上部を前記第１レベルよりも高い第２レベルにおいて前記処理室内の 固体粒子の床より上のガス空間に結合する連結ダクトと、該上昇室から該連結ダ クトを経て該処理室の該ガス空間内に固体粒子を空気作用で搬送するために該上 昇室内に搬送ガスを導入する装置とを備えることを特徴とする装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．反応炉室の内部を画成する側壁と、該反応炉室内の固体粒子の流動床と、 次に処理室へ結合される上昇室へ結合される該反応炉室からの出口ダクトとを有 する反応炉室を備える流動床反応炉内の床材料を処理する方法において， （ａ）前記流動床の第１レベルにおいて前記反応炉室の下部から前記出口ダク トを経て前記上昇室内に固定粒子を排出し， （ｂ）該第１レベルよりも高い第２レベルまで該上昇室内で上方に粒子浮遊物 として搬送ガスによって前記処理室内に固体粒子を空気作用で搬送し， （ｃ）該処理室内に固体粒子の流動床または固定床を形成し， （ｄ）該処理室内で該固体粒子を処理し， （ｅ）処理された固体粒子を搬送ガスまたは流動化ガスによって前記第１レベ ルよりも高い第３レベルにおいて該処理室から前記反応炉室の壁を通して該反応 炉室内に再循環させる、実質的に連続する段階を含む方法。 ２．請求の範囲第１項に記載の方法において，段階（ｄ）が、前記処理室内の 前記固体粒子から熱を回収することによって実行される方法。 ３．請求の範囲第２項に記載される方法において，段階（ａ）が前記固体粒子 から回収される熱の量を制御するために前記処理室内の該固体粒子を流動化する ように更に実行される方法。 ４．請求の範囲第１項に記載の方法において，段階（ｂ）が、前記反応炉室内 の流動床の前記第１レベルにおける前記出口ダクトにおいて第１圧力を与えて、 該第１レベルにおける前記上昇室内に第２圧力を与えることによって実行され， 該第２圧力が、該第１圧力よりも低く、これにより、粒子を該反応炉室から該上 昇室内に流れさせる方法。 ５．請求の範囲第４項に記載の方法において，段階（ｂ）が、非機械的シール を有する前記出口ダクトを通る流体の流れを制御することによって更に実行され る方法。 ６．請求の範囲第１項に記載の方法において，段階（ｂ）が、前記反応炉室か ら前記上昇室内への流れを制御するために前記出口ダクトに流動化空気を導くこ とによって実行される方法。 ７．請求の範囲第１項に記載の方法において，所定の寸法よりも大きい寸法を 有する粒子が前記出口ダクトを流通するのを防止するために該出口ダクトにおい て固体粒子を分級する別の段階を含む方法。 ８．請求の範囲第１項に記載の方法において，所定の寸法よりも小さい固体粒 子のみを空気作用で上方へ移送するような態様で流動化空気を導くことによって 前記上昇室内の固体粒子を分級する別の段階を含む方法。 ９．請求の範囲第８項に記載の方法において，前記所定の寸法よりも大きい粒 子を前記上昇室から排出する別の段階を含む方法。 １０．請求の範囲第８項に記載の方法において，前記上昇室から前記処理室内 に空気作用で灰を移送する別の段階を含む方法。 １１．請求の範囲第１項に記載の方法において，段階（ｅ）が、前記処理室内 の固体粒子を前記反応炉室内に溢流させることによって部分においてのみ実行さ れる方法。 １２．請求の範囲第１項に記載の方法において，段階（ｅ）が、非機械的シー ルを経て前記反応炉室内に固体粒子を再循環させることによって部分においての み実行される方法。 １３．請求の範囲第１項に記載の方法において，段階（ｂ）の実施の際に使用 される前記ガスが、前記反応炉室に対する二次空気である方法。 １４．請求の範囲第１項に記載の方法において，前記流動床反応炉が、循環す る流動床反応炉を含む方法。 １５．請求の範囲第１４項に記載の方法において，前記循環する流動床反応炉 から排出されるガスから粒子を分離して、該除去される粒子を前記処理室を経て 前記反応炉室内に再導入する別の段階を含む方法。 １６．請求の範囲第１項に記載の方法において，前記第３レベルが、前記第２ レベルよりも高い方法。 １７．請求の範囲第１項に記載の方法において，前記第３レベルにおける前記 反応炉室内の圧力が、該第３レベルにおける前記処理室内の圧力よりも低い方法 。 １８．流動床反応炉内の床材料を処理する装置において，反応炉室の内部を限 定する側壁を有する反応炉室と，該反応炉室の下部における固体粒子の流動床と を備え，前記流動床反応炉が、該反応炉室の下部に結合される上昇室と，該反応 炉室を該上昇室に結合する出口ダクトとを備え，該出口ダクトが、該反応炉室か ら該上昇室内に固体粒子を排出するために該反応炉室における第１レベルに配置 され，更に、固体粒子の床を有する処理室と，前記第１レベルよりも高い第２レ ベルにおいて前記上昇室の上部を該処理室に結合する連結ダクトと，該上昇室か ら該連結ダクトを経て該処理室内に固体粒子を空気作用で搬送するために搬送ガ スを該上昇室内に導入する装置と，該処理室内の固体粒子を処理する装置と，該 処理室を前記反応炉室に結合する第１入口ダクトとを備え，該第１入口ダクトが 、処理された固体粒子を該処理室から該反応炉室内に搬送ガスまたは流動化ガス によって再循環させるために前記第１レベルよりも高い第３レベルに配置される 装置。 １９．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記処理室内に設けられる 熱伝達面を更に備える装置。 ２０．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記反応炉室と、前記上昇 室とを画成する共通壁を更に備える装置。 ２１．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記上昇室と、前記処理室 とを収容する共通ハウジングを更に備え，該共通ハウジングにおける仕切り壁が 、該上昇室を該処理室から分離する装置。 ２２．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記処理室内に配置される 固体粒子を流動化するための空気ノズルを更に備える装置。 ２３．請求の範囲第１８項に記載の装置において，所定の寸法よりも大きい寸 法を有する粒子が前記上昇室に進入するのを防止するために前記出口ダクトに配 置される分級用壁を更に備える装置。 ２４．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記出口ダクト上に配置さ れる非機械的シールを更に備える装置。 ２５．請求の範囲第２４項に記載の装置において，前記非機械的シールが、本 質的にギルシールおよびＬ弁から成る集団から選択される装置。 ２６．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記処理室を前記反応炉室 に結合する第２入口ダクトを更に備え，該第２入口ダクトが、前記第１入口ダト よりも下に配置される装置。 ２７．請求の範囲第２６項に記載の装置において，前記第２入口ダクトに配置 される非機械的シールを更に備える装置。 ２８．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記流動床反応炉が、循環 する流動床反応炉を含む装置。 ２９．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記第３レベルが、前記第 ２レベルよりも高い装置。 ３０．請求の範囲第１８項に記載の装置において，前記第３レベルにおける前 記反応炉室内の圧力が、該第３レベルにおける前記処理室内の圧力よりも低い装 置。