JP3258665B2 - 流動床反応炉内の床材料を処理する方法と装置 - Google Patents

流動床反応炉内の床材料を処理する方法と装置

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Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景および概要 本発明は、反応炉室の内部を画成する側壁を有する反
応炉室と、反応炉室の下部における固体粒子の流動床と
を備える流動床反応炉の床材料処理方法および装置に関
するものである。
或る流動床処理では、反応炉室内の床材料の一部を追
加処理する前に、別の処理（例えば、冷却）のために、
床材料を形成する粒子の一部を集めることが望ましいだ
ろう。反応炉室から別の処理室内に固体粒子を排出し
て、その処理（例えば、冷却）後に、反応炉室内に固体
粒子を再循環して戻すことが提案された。
或る工程では、特定寸法範囲の粒子のみを処理するこ
とが有利である。しかしながら、例えば熱回収に好適な
小寸法粒子は、反応炉室の下部における分別により、大
きい粒子またはその他の大きい物体に混合されることが
多い。これは、最適の熱回収を妨げる傾向があり、熱伝
達は、小粒子から成る床において一層効率的である。ま
た大きい物体は、例えば熱伝達表面を塞ぎ、また機械の
損傷を生じさせて問題を生じさせる傾向がある。
別の処理室で粒子を処理する場合に解決されるべき別
の問題は、反応炉室から処理室へ材料を循環させ、処理
室から反応炉室へ材料を戻す場合に生じる。反応炉室の
下部と処理室との間の圧力差が、粒子を強制して反応炉
室から処理室へ流す。しかしながら、反応炉室への粒子
の逆循環は、圧力差を克服するための機械的なまたはそ
の他の移送装置を必要とする。
本発明は、流動床反応炉の反応炉室に結合される別体
処理室で床材料を処理する改良された方法および装置を
提供する。特に、本発明は、反応炉室と別体処理室との
間で床材料を循環させる改良された方法および装置を提
供する。本発明は、所定寸法よりも小さい寸法の床材料
（すなわち、固体粒子）を外部処理室を経て循環させ、
処理室内の床材料から熱を回収するように流動床反応炉
を使用する。
流動床反応炉室において床材料を処理する本発明によ
る方法は、以下の特徴を有する。
側壁によって画成される反応炉室と、該反応炉室内の
固体粒子（すなわち、床材料）から成る流動床と、前記
反応炉室を上昇室に結合する出口ダクトとを有する流動
床反応炉の内部の固体粒子を処理する方法であって、 （ａ）前記流動床の第１レベルで、前記反応炉室の下部
から前記出口ダクトを通して前記上昇室に固体粒子を排
出する段階と、 （ｂ）前記上昇室に導入され、固体粒子を浮遊状態で搬
送する搬送ガスによって、前記第１レベルよりも高い第
２レベルに向かって固体粒子を搬送し、さらに、前記反
応炉室および前記上昇室の両者に結合された処理室のガ
ス空間内へ固体粒子を搬送する段階と、 （ｃ）固体粒子から成る流動床または固体粒子から成る
定置床を前記処理室内に形成する段階と、 （ｄ）前記処理室内で固体粒子を処理する段階と、 （ｅ）前記処理室内に前記流動床が形成されている場合
には該処理室内に導入される流動化ガスと前記搬送ガス
によって、また、前記処理室内に前記定置床が形成され
ている場合には前記搬送ガスによって、前記処理室内で
処理された固体粒子を、前記第１レベルよりも高い第３
レベルで、前記反応炉室の壁に設けた第１入口ダクトを
通して前記処理室から前記反応炉室内に戻す段階とを含
む。
更に追加的に、第３レベルよりも低い第４レベルにお
いても、処理室から反応炉室内へ処理された固体粒子を
戻すことができる。
本発明による流動床反応炉において床材料を処理する
好適例装置は、以下の特徴を有する。
側壁によって画成される反応炉室と、該反応炉室の下
部にある、固体粒子から成る流動床と、前記反応炉室の
下部に結合されるとともにその内部に搬送ガスが導入さ
れる上昇室と、前記反応炉室を前記上昇室に結合する出
口ダクトとを具備し、該出口ダクトが、前記反応炉室か
ら前記上昇室に固体粒子を排出するために、前記反応炉
室の第１レベルに配置されており、 更に、流動床または定置床として形成された固体粒子
から成る床と、該固体粒子を処理する装置とを有する該
処理室と、該処理室を前記反応炉室に結合する第１入口
ダクトとを具備し、前記処理室内の前記固体粒子から成
る床が流動床である場合には該処理室内に導入される流
動化ガスと前記搬送ガスによって、また、前記処理室内
の前記固体粒子から成る床が定置床である場合には前記
搬送ガスによって、前記処理室から前記反応炉室に、処
理された固体粒子を戻すために、前記第１レベルよりも
高い第３レベルに前記第１入口ダクトが配置されて成る
流動床反応炉の床材料処理装置において、前記流動床反
応炉が、前記上昇室の上部を、前記第１レベルよりも高
い第２レベルにおいて、前記処理室内の前記固体粒子か
ら成る床よりも上のガス空間に結合する連結ダクトと、
前記上昇室から前記連結ダクトを経て前記処理室の前記
ガス空間に、空気作用によって固体粒子を搬送するため
に、前記上昇室に搬送ガスを導入する装置とを具備する
流動床反応炉の床材料処理装置。
上昇室と処理室は、好ましくは小型のユニット（単一
体）を形成するように反応炉室に隣接して配置される。
反応炉室の側壁の一部を、上昇室と処理室を反応炉室か
ら区分する隔壁として利用できる。同様に、上昇室と処
理室は、ユニットとして構成して仕切り壁によって区分
できる。
第１出口ダクトは、例えば格子より1000mm高いレベル
までの側壁において、または格子のレベルより下の延長
室において、反応炉室の耐火物内張りの下部に配置でき
る。第１出口ダクトは、好ましくは、＞100kg固体/m3ガ
ス（すなわち、ガス単位体積（m3）当たりの固体量が10
0kgを超える状態）（望ましくは、500〜1500kg/m3）を
有する稠密床領域レベルにおいて反応炉室に配置され
る。次に、第１入口ダクトは、好ましくは、出口ダクト
より500〜5000mm高いレベルに配置される。
流動床反応炉内の圧力は、床の高さによって変化す
る。反応炉室の稠密床領域内の第１低レベルにおける圧
力P1は、稠密度の低い床領域の一層高い第２レベルにお
ける圧力P2よりもかなり高くてよい。
本発明は、機械的なまたはその他の複雑な搬送装置を
必要とせずに、稠密床領域における高い圧力P1から処理
室内に、また逆に反応炉室内に固体粒子を再循環させる
容易な方法を提供する。
固体粒子は、圧力差によって反応炉室の第１レベルに
おける稠密床領域から上昇室内に排出され、上昇室内の
圧力P3は、反応炉室の稠密床領域の圧力P1よりも低い。
上昇室から反応炉室内へのガス流を防止して、上昇室
内への固体の流れを制御するために、出口ダクトにギル
シール（魚の「えら」に似た構造のシール）またはＬ弁
のような非機械的シールを配置してもよい。ギルシール
は、何本かの細いスロット（slot）、即ち、相互の上に
配置されるスロット形開口部によって形成される。該ス
ロットは、好ましくは水平から僅かに傾斜され、各スロ
ットは、非機械的シールを形成する。上昇室に流入する
床材料の量は、非機械的シールに設けた流動化空気ノズ
ルによって制御可能である。
上昇室内では、固体粒子は、空気作用の搬送による粒
子の浮遊物として一層高い第２レベルまで上昇せしめら
れる。反応炉室の第２レベルにおける圧力P2は、低い第
１レベルにおける稠密床領域の圧力P1よりも著しく低
い。粒子の浮遊物は、この第２レベルにおいて処理室内
へ更に搬送される。
第２レベルは、反応炉室と処理室との間に小さな圧力
差が存在するだけである。従って、第１入口ダクトを経
て反応炉室内に流れるように強制される搬送ガスは、ガ
スが反応炉室から処理室内に逆に流れないようにする圧
力差を与える。上昇室から処理室内に搬送される固体粒
子の一部は、第１入口ダクトを通る搬送ガスによって反
応炉室内に直接戻るように流れてもよい。
処理室では、固体粒子は、流れの方向における変化に
より、また、固体粒子の立往生状態の形成により、浮遊
粒子から部分的に分離される。分離された粒子は、処理
室内に固体粒子の流動床または固体床を形成する。流動
化ガスおよび該ガスによって運ばれる粒子は、第１入口
ダクトを経て反応炉室内に流れる。
第２入口ダクトは、圧力または重力によって流動床ま
たは固定床からの主として粒子を反応炉室内に再循環さ
せるために処理室において一層低いレベルに配置されて
もよい。処理室内の圧力は、反応炉室内の圧力がそうで
あるように、床の高さおよび密度によって変化する。処
理室内の圧力P4は、処理室内の床の密度または床の高さ
を増大することによって相当するレベルにおける反応炉
室内の圧力P2よりも高いレベルに保持可能である。圧力
P4は、圧力P2が圧力P4よりも小さくなる十分高いレベル
に処理室を設けることによって、圧力P2よりも高く保持
してもよい。
本発明によると、反応炉室内の圧力に打ち克つため
に、必要であれば著しく高いレベルに上昇室内の固体粒
子を空気作用で持上げることが可能である。処理室と反
応炉室との間の圧力差は、処理室から反応炉室内に固体
粒子が流れるように強制し、反応炉室から処理室にガス
が流れないようにする。
第２入口は、出口ダクトとほぼ同一のレベルに配置さ
れてもよい。しかしながら、このとき、処理室内の流動
床または定置床における圧力は、反応炉室内の圧力を克
服するために床の密度を増大することにより、または床
の高さを増大することにより、増大しなければならな
い。
本発明では、反応炉室と上昇室と処理室との間で固体
材料を再循環させるために、前記のような圧力差および
その他の圧力差が利用される。とりわけ、反応炉室と上
昇室との間の圧力差、および反応炉室と処理室との間の
圧力差が利用される。
処理室内で処理されるべき床材料は、出口ダクトの入
口を横切る障壁すなわち分級壁を設けることによって反
応炉室に導入される以前に分級可能である。該障壁は、
所定の寸法よりも大きい寸法の粒子が出口ダクトへ流れ
ないようにする開口部ないしスロットを有する仕切り壁
でもよい。
代りに、床材料の分別を上昇室内で行なってもよい。
流動化空気ノズルを上昇室の底に配置して、ダクトを経
て処理室内で上方へ流れる粒子の寸法を制御してもよ
い。小さい粒子は、処理室内に気体作用で搬送され、一
方、大きい物体は、上昇室の底を通って排出されるか、
または反応炉室内に戻るように機械的に再循環される。
上昇室は、流動床燃焼装置からくる灰を排出するため
に使用可能である。次いで、この灰を上昇室内で分級し
てもよい。大きな不活性灰粒子は、装置系から排出さ
れ、微細な飛散灰（フライアッシュ）は、更に処理する
ために処理室内に移送される。
本発明によると、所定寸法の固体粒子の制御された小
部分のみが処理室内に流れるようにしてもよい。かかる
分別は、固体粒子が反応炉室から排出されるとき、また
は上昇室内で固体粒子が上方へ流れる時に、行なっても
よい。微細な固体粒子は、大きい物体による障害を生じ
させることなく、処理室内で首尾よく処理される（例え
ば、熱交換器で冷却される）。
本発明は、熱伝達面を処理室内に配置することによっ
て固体粒子から熱を回収するために利用可能である。該
熱伝達は、処理室に導入される流動化空気によって制御
可能である。処理室のガス雰囲気は、存在するとしても
非常に少量のガス状腐蝕性化合物を含むに過ぎないた
め、高温蒸気の発生に特に適する。
高温工程では、反応炉室と、上昇室および処理室を有
するハウジングとの間の壁（他の室壁も同様）を、水管
パネルで構成してもよい。水管パネルは、耐火物で内張
りして、それ等の間に開口部を形成するように彎曲させ
てもよい。他方、材料の分級が必要であれば、障壁を有
する出口ダクトが、隣接する管の間の耐火物内張りに溝
を作って２本の管を結合するフィンを露出させることに
よって、耐火物内張り管パネルに容易に配置される。そ
の後、所望の寸法の丸孔またはスロットを、フィンに形
成してもよい。
ギルシールは、その配置のために十分な空間を与える
べく隣接する管同士の間隔が離れるように曲げることに
よって耐火物内張りの管パネルに挿入可能である。該開
口部は、異なる様式で形成してもよい。
本発明は、外部処理室内で床材料を処理すると共に、
反応炉室から処理室を経て反応炉室内に戻るように材料
の所望の小部分を改良された態様で循環する改良された
方法および装置を提供する。
以上により、本発明は、異なる温度、異なる流動状態
または異なるガス雰囲気において固体粒子から成る流動
床または定置床における外部処理室内の材料を処理する
方法を提供するものである。
図面の簡単な説明 第１図は、図解の明快さのために側壁を切除した本発
明による好例の上昇室および処理室の概略の等角投影図
である。
第２図は、反応炉室に関連する第１図の上昇室の概略
の横断面図である。
第３図は、第１図の処理室および反応炉室の概略の横
断面図である。
第４図は、本発明による上昇室および反応炉室の他の
実施例の概略の横断面図である。
第５図は、本発明による処理室および反応炉室の他の
実施例の他の横断面図である。
第６図は、本発明による上昇室および反応炉室の他の
実施例の他の横断面図である。
発明の詳細な説明 第１図は、流動床反応炉の反応炉室10の一部と、反応
炉室10に隣接して配置され、上昇室14および処理室16を
有するハウジング12とを示す。ハウジング12は、反応炉
室10の一側壁18に部分的に背中合わせに配置される。該
ハウジング12は、反応炉室10の底15よりも下位レベルま
で部分的に延びる。
出口ダクト20は、上昇室14と反応炉室10との間の共通
壁部分22の垂直方向第１レベルに設けられる。固体粒子
は、室10,14の間の圧力差によって反応炉室10から出口
ダクト20を通って上昇室14内に流れる。ギルシール24
は、所定の寸法よりも大きい物体が反応炉室10から上昇
室14内に流れないようにするとともに、上昇室14から反
応炉室10内にガスが流れないようにするために、出口ダ
クト20に配置される。
出口ダクト20の代りに、複数の小さい孔（図示せず）
を、反応炉室10と上昇室14との間の壁18に形成してもよ
い。この孔は、所定寸法の粒子が壁18を流通できるよう
に十分大きいが、所定寸法よりも大きい粒子（例えば良
好な熱交換を行う寸法よりも大きい）が壁18を流通でき
ないように十分小さくなければならない。
第１入口ダクト26は、その内部に存在するガスおよび
固体粒子が反応炉室10に流入できるように処理室16と反
応炉室10との間の共通壁部分28の第１レベルよりも高い
第２レベルに配置される。第２入口ダクト27は、第１入
口ダクト26よりも下に配置される。固体粒子は、処理室
16から第２入口ダクト27を通って反応炉室10内に重力ま
たは流動によって流れる。ギルシール30（第１図）は、
ガスおよび固体粒子が反応炉室10から処理室16内に逆向
きに流れないように、第２入口ダクト27を通る固体粒子
の流れを制御すべく第２入口ダクト27に配置される。
ハウジング12は、仕切り壁32によって上昇室14と、処
理室16とに区分される。上昇室14は、処理室16の横断面
よりもかなり小さい横断面を有する単なる上昇路であ
る。仕切り壁32の上部のダクトないし開口部34は、上昇
室14のガス室間を処理室16のガス空間に結合する。ダク
ト34の開口面積は、上昇室14の水平横断面に相当する。
格子36の空気ノズルは、上昇室14の底38に設けられる。
空気は、上昇室14の上方へダクト34を経て処理室16内に
粒子浮遊物を空気作用で移送するように格子36のノズル
を経て導かれる。
空気ノズル40は、処理室16に形成される固体粒子から
成る床44を流動化させるために処理室16の底42に配設さ
れる。
第２図は、反応炉室10の下に配設された上昇室14の横
断面図を示す。出口ダクト20は、側壁18の耐火物内張り
の下側部分に配設され、出口ダクト20は、反応炉室10か
ら上昇室14内への固体の流れを可能にする。格子36の空
気ノズルは、上昇室14に導入される粒子を流動化して所
定寸法よりも小さい粒子を仕切り壁32のダクト34に向っ
て上方へ移送するように上昇室14の底に配設される。ノ
ズル36を有する格子の代りに、単一の空気入口開口部を
上昇室14の底に設けてもよい。流動化空気によって移送
されない一層大きい粒子および物体は、上昇室14の底に
設けた排出口46を経て排出される。上昇室14内の固体密
度は、対応するレベルにおいて反応炉室10の固体密度よ
りもかなり小さい。この実施例では、格子36は、室10の
空気導入格子52よりも十分に下位にある。
第３図は、反応炉室10に隣接して設けた処理室16の横
断面図を示す。第１、第２の入口ダクト26,27は、反応
炉室10と処理室16との間の共通壁部分28に配設されてい
る。第１入口ダクト26は、処理室16内の固体粒子床より
も上位にあり、第２入口ダクト27は、床領域内の下側レ
ベルにあり、固体材料が入口ダクト27を経て反応炉室10
内に流れることを許容する。
熱伝達面48は、処理室16内の固体粒子床44内に配置さ
れる。処理室16の底42における空気ノズル40は、固体粒
子床を流動化させて熱伝達を制御するために使用され
る。
第４図、第５図の実施例では、第１図〜第３図の実施
例のものに比較可能な構成要素に最上位桁として数字
「１」を付して示している。
第４図は、反応炉室110の格子152と同一レベルにその
格子136を備える本発明による上昇室114の実施例を示
す。第５図は、反応炉室110の格子152のレベルよりも上
のレベルにその格子142を配置した本発明による処理室1
16の実施例を示す。反応炉室110は、循環式流動床反応
炉の部分でもよく、室110から排出されるガスから分離
される固体粒子は、第５図に導管53で示されるように処
理室116を経て反応炉室110に戻してもよい。
第６図の実施例では、第４図、第５図の実施例のもの
に比較可能な構成要素に最上位桁として数字「２」を付
して示している。
第６図の実施例では、上昇室214は、その少なくとも
半分が反応炉室210の格子252のレベルよりも下位にある
ように配置される。また、反応炉室210の延長部54が、
格子252から固体材料を排出するように格子252の下位に
配設されている。空気ノズル56が、粗い物体から小さい
粒子を区分するように延長部54の側壁58に配設されてい
る。粗い物体は、出口60から排出される。小さい固体粒
子は、延長部54に隣接して設けた上昇室214内に、出口
ダクト220を経て流入可能である。
以上、最も実際的で好適な実施例であると見做される
ものについて本発明の説明を行なったが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、本発明の精神およ
び請求の範囲内に包含される各種の変形形態および同等
な装置を包含するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 8/18 - 8/46 F23C 11/02 F23B 1/02 - 1/04 F23B 15/00 - 15/20

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】側壁によって画成される反応炉室と、該反
    応炉室内の固体粒子（すなわち、床材料）から成る流動
    床と、前記反応炉室を上昇室に結合する出口ダクトとを
    有する流動床反応炉の内部の固体粒子を処理する方法で
    あって、 （ａ）前記流動床の第１レベルで、前記反応炉室の下部
    から前記出口ダクトを通して前記上昇室に固体粒子を排
    出する段階と、 （ｂ）前記上昇室に導入され、固体粒子を浮遊状態で搬
    送する搬送ガスによって、前記第１レベルよりも高い第
    ２レベルに向かって固体粒子を搬送し、さらに、前記反
    応炉室および前記上昇室の両者に結合された処理室のガ
    ス空間内へ固体粒子を搬送する段階と、 （ｃ）固体粒子から成る流動床または固体粒子から成る
    定置床を前記処理室内に形成する段階と、 （ｄ）前記処理室内で固体粒子を処理する段階と、 （ｅ）前記処理室内に前記流動床が形成されている場合
    には該処理室内に導入される流動化ガスと前記搬送ガス
    によって、また、前記処理室内に前記定置床が形成され
    ている場合には前記搬送ガスによって、前記処理室内で
    処理された固体粒子を、前記第１レベルよりも高い第３
    レベルで、前記反応炉室の壁に設けた第１入口ダクトを
    通して前記処理室から前記反応炉室内に戻す段階とを含
    むことを特徴とする流動床反応炉の床材料処理方法。
  2. 【請求項２】前記反応炉室内の流動床の前記第１レベル
    にある前記出口ダクトに第１圧力を与え、かつ前記第１
    レベルで前記上昇室内に第２圧力を与えることによっ
    て、前記段階（ａ）が実行され、前記第２圧力が前記第
    １圧力よりも低く、これによって、前記反応炉室から前
    記上昇室に固体粒子を流す請求項１に記載された流動床
    反応炉の床材料処理方法。
  3. 【請求項３】前記出口ダクト位置に設けた流動化空気ノ
    ズルから噴出する流動化空気による前記反応炉室から前
    記上昇室内へのガス流の制御の下で、前記段階（ａ）が
    実行される請求項１に記載された流動床反応炉の床材料
    処理方法。
  4. 【請求項４】前記処理室内の固体粒子を部分的に前記反
    応炉室内に溢流させることによって、前記段階（ｅ）が
    実行される請求項１に記載された流動床反応炉の床材料
    処理方法。
  5. 【請求項５】前記第３レベルにおける前記反応炉室内の
    圧力が、該第３レベルにおける前記処理室内の圧力より
    も低くなっている請求項１に記載された流動床反応炉の
    床材料処理方法。
  6. 【請求項６】側壁によって画成される反応炉室と、該反
    応炉室の下部にある、固体粒子から成る流動床、前記反
    応炉室の下部に結合されるとともにその内部に搬送ガス
    が導入される上昇室を、前記反応炉室を前記上昇室に結
    合する出口ダクトとを具備し、 該出口ダクトが、前記反応炉室から前記上昇室に固体粒
    子を排出するために、前記反応炉室の第１レベルに配置
    されており、 更に、流動床または定置床として形成された固体粒子か
    ら成る床と、該固体粒子を処理する装置とを有する該処
    理室と、 該処理室を前記反応炉室に結合する第１入口ダクトとを
    具備し、 前記処理室内の前記固体粒子から成る床が流動床である
    場合には該処理室内に導入される流動化ガスと前記搬送
    ガスによって、また、前記処理室内の前記固体粒子から
    成る床が定置床である場合には前記搬送ガスによって、
    前記処理室から前記反応炉室に、処理された固体粒子を
    戻すために、前記第１レベルよりも高い第３レベルに前
    記第１入口ダクトが配置されて成る流動床反応炉の床材
    料処理装置において、 前記流動床反応炉が、 前記上昇室の上部を、前記第１レベルよりも高い第２レ
    ベルにおいて、前記処理室内の前記固体粒子から成る床
    よりも上のガス空間に結合する連結ダクトと、 前記上昇室から前記連結ダクトを経て前記処理室の前記
    ガス空間に、空気作用によって固体粒子を搬送するため
    に、前記上昇室に搬送ガスを導入する装置とを具備する
    ことを特徴とする流動床反応炉の床材料処理装置。
  7. 【請求項７】前記処理室内に熱伝達面を設けて成る請求
    項６に記載された流動床反応炉の床材料処理装置。
  8. 【請求項８】前記反応炉室と前記上昇室との間に共通壁
    部分が存在する請求項６に記載された流動床反応炉の床
    材料処理装置。
  9. 【請求項９】前記上昇室と前記処理室とが共通のハウジ
    ング内にあり、該共通ハウジング内において、前記上昇
    室と前記処理室が仕切り壁で区分されている請求項６に
    記載された流動床反応炉の床材料処理装置。
  10. 【請求項１０】固体粒子を流動化させる流動化ガスを導
    入する空気ノズルが前記処理室内に配置されている請求
    項６に記載された流動床反応炉の床材料処理装置。
  11. 【請求項１１】前記出口ダクトに非機械的シールが配置
    されている請求項６に記載された流動床反応炉の床材料
    処理装置。
  12. 【請求項１２】前記非機械的シールが、ギルシールおよ
    びＬ弁を包含する群から選択される請求項11に記載され
    た流動床反応炉の床材料処理装置。
  13. 【請求項１３】前記処理室を前記反応炉室に結合する第
    ２入口ダクトを更に具備し、該第２入口ダクトが、前記
    第１入口ダクトよりも下位に配置されている請求項６に
    記載された流動床反応炉の床材料処理装置。
  14. 【請求項１４】前記第２入口ダクトに非機械的シールが
    配置されている請求項13に記載された流動床反応炉の床
    材料処理装置。
  15. 【請求項１５】前記流動床反応炉が循環式流動床反応炉
    を包含する請求項６に記載された流動床反応炉の床材料
    処理装置。
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