JPH0843291A

JPH0843291A - 排気ポンプを含む装置に於ける粒子モニタリング方法及び装置

Info

Publication number: JPH0843291A
Application number: JP7072338A
Authority: JP
Inventors: G Borden Peter; ピーター・ジー・ボーデン; Derek G Aqui; デレック・ジー・アクイ; Matt A Evanko; マット・エイ・エバンコ
Original assignee: HIGH YIELD TECHNOL Inc; HIGH YIELD Technology
Current assignee: HIGH YIELD TECHNOL Inc; HIGH YIELD Technology
Priority date: 1994-03-07
Filing date: 1995-03-06
Publication date: 1996-02-16
Also published as: US5534706A

Abstract

(57)【要約】【目的】ポンプの上流での粒子モニタリングを実現
する方法及び装置を提供すること。【構成】本発明による装置は、局所的なプラズマ光
に対して感度が低くなるようにスロットル弁に取り付け
られた粒子センサを備える。さらに、この粒子センサは
この粒子センサから発せられる粒子モニタリング用レー
ザ光がパイプの中心軸からずれて位置するように配置さ
れており、レーザ光がバタフライ弁のプレートによって
パイプの周辺部へ中心から離れるように流れるプロセス
ガス流に対して最大限に露出されるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、製造装置の粒子モニタ
の設計及び配置に関する。特に、例えばプラズマエッチ
ングチャンバのような半導体プロセスに用いられる低圧
チャンバ中の粒子モニタの設計及び配置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハの製造プロセスに於いて
は、真空プロセス装置（“プロセスツール”と呼ばれ
る）の粒子汚染が、歩留まりの悪化の最も大きな原因の
１つとなっている。そのため、プロセス進行中には粒子
レベルを検出するための粒子モニタがプロセスチャンバ
に設置される。

【０００３】プロセスチャンバ内の粒子をモニタリング
するためによく用いられている方法の１つとして、プロ
セスツールの排気ラインに、レーザを用いた粒子モニタ
を置いているものがある。このようなレーザを用いたモ
ニタでは、プロセスチャンバからの排ガスは粒子モニタ
を通過するが、この時、排ガスに含まれる粒子はレーザ
光を散乱することによって検出される。このような粒子
モニタに於けるレーザ光散乱は、レーザを横切る粒子が
レーザ光を粒子モニタの光セル（ｐｈｏｔｏｃｅｌｌ）
へ向けて散乱するときに発生する。光セルは、散乱光を
受光すると、粒子の存在を示す電気的なパルスを発生す
る。レーザを用いたセンサと技術については、例えば、
（ｉ）Ｐ．Ｂｏｒｄｅｎらに付与された米国特許第４，
８０４，８５３号（名称“ＣｏｍｐａｃｔＰａｒｔｉ
ｃｌｅＦｌｕｘＭｏｎｉｔｏｒ”、ｓｅｒｉａｌ
ｎｏ．０７／０４１，７９５、１９８７年４月２３日出
願、１９８９年２月１４日特許権発行）、（ｉｉ）Ｐ．
Ｂｏｒｄｅｎらに再発行された米国特許第Ｒｅ．３３，
２１３号（名称“ＬｉｇｈｔＳｃａｔｔｅｒｉｎｇ
ＰａｒｔｉｃｌｅＤｅｔｅｃｔｏｒｆｏｒＷａｔ
ｅｒＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇＥｑｕｉｐｍｅｎｔ”、
１９８６年９月１６日出願、１９８８年４月１９日特許
権発行、１９９０年５月８日に特許権再発行）、（ｉｉ
ｉ）Ｐ．Ｂｏｒｄｅｎらに付与された“ＨｉｇｈＳｅ
ｎｓｉｔｉｖｉｔｙ，ＬａｒｇｅＤｅｔｅｃｔｉｏｎ
ＡｒｅａＰａｒｔｉｃｌｅＳｅｎｓｏｒｆｏｒ
ＶａｃｕｕｍＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ”という名
称の米国特許第５，１３２，５４８号及び米国特許第
５，２６６，７９８号（それぞれ、ｓｉｒｉａｌｎ
ｏ．は０７／５８２，７１８及び０７／７４２，７９
８、特許権発行日は１９９２年７月２１日及び１９９３
年１１月３０日、出願日は１９９０年９月１７日及び１
９９１年８月８日）の各明細書に記載されている。さら
に、レーザを用いた粒子モニタリング法についての検討
が、“ＰＧＢｏｒｄｅｎ、１０ｐａｒｔｓｅｒｉ
ｅｓｉｎＭｉｃｒｏｃｏｎｔａｍｉｎａｔｉｏｎ
Ｍａｇａｚｉｎｅ、Ｊａｎ．、Ｆｅｂ．、Ｍａｒ．、Ａ
ｐｒ．、Ｍａｙ．、Ａｕｇ．、Ｓｅｐｔ．、Ｏｃｔ．、
Ｎｏｖ．、ａｎｄＤｅｃ．ｉｓｓｕｅｓ、１９９１”
に見られる。

【０００４】しかしながら、従来の粒子モニタが実用的
でないような装置もある。そのような装置の１つにプラ
ズマチャンバのような低圧プラズマ装置があるが、その
ような装置では、ターボポンプを用いてプラズマエッチ
ングに必要とされる低圧を維持している。ターボポンプ
は原理的にはプロペラと同じであり、高速回転する複数
のブレード（羽）の付いたロータを用いてプロセスチャ
ンバから流出する排ガス流を生成する。このようなポン
プについては、例えば“Ｈｉｇｈ−ＶａｃｕｕｍＴｅ
ｃｈｎｏｌｏｇｙ、ｂｙＭａｒｓｂｅｄＨ．Ｈａｂ
ｌａｎｉａｎ、ＭａｒｃｅｌＤｅｋｋｅｒ、Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ（１９９０）、ｓｅｃｔｉｏｎ７．２、ｐｐ．
２３５−２３７”に述べられている。

【０００５】図１は、ポンプを含むプラズマエッチング
装置の典型的な構成１００を示している。このプラズマ
エッチング装置の中で１つまたは複数の半導体ウェハの
処理が行われる。図１に示されているプロセスチャンバ
１０１は、複数の電極（図示せず）を含み、これらの電
極はプラズマを維持するのに用いられる。装置の動作
中、プロセスガスが電極の１つにある複数の微細孔（通
常“シャワーヘッド”と呼ばれる）を通して導入され
る。プロセスチャンバ１０１の内部では、電極によって
生成されたプラズマと残りのガス流が露出された半導体
ウェハの表面を均一に流れ、それによってプロセス過程
に於いて化学反応（例えば誘電体フィルムのエッチング
など）が起こる。化学反応後の排ガスはターボポンプ１
５０によって引き出される。通常の機械式ポンプ（図示
せず）がターボポンプ１５０に接続されており、最終的
に排ガスを大気へと引き出す。

【０００６】構成１００では、バタフライ弁１２０が通
常用いられており、プロセスチャンバ１０１内の圧力を
維持している。バタフライ弁１２０はドライブシャフト
１０３に取り付けられた円形プレート１０２を有し、ド
ライブシャフト１０３はモータ１０４によって駆動され
る。バタフライ弁１２０をその内側に囲い込むポンプラ
イン１０５も含めたバタフライ弁アセンブリ全体は、溶
接物（ｗｅｌｄｍｅｎｔ）とも呼ばれる。バタフライ弁
１２０に於いては、円形プレート１０２の位置が可変で
あることによって、ターボポンプ１５０の上方の開口を
限定する度合いを変えることができる。開口を限定する
度合いは円形プレート１０２の角度によって変わる。例
えば、円形プレート１０２の面がポンプライン１０５の
軸に対して垂直の場合、限定度合いは最大となり、チャ
ンバからターボポンプへのガスの流れは概ね完全にブロ
ックされる。しかし、円形プレート１０２の面がポンプ
ライン１０５の軸に沿って寝ているときはプロセスチャ
ンバからターボポンプへのガスの流れは概ねブロックさ
れない。もちろん、円形プレートの角度がこの間にある
ときは、限定度合いは異なってくる。通常、円形プレー
ト１０２の角度は、プロセスチャンバ１０１内に置かれ
た圧力センサを含むフィードバックループによって制御
され、プロセスチャンバ１０１内の圧力が一定になるよ
うにされる。別の方法として、バタフライ弁１２０の代
わりにリニアゲート弁を用いて圧力制御を行うこともで
きる。リニアゲート弁は平らなプレートからなり、この
プレートはポンプラインの開口を横切ってスライドす
る。バタフライ弁１２０と同様に、リニアゲート弁の平
らなゲートの位置によってポンプラインの流れの限定度
合いが決定される。従って、リニアゲート弁についての
さらなる説明は省略する。

【０００７】粒子モニタリングは、プロセスチャンバ１
０１とターボポンプ１５０の間の排ガス流の一部で行わ
れるのが本来理想的である。その領域は、“ポンプの上
流（ａｂｏｖｅｔｈｅｐｕｍｐ）”と呼ばれる。し
かし、後に述べる困難さのため、これまで粒子モニタリ
ングは“ポンプの上流”で行われておらず、それどころ
か、粒子モニタリングは通常“ポンプの下流（ａｆｔｅ
ｒｔｈｅｐｕｍｐ）”（すなわちターボポンプ１５
０の下流）で行われている。例えば、図１では、粒子モ
ニタ１５２はパイプ１５１に取り付けられている。ポン
プ下流での粒子モニタリングは、ターボポンプ１５０の
動作によってガスの混合が激しく行われるため、望まし
くない。ガスの混合は、ターボポンプ１５０のブレード
またはブレード表面の境界層へのガスの物理的な衝突の
結果起こる。その結果、ターボポンプ１５０内で化学反
応が起こり、ブレードやポンプベアリングによって粒子
が取り除かれたり、ガスに粒子がつけ加わったりする。

【０００８】しかし、ポンプ上流での粒子モニタリング
は様々な理由により従来は行われていない。第１に、タ
ーボポンプ１５０の入り口は通常プロセスチャンバ１０
１にできるだけ近づけてあり、ターボポンプ１５０とプ
ロセスチャンバ１０１との間の領域はプラズマからの強
力なグロー光で満たされているということがある。この
強いグロー光は、粒子のモニタリングのための暗視野セ
ンサに用いられる強度の低い散乱光を圧倒してしまうこ
とがある。第２に、プロセスチャンバ１０１とターボポ
ンプ１５０の間の領域のガス速度は、圧力が低いために
比較的速いということがある。この領域では、１０〜２
０ｍ／ｓｅｃの範囲の速度が普通である。この速度の粒
子は暗視野センサでは効率的にモニタすることができな
い。というのは、暗視野センサの最大感度領域は通常よ
り遅い速度にあるためである。第３には、ターボポンプ
１５０とプロセスチャンバ１０１との間の領域には、少
なくともレーザ光源と大面積ピックアップレンズとビー
ムストップとを有する暗視野センサを組み込むのに適し
たスペースがないということがある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、プロセスチャンバの排気ラインに於いてポンプの上
流で粒子モニタリングを行うことのできる方法及び装置
を提供することである。

【００１０】

【課題を達成するための手段】本発明によると、プロセ
スチャンバの排気ラインで粒子モニタリングをする方法
及び装置が提供される。本発明は、前記排気ラインの開
口を限定するスロットル弁を備えたプロセスチャンバの
排気ラインに適用することができる。本発明による方法
は、（ｉ）前記スロットル弁が部分的に開いていると
き、このスロットル弁によって形成された開口をレーザ
光が横切るようにレーザ光を配置する過程と、（ｉｉ）
前記レーザ光の当たった粒子を検出するための検出器を
配置する過程とを含む。一実施例では、レーザ光は排気
ラインの主軸からずらして配置される。

【００１１】一実施例では、本発明によるレーザ光は明
視野粒子センサ（ｂｒｉｇｈｔｆｉｅｌｄｐａｒｔ
ｉｃｌｅｓｅｎｓｏｒ）によって供給される。別の実
施例では、検出器は散乱光を集めるように配置される。
さらに、狭帯域光フィルタを用いてプロセスチャンバ内
のプラズマのグロー光によるノイズを減少させることも
できる。本発明では、スロットル弁としていろいろなタ
イプのスロットル弁（例えば、バタフライ弁やリニアゲ
ート弁）を組み込むことができる。

【００１２】本発明は以下の実施例と添付の図面によっ
て、よりよく理解されるだろう。

【００１３】

【作用】上述のように、粒子センサを配置することによ
り、ポンプの上流に於ける粒子モニタリングが可能とな
る。

【００１４】

【実施例】本発明は、ポンプの上流に於いて、プラズマ
のグロー光がある場合にも効果的な粒子モニタリングを
行うのに適用することができる。この目的を達成するた
め、本発明では、プラズマのグロー光に対して比較的感
度が低いセンサを用いており、さらに通常の動作条件の
下で、バタフライ弁が僅かにしか開いていないというこ
とを利用している。バタフライ弁が少ししか開いていな
いとき、プロセスガス流の大部分、従って粒子の大部分
は比較的狭い開口を通ることになる。

【００１５】本発明の一実施例を図２に示す。図２で、
粒子センサ２０５のレーザ光２０６は、ポンプラインの
開口２５１を横切り、バタフライ弁２２０の軸と平行に
照射されている。レーザ光２０６は中心線（すなわち、
ドライブシャフト２０３に沿った線）からずれた位置に
配置されており、それによってレーザ光２０６は、バタ
フライ弁２２０が部分的にポンプラインの開口２５１を
限定しているようなプラズマエッチングプロセスの通常
動作中、ガス流の通過する通り道にあることになる。

【００１６】図２の構成で粒子センサ２０５の位置はポ
ンプの上流で粒子モニタリングをするような位置にある
が、このことは粒子モニタリング分野の当業者にとって
当たり前のことではない。それには少なくとも２つの理
由がある。１つは、ターボポンプを用いたエッチングシ
ステムは通常非常に低い圧力で動作するため、ガス流は
軽すぎて粒子を浮遊させることができないと信じられて
いるということがある。従って、従来の知識によると、
粒子を粒子モニタのレーザ光へと誘導するのにガス流が
与える影響は限られたものであると信じられている。２
つめには、近くにあるプロセスチャンバ内のプラズマの
グロー光による干渉のため、この手の応用に対して粒子
センサの感度は低すぎると通常考えられているというこ
とがある。

【００１７】しかし、従来は、バタフライ弁が通常動作
位置にあるとき、パイプライ弁の開口２５１を通過する
ガス流の大きさは、プロセスチャンバ内にしばしば存在
するタイプの粒子を浮遊させるのに実は十分であるとい
うことを考慮していない。これらの粒子はプロセスチャ
ンバ内に固定された部品のコーティングから発生する。
これらの粒子は、表面積が大きく質量は軽いという傾向
があり、通常、球状粒子（ｓｐｈｅｒｅ）というより
は、むしろ薄片（ｆｌａｋｅ）のような挙動を示す。さ
らに、ターボポンプの取り付けに於いては、通常、比較
的直線的で、湾曲部がないようにされることが多く、こ
のため湾曲部での球心加速度によって低圧ガス流から粒
子が損失するのを避けることができる。その結果、例え
ば５〜１０ｍＴｏｒｒといった低圧に於いても、粒子を
ターボポンプ１５０へと移動させるのに十分なガス流が
存在する。それと同時に、これらの比較的大きな表面積
を持つ粒子のサイズは通常０．３μｍを越えている。こ
れらの要因が組合わさることにより、本発明では、従来
の粒子センサを用いて非常に低い圧力のガス流での粒子
の検出に成功している。

【００１８】図３は、図２に示した構成を側面から見た
図である。レーザ光２０６は、バタフライ弁のプレート
２０２の動作位置が角度を持っていることによって、ガ
ス流がターボポンプに向かって集まってきているところ
に位置している。図３は溶接物２２０の断面から見たと
き、バタフライ弁のプレート２０２が角度θで位置して
いる様子を表している。結果としてガス流は自由粒子を
運び、レーザ光２０６を横切るように流れる。粒子セン
サ２０５の一般的な動作パラメータは以下のように計算
される。

【００１９】まず、ポンプラインの開口２５１の有効面
積Ａ（すなわち、ポンプライン２５１の総面積からバタ
フライ弁溶接物２２０によって限定された面積を差し引
いた面積）は、（式１）によって与えられる。Ａ＝π（ｄ／２）²×（１−ｃｏｓθ）（式１）ここで、ｄはバタフライ弁溶接物２２０の直径であり、
θは弁のプレート２０２の角度である（θ＝０のとき、
ポンプラインの開口２５１を流れるガス流は完全に妨げ
られる）。

【００２０】従って、ポンプの開口２５１の有効面積を
通って流れるガスの速度は、以下の（式２）で与えられ
る。ｖ＝Ｖ／Ａ（式２）ここでＶはポンプによって引かれるガスの体積であり、
Ａは上記に計算された有効面積である。

【００２１】従って、典型的なプロセスパラメータ（圧
力３０ｍＴｏｒｒ、ガス流１５０ｓｃｃｍ（ｓｔａｎｄ
ａｒｄｃｕｂｉｃｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒｓｐｅｒ
ｍｉｎｕｔｅ）、弁のプレートの角度３０°、溶接物
２２０の直径６インチ）に対して、ガス速度は、ポンプ
ラインの開口２５１の最も狭い部分で３０ｍ／ｓｅｃ、
最も広い部分で３．５ｍ／ｓｅｃとなる。プロセスチャ
ンバ内ではガス速度はずっと遅いが、それはチャンバの
大きさはバタフライ弁２２０の大きさに比べ非常に大き
いためである。例えば、チャンバの直径が１８インチだ
とすると、平均ガス速度は、ポンプラインの開口２５１
に於けるガス速度の概ね１０％、すなわち、約０．３５
ｍ／ｓｅｃとなる。この低圧及び低速度が組み合わさっ
た条件の下で、粒子の動きは概ねガス流の動きに追従す
る。図２に於いて、粒子センサ２０５はバタフライ弁の
プレート２０２内、またはその近くに置かれている。こ
の実施例では、レーザ光２０６は、６インチの直径を有
する溶接物中のポンプラインの開口２５１の軸から２．
７５インチだけずれた位置に配置してある。レーザ光２
０６は、通常動作時にガスが流れる狭い開口を横切るよ
うに照射されている。粒子センサ２０５を実現するのに
適した粒子センサは明視野（ｂｒｉｇｈｔｆｉｅｌｄ）
または疑似明視野（ｑｕａｓｉｂｒｉｇｈｔｆｉｅ
ｌｄ）粒子センサである。このような粒子センサの一例
が、ＰｅｔｅｒＢｏｒｄｅｎらによる継続中の米国特
許出願“Ｑｕａｓｉ−ＢｒｉｇｈｔＦｉｅｌｄＰａ
ｒｔｉｃｌｅＳｅｎｓｏｒ”（１９９３年４月１日出
願、ｓｅｒｉａｌｎｏ．０８／０４１，０７０、この
出願は本特許出願の譲受け人であるＨｉｇｈＹｉｅｌ
ｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社に譲渡された）明細書に開
示されている。明視野または疑似明視野粒子センサの背
景情報を提供するため、ここで言及したことによりこの
係属中の特許出願全体を本出願の一部とされたい。な
お、この特許出願は、日本では１９９４年４月１日に特
願平６−８８０７５として出願されている。このような
センサは比較的プラズマのグロー光に強く、速度応答性
（ｖｅｌｏｃｉｔｙｒｅｓｐｏｎｓｅ）がよい。この
ようなセンサの速度応答性は検出器の帯域と光線の幅と
によって決まる。前記継続中の特許出願のに述べられて
いるシステムでは、焦点距離を長くすることによって比
較的幅の広い光線を供給することにより、所望の速度で
ある３０ｍ／ｓｅｃにまで達する速度応答性を得てい
る。

【００２２】粒子センサ２０５で、実際のセンサ光学器
材は溶接物２２０から凹んだ所に配置されている。この
ように凹んだ位置にセンサ光学器材を配置することによ
って光学器材がプロセスの副産物によってコーティング
されるのを防ぐことができ、またプロセスチャンバ内の
プラズマのグロー光によって生成されるノイズの粒子セ
ンサ２０５に対する影響も減少される。さらに、粒子セ
ンサ２０５のハウジングを加熱して、プロセス副産物の
粒子センサ２０５の露出面への堆積を遅らせることもで
きる。ポンプラインやポンプシステムの加熱は、プロセ
ス副産物の堆積を遅らせるためにプロセス装置ではよく
用いられる技術である。

【００２３】別の方法として、粒子センサ２０５を暗視
野粒子センサによって構成することもできる。このよう
な暗視野粒子センサでは、ピックアップ光学器材はレー
ザ光２０５の軸に対してある角度（例えば９０°）で配
置され散乱光を収集する。暗視野粒子センサを用いる場
合、ピックアップ光学器材は、粒子センサ２０５のプラ
ズマのグロー光に対する感度を低くするようにレーザ光
２０６の波長に合わせてチューニングされた狭帯域光学
フィルタを備えている方がよい。前記継続中の特許出願
明細書中に述べられている明視野センサと同じように、
幅の広い光線と注意深く選択された検出帯域幅とを有す
る暗視野センサは、このような装置の速度応答性を達成
することができる。もちろん、暗視野センサは散乱光を
収集するため適当な場所に収容する必要のあるより多く
の光学器材を含む。

【００２４】上述の詳細な説明は、本発明の特定の実施
例に対して行ったが、それは本発明を限定することを意
図したものではない。多くの変形変更が本発明の請求の
範囲内で可能である。本発明は、特許請求の範囲によっ
て確定される。

【００２５】

【発明の効果】上述したように本発明によれば、ターボ
ポンプの上流で粒子のモニタリングができるため、ポン
プによるガスの混合の影響を受けることなく精度のよい
粒子のモニタリングをすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、低圧プロセスチャンバ１０１のポンプ
を含む典型的な構成１００を示している。

【図２】図２は、本発明に従って粒子センサ２０５を備
えたバタフライ弁マニホルド（ｍａｎｉｆｏｌｄ）２２
０の上面図である。

【図３】図３は、図２に示した実施例に於いて、プロセ
スチャンバ２０１からの粒子を運搬する排ガスが、どの
ように粒子センサ２０５のレーザ光２０６を横切って流
れるかを示した図である。

【符号の説明】

１００ポンプを含むプラズマエッチング装置の典型的
な構成１０１プロセスチャンバ１０２円形プレート１０３ドライブシャフト１０４モータ１０５ポンプライン１２０バタフライ弁１５０ターボポンプ１５１パイプ１５２粒子モニタ２０２バタフライ弁のプレート２０３ドライブシャフト２０５粒子センサ２０６レーザ光２０７フランジ２２０バタフライ弁（溶接物）２５１ポンプラインの開口 θ プレート２０２が配置される角度

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者デレック・ジー・アクイアメリカ合衆国カリフォルニア州95129・サンノゼ・＃108・アルバニーサークル 4661 (72)発明者マット・エイ・エバンコアメリカ合衆国ニューメキシコ州87043・プラシタス・プラシタストレイルズロード 12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プロセスチャンバの排気ラインで粒子
モニタリングをする方法であって、前記排気ラインは該
排気ラインの開口を限定するスロットル弁を備えてお
り、該方法は、部分的に開いた前記スロットル弁によって形成された開
口を横切るようにレーザ光を配置する過程と、前記レーザ光の当たった粒子を検出するための検出器を
配置する過程とを含むことを特徴とする粒子モニタリン
グ方法。
【請求項２】前記レーザ光を配置する過程が、前記
レーザ光を前記排気ラインの主軸からずらして配置する
過程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記検出器を配置する過程で、明視野
粒子センサの一部である検出器を用いることを特徴とす
る請求項１に記載の方法。
【請求項４】前記検出器を配置する過程で、前記検
出器を散乱光を集めるように配置することを特徴とする
請求項１に記載の方法。
【請求項５】前記プロセスチャンバ内のプラズマに
よるノイズを減少させるための狭帯域光フィルタを用い
る過程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の
方法。
【請求項６】前記スロットル弁がバタフライ弁であ
ることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】前記スロットル弁がリニアゲート弁で
あることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】プロセスチャンバの排気ラインで粒子
モニタリングをするための装置であって、前記排気ライ
ンは該排気ラインの開口を限定するスロットル弁を備え
ており、該装置は、部分的に開いた前記スロットル弁によって形成された開
口を横切るように配置されたレーザ光と、前記レーザ光の当たった粒子を検出するように配置され
た検出器とを含むことを特徴とする粒子のモニタリング
装置。
【請求項９】前記レーザ光が、前記排気ラインの主
軸からずらして配置されていることを特徴とする請求項
８に記載の装置。
【請求項１０】前記検出器が、明視野粒子センサの
一部であることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１１】前記検出器が、散乱光を集めるよう
に配置されていることを特徴とする請求項８に記載の装
置。
【請求項１２】前記プロセスチャンバ内のプラズマ
によるノイズを減少させるための狭帯域光フィルタをさ
らに含むことを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１３】前記スロットル弁がバタフライ弁で
あることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１４】前記スロットル弁がリニアゲート弁
であることを特徴とする請求項８に記載の装置。