JPH0841020A - 高い含有率のａｌｌ−Ｅ−異性体を有するポリエンカルボニル化合物並びにそのアセタール又はケタールの改良された製法 - Google Patents

高い含有率のａｌｌ−Ｅ−異性体を有するポリエンカルボニル化合物並びにそのアセタール又はケタールの改良された製法

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JPH0841020A
JPH0841020A JP7172445A JP17244595A JPH0841020A JP H0841020 A JPH0841020 A JP H0841020A JP 7172445 A JP7172445 A JP 7172445A JP 17244595 A JP17244595 A JP 17244595A JP H0841020 A JPH0841020 A JP H0841020A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い含有率のａｌｌ−Ｅ−異性体を有するポ
リエンカルボニル化合物並びにそのアセタール又はケタ
ールの改良された製法。 【解決手段】 これは、Ｅ配置を有する二重結合の有利
な形成の目的のために、及び出発化合物中の二重結合の
Ｅ配置をできるだけ完全に得るために、反応を、酸素又
は酸素−不活性ガス混合物又は一酸化窒素又は一酸化窒
素−不活性ガス混合物及び／又は特定の安定ラジカル及
び／又はキノン、キノン誘導体の存在下で実施する、適
当なカルボニル化合物と適当なジアルキルホスホネート
もしくは適当なＣＨ酸化合物とのホルナー−エモンス−
反応又はアルドール縮合よりなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高いａｌｌ−Ｅ−
含有率を有するポリエンカルボニル化合物並びにそのア
セタール又はケタール、殊にカロチノイド、例えばβ−
Ａｐｏ−８′−カロチン酸エステル、シトラナキサンチ
ン及びノイロスポラキサンチンエステルの改良された製
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリエンとは、非常に一般的には、分子
中に３つ以上の共役二重結合を有する不飽和の脂肪族炭
化水素、すなわち、複数の交互の単結合及び二重結合を
有する化合物を表わす。ポリエン鎖と共役してカルボニ
ル基を有するポリエンを、ポリエンカルボニル化合物と
定義する。
【０００３】多くのポリエン及びポリエンカルボニル化
合物は、生物学的医学的作用物質又は食品用染料及び飼
料添加物として重要性を持っている。
【０００４】その重要性に相当して、ポリエン及びポリ
エンカルボニル化合物の多くの製法が開発されている
（O.Isler “Carotenoids”,Birkhauser-Verlag,1971参
照）。
【０００５】ポリエンの公知の製法は、例えば、いわゆ
るホルナー−エモンス−反応、すなわちアルデヒド及び
ケトンと相当するホスホン酸エステルとを塩基の存在下
で結合させること（Houben-Weyl“Methoden der Organi
schen Chemie”5/1d(1972）１２７〜１２９頁又は Pure
&Appl.Chem.Vol.63,No.1(1991)４５〜５８頁参照）及び
アルドール縮合、すなわちケトン及び／又はアルデヒド
とＣＨ酸化合物(CH-aciden Verbindungen）とを塩基性
触媒作用下に結合させることによりβ−ヒドロキシ−カ
ルボニル化合物にし、かつ引き続き、共役二重結合の系
を形成しながら、水を脱離することである（Houben-Wey
l 5/1d(1972)１４２〜１４４頁又はJ.Org.Chem.30（19
65）２４８１頁参照）。二重結合の形成下でのこのよう
なＣ−Ｃ結合は、Ｚ−又はＥ−配置を有する二重結合を
もたらしうる。今まで公知の方法では、一般的に、不満
足な程度でのみ、ａｌｌ−Ｅ−異性体からなる生成物が
得られた。需要の多い天然のポリエンカルボニル化合物
は、ａｌｌ−Ｅ配置を有するので、有利には、ａｌｌ−
Ｅ−ポリエン成分から由来すること、及びＣ−Ｃ結合を
Ｅ配置を有する二重結合を有利にもたらす反応条件下で
実施すること、並びにポリエン成分のＺ異性体への異性
化をできるだけ完全に避けることは有利である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、ポリエンカルボニル化合物を得るためのポリエン成
分の結合が、有利にはＥ配置を有する二重結合の形成下
に、及び出発生成物中の二重結合のＥ配置の入手下に起
きる反応条件を見つけることであった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】さて、意外にも、前記の
オレフィン結合反応において、反応を、酸素、一酸化窒
素、一定の安定ラジカルもしくはラジカルスカベンジャ
ーの存在下で、かつ／又は一定のキノン、キノン誘導体
又は補酵素−Ｑ−１０−ヒドロキシキノンの存在下で実
施する場合に、Ｅ配置での結合が、出発化合物中のＥ配
置の保持下に有利に得られることが分かった。
【０００８】従って、本発明の目的は、Ｅ配置を有する
二重結合を有利に形成するという目的のために及び出発
化合物中の二重結合のＥ配置をできるだけ完全に得るた
めに、反応を、酸素又は酸素−不活性ガス混合物の存在
下で、又は一酸化窒素又は一酸化窒素−不活性ガス混合
物の存在下で、かつ／又は一般式Ｉ：
【０００９】
【化９】
【００１０】［式中、Ｒ6及びＲ7はＣ1〜Ｃ4−アルキル
基を表わすか、又はＲ6及びＲ7は、一緒になって、エチ
レン基、プロピレン基、ビニレン基又はプロペニレン基
を表わし、これらの基は、アルキル−、アリール−、ヒ
ドロキシ−、アルキルオキシ−、シリルオキシ−、オキ
ソ−、アミノ−、メルカプト−、アルキルメルカプト
−、シアノ−、カルボキシル−又はアミノカルボニル
（カルバモイル−）、ヘテロアリール−又はアルキルカ
ルボニルオキシ基により置換されていてよい］の安定ラ
ジカルの存在下で、かつ／又は一般式ＩＩ：
【００１１】
【化１０】
【００１２】［式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、Ｒ6及びＲ7
に関して前記したものを表わす］の安定ラジカルの存在
下で、かつ／又は安定ラジカル ２，２−ジフェニル−
１−ピクリルヒドラジル又は過酸化水素−尿素付加物の
存在下で、かつ／又はキノン、キノン誘導体又は補酵素
−Ｑ１０−ヒドロキノンの存在下で実施し、その際、酸
素、一酸化窒素、前記安定ラジカルもしくは過酸化水素
−尿素付加物、キノン、キノン誘導体又は補酵素−Ｑ１
０−ヒドロキノンを、使用したカルボニル化合物に対し
て０．３〜１０モル％、有利には０．５〜６モル％、殊
に１．０〜５モル％の量で使用する、適当なカルボニル
化合物と適当なジアルキルホスホネートもしくは適当な
ＣＨ酸化合物とのホルナー−エモンス−反応又はアルド
ール縮合による、高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有するポリ
エンカルボニル化合物又はそのアセタールもしくはケタ
ールの製法である。
【００１３】本発明方法によれば、例えば、一般式ＩＩ
Ｉ：
【００１４】
【化１１】
【００１５】のポリエンカルボニル化合物、そのアセタ
ール又はケタールを製造することができる。
【００１６】ここで、Ｒ1〜Ｒ4は、水素又は有機基を表
わし；ｎは、０〜２０、殊に３〜１０の整数を表わし、
ｍは、０〜２０、殊に０〜１０の整数を表わし、その
際、ｍ＋ｎは、少なくとも２であり；Ｘ及びＹは、Ｃ1
〜Ｃ4−アルコキシ基、殊にメチルオキシ−又はエチル
オキシ基を表わすか、又はＸ及びＹは、一緒になって、
酸素を表わすか、又は場合により１個以上のメチル基に
より置換された基：−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−
ＣＨ2−Ｃ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ
−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−を表わ
す。
【００１７】括弧内の水素原子は、部分的に有機基、特
にアルキル基、殊にメチル基により置換されていてよ
い。
【００１８】従って、適当なポリエン成分として、例え
ば、一般式ＩＶ：
【００１９】
【化１２】
【００２０】［式中、Ｒ1及びＲ2は、水素又は有機基を
表わし、ｎは、０〜２０、殊に３〜１０の整数を表わ
し、かつ括弧内の二重結合における水素原子は、有機基
により代えられていてもよい］のカルボニル化合物挙げ
られる。
【００２１】出発化合物として使用された一般式ＩＶの
カルボニル化合物は、一般的に公知の化合物である。適
当なポリエン成分は、例えば、Ｒ1及びＲ2が水素、アル
キル−、アルキルオキシ−、シクロアルキル−、シクロ
アルケニル−又はフェニル基を表わし、その際、シクロ
アルキル−、シクロアルケニル−及びフェニル基は、更
に、例えば、アルキル−、ヒドロキシ−、オキソ−、ア
ミノ−、カルボキシル−、カルバモイル−、アルキルカ
ルボニルオキシ−又はシアノ基又はハロゲンによって置
換されていてよい、一般式ＩＶの化合物である。
【００２２】Ｒ1は、有利には、次のシクロアルケニル
基：
【００２３】
【化１３】
【００２４】又はホルミル基を表わす一方、Ｒ2は、有
利には水素又はアルキルを表わす。
【００２５】式ＩＶの化合物中の二重結合の数（前記
ｎ）は、特に２〜１５、殊に３〜１０である。有機基と
して、括弧内の二重結合は、殊にＣ1〜Ｃ4−アルキル
基、特にメチル基を有していてよい。適当なカルボニル
化合物として、例えば、次のものが挙げられる：β−Ａ
ｐｏ−１２′−カロチナール（Ｃ25−アルデヒド）、β
−Ａｐｏ−８′−カロチナール（Ｃ30−アルデヒド）、
レチナール（Ｃ20−アルデヒド）、２，７−ジメチル−
２，４，６−オクタトリエン−ジアール（Ｃ10−ジアル
デヒド）、クロセチンジアルデヒド（Ｃ20−ジアルデヒ
ド）及びβ−Ａｐｏ−４′−カロチナール（Ｃ35−アル
デヒド）。
【００２６】ジアルデヒドの使用の際に、式Ｖの化合物
２モルと反応させることにより、一般式ＩＸ：
【００２７】
【化１４】
【００２８】の化合物も形成することができる。
【００２９】有利にはａｌｌ−Ｅ配置を有する式ＩＩＩ
のポリエンカルボニル化合物を製造するために、式ＩＶ
の化合物も、有利には、ａｌｌ−Ｅ配置を有するべきで
ある。
【００３０】一般式Ｖのカルボニル化合物並びにそのア
セタール又はケタールも、一般的に知られている化合物
である。
【００３１】とりわけ、式Ｖの化合物は適当である；
【００３２】
【化１５】
【００３３】［式中、Ｒ3及びＲ4は、有機基を表わし、
ｍは、０〜２０、特に０〜１０の整数を表わし、Ｘ及び
Ｙは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基、殊に、メチル基又はエチ
ル基を表わすか、又はＸ及びＹは、一緒になって酸素を
表わすか、又は場合により１個以上のメチル基により置
換された基：−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2
−Ｃ（ＣＨ3）2−ＣＨ2−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ
−又は−Ｏ−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ−を表わし、か
つＺは、水素又はジアルキルホスホノ基、殊に−ＰＯ
（ＯＣＨ3）2又は−ＰＯ（ＯＣ2Ｈ5）2を表わす］。二
重結合の数（前記ｍ）は、０（例えばアセトンにおける
ように）、更に２０まで、特に０〜１０であってよい。
Ｒ3は、水素、アルキル−、アルキルオキシ−、シクロ
アルキル−、シクロアルケニル−又はフェニル基を表わ
し、これらは、他の基、例えばＣ1〜Ｃ4−アルキル−、
ヒドロキシル−、アルキルオキシ−、シリルオキシ−、
オキソ−、アミノ−、シアノ−、カルボキシル−、カル
バモイル−又はアルキルカルボニルオキシ基によって置
換されていてよい。Ｒ4（並びにＲ3）は、特に水素、Ｃ
1〜Ｃ4−アルキル−又はＣ1〜Ｃ4−アルキルオキシ基を
表わす。
【００３４】ホルナー−エモンス−反応の実施の際に、
一般式ＩＩＩのポリエン化合物は、それぞれ他の成分で
反応基を含有するポリエン成分を使用することによって
も得ることができ、すなわち、基：
【００３５】
【化１６】
【００３６】の代わりに、基：
【００３７】
【化１７】
【００３８】を含有する一般式ＩＶの化合物を、基：
【００３９】
【化１８】
【００４０】の代わりに、基：
【００４１】
【化１９】
【００４２】を含有する一般式Ｖの化合物と反応させ
る。
【００４３】一般式Ｖのカルボニル化合物として、例え
ば次のものが挙げられる；アセトン、４−ジメチルホス
ホノ−２−メチル−２−ブテン酸エチルエステル、４−
ジエチルホスホノ−２−メチル−２−ブテン酸エチルエ
ステル、４−ジエチルホスホノ−３−メチル−２−ブテ
ン酸エステル、２−ジエチルホスホノ−酢酸メチルエス
テル、２−ジエチルホスホノ−酢酸エチルエステル、４
−ジエチルホスホノ−２−又は４−ジエチルホスホノ−
３−メチル−２−ブテナールアセタール。
【００４４】主としてａｌｌ−Ｅ配置を有する式ＩＩＩ
のポリエンカルボニル化合物を製造するために、式ＩＶ
もしくはＶの高級カルボニル化合物も、主としてａｌｌ
−Ｅ配置を有するべきである。二重結合を１つのみ有す
る化合物の使用の際に、アルカリ性環境中での本発明に
よる反応の際に、付加的に、有利にはａｌｌ−Ｅ配置の
異性化が起き、従って、例えば、Ｃ25−アルデヒド又は
Ｃ30−アルデヒドと４−ジアルキルホスホノ−２−メチ
ル−２−ブテン酸アルキルエステルとのホルナー−エモ
ンス−反応の際に、Ｃ5−成分を、Ｅ／Ｚ−比 ２：１
〜１００：１で使用することができ、かつそれにもかか
わらずａｌｌ−Ｅ−選択率８５〜９５％が得られる。
【００４５】酸素は、安全上の理由から、一般的に、純
粋な形でなく、有利には酸素−不活性ガス混合物として
使用される。不活性ガスとしては、窒素が挙げられる。
特に、１：１〜１００：１のＮ2対Ｏ2の比で、特に約９
５対５容量％の比で窒素と混合した酸素（いわゆる「マ
ーガー・ルフト（Magerluft）」）を使用する。酸素も
しくは酸素を含有するガス混合物を、撹拌した反応混合
物上に通すか、又は反応混合物中に導入することができ
る。酸素の作用は、その溶解性もしくは反応混合物中の
分圧に依存している。この理由から、酸素を反応混合物
の上を通すだけの代わりに、中に導入することは有利で
ある。
【００４６】酸素が、本発明方法において、このような
有利な影響を及ぼすことは非常に意想外であった。すな
わち、一般的に、ポリエンを取り扱う際に、酸素排除下
で操作するように勧められている（Houben-Weyl 5/1d 1
3頁参照）。それというのも、ポリエンは、酸化感受性
の二重結合を幾重にも含有しているからである。
【００４７】意外にも、一酸化窒素もしくは一酸化窒素
−不活性ガス混合物も、アルドール−又はホルナー−エ
モンス−反応の際にＥ配置を有する二重結合の形成のた
めに触媒作用する。一酸化窒素（特に不活性ガス、例え
ばＮ2との混合物での）も、連続的に、反応混合物中に
導入することができる。必要な一酸化窒素を反応の前に
反応容器中に導入し、かつそれが反応の間に漏れ出ない
よう注意する際に、不連続的運転法は十分である。
【００４８】本発明方法の作用機構は、未だ知られてい
ない。触媒として、酸素及びＮＯの他に、分子中に窒素
ラジカル又は又はＮ−オキシルが存在している安定ラジ
カルを使用することができる。安定ラジカルの使用の際
に、反応を、不活性ガス保護下で実施することができ
る。一般式Ｉの安定ラジカルとして、式Ｉａ：
【００４９】
【化２０】
【００５０】のジ−ｔ−ブチル−アミン−Ｎ−オキシ
ル；式Ｉｂ：
【００５１】
【化２１】
【００５２】［式中、Ｒ11は、水素を表わし、かつＲ12
は、水素、ヒドロキシル−、アルコキシ−、アセトキシ
−、アミノ−、シアノ−又はカルボキシル基を表わす
か、又はＲ11及びＲ12は、一緒になって、オキソ基を表
わす］の２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−
Ｎ−オキシル；式Ｉｃ：
【００５３】
【化２２】
【００５４】［式中、Ｒ13は、水素又はＲ12に関して前
記した基を表わす］の２，２，５，５−テトラメチル−
ピロリジン−Ｎ−オキシル又は式Ｉｄ：
【００５５】
【化２３】
【００５６】［式中、Ｒ13は、水素又はＲ12に関して前
記した基を表わす］の２，５−ジヒドロ−２，２，５，
５−テトラメチル−１Ｈ−ピロール−Ｎ−オキシルが有
利に使用される。
【００５７】殊に適当な安定ラジカルとしては、例え
ば、次のものが挙げられる；２，２，６，６−テトラメ
チル−ピペリジン−Ｎ−オキシル（ＴＥＭＰＯ）、４−
ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ
ン−Ｎ−オキシル（４−ＯＨ−ＴＥＭＰＯ）又はその一
又は二塩基カルボン酸とのエステル、例えば市販で得ら
れるビス−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−ピペリジン−４−イル）−セバシン酸塩、４−オ
キソ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−Ｎ
−オキシル、３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラ
メチル−ピロリジン−Ｎ−オキシル、３−アミノ−カル
ボニル−２，５−ジヒドロ−２，２，５，５−テトラメ
チル−１Ｈ−ピロール−Ｎ−オキシル、ジ−ｔ−ブチル
アミン−Ｎ−オキシル又は２，２−ジフェニル−１−ピ
クリルヒドラジル。
【００５８】安定ラジカルも、式ＩＶ又はＶのポリエン
カルボニル化合物に対して０．３〜１０モル％、特に
０．５〜６モル％、殊に１〜５モル％の量で使用する。
【００５９】反応時間は、反応及び反応成分の種類に応
じて、それぞれ、まったく異なっている。例えば、これ
らは、β−Ａｐｏ−１２′−カロチナール（Ｃ25−アル
デヒド）又はβ−Ａｐｏ−８′−カロチナール（Ｃ30−
アルデヒド）と、４−ジエチルホスホノ−２−メチル−
２Ｅ−ブテン酸エチルエステルとの反応の際に、すなわ
ち、Ｃ5−ホスホネートとのホルナー−エモンス−反応
の際に、一般的に１〜２０時間、特に２〜５時間であ
る。しかし、１モル％より少ない量で安定ラジカルを使
用する際に、光学的ａｌｌ−Ｅ−選択性を得ようとする
場合、反応時間は、非常に長くなる。
【００６０】ａｌｌ−Ｅ−選択的ホルナー−エモンス−
反応の実施のために適当な触媒は、それ自体、酸化剤と
して作用し、かつ還元された形もしくはヒドロ−誘導体
に簡単に変えられるが、ポリエン成分における酸化又は
付加の原因にはならない非常に一般的な化合物である。
このことは、キノン及びキノンイミンにも当てはまる。
キノン及びキノンイミンは、一般的に公知であり、しば
しば、生理学的に活性の化合物である。生物学的に活性
のキノンは、主に、キノン核３つ、１，４−ナフトキノ
ン、メチル置換された１，４−ベンゾキノンおよびメチ
ル−及びメトキシ置換された１，４−ベンゾキノンから
誘導される。これらは、フィチル−又は誘導されたフィ
チリル基又はマルチイソプレニル基を含有していてよ
い。次のものが挙げられる；２，３，５−トリメチル−
１，４−ベンゾキノンから誘導されるいわゆるトコキノ
ン、例えばビタミン−Ｅ2（５０）；２，３−ジメチル
−１，４−ベンゾキノンから誘導されるいわゆるプラス
トキノン；２，３−ジメトキシ−５−メチル−１，４−
ベンゾキノンから誘導されるいわゆるユビキノン、例え
ば補酵素Ｑ１０、補酵素Ｑ６又は補酵素Ｑ０；２−メチ
ル−ナフト−１，４−キノンから誘導されるいわゆるメ
ナキノン、例えばビタミンＫ2（５０）及びビタミンＫ2
（３０）及びフィチル−置換された２−メチル−ナフト
−１，４−キノンから誘導されるいわゆるフィロキノ
ン、例えばビタミンＫ1である。生物学的に活性なキノ
ンに関する詳細については、「ハントブーフ・ツア・ア
ンベンドゥング・デア・ノーメンクラトゥア・オルガニ
シュヒェミシャー・フェアビンドゥンゲン」（“Handbu
ch zur Anwendung der Nomenklatur organischchemisch
erVerbindungen”,W.Liebscher,Akademie-Verlag,ベル
リン1979、838〜847頁）を参照とする。
【００６１】一般式Ｘ又はＸＩ；
【００６２】
【化２４】
【００６３】［式中、Ａは、＝Ｏ、＝ＮＨ又は＝Ｎ−Ｒ
5を表わし、ここで、Ｒ5は、アルキル基を表わすか、又
はＲ5は、隣接する基Ｒ14〜Ｒ17と一緒になって、Ｃ原
子２又は３個を有するアルキレン基又はアルケニレン基
を形成し、これは、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基又
はＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基により置換されていてよく；
Ｒ14〜Ｒ17は、水素、ハロゲン又はアルキル−、アルケ
ニル−、シクロアルキル−、アルコキシ−、アルコキシ
カルボニル−、シアノ−、アシルオキシ−、アリール−
又はヘテロアリール基を表わし、その際、Ｒ15は、付加
的に、フィチル基、フィチル基から誘導された基、イソ
プレニル基又はマルチイソプレニル基を表わしうる］の
キノン又はキノンイミンは、殊に適当である。
【００６４】本発明方法のために、式Ｘ又はＸＩの電子
過剰キノン又はキノン誘導体、例えば補酵素Ｑ０、Ｑ１
０又はトコキノンも、電子欠損キノン又はキノン誘導
体、例えばテトラクロロ−１，４−ベンゾキノン又はジ
クロロ−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンも適当であ
る。
【００６５】強い酸化体、例えばクロロアニル（テトラ
クロロ−１，４−ベンゾキノン）又はジクロロ−ジシア
ノ−ベンゾキノン（ＤＤＱ）も、副反応を起こすことな
く、高い効果及び選択性を示すこと、すなわちａｌｌ−
Ｅ−選択的に作用することが分かったことは、殊に意想
外であった。
【００６６】一般式Ｘａ：
【００６７】
【化２５】
【００６８】［式中、Ｒ14、Ｒ16及びＲ17は、前記のも
のを表わし、かつＲ18〜Ｒ21は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−
又はアルコキシ基又はハロゲンを表わす］の本発明によ
るキノロン、殊に、公知の酸化防止作用安定剤 エトキ
シキンから誘導されえ、かつエトキシキンの代謝物とし
て公知である（Xenobiotica 9 (1979)、649〜57頁参
照）式Ｘｂ：
【００６９】
【化２６】
【００７０】のキノロンを使用することは、有利であ
る。エトキシキン自体は、ａｌｌ−Ｅ−選択性の中程度
の改良にのみ作用する一方、キノロンＸｂは、最も活性
の触媒に挙げられる。
【００７１】更に、式ＸＩＩａ及びＸＩＩｂ：
【００７２】
【化２７】
【００７３】のエトキシキンの誘導体並びに式ＸＩＩ
Ｉ：
【００７４】
【化２８】
【００７５】［式中、Ｒ14及びＲ16〜Ｒ21は、前記のも
のを表わすが、殊に、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−又はアルコ
キシ基又はハロゲンを表わす］のＮ−オキシドが挙げら
れる。
【００７６】パラ−キノンの他に、オルト−キノンも本
発明で使用することができる。それというのも、これ
も、非常に高い酸化還元電位を有するからである。オル
ト−キノンに関する更なる詳細に関しては、Ｈｏｕｂｅ
ｎ−Ｗｅｙｌ Ｂｄ．７／３ｂ、３〜６頁を参照とす
る。
【００７７】意外にも、個々のヒドロキノン、例えば補
酵素−Ｑ１０−ヒドロキノンも高い作用を示す。これ
は、できれば、殊に簡単にキノンに変えることができる
ヒドロキノンである。
【００７８】適当なキノイド化合物として、殊に、次の
ものが挙げられる；１，４−ベンゾキノン、ジメチル−
１，４−ベンゾキノン、トリメチル−１，４−ベンゾキ
ノン、ナフトキノン、テトラクロロ−１，４−ベンゾキ
ノン、トコキノンアセテート、フィチル−トリメチル−
１，４−ベンゾキノン、ビタミン−Ｋ−系のキノン及び
補酵素−Ｑ１０、補酵素−Ｑ０又は２，２，４−トリメ
チル−６（Ｈ）−キノロン。
【００７９】キノン及びキノンイミンも、一般的に、使
用したカルボニル化合物に対して、０．３〜１０モル
％、特に０．５〜６モル％、殊に１．０〜５モル％の量
で使用される。
【００８０】反応時間は、反応及び反応成分の種類に応
じてまったく異なる。例えば、反応時間は、β−Ａｐｏ
−１２′−カロチナール（Ｃ25−アルデヒド）又はβ−
Ａｐｏ−８′−カロチナール（Ｃ30−アルデヒド）と４
−ジエチルホスホノ−２−メチル−２Ｅ−ブテン酸エチ
ルエステルとの反応、すなわち、Ｃ5−ホスホネートと
のホルナー−エモンス−反応際に、一般的に１〜２０時
間、特に２〜５時間である。しかし、０．５モル％より
少ない量でキノン又はキノン誘導体を使用する際に、光
学的ａｌｌ−Ｅ−選択性を得ようとする場合、反応時間
はより長くなる。
【００８１】ホルナー−エモンス−反応の実施のため
に、酸素も、ＮＯ、安定ラジカル、キノン、キノン誘導
体及び補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノンも、触媒として適
当である。それに対して、アルドール縮合の実施のため
に、Ｏ2及びＮＯが有利である。
【００８２】本発明による反応を実施するために、一般
的に、アルドール縮合もしくはホルナー−エモンス−反
応のために公知でありかつ慣例であるように、ただし、
反応の間に酸素又は酸素−不活性ガス混合物又は一酸化
窒素もしくは一酸化窒素−不活性ガス混合物を反応混合
物上又は反応混合物中に通し、かつ／又は反応を前記安
定ラジカル、キノン、キノン誘導体又は補酵素−Ｑ１０
−ヒドロキノンの存在下で実施するようにして行なう。
安定ラジカル、キノン、キノン誘導体又は補酵素−Ｑ１
０−ヒドロキノンの使用の際に、反応は、一般的に、不
活性ガス保護下で実施される。
【００８３】アルドール縮合とは、本発明方法の範囲に
おいて、式ＩＶのカルボニル化合物と、ＣＨ活性化合物
としての式Ｖの化合物（式中、Ｚは水素を表わす）と
を、強塩基の存在下で結合させることを意味する。強塩
基としては、殊に、アルカリヒドロキシド、アルカリア
ルコキシド、アルカリヒドリド又はアルカリ−ヘキサア
ルキル−ビスシラジドを使用することができる。個々の
場合において、弱塩基、例えばソーダの使用も十分であ
る。
【００８４】反応は、一般的に溶剤中で実施されるが、
いくつかの場合に、溶剤なしでも達成される。多くの場
合に、過剰のより安定性の出発化合物も、溶剤として使
用されうる。適当な溶剤として、次のものがこれに該当
する；非環状、環状又は芳香族炭化水素又はハロゲン炭
化水素、例えばジクロロエチレン、アルカノール、例え
ばメタノール、エタノール又はイソプロパノール又は前
記溶剤の混合物又は極性非プロトン性溶剤、例えばテト
ラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はジエトキシ
エタン。
【００８５】反応の実施のために、一般的に、溶剤中の
出発化合物の混合物に、Ｏ2、ＮＯ又は前記触媒のうち
の一つの存在下で、ゆっくりと、ほぼ当モル量の塩基の
溶液を供給し、かつ反応混合物を自体公知の方法で後処
理するようにして行なう。しかし、多くの場合に、一つ
の反応成分を塩基と共に装入し、かつ第二の反応成分を
ゆっくりと供給することもできる。
【００８６】反応温度は、反応の際に、約−７０〜１０
０℃、特に−２０〜７０℃である。
【００８７】反応時間は、反応成分の種類、反応時間及
び触媒の量に応じて、０．５〜２４時間、特に１〜１０
時間である。アルドール縮合に関する詳細については、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｂｄ．５／１（１９７２）１
４２〜１４４頁を参照とする。
【００８８】ホルナー−エモンス−反応とは、本発明の
範囲では、塩基の存在下での、一般式ＩＶのカルボニル
化合物と、一般式Ｖ（式中、Ｚは、ジアルキルホスホノ
基を表わす）の化合物との反応を表わす。
【００８９】適当な強塩基としては、ここでも、全ての
アルカリヒドロキシド、アルカリアルコキシド、アルカ
リヒドリド及びアルカリ−ヘキサアルキルビスシラジド
並びにＬｉＮＨ2及びＮａＮＨ2、固有の場合においてア
ルカリカルボネートが挙げられる。反応は、一般的に、
溶剤中で実施されるが、いくつかの場合には、溶剤なし
でも達成される。溶剤としては、一般的に、アルドール
縮合のために前記した溶剤を使用することができる。炭
化水素中又は炭化水素とアルカノールとからの混合物中
で作業することは有利である。
【００９０】この際にも、一般的に、適当な溶剤中の出
発化合物からの混合物に、Ｏ2、ＮＯの存在下で、かつ
／又は触媒として前記した化合物のうちの一つの存在下
で、ゆっくりと、ほぼ当モル量の塩基の溶液を供給し、
かつ完全な変換後に反応混合物をホルナー−エモンス−
反応に関して自体公知の方法で後処理するようにして行
なう。しかし、この際にも、多くの場合に、アルカリ安
定反応成分を塩基と共に装入し、かつ他の反応成分をゆ
っくりと混合物に供給することもできる。
【００９１】ホルナー−エモンス−反応での、８５％よ
り高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有するβ−Ａｐｏ−１２′
−カロチナール（Ｃ25−アルデヒド）と４−ジアルキル
ホスホノ−２−メチル−２−ブテン酸アルキルエステル
との反応による、８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を
有する一般式ＶＩ：
【００９２】
【化２９】
【００９３】のβ−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エステル
を製造するための本発明による方法、ホルナー−エモン
ス−反応での、８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有
するβ−Ａｐｏ−８′−カロチナール（Ｃ30−アルデヒ
ド）と４−ジアルキルホスホノ−２−メチル−２−ブテ
ン酸アルキルエステルとの反応による、８５％より高い
ａｌｌ−Ｅ−含有率を有する一般式ＶＩＩ：
【００９４】
【化３０】
【００９５】のノイロスポラキサンチン酸エステル（Ｃ
35−エステル）を製造するための本発明による方法、及
びアルドール縮合での、８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含
有率を有するβ−Ａｐｏ−８′−カロチナールとアセト
ンとの反応による、８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率
を有するシトラナキサンチンを製造するための本発明に
よる方法は、殊に重要である。
【００９６】一般式ＩＩＩの前記長鎖ポリエンカルボニ
ル化合物において、ａｌｌ−Ｅ−異性体は、適当な溶剤
中で実質的により良好及び簡単に結晶化されるので、一
般的に、より高収率の所望のポリエンカルボニル化合物
も結晶形で得られる。触媒としての安定ラジカル、キノ
ン、キノン誘導体又は補酵素Ｑ１０−ヒドロキノンの使
用の際に、これらは、後処理の際に、一般的に実質的に
定量的に、洗液又は母液中に残留する。
【００９７】長鎖の出発生成物が十分にａｌｌ−Ｅ配置
である場合に、本発明方法を用いて、一般式ＩＩＩのポ
リエンカルボニル化合物、例えば食品用染料として非常
に需要の多いβ−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エステル、
ノイロスポラキサンチン酸エステル及びシトラナキサン
チンが、９５％までのａｌｌ−Ｅ−含有率を有して得ら
れる。
【００９８】
【実施例】
例１ ホルナー−エモンス−反応によるβ−Ａｐｏ−８′−カ
ロチン酸エチルエステル（Ｃ30−エチルエステル）の製
造
【００９９】
【化３１】
【０１００】変法Ａ（４−ＯＨ−ＴＥＭＰＯ １モル％
の使用／反応時間：５時間） 工業用ヘプタン１２００ｍｌ中の結晶β−Ａｐｏ−１
２′−カロチナール（Ｃ25−アルデヒド）３５０．５ｇ
（１ｍｏｌ）の混合物(Maische)に、２５℃で、窒素雰
囲気下に、エタノール５ｍｌ中の４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−Ｎ−オキシル
（４−ＯＨ−ＴＥＭＰＯ）１．７２ｇ（１０ｍｍｏｌ）
を添加した。その後、９６％４−ジエチルホスホノ−２
−メチル−２Ｅ−ブテン酸エチルエステル（Ｃ5−エス
テル−ホスホネート）２８９ｇ（１．０５ｍｏｌ）を添
加した。４時間（ｈ）かかって、２５〜３０℃で、２０
％ナトリウムメチラート溶液（１．２８ｍｏｌ；密度
０．８７３ｋｇ／ｌ）５００ｍｌを、良好なＮ2ガス処
理下に（約８ｌ／ｈ）供給した。引き続き、２５℃で１
時間後撹拌した。Ｃ30−エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合
は、ＨＰＬＣによれば９２．２％であった。
【０１０１】引き続き、有機相を、希釈した水性硫酸及
び６０％水性メタノールを用いて洗浄した。
【０１０２】メタノールの添加後に、得られたβ−Ａｐ
ｏ−８′−カロチン酸エチルエステルを濾別し、かつメ
タノールで２回洗浄した。乾燥をＮ2下で、５０℃で、
重量が一定になるまで行なった。
【０１０３】収量：３９０．２ｇ（８４．７％）；ａｌ
ｌ−Ｅ−含有率：９９．７％。
【０１０４】変法Ｂ（ＴＥＭＰＯ０．５モル％の使用；
反応時間７６ｈ） 工業用ヘプタン１２００ｍｌ中の結晶Ｃ25−アルデヒド
３５０．５ｇ（１ｍｏｌ）の混合物に、２５℃で、窒素
雰囲気下に、エタノール５ｍｌ中の２，２，６，６−テ
トラメチル−ピペリジン−Ｎ−オキシル（ＴＥＭＰＯ）
０．７９ｇ（５ｍｍｏｌ）を添加した。その後、９６％
Ｃ5−エステル−ホスホネート２８９ｇ（１．０５ｍｏ
ｌ）を添加した。
【０１０５】７６時間（ｈ）かかって、２５℃で、２０
％ＮａＯＥｔ溶液（１．２８モル；密度０．８７３ｋｇ
／ｌ）５００ｍｌを、良好なＮ2ガス処理下に供給し
た。Ｃ3 0−エステル中のａｌｌ−Ｅ割合は、ＨＰＬＣに
よれば９２．３％であった。後処理を、変法Ａと同様に
して行なった。
【０１０６】収量：３８０．４ｇ（８２．６％）；ａｌ
ｌ−Ｅ−含有率：９９．３％。
【０１０７】使用したＴＥＭＰＯもしくは４−ヒドロキ
シ−ＴＥＭＰＯ（４−ＯＨ−ＴＥＭＰＯ）の量の影響を
測定するために、Ｃ25−アルデヒド β−Ａｐｏ−１
２′−カロチナールを、例１、変法Ａ及びＢと同様に、
第１表もしくは第２表から見て取れる量のＴＥＭＰＯも
しくは４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯの存在下で、Ｃ5−
エステル−ホスホネートと反応させ、得られた反応混合
物中で、Ｃ30−エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合を、ＨＰ
ＬＣを用いて測定した。結果を第１又は第２表にまとめ
る。
【０１０８】
【表１】
【０１０９】
【表２】
【０１１０】例１、変法Ａと同様に、Ｃ25−アルデヒド
を、酸素又は安定ラジカルの添加なしに（比較実験）も
しくは種々異なる安定ラジカル又はラジカルスカベンジ
ャーの存在下で、Ｃ5−エステルホスホネートと反応さ
せ、かつ得られた反応混合物中で、Ｃ30−エステル中の
ａｌｌ−Ｅ−含有率を、ＨＰＬＣを用いて測定した。結
果を、第３表中にまとめる。有効ではない安定ラジカル
もしくはラジカルスカベンジャー又は酸化防止剤を用い
る実験は、比較実験であり、かつ印＊を付してある。酸
素を、いわゆるマーガー・ルフト（Ｎ2９５％＋Ｏ2５
％）の形で使用した。ＮＯガスの使用の際に、ＮＯ１２
０ｍｌを、５〜１０分間導入し、その際、ＮＯが、反応
空間から、塩基添加の間に出ないように注意した。
【０１１１】その際、３−カルボキシ−プロポキシもし
くは３−カルバモイル−プロポキシルの呼称は３−カル
ボキシ−もしくは３−カルバモイルオキシ−２，２，
５，５−テトラメチル−ピロリジン−Ｎ−オキシルを表
わし、３−カルバモイル−ドキシルの呼称は、３−カル
バモイル−２，５−ジヒドロ−２，２，５，５−テトラ
メチル−ピロール−Ｎ−オキシルを表わす。
【０１１２】
【表３】
【０１１３】
【表４】
【０１１４】例２ β−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エチルエステルの製造 ａ）Ｏ2の存在下で β−Ａｐｏ−１２′−カロチナール（Ｅ−含有率９８
％）７０ｇを、ヘプタン３００ｍｌ中に懸濁し、かつ９
６％４−ジエチルホスホノ−２−メチル−２Ｅ−ブテン
酸エチルエステル６０ｇを加えた。撹拌下及び「マーガ
ー・ルフト」（比３：１でのＮ2及び大気の混合物）１
０ｌ／ｈの導入下に４時間かかって、２０〜２５℃で、
２０％ナトリウムメチラート溶液１１０ｍｌを滴加し
た。引き続き、有機相を、希釈した硫酸並びに６０％水
性メタノールを用いて洗浄した。得られたβ−Ａｐｏ−
８′−カロチン酸エチルエステル中のａｌｌ−Ｅ−割合
は、ＨＰＬＣにより、９４．７％であり、Ｚ割合は５．
３％であった。
【０１１５】０℃まで冷却し、吸引濾過し、Ｎ2流中で
結晶を乾燥後に、純粋な結晶ａｌｌ−Ｅ−β−Ａｐｏ−
８′−カロチン酸エチルエステル（ａｌｌ−Ｅ−含有
率：＞９８％）７９．７ｇが得られた。これは、β−Ａ
ｐｏ−１２′−カロチナールに対して、理論量の８６．
６％の収率に相当する。
【０１１６】ｂ）比較例（Ｎ2雰囲気下で） ａ）で前記したようにして作業するが、「マーガー・ル
フト」の代わりに、窒素１０ｌ／ｈを反応混合物中に導
入した。得られたβ−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エチル
エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合は、ＨＰＬＣにより、７
７．４％であり、Ｚ−β−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エ
チルエステル−異性体の含有率は２２．６％であった。
【０１１７】同様の結晶化条件下で、純粋な結晶ａｌｌ
−Ｅ−β−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エチルエステルが
僅か６３ｇ得られた。これは、使用したβ−Ａｐｏ−１
２′−カロチナールに対して、僅か６８．５％の収率に
相当する。
【０１１８】例３ ホルナー−エモンス−反応によるβ−Ａｐｏ−４′−カ
ロチン酸エチルエステル（Ｃ35−エステル）の製造
【０１１９】
【化３２】
【０１２０】工業用ヘプタン１２００ｍｌ中の９９．３
％純粋結晶Ｃ30−アルデヒド４１９．６ｇ（１ｍｏｌ）
の混合物に、２５℃で、窒素雰囲気下に、ＴＥＭＰＯ
７．８ｇ（５０ｍｍｏｌ）を添加した。その後、９６％
Ｃ5−エステル−ホスホネート２８９ｇ（１．０５ｍｏ
ｌ）を添加した。
【０１２１】４時間（ｈ）かかって、２５〜３０℃で、
２０％ＮａＯＥｔ溶液（１．２８ｍｏｌ；密度０．８７
３ｋｇ／ｌ）５００ｍｌを、良好なＮ2ガス処理下に
（約８ｌ／ｈ）供給した。反応の間に非常に堅い結晶混
合物が生じた。
【０１２２】Ｃ35−エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合は、
塩基添加収量後に、ＨＰＬＣによれば９４．０％であっ
た。
【０１２３】引き続き、分離された有機相を、希釈した
水性硫酸及びメタノールと希釈した水性硫酸との混合物
を用いて洗浄した。
【０１２４】ヘプタン及びメタノールの添加後に、濾別
し、かつ水で洗浄した。乾燥：Ｎ2下で、５０℃／１ｍ
ｂａｒで、重量が一定になるまで。
【０１２５】収量：結晶４９５．２ｇ（９４．０％）；
ａｌｌ−Ｅ−含有率：９７．５％；融点（Ｆｐ．）１４
０〜１４１℃。
【０１２６】Ｅ1（１％、１ｃｍ）：２６５６（シクロ
ヘキサン；４７９ｎｍ）；含有率９８．４％、計算値
Ｅ1＝２７００。
【０１２７】ほぼ同じ結果が、ＴＥＭＰＯの代わりに１
時間及び１モル当たり「マーガー・ルフト」５ｌを使用
する際に得られた。
【０１２８】例４ アルドール縮合によるシトラキサンチンの製造
【０１２９】
【化３３】
【０１３０】Ｃ30−アルデヒドそれぞれ４１．６７ｇ
（０．１ｍｏｌ）を、次表の記載に相当して、「マーガ
ー・ルフト」−又は窒素ガス処理（１０ｌ／ｈ）下に、
室温で、アセトン４１７ｍｌ及びヘプタン２０８ｍｌか
らの混合物中で懸濁した。懸濁液を４０℃まで加温し、
かつ「マーガー・ルフト」−又はＮ2 ガス処理下に、６
時間かかって、メタノール中の表から見て取れる塩基の
１％溶液６３ｍｌに滴加した。一時間ごとに、試料を、
ＨＰＬＣを用いる反応経過の測定のために採取した。
【０１３１】晶出したシトラナキサンチンを吸引濾過
し、かつメタノールを用いて洗浄した。乾燥を、Ｎ2流
中で、５０℃／１ｍｂａｒで行なった。収率を、言うに
値する異性化なしに進行する反応バッチにおいてのみ測
定した。
【０１３２】
【表５】
【０１３３】例５ シトラナキサンチンの製造 Ｃ30−アルデヒドそれぞれ３３ｇ（０．０８ｍｏｌ）
（ａｌｌ−Ｅ−含有率９８％）を、アセトン５７５ｍｌ
中で懸濁させ、場合により、ＢＨＴ（酸化防止剤として
のブチル化されたヒドロキシトルエン）及び次の第５表
から見て取れる量の「ＴＥＭＰＯ」を添加し、かつ得ら
れた反応混合物を４３℃まで加温した。この温度で、次
の第５表に記載した反応時間内に、５０重量％水性Ｎａ
ＯＨ（０．０７ｍｍｏｌ）５．２ｇを滴加した。
【０１３４】引き続き、反応混合物を、２０℃まで３０
分冷却し、２０℃で更に３０分後撹拌した。反応混合物
のａｌｌ−Ｅ−シトラナキサンチン含有率並びに他のシ
トラナキサンチン異性体含有率を、ＨＰＬＣを用いて測
定し、かつ第５表中に記載する。
【０１３５】引き続き、吸引漏斗を介して濾過した。濾
過ケーキを、メタノールを用いて洗浄し、かつ約５０℃
で乾燥棚中で乾燥させた。
【０１３６】
【表６】
【０１３７】例６ ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−
ピペリジン−４−イル）−セバシン酸塩の存在下でのホ
ルナー−エモンス−反応によるβ−Ａｐｏ−８′−カロ
チン酸エチルエステルの製造 工業用ヘプタン１２０ｍｌ中の結晶β−Ａｐｏ−１２′
−カロチナール２５．０５ｇ（１００ｍｍｏｌ）の混合
物に、２５℃で、窒素雰囲気下に、エタノール５ｍｌ中
のビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル
−ピペリジン−４−イル）−セバシン酸塩１．２８ｇ
（２．５ｍｍｏｌ）を添加した。その後、９６％Ｃ5 −
エステル−ホスホネート３０．３ｇ（１１０ｍｍｏｌ）
を添加した。
【０１３８】４時間かかって、２５〜３０℃で、２０％
ナトリウムエチラート溶液５０ｍｌ（１２８ｍｍｏｌ）
を、Ｎ2ガス処理下に供給した。引き続き、２５℃で１
時間後撹拌した。Ｃ30−エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合
は、ＨＰＬＣによれば９４．９％であった。
【０１３９】引き続き、有機相を希釈された水性硫酸及
び６０％メタノールを用いて洗浄した。
【０１４０】メタノールの添加後に、得られたβ−Ａｐ
ｏ−８′−カロチン酸エチルエステルを濾別し、かつメ
タノールで２回洗浄した。乾燥を、重量が一定になるま
で行なった。
【０１４１】収量：３９．５ｇ（８５．８％）；ａｌｌ
−Ｅ−含有率：９９．８％。
【０１４２】例７ ２，２，４−トリメチル−６（Ｈ）−キノロンの存在下
でのホルナー−エモンス−反応によるβ−Ａｐｏ−８′
−カロチン酸エチルエステル（Ｃ30−エチルエステル）
の製造 工業用ヘプタン１２００ｍｌ中の結晶β−Ａｐｏ−１
２′−カロチナール（Ｃ25−アルデヒド）３５０．５ｇ
（１ｍｏｌ）の混合物に、２５℃で、アルゴン雰囲気下
に、エタノール５ｍｌ中の２，２，４−トリメチル−６
（Ｈ）−キノロン１．９６ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加し
た。その後、９６％４−ジエチルホスホノ−２−メチル
−２Ｅ−ブテン酸エチルエステル（Ｃ5−エステル−ホ
スホネート）３０２．８ｇ（１．１ｍｏｌ）を添加し
た。４時間かかって、２５〜３０℃で、２０％ナトリウ
ムエチラート溶液５００ｍｌ（１．２８ｍｏｌ）を、ア
ルゴンガス処理下に供給した。引き続き、５５℃まで加
熱した。Ｃ30−エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合は、ＨＰ
ＬＣによれば９４．８％であった。
【０１４３】引き続き、有機相を、希釈された水性硫酸
及び６０％水性メタノールを用いて洗浄した。
【０１４４】メタノール１ｌの添加後に、−５℃まで冷
却し、かつ得られたβ−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エチ
ルエステルを濾別し、かつメタノールで洗浄した。乾燥
を、Ｎ2下に５０℃で、重量が一定になるまで行なっ
た。
【０１４５】収量：４０１．３ｇ（８７．１％）；ａｌ
ｌ−Ｅ−含有率：９８．９％。
【０１４６】例８ キノン、キノン誘導体及び補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノ
ンの存在下でのホルナー−エモンス−反応によるβ−Ａ
ｐｏ−８′−カロチン酸エチルエステル（Ｃ30−エチル
エステル）の製造 工業用ヘプタン１２０ｍｌ中のＣ25−アルデヒド３５．
０５ｇ（０．１ｍｏｌ）の混合物に、２５℃で、アルゴ
ン雰囲気下に、エタノール２ｍｌ中の、第６表から見て
取れる量の第６表から見て取れる添加物を添加した。そ
の後、第１表から見て取れるＥ／Ｚ−異性体比を有する
９６％Ｃ5−エステル−ホスホネート３０．３ｇ（１１
０ｍｍｏｌ）を添加した。４時間かかって、２５〜３０
℃で、２０％ナトリウムエチラート溶液５０ｍｌ（１２
８ｍｏｌ）を、アルゴンガス処理下に供給した。引き続
き、２５℃で１時間後撹拌した。Ｃ30−エステル中のａ
ｌｌ−Ｅ−割合を、ＨＰＬＣによりそれぞれ測定した。
結果を、第６表中に示す。
【０１４７】
【表７】
【０１４８】例９ キノン、キノン誘導体及び補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノ
ンの存在下でのホルナー−エモンス−反応によるβ−Ａ
ｐｏ−４′−カロチン酸エチルエステル（Ｃ35−エステ
ル）の製造 Ｃ30−アルデヒド４１．６７ｇ（１００ｍｍｏｌ）を工
業用ヘプタン４００ｍｌ中で懸濁させ、室温で、アルゴ
ン雰囲気下に、９６％Ｃ5−エステル−ホスホネート３
０．３ｇ（１１０ｍｍｏｌ）及び第７表中に記載の添加
物５ｍｍｏｌを添加した。４時間で、２０％ナトリウム
エチラート溶液５０ｍｌを供給した。室温で１６時間後
撹拌した。生成物中のａｌｌ−Ｅ−割合を、ＨＰＬＣに
よりそれぞれ測定し、第７表中にまとめた。
【０１４９】
【表８】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年８月２３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【化１】 ［式中、Ｒ６及びＲ７は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基を表
すか、又はＲ６及びＲ７は、一緒になって、エチレン
基、プロピレン基、ビニレン基又はプロペニレン基を表
わし、これらの基は、アルキル−、アリール−、ヒドロ
キシル−、アルキルオキシ−、シリルオキシ−、オキソ
−、アミノ−、メルカプト−、アルキルメルカプト−、
シアノ−、カルボキシル−、アミノカルボニル−（カル
バモイル−）、ヘテロアリール−又はアルキルカルボニ
ルオキシ基により置換されていてよい］の安定ラジカル
の存在下で、かつ／又は一般式ＩＩ：
【化２】 ［式中、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０は、Ｒ６及びＲ７に関し
て前記したものを表す］の安定ラジカルの存在下で、か
つ／又は安定ラジカル：２，２−ジフェニル−１−ピク
リルヒドラジル又は過酸化水素−尿素付加物の存在下
で、かつ／又は一般式Ｘ又はＸＩ：
【化３】 ［式中、Ａは、＝Ｏ、＝ＮＨ又は＝Ｎ−Ｒ５を表わし、
ここで、Ｒ５はアルキル基を表わすか、又はＲ５は隣接
する基Ｒ１４〜Ｒ１７と一緒になってＣ原子２又は３個
を有するアルキレン基を形成し、このアルキレン基は、
ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル基又はＣ１〜Ｃ４−ア
ルコキシ基により置換されていてよく、かつＲ１４〜Ｒ
１７は、水素、ハロゲン、又はアルキル−、アルケニル
−、シクロアルキル−、アルコキシ−、アルコキシカル
ボニル−、シアノ−、アシルオキシ−、アリール−又は
ヘテロアリール基を表わす］キノン又はキノン誘導体の
存在下で、又は式ＸＩＩａ及びＸＩＩｂ：
【化４】 のエトキシキンの誘導体並びに並びに式ＸＩＩＩ：
【化５】 ［式中、Ｒ１４、Ｒ１６及びＲ１７は、前記のものを表
わし、かつＲ１８〜Ｒ２１は、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル−
又はアルコキシ基又はハロゲンを表わす］のＮ−オキシ
ドの存在下で、又は補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノンの存
在下で実施し、その際、酸素、一酸化窒素、安定ラジカ
ルもしくは過酸化水素−尿素付加物及びキノン、キノン
誘導体又は補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノンを、使用した
ポリエンカルボニル化合物に対して０．３〜１０モル％
の量で使用することを特徴とする、高いａｌｌ−Ｅ−含
有率を有するポリエンカルボニル化合物並びにそのアセ
タールもしくはケタールの製法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、ポリエンカルボニル化合物を得るためのポリエン成
分の結合が、有利にはＥ配置を有する二重結合の形成下
に、及び出発生成物中の二重結合のＥ配置の保持下に起
きる反応条件を見つけることであった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】従って、本発明の目的は、Ｅ配置を有する
二重結合を有利に形成するという目的のために及び出発
化合物中の二重結合のＥ配置をできるだけ完全に保持す
るために、反応を、酸素又は酸素−不活性ガス混合物の
存在下で、又は一酸化窒素又は一酸化窒素−不活性ガス
混合物の存在下で、かつ／又は一般式Ｉ：０モル％、特
に０．５〜６モル％、殊に１〜５モル％の量で使用す
る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２２】Ｃ３５−エステル中のａｌｌ−Ｅ−割合
は、塩基添加終了後に、ＨＰＬＣによれば９４．０％で
あった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０１２８】例４ アルドール縮合によるシトラナキサンチンの製造
フロントページの続き (72)発明者 ヨアヒム パウスト ドイツ連邦共和国 ノイホーフェン リン グシュトラーセ ３ (72)発明者 オットー ヴェルツ ドイツ連邦共和国 フリーデルスハイム フリードリッヒ−ピーチュ−シュトラーセ 10 (72)発明者 ウド ロイデ ドイツ連邦共和国 オッターシュタット ヴィルデンテンシュトラーセ １ (72)発明者 ヴォルフラム ブルスト ドイツ連邦共和国 マンハイム イラーシ ュトラーセ ７ (72)発明者 ギュンター ドイヴェル ドイツ連邦共和国 ルーシュタット ブル クシュトラーセ １ (72)発明者 アルミン ベルトラム ドイツ連邦共和国 フランケンタール ク ニーチュシュトラーセ 18 (72)発明者 ベルンハルト シュルツ ドイツ連邦共和国 シュヴェッツィンゲン クルプファルツリング 28 (72)発明者 ギュンター ヴェークナー ドイツ連邦共和国 レーマーベルク シラ ーシュトラーセ 32 (72)発明者 ペーター ミュンスター ドイツ連邦共和国 レーマーベルク シュ レフォークトヴェーク ５アー (72)発明者 ハンスゲオルク エルンスト ドイツ連邦共和国 シュパイアー ブッサ ルトヴェーク62 (72)発明者 アルノ コッホナー ドイツ連邦共和国 ヴァルトゼー マック ス−プランク−シュトラーセ ５ (72)発明者 ハインツ エツロット ドイツ連邦共和国 ノイシュタット ベル クシュタインシュトラーセ 33

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 適当なカルボニル化合物と適当なジアル
    キルホスホネートもしくは適当なＣＨ酸化合物とのホル
    ナー−エモンス−反応又はアルドール縮合による高いａ
    ｌｌ−Ｅ−含有率を有するポリエンカルボニル化合物並
    びにそのアセタールもしくはケタールの製法において、
    Ｅ配置を有する二重結合の有利な形成の目的のために、
    及び出発化合物中の二重結合のＥ配置をできるだけ完全
    に得るために、反応を、酸素又は酸素−不活性ガス混合
    物の存在下で、又は一酸化窒素又は一酸化窒素−不活性
    ガス混合物の存在下で、かつ／又は一般式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｒ6及びＲ7は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基を表す
    か、又はＲ6及びＲ7は、一緒になって、エチレン基、プ
    ロピレン基、ビニレン基又はプロペニレン基を表わし、
    これらの基は、アルキル−、アリール−、ヒドロキシル
    −、アルキルオキシ−、シリルオキシ−、オキソ−、ア
    ミノ−、メルカプト−、アルキルメルカプト−、シアノ
    −、カルボキシル−、アミノカルボニル−（カルバモイ
    ル−）、ヘテロアリール−又はアルキルカルボニルオキ
    シ基により置換されていてよい］の安定ラジカルの存在
    下で、かつ／又は一般式ＩＩ： 【化２】 ［式中、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は、Ｒ6及びＲ7に関して前記
    したものを表す］の安定ラジカルの存在下で、かつ／又
    は安定ラジカル：２，２−ジフェニル−１−ピクリルヒ
    ドラジル又は過酸化水素−尿素付加物の存在下で、かつ
    ／又は一般式Ｘ又はＸＩ： 【化３】 ［式中、Ａは、＝Ｏ、＝ＮＨ又は＝Ｎ−Ｒ5を表わし、
    ここで、Ｒ5はアルキル基を表わすか、又はＲ5は隣接す
    る基Ｒ14〜Ｒ17と一緒になってＣ原子２又は３個を有す
    るアルキレン基を形成し、このアルキレン基は、ハロゲ
    ン、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基又はＣ1〜Ｃ4−アルコキシ基
    により置換されていてよく、かつＲ14〜Ｒ17は、水素、
    ハロゲン、又はアルキル−、アルケニル−、シクロアル
    キル−、アルコキシ−、アルコキシカルボニル−、シア
    ノ−、アシルオキシ−、アリール−又はヘテロアリール
    基を表わす］キノン又はキノン誘導体の存在下で、又は
    式ＸＩＩａ及びＸＩＩｂ： 【化４】 のエトキシキンの誘導体並びに並びに式ＸＩＩＩ： 【化５】 ［式中、Ｒ14、Ｒ16及びＲ17は、前記のものを表わし、
    かつＲ18〜Ｒ21は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル−又はアルコキ
    シ基又はハロゲンを表わす］のＮ−オキシドの存在下
    で、又は補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノンの存在下で実施
    し、その際、酸素、一酸化窒素、安定ラジカルもしくは
    過酸化水素−尿素付加物及びキノン、キノン誘導体又は
    補酵素−Ｑ１０−ヒドロキノンを、使用したポリエンカ
    ルボニル化合物に対して０．３〜１０モル％の量で使用
    することを特徴とする、高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有す
    るポリエンカルボニル化合物並びにそのアセタールもし
    くはケタールの製法。
  2. 【請求項２】 ８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有
    する一般式ＶＩ： 【化６】 のβ−Ａｐｏ−８′−カロチン酸エステルを製造するた
    めに、８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有するβ−
    Ａｐｏ−１２′−カロチナール（Ｃ25−アルデヒド）
    を、酸素又は酸素−不活性ガス混合物、又は一酸化窒素
    又は一酸化窒素−不活性ガス混合物の存在下で、かつ／
    又は安定ラジカルとしての２，２，６，６，−テトラメ
    チルピペリジン−Ｎ−オキシル（ＴＥＭＰＯ）、４−ヒ
    ドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
    Ｎ−オキシル（４−ＯＨ−ＴＥＭＰＯ）、４−オキソ−
    ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシ
    ル、３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラメチル−
    ピロリジン−Ｎ−オキシル、３−アミノカルボニル−
    ２，２，５，５−テトラメチル−ピロリジン−Ｎ−オキ
    シル、３−アミノカルボニル−２，５−ジヒドロ−２，
    ２，５，５−テトラメチル−１Ｈ−ピロール−Ｎ−オキ
    シル、ジ−ｔ−ブチルアミン−Ｎ−オキシル又は２，２
    −ジフェニル−１−ピクリルヒドラジルの存在下で、キ
    ノンもしくはキノン誘導体としてのトリメチル−１，４
    −ベンゾキノン、補酵素Ｑ１０、テトラクロロ−１，４
    −ベンゾキノン、トコキノン−アセテート、補酵素Ｑ０
    又は２，２，４−トリメチル−６（Ｈ）−キノロンの存
    在下で、４−ジアルキルホスホノ−２−メチル−２−ブ
    テン酸アルキルエステルと、ホルナー−エモンス−反応
    で反応させる、請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 ８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有
    する一般式ＶＩＩ： 【化７】 のノイロスポラキサンチン酸エステルを製造するため
    に、８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有するβ−Ａ
    ｐｏ−８′−カロチナールを、酸素又は酸素−不活性ガ
    ス混合物、又は一酸化窒素又は一酸化窒素−不活性ガス
    混合物の存在下で、かつ／又は請求項２記載の安定ラジ
    カルの存在下で、又は請求項２記載のキノン又はキノン
    誘導体を用いて、４−ジアルキルホスホノ−２−メチル
    −２−ブテン酸アルキルエステルと、ホルナー−エモン
    ス−反応で反応させる、請求項１記載の方法。
  4. 【請求項４】 ８５％より高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有
    する一般式ＶＩＩＩ： 【化８】 のシトラナキサンチンを製造するために、８５％よりも
    高いａｌｌ−Ｅ−含有率を有するβ−Ａｐｏ−８′−カ
    ロチナールを、酸素又は酸素−不活性ガス混合物、又は
    一酸化窒素又は一酸化窒素−不活性ガス混合物の存在下
    で、アセトンと、アルドール縮合で反応させる、請求項
    １記載の方法。
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