JPH08337582A - ビスクマリン系化合物、およびこれを用いた可視光感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 一般式（１）で表される新規なビスクマリン
系化合物、及びこれを光増感剤として含有する可視光感
光性樹脂組成物。 〔式中、Ｒ_１，Ｒ_２，Ｒ_３，Ｒ_４は水素原子、アルキル
基、アラルキル基、アリール基等を；Ｒ_５，Ｒ_６は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸
基、アルキルチオ基等を；Ｒ_７，Ｒ_８は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基等を；Ｒ_９，Ｒ_１０はシアノ
基、ニトロ基、カルボキシ基等を；夫々示す〕 【効果】 本発明のビスクマリン系化合物は、可視光領
域、特に、アルゴンレーザー及びＹＡＧレーザーの第二
高調波に、十分な感度を有し、これを光増感剤として含
む本発明の可視光感光性樹脂組成物は、可視光レーザー
用の優れた感光層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な化合物であるビ
スクマリン系化合物、およびこれを光増感剤として含有
する可視光領域の光線に対し高い感度を示す可視光感光
性樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、光重合反応を用いた情報、あるい
は画像記録の分野で、従来のフィルム原稿等を用いた紫
外線による記録方法に代わり、コンピューターによって
電子編集された原稿を、そのまま、高出力レーザーを用
いて直接出力し、記録する方法が検討されている。この
方法は、レーザーによる直接書き込みにより、記録、画
像形成工程が、大幅に簡略化できるという利点をもつ。
現在、一般的に使用されている高出力で安定なレーザー
光源は、可視領域にその出力波長を有するものが多い。
具体的には、波長４８８ｎｍおよび５１４．５ｎｍに安
定な発振線を持つアルゴンレーザー、あるいは第２高調
波として５３２ｎｍに輝線を持つＹＡＧレーザー等が汎
用されている。そのため、それらの波長に対して高感度
な化合物が望まれているが、従来使用されてきた紫外線
用の感光剤では、可視領域での感度が低いため使用でき
なかった。また、ピリリウム塩、またはチオピリリウム
塩類等の添加で、可視部での感度の向上は可能ではある
が、その感光層の保存安定性が低く、使用するのが困難
であった。

【０００３】可視領域に感光性を有する化合物として、
７−ジエチルアミノ−３−ベンゾチアゾイルクマリン
（慣用名；クマリン−６）、あるいはビス〔３−（７−
ジエチルアミノクマリル）〕ケトン（慣用名；ケトクマ
リン）が知られているが、これらは、最大吸収波長が４
５０ｎｍ前後にあるため、アルゴンレーザーの４８８ｎ
ｍよりは短波長であることから、感度が不十分である。
また、特開平４−１８０８８号公報に記載の４−置換−
３−ベンゾチアゾイルクマリン化合物は、アルゴンレー
ザーの４８８ｎｍには感光しうるものの、５１４．５ｎ
ｍあるいはＹＡＧレーザーの第二高調波である５３２ｎ
ｍでは、吸収能が低く、感度向上の余地を残していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高出力で安
定なレーザー光源であるアルゴンレーザーの４８８ｎ
ｍ、５１４．５ｎｍの発振線、あるいは、ＹＡＧレーザ
ーの第２高調波である５３２ｎｍ等の可視光領域の長波
長のレーザー光に対して高感度な光増感剤、及び感光性
樹脂組成物を提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに至
った。即ち、本発明は、下記一般式（１）（化３）で表
される新規ビスクマリン系化合物、該化合物を含有する
光増感剤および可視光感光性樹脂組成物、さらに該組成
物を基板上に有してなる可視光感光材料に関するもので
ある。

【０００６】

【化３】 ［式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ は、それぞれ同一また
は独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル
基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシカルボニルアルキル基を示
し、互いに結合するか、骨格内のアミノ基の置換したベ
ンゼン核と結合して環を形成してもよく、Ｒ₅ 、Ｒ
₆ は、それぞれ同一または独立に、水素原子、、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキ
シアルキル基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アルコキシアルコキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン酸基を示し、
Ｒ₇ 、Ｒ₈ は、それぞれ同一または独立に、水素原子、
ハロゲン原子、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シ
アノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、シク
ロアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アルケニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシ
カルボニル基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボ
ニル基、アルキルカルボニルアルコキシカルボニル基、
あるいは下記（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）
（化４）で表される置換基を示す。

【０００７】

【化４】 （ここで、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₅は水素原子、アルキル基、ヒドロ
キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｍ、
ｎ、ｐ、ｑはそれぞれ１〜５の整数を示す）を示し、Ｒ
₉ 、Ｒ₁₀はそれぞれ同一または独立に、シアノ基、ニト
ロ基、カルボキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキ
シカルボニル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアル
コキシカルボニル基、あるいは前記（１ａ）、（１
ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）で表される置換基を示す。〕

【０００８】本発明の前記一般式（１）で表される化合
物は、光増感剤として有用な新規なビスクマリン系化合
物である。すなわち、ビス（３−クマリル）ケトン系化
合物のカルボニル基と、例えばＫｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ
反応を利用して活性メチレンを有した試剤とを反応さ
せ、共役を延長させるか、あるいは電子吸引基の効果に
より極大吸収波長の長波長化や樹脂中への高溶解性、さ
らには高感度化を実現したものであり、光硬化樹脂（例
えば、エチレン型不飽和結合を分子中に少なくとも１個
以上有する光重合または光架橋可能な化合物）、および
光重合開始剤を用いる光硬化に適用可能なきわめて有用
な化合物である。更に従来の光増感剤は塗布方式の違い
によって感度が大きく変動していたが、本発明の光増感
剤は、いずれの方式においても安定した感度を示し、要
望を十分満足させるものである。

【０００９】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の前記一般式（１）で表される化合物において、Ｒ
₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ ₄ は水素原子、アルキル基、アルコ
キシアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル
基、アラルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル
アルキル基を示し、互いに同一であっても異なっていて
もよい。具体的には、水素原子、メチル、エチル、ｎ−
プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等の
アルキル基；メトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シメチル、エトキシエチル、γ−メトキシプロピル、γ
−エトキシプロピル基等のアルコキシアルキル基；アリ
ル、２−ブテニル、２−ペンテニル基等のアルケニル
基；ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキ
シブチル基等のヒドロキシアルキル基；ベンジル、フェ
ネチル基等のアラルキル基；フェニル、ｐ−メチルフェ
ニル、ｍ−メチルフェニル、ｏ−メチルフェニル、２，
４−ジメチルフェニル基等のアリール基；メトキシカル
ボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカ
ルボニルメチル、エトキシカルボニルエチル基等のアル
コキシカルボニルアルキル基等が挙げられる。また、Ｒ
₁ とＲ₂ 及び／またはＲ₃ とＲ₄ が互いに結合し、また
は骨格内のアミノ基が置換しているベンゼン核と結合し
て、次のような環（化５）を形成してもよい。

【００１０】

【化５】 （式中、Ｒ₂ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ 、Ｒ₆ は一般式（１）と同じ
意味を示し、Ｒ₁₆〜Ｒ₁₉は、水素原子または炭素数１〜
６のアルキル基を示す。）

【００１１】また一般式（１）において、Ｒ₅ 、Ｒ
₆ は、それぞれ同一または独立に、水素原子、、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキ
シアルキル基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキ
シ基、アルコキシアルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、スルホン酸基を示し、具体的には、水素原子、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブ
チル、基等のアルキル基；メトキシメチル、メトキシエ
チル、エトキシメチル、エトキシエチル基等のアルコキ
シアルキル基；ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、
２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル基等
のヒドロキシアルキル基；クロロメチル、２−クロロエ
チル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル基等のハロ
ゲノアルキル基；水酸基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プ
ロポキシ、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基；メトキシ
メトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エト
キシエトキシ、ｎ−プロポキシエトキシ基等のアルコキ
シアルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｉｓｏ−プロポキシ
カルボニル基等のアルコキシカルボニル基；スルホン酸
基；塩素原子、フッ素原子、臭素原子等のハロゲン原子
が挙げられる。

【００１２】同様に一般式（１）において、Ｒ₇ 、Ｒ₈
は、それぞれ同一または独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シアノ基、カ
ルボキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケ
ニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニルアルコキシカルボニル基、あるいは前
記（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）で表される
置換基を示す。

【００１３】具体的には水素原子；塩素原子、フッ素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキ
シ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、
ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、
ｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキ
シ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ基等のア
ルコキシ基；シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオ
キシ基等のシクロアルコキシ基；シアノ基；カルボキシ
基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プ
ロポキシカルボニル、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル、
ｎ−ブトキシカルボニル、ｉｓｏ−ブトキシカルボニ
ル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボ
ニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオ
キシカルボニルカルボニル、ｎ−ヘプチルオキシカルボ
ニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル基等のアルコキシ
カルボニル基；シクロペンチルオキシカルボニル、シク
ロヘキシルオキシカルボニル基等のシクロアルコキシカ
ルボニル基；

【００１４】フェノキシカルボニル、ｐ−メチルフェノ
キシカルボニル、ｍ−メチルフェノキシカルボニル、ｏ
−メチルフェノキシカルボニル、２，４−ジメチルフェ
ノキシカルボニル、２，６−ジメチルフェノキシカルボ
ニル、２，４，６−トリメチルフェノキシカルボニル、
４−フェニルフェノキシカルボニル基等のアリールオキ
シカルボニル基；プロペノキシカルボニル、２−ブテノ
キシカルボニル基等のアルケニルオキシカルボニル基；
ベンジルオキシカルボニル、メチルベンジルオキシカル
ボニル、フェネチルオキシカルボニル基等のアラルキル
オキシカルボニル基；メトキシカルボニルメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニルメトキシカルボニル、ｎ−
プロポキシカルボニルメトキシカルボニル、ｉｓｏ−プ
ロポキシカルボニルメトキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニルアルコキシカルボニル基；メチルカルボニ
ルメトキシカルボニル、エチルカルボニルメトキシカル
ボニル基等のアルキルカルボニルアルコキシカルボニル
基；ヒドロキシエチルカルボニル、ヒドロキシエトキシ
エチルカルボニル、ヒドロキシエトキシエトキシエチル
カルボニル、エトキシエトキシエチルカルボニル基等の
ポリエーテルアルキルカルボニル基；ヒドロキシエトキ
シカルボニル、ヒドロキシエトキシエトキシカルボニ
ル、ヒドロキシプロポキシプロポキシカルボニル、ヒド
ロキシエトキシエトキシエトキシカルボニル基等のポリ
エーテルカルボニル基；

【００１５】アミノカルボニル基；メチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル、ｎ−プロピルアミノカ
ルボニル、ｎ−ブチルアミノカルボニル、ｎ−ペンチル
アミノカルボニル、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル、ｎ
−ヘプチルアミノカルボニル、ｎ−オクチルアミノカル
ボニル基等のモノアルキルアミノカルボニル基；ジメチ
ルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、ジプ
ロピルアミノカルボニル、ジブチルアミノカルボニル、
ジペンチルアミノカルボニル、ジヘキシルアミノカルボ
ニル、ジヘプチルアミノカルボニル、ジオクチルアミノ
カルボニル基等のジアルキルアミノカルボニル基；ヒド
ロキシエチルアミノカルボニル、２−ヒドロキシプロピ
ルアミノカルボニル、３−ヒドロキシプロピルアミノカ
ルボニル基等のモノ（ヒドロキシアルキル）アミノカル
ボニル基；ジ（ヒドロキシエチル）アミノカルボニル、
ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミノカルボニル、ジ
（３−ヒドロキシプロピル）アミノカルボニル基等のジ
（ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル基；ヒドロキ
シエトキシエチルアミノカルボニル、ヒドロキシプロポ
キシエルアミノカルボニル、ヒドロキシプロポキシプロ
ピルアミノカルボニル基等のモノ（ヒドロキシアルコキ
シアルキル）アミノカルボニル基；

【００１６】ジ（ヒドロキシエトキシエチル）アミノカ
ルボニル、ジ（ヒドロキシプロポキシエチル）アミノカ
ルボニル、ジ（ヒドロキシプロポキシプロピル）アミノ
カルボニル基等のジ（ヒドロキシアルコキシアルキル）
アミノカルボニル基；メトキシメチルアミノカルボニ
ル、メトキシエチルアミノカルボニル、エトキシメチル
アミノカルボニル、エトキシエチルアミノカルボニル、
プロポキシエチルアミノカルボニル等のモノ（アルコキ
シアルキル）アミノカルボニル基；ジ（メトキシメチ
ル）アミノカルボニル、ジ（メトキシエチル）アミノカ
ルボニル、ジ（エトキシメチル）アミノカルボニル、ジ
（エトキシエチル）アミノカルボニル、ジ（プロポキシ
エチル）アミノカルボニル基等のジ（アルコキシアルキ
ル）アミノカルボニル基；シクロペンチルアミノカルボ
ニル、シクロヘキシルアミノカルボニル基等のシクロア
ルキルアミノカルボニル基等が挙げられる。

【００１７】また一般式（１）において、Ｒ₉ 、Ｒ₁₀は
それぞれ同一または独立に、シアノ基、ニトロ基、カル
ボキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニ
ル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アラル
キルオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルコ
キシカルボニル基、アルキルカルボニルアルコキシカル
ボニル基、あるいは前記（１ａ）、（１ｂ）、（１
ｃ）、（１ｄ）で表される置換基を示す。

【００１８】具体的には、シアノ基；ニトロ基；カルボ
キシ基；メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プ
ロピルカルボニル、ｎ−ブチルカルボニル等のアルキル
カルボニル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、ｎ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニ
ル基等のアルコキシカルボニル基；シクロペンチルオキ
シカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の
シクロアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニ
ル、ｐ−メチルフェノキシカルボニル、ｍ−メチルフェ
ノキシカルボニル、ｏ−メチルフェノキシカルボニル、
２，４−ジメチルフェノキシカルボニル、２，６−ジメ
チルフェノキシカルボニル、２，４，６−トリメチルフ
ェノキシカルボニル、４−フェニルフェノキシカルボニ
ル基等のアリールオキシカルボニル基；プロペノキシカ
ルボニル、２−ブテノキシカルボニル基等のアルケニル
オキシカルボニル基；

【００１９】ベンジルオキシカルボニル、メチルベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル基等
のアラルキルオキシカルボニル基；メトキシカルボニル
メトキシカルボニル、エトキシカルボニルメトキシカル
ボニル、ｎ−プロポキシカルボニルメトキシカルボニ
ル、ｉｓｏ−プロポキシカルボニルメトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基；
メチルカルボニルメトキシカルボニル、エチルカルボニ
ルメトキシカルボニル基等のアルキルカルボニルアルコ
キシカルボニル基；ヒドロキシエチルカルボニル、ヒド
ロキシエトキシエチルカルボニル、ヒドロキシエトキシ
エトキシエチルカルボニル、エトキシエトキシエチルカ
ルボニル基等のポリエーテルアルキルカルボニル基；ヒ
ドロキシエトキシカルボニル、ヒドロキシエトキシエト
キシカルボニル、ヒドロキシプロポキシプロポキシカル
ボニル、ヒドロキシエトキシエトキシエトキシカルボニ
ル基等のポリエーテルカルボニル基；

【００２０】アミノカルボニル基；メチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル、ｎ−プロピルアミノカ
ルボニル、ｎ−ブチルアミノカルボニル、ｎ−ペンチル
アミノカルボニル、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル、ｎ
−ヘプチルアミノカルボニル、ｎ−オクチルアミノカル
ボニル基等のモノアルキルアミノカルボニル基；ジメチ
ルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、ジプ
ロピルアミノカルボニル、ジブチルアミノカルボニル、
ジペンチルアミノカルボニル、ジヘキシルアミノカルボ
ニル、ジヘプチルアミノカルボニル、ジオクチルアミノ
カルボニル基等のジアルキルアミノカルボニル基；ヒド
ロキシエチルアミノカルボニル、２−ヒドロキシプロピ
ルアミノカルボニル、３−ヒドロキシプロピルアミノカ
ルボニル基等のモノ（ヒドロキシアルキル）アミノカル
ボニル基；ジ（ヒドロキシエチル）アミノカルボニル、
ジ（２−ヒドロキシプロピル）アミノカルボニル、ジ
（３−ヒドロキシプロピル）アミノカルボニル基等のジ
（ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル基；ヒドロキ
シエトキシエチルアミノカルボニル、ヒドロキシプロポ
キシエルアミノカルボニル、ヒドロキシプロポキシプロ
ピルアミノカルボニル基等のモノ（ヒドロキシアルコキ
シアルキル）アミノカルボニル基；

【００２１】ジ（ヒドロキシエトキシエチル）アミノカ
ルボニル、ジ（ヒドロキシプロポキシエチル）アミノカ
ルボニル、ジ（ヒドロキシプロポキシプロピル）アミノ
カルボニル基等のジ（ヒドロキシアルコキシアルキル）
アミノカルボニル基；メトキシメチルアミノカルボニ
ル、メトキシエチルアミノカルボニル、エトキシメチル
アミノカルボニル、エトキシエチルアミノカルボニル、
プロポキシエチルアミノカルボニル等のモノ（アルコキ
シアルキル）アミノカルボニル基；ジ（メトキシメチ
ル）アミノカルボニル、ジ（メトキシエチル）アミノカ
ルボニル、ジ（エトキシメチル）アミノカルボニル、ジ
（エトキシエチル）アミノカルボニル、ジ（プロポキシ
エチル）アミノカルボニル基等のジ（アルコキシアルキ
ル）アミノカルボニル基；シクロペンチルアミノカルボ
ニル、シクロヘキシルアミノカルボニル基等のシクロア
ルキルアミノカルボニル基等が挙げられる。

【００２２】本発明の一般式（１）で表される化合物
は、例えば、下記に示した２つの反応経路で製造するこ
とができる。一般式（１）において、左右対称なクマリ
ル基を有するビスクマリン化合物、つまり、Ｒ₁ ＝
Ｒ₃ 、Ｒ₂ ＝Ｒ₄ 、Ｒ₅ ＝Ｒ₆ 、Ｒ₇ ＝Ｒ₈ である一般
式（２）（化６）で表される化合物を製造する方法は次
の通りである。即ち、一般式（３）（化６）で表される
４−置換アミノサリチルアルデヒド類とアセトンジカル
ボン酸ジエチルを、例えば、メタノール、エタノール、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略す）
ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダ
ゾリジノン（以下、ＤＭＩと略す）の様な極性溶媒中
で、モル比２：１で混合したものに、１０分の１程度の
触媒量の弱塩基（例えば、ピペリジン、ピロリジン、ピ
リジン、アニリンの様なアミン類が好ましい）を加え、
その混合物を０〜１００℃、好ましくは、６０〜８０℃
で１〜１２時間反応させ、一般式（４）（化６）で表さ
れる化合物を製造する。この一般式（４）で表される化
合物に、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
あるいは酢酸等の溶媒中、例えばＫｎｏｅｖｅｎａｇｅ
ｌ反応等の常法を利用して、反応促進剤あるいは触媒
（例えば、四塩化チタン、アンモニア、ピリジン、ピペ
リジン、トリエチルアミン、酢酸、無水酢酸、酢酸ナト
リウム、酢酸アンモニウム等が好ましい）及び、活性メ
チレンを有した一般式（５）（化６）で表される試剤を
加え、その混合物を−１０〜１５０℃、好ましくは、−
５〜１３０℃で１〜１２時間反応させ変換することによ
って一般式（２）でＲ₇ が水素原子である一般式（６）
（化６）の化合物が得られる。

【００２３】

【化６】

【００２４】また、一般式（１）において、左右非対称
なクマリル基を有するビスクマリン化合物（１）を製造
する方法は次の通りである。即ち、一般式（７）（化
７）で表される４−置換アミノサリチルアルデヒド類と
アセトンジカルボン酸ジエチルを、例えば、メタノー
ル、エタノール、ＤＭＦ、ジメチルスルホキシド、ＤＭ
Ｉの様な極性溶媒中で、モル比１：１で混合したもの
に、１０分の１程度の触媒量の弱塩基（例えば、ピペリ
ジン、ピロリジン、ピリジン、アニリンの様なアミン類
が好ましい）を加え、その混合物を０〜１００℃、好ま
しくは、６０〜８０℃で１〜５時間反応させ、一般式
（８）（化７）で表される化合物を製造する。次いで、
この一般式（８）で表される化合物と、一般式（３）で
表される化合物とを、例えば、メタノール、エタノー
ル、ＤＭＦ、ジメチルスルホキシド、ＤＭＩの様な極性
溶媒中で、モル比１：１で混合したものに、１０分の１
程度の触媒量の弱塩基（例えば、ピペリジン、ピロリジ
ン、ピリジン、アニリンの様なアミン類が好ましい）を
加え、その混合物を０〜１００℃、好ましくは、６０〜
８０℃で１〜１２時間反応させ、一般式（９）（化７）
で表される化合物を製造する。この一般式（９）で表さ
れる化合物に、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、あるいは酢酸等の溶媒中、例えばＫｎｏｅｖｅｎ
ａｇｅｌ反応等の常法を利用して、反応促進剤あるいは
触媒（例えば、四塩化チタン、アンモニア、ピリジン、
ピペリジン、トリエチルアミン、酢酸、無水酢酸、酢酸
ナトリウム、酢酸アンモニウム等が好ましい）及び、活
性メチレンを有した一般式（５）で表される試剤を加
え、その混合物を−１０〜１５０℃、好ましくは、−５
〜１３０℃で１〜１２時間反応させ変換することによっ
て一般式（１）でＲ₇ 、Ｒ₈ が水素原子である一般式
（１０）（化７）の化合物が得られる。

【００２５】

【化７】

【００２６】一般式（１）において、Ｒ₇ 及びＲ₈ で表
される置換基を導入するためには、例えば、シアノ化を
行い、その後、異なった置換基に誘導していく方法等が
ある。例えば、シアノ化は、前記の方法で得られた化合
物（６）を、「Dyes and Pigments １巻、３〜１５ペー
ジ（１９８０年）」記載のクマリン化合物のシアノ化法
を参考に、ＤＭＦ中でＮａＣＮと反応させた後、臭素に
よって酸化する方法で行う。この方法により、モノシア
ノ体（１１）（化８）もしくはジシアノ体（１２）（化
８）が得られる。

【００２７】

【化８】

【００２８】シアノ体（１１）及び（１２）のシアノ基
は、５０〜９８％硫酸中で、７０〜１００℃に加熱し
て、加水分解すると、カルボキシ基に変換できる。さら
に、このカルボキシ基を含む化合物を、アルコール類、
アミン類、ハロゲン化アルキル類、各種トシレート類、
またはフェノール類等と、塩素化剤で一旦酸クロライド
体にした後に反応させるか、もしくは、酸触媒、脱水剤
存在下、または無触媒で加熱する方法により、Ｒ₇ 、Ｒ
₈ にエステル類あるいはアミド類等が導入できる。ま
た、一般式（１０）についても、上記と同様な方法でシ
アノ化することができる。さらに、一般式（１）におい
て、Ｒ₇ 及びＲ₈ で表される置換基に、上記以外の置換
基を導入するためには、一般式（６）及び（１０）にお
いて、例えば、臭素化等のハロゲン化を行い、その後、
アルキル基、水酸基、アルコキシ基、ハロゲノアルキル
基等の置換基に変換する方法を用いる。なお、一般式
（１）の製造法については、上記の如く、カルボニル基
を置換基Ｒ₉ 及びＲ₁₀に変換した後、置換基Ｒ₇ 及びＲ
₈ を導入する方法、あるいは、初めに、クマリン骨格に
置換基Ｒ₇ 及びＲ₈ を導入した後、最後に、カルボニル
基を置換基Ｒ₉ 及びＲ₁₀に変換する方法の何れを用いて
もよい。

【００２９】Ｒ₇ 及びＲ₈ で表される置換基は、前記置
換基の内、好ましくは、水素原子、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアル
コキシカルボニル基、または前記（１ａ）、（１ｂ）、
（１ｃ）、（１ｄ）の置換基である。Ｒ₉ 及びＲ₁₀で表
される置換基は、前記置換基の内、好ましくは、シアノ
基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
ケニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基、
アルキルカルボニルアルコキシカルボニル基、または前
記（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）の置換基で
ある。Ｒ₅ 及びＲ₆ で表される置換基は、前記置換基の
内、好ましくは、水素原子である。Ｒ₁ 〜Ｒ₄ で表され
る置換基は、前記置換基の内、好ましくは、アルキル
基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基であ
り、また、Ｒ₁ とＲ₂ Ｒ₃ とＲ₄ が互いに結合し環を形
成した前記の環である。

【００３０】本発明の化合物は、４００〜７００ｎｍの
可視光領域の光、特に、４００〜６００ｎｍの光を吸収
することにより励起され、光硬化性樹脂や、光重合開始
剤と相互作用を有する化合物である。ここで言う「相互
作用」には、励起された本発明の化合物から光硬化性樹
脂または光重合開始剤へのエネルギー移動や電子移動が
包含される。このことから、本発明の化合物は、光増感
剤として、極めて有用な化合物である。

【００３１】本発明の化合物は単独で光増感剤として使
用されるが、他の公知の光増感剤と混合して用いること
もできる。公知の光増感剤としては一般に使用されてい
る光増感剤であれば特に限定されないが、例えば、ケト
クマリン、クマリン−６、特開平４−１８０８８号公報
に記載されたクマリン化合物等が挙げられる。他の光増
感剤を混合して用いる際、本発明の化合物は、使用する
レーザーの波長における可視光感光性樹脂組成物の吸光
度が、０．１〜２．０、好ましくは、０．３〜１．５の
範囲になるように配合され、その使用量は、全光増感剤
に対して、３０〜９５重量％であり、好ましくは、７０
〜９０重量％である。

【００３２】本発明の可視光感光性樹脂組成物は、本発
明の化合物を光増感剤として用い、光硬化性樹脂、光重
合開始剤等を混合して得られるものである。本発明の可
視光感光性樹脂組成物において、本発明の化合物の使用
量は、その種類や相互作用すべき光硬化性樹脂および／
または重合開始剤の種類によって異なり、厳密に規定す
ることは困難であるが、一般的に言えば光硬化性樹脂成
分１００重量部当たり０．１〜１０重量部、好ましくは
０．３〜５重量部の範囲内が適当である。本化合物の使
用量が０．１重量部より少なすぎると、形成される被膜
の感光性が低下するので好ましくなく、１０重量部より
多くなると、溶解性の点で、組成物中に均一な状態に保
つことが困難なる傾向がみられる。

【００３３】本発明で用いる光硬化性樹脂としては、一
般に使用されている光照射により架橋もしくは重合しう
る感光性基を有する光硬化性樹脂であれば特に限定され
るものではなく、例えば、特開平３−２２３７５９号公
報の第２頁右下欄第６行〜第６頁左下欄第１６行目に記
載の感光性基として（メタ）アクリロイル基を含むアニ
オン性光硬化性樹脂、感光性基としてシンナモイル基を
含む光硬化性樹脂、感光性基としてアリル基を含む光感
光性樹脂等が挙げられる。

【００３４】本発明で用いる光重合開始剤としては、一
般に使用されている光重合開始剤であれば特に限定され
ないが、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジル、
キサントン、チオキサントン、アントラキノン等の芳香
族カルボニル化合物；アセトフェノン、プロピオフェノ
ン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α，α’−ジ
クロル−４−フェノキシアセトフェノン、１−ヒドロキ
シ−１−シクロヘキシルアセトフェノン等のアセトフェ
ノン類；ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチル
ヘキサノエート、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、
ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレート、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物；ジフェニルヨ
ードニウムブロマイド、ジフェニルヨードニウムクロラ
イド等のジフェニルハロニウム塩；四塩化炭素、四臭化
炭素、クロロホルム、ヨードホルム等の有機ハロゲン化
物；３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２，４，６
−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジ
ンベンズアントロン等の複素環式及び多環式化合物；
２，２’−アゾ（２，４−ジメチルバレロニトリル）、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−ア
ゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，
２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）等のアゾ
化合物；鉄−アレン錯体（Iron-Arene Complex：ヨーロ
ッパ特許１５２３７７号公報参照）；チタノセン化合物
（特開昭６３−２２１１１０号公報参照）；ビスイミダ
ゾール系化合物；Ｎ−アリールグリシン系化合物；アク
リジン系化合物；芳香族ケトン／芳香族アミンの組み合
わせ等が挙げられる。

【００３５】上記の光重合開始剤の中でも、ジ−ｔ−ブ
チルジパーオキシイソフタレート、３，３’，４，４’
−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、鉄−アレン錯体及びチタノセン化合物は、架橋
もしくは重合に対して活性が高いため好ましい化合物で
ある。これらの光重合開始剤の使用量は、臨界的なもの
ではなく、その種類等に応じて幅広い範囲で変えること
ができるが、一般には、前述した光硬化性樹脂固形分１
００重量部当たり、０．１〜２５重量部、好ましくは、
０．２〜１０重量部の範囲内とすることができる。２５
重量部を越えて多量に用いると、得られる組成物の安定
性が低下し好ましくない。

【００３６】次に、本発明の可視光感光性樹脂組成物の
用途について説明する。本発明の可視光感光性樹脂組成
物は、一般に用いられている公知の感光性材料と同様に
取り扱うことができる。即ち、本発明の化合物を含有す
る可視光感光性組成物を溶剤に溶解（着色剤に顔料を用
いた場合は、顔料を微分散）させて、感光液（例えば、
可視光感光材料用インキ等）を調製し、これを支持体上
に、例えば、ローラー、コールコーター、スピンコータ
ー等のごとき塗布装置を用いて塗布し、乾燥する方法に
より、これを可視光感光材料をして用いることができ
る。可視光感光材料用インキとして用いる際は、本発明
の化合物を含有する可視光感光性組成物をインキ固形分
濃度３〜４０重量％、好ましくは、５〜３０重量％の範
囲になるように溶剤で希釈する。

【００３７】使用する溶剤としては、例えば、ケトン類
（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、安息
香酸メチル、プロピオン酸メチル等）、エーテル類（テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン
等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等）、
芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン等）、ハロゲン化炭化水素（クロロホルム、
トリクロロエチレン、ジクロロメタン等）、アルコール
（エチルアルコール、ベンジルアルコール等）、その他
（ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホンオキシム
等）などが挙げられる。また、支持体としては、例え
ば、アルミニウム、マグネシウム、銅、亜鉛、クロム、
ニッケル、鉄等の金属またはそれらを成分とした合金の
シート又はこれらの金属で表面を処理したプリント基
板、プラスチック、ガラス又はシリコーンウェハー、カ
ーボンなどが挙げられる。

【００３８】また、本発明の可視光感光性樹脂組成物
は、通常の電着塗装用感光性材料と同様に取り扱うこと
ができ、電着塗装用の塗料として用いることもできる。
その場合、最初に光硬化性樹脂を水分散化物とするか、
又は水溶化物とする。光硬化性樹脂の水分散化又は水溶
化は、光硬化性樹脂中のカルボキシル基等のアニオン性
基が導入されている場合には、アルカリ（中和剤）で中
和するか、又は、アミノ基等のカチオン性基が導入され
ている場合には、酸（中和剤）で中和することによって
行われる。その際に使用されるアルカリ中和剤として
は、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミンなどのアルカノールアミン
類；トリエチルアミン、ジエチルアミン、モノエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン、トリメチルアミン、ジイ
ソブチルアミン等のアルキルアミン類；ジメチルアミノ
エタノール等のアルキルアルカノールアミン類；シクロ
ヘキシルアミン等の脂環族アミン類；カセイソーダ、カ
セイカリ等のアルカリ金属水酸化物；アンモニアなどが
挙げられる。また、酸中和剤としては、例えば、ギ酸、
酢酸、乳酸、酪酸等のモノカルボン酸が挙げられる。こ
れらの中和剤は単独でまたは混合して使用できる。中和
剤の使用量は光硬化樹脂中に含まれるイオン性基１当量
当たり、一般に、０．２〜１．０当量、特に０．３〜
０．８当量の範囲が望ましい。

【００３９】水溶化または水分散化した樹脂成分の流動
性をさらに向上させるために、必要により、上記光硬化
性樹脂に親水性溶剤、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、n-ブタノール、t-ブタノール、
メトキシエタノール、エトキシエタノール、ブトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等を加えることができ
る。かかる親水性溶剤の使用量は、一般には、樹脂固形
成分１００重量部当り、３００重量部まで、好ましくは
１００重量部までとすることができる。また、被塗装物
への塗着量を多くするため、上記光硬化性樹脂に対し、
疎水性溶剤、例えば、トルエン、キシレン等の石油系溶
剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の
ケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；2-
エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール等のア
ルコール類なども加えることができる。これらの疎水性
溶剤の配合量は、樹脂固形成分１００重量部当り、通
常、２００重量部まで、好ましくは１００重量部以下と
することができる。

【００４０】電着塗料用の可視光感光性組成物の調製
は、従来から公知の方法で行うことができる。例えば、
前記の中和により水溶化された光硬化性樹脂、本発明の
光増感剤、光重合開始剤、さらに必要に応じ、含窒素化
合物、溶剤及びその他の成分をよく混合し、水を加える
ことにより調製することができる。このようにして調整
される組成物は、通常の方法で、さらに水で希釈し、例
えば、ｐＨが４〜９の範囲内、浴濃度（固形分濃度）３
〜２５重量％、好ましくは５〜１５重量％の範囲内の電
着塗料（または電着浴）とすることができる。

【００４１】上記のようにして調製された電着塗料は、
次のようにして被塗物である導体表面に塗装することが
できる。即ち、まず、浴のｐＨ及び浴濃度を上記の範囲
に調製し、浴温度を１５〜４０℃、好適には、１５〜３
０℃に管理する。次いで、このように管理された電着塗
装浴に、塗装されるべき導体を電着塗料がアニオン型の
場合には陽極として、また、カチオン型の場合には陰極
として、浸漬、５〜２００Ｖの直流電流を通電する。通
電時間は、３０秒〜５分が適当であり、得られる膜厚は
乾燥膜厚で、一般に、０．５〜５０μｍ、好適には、１
〜１５μｍである。電着塗装後、電着浴から被塗物を引
き上げ水洗した後、電着塗膜中に含まれる水分などを熱
風等で乾燥、除去する。導体としては、金属、カーボ
ン、酸化錫等の導電性材料またはこれらを積層、メッキ
等によりプラスチック、ガラス表面に固着させたものが
使用できる。

【００４２】上記のごとくして導体表面に形成される可
視光感光材料、及び電着塗装によって得られる可視光感
光性電着塗膜は、画像に応じて、可視光で露光し、硬化
させ、非露光部を現像処理によって除去することによ
り、画像を形成することができる。露光のための光源と
しては、超高圧、高圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライ
ド灯、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等の各光源によ
り得られる光源のうち、紫外線を紫外カットフィルター
によりカットした可視領域の光線や、可視領域に発振線
をもつ各種レーザー等が使用できる。高出力で安定なレ
ーザー光源として、アルゴンレーザー、あるいはＹＡＧ
レーザーの第２高調波が好ましい。

【００４３】現像処理は、非露光部膜がアニオン性の場
合にはアルカリ水溶液を用いて、またカチオン性の場合
にはｐＨ５以下の酸水溶液を用いて洗い流すことにより
行われる。アルカリ水溶液は、通常、カセイソーダ、炭
酸ソーダ、カセイカリ、アンモニア水など塗膜中に有す
る遊離のカルボン酸と中和して水溶性を与えることので
きるものが、また、酸水溶液は酢酸、ギ酸、乳酸などが
使用可能である。また、イオン性基をもたない光硬化性
樹脂の場合の現像処理は、１，１，１−トリクロロエタ
ン、トリクレン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等
の溶剤を使って、未露光部を溶解することによって行
う。

【００４４】現像した後の塗膜は、水洗後、熱風等によ
り乾燥が行われ、導体上に目的とする画像が形成され
る。また、必要に応じて、エッチングを施し、露出した
導体部を除去した後、レジスト膜を除去し、プリント回
路板の製造を行うこともできる。本発明の可視光感光性
樹脂組成物は、フォトレジストをはじめ、平板や凸版用
製版材、オフセット印刷用ＰＳ板、情報記録材料、レリ
ーフ像作製材料等幅広い用途への応用が可能である。

【００４５】

【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明するが、これらは例示的なものであり、本発明
は、これらに限定されるものではない。実施例中の部は
重量部、％は重量％を示す。 実施例１ ４−ジエチルアミノサリチルアルデヒド５．７部とアセ
トンジカルボン酸エチル２．５部に、ピペリジン０．２
部を加え、エタノール溶媒中で、８０℃で４時間反応さ
せ、濾別後、結晶をよくエタノールで洗浄、乾燥して、
ビス〔３−（７−ジエチルアミノクマリル）〕ケトン
５．５部を得た。この化合物９．２部を、２００部のク
ロロホルム中に溶解させ、そこへ四塩化チタン１１．４
部を室温で滴下し、そのまま１時間反応させたのち、マ
ロンニトリル１３．２部、ピリジン４１部及びクロロホ
ルム１２５部からなる溶液を室温で滴下した。７０℃ま
で加熱した後、１時間攪拌し、反応を終了した。冷却し
た後、水５００部を加え、無機物を分離し、クロロホル
ム層を抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。カラム
クロマトグラフィーにより、このクロロホルム層を展開
させて、精製を行い、下記（Ａ）（化９）で表される化
合物７．９部を得た。

【００４６】

【化９】 電子スペクトル；吸収極大波長［λ_max ］＝５１１ｎｍ（クロロホルム中） モル吸光係数［ε］＝６０７００（クロロホルム中） 元素分析値（Ｃ₃₀Ｈ₂₈Ｎ₄ Ｏ₄ ） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 計算値 ７０．８５ ５．５４ １１．０２ 実測値 ７０．９６ ５．６１ １１．２２

【００４７】また、上記ビスクマリン誘導体（Ａ）５部
とポリビニルピロリドンをバインダーポリマーとして１
００部、ペンタエリスリトールトリアクリレート１００
部、光重合開始剤の３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−
ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン４部、メ
チルセルソルブ１０００部を用いて感光液を調整し、積
層銅板上にスピナーを用いて塗布した。次いで、キセノ
ンランプまたはアルゴンレーザーまたはＹＡＧレーザー
によって、上記の感光層に光照射したところ、すみやか
に樹脂が硬化することが確認された。

【００４８】実施例２ 実施例１で得られたビス〔３−（７−ジエチルアミノク
マリル）〕ケトン１２部を１２０部のＤＭＦ中に加え、
そこへ３０％ＮａＣＮ水溶液４．３部を室温で滴下し、
４０℃で１時間反応させた後、臭素４．６部を１０℃以
下で滴下し、２時間攪拌した。この反応溶液を水２００
ｇへ排出して、結晶化させ、濾過し、水洗を十分に行
い、乾燥して、下記化合物（Ｂ）（化１０）８．２部を
得た。

【００４９】

【化１０】 上記化合物（Ｂ）４．９部、シアノ酢酸イソプロピル
２．５部、及び酢酸アンモニウム１．５部を酢酸５０部
及びトルエン１０部中に加え、１１０℃まで加熱し、５
時間反応させた。室温まで冷却して、水１００部へ排出
して結晶化させ、濾過し、水洗を十分に行い、乾燥した
後、カラムクロマトグラフィーにより分離精製を行い、
下記の化合物（Ｃ）（化１１）を４．３部得た。

【００５０】

【化１１】 電子スペクトル；吸収極大波長［λ_max ］＝４９５ｎｍ（クロロホルム中） モル吸光係数［ε］＝５３０００（クロロホルム中） 元素分析値（Ｃ₃₄Ｈ₃₄Ｎ₄ Ｏ₆ ） Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） 計算値 ６８．６８ ５．７６ ９．４２ 実測値 ６８．５１ ５．５５ ９．６３

【００５１】また、上記ビスクマリン誘導体（Ｃ）を用
い、実施例１に示したのと同様の組成の感光液を調整し
て、感光層を形成し、キセノンランプまたはアルゴンレ
ーザーまたはＹＡＧレーザーによって、上記の感光層に
光照射したところ、すみやかに樹脂が硬化することが確
認された。

【００５２】実施例３〜４７ 実施例１と同様にして、第１表（表１〜表９）に示す光
増感剤を合成した。それらの吸収極大（λ_max クロロホ
ルム中）、元素分析値を示す。また、これらの光増感剤
を実施例１に示し方法と同様な方法により感光液を調整
して、感光層を形成し、キセノンランプまたはアルゴン
レーザーまたはＹＡＧレーザーによって、上記の感光層
に光照射したところ、全ての光増感剤において、すみや
かに樹脂が硬化することが確認された。

【００５３】

【表１】

【００５４】

【表２】

【００５５】

【表３】

【００５６】

【表４】

【００５７】

【表５】

【００５８】

【表６】

【００５９】

【表７】

【００６０】

【表８】

【００６１】

【表９】

【００６２】

【発明の効果】本発明のビスクマリン系化合物は、光増
感剤として極めて有用性の高い化合物である。従来、光
重合反応を用いた情報記録の分野で、コンピューターに
よって電子編集された原稿を、そのまま直接レーザーを
用いて出力し記録する方式では、感光層の経時安定性が
低く、また、感度が低く、溶解性、保存安定性等に問題
があった。しかし、本発明のビスクマリン系化合物は、
基本樹脂との相溶性がよく、かつ、汎用の塗布溶剤に溶
解し、支持体上で均一で平滑な塗面を得ることができ
る。

【００６３】また、本発明のビスクマリン系化合物は、
４８８ｎｍおよび５１４．５ｎｍに安定な発振線をもつ
アルゴンレーザーや第２高調波として５３２ｎｍに輝線
を持つＹＡＧレーザー等の汎用可視レーザーに対して、
非常に高い感度を有するため、本発明の光増感剤を用い
て得られた感光材料は、このようなレーザーにより高速
走査露光が可能である。また、高速走査露光により画像
を形成した場合、極めて微細な高解像度の画像が得られ
る。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/031 Ｇ０３Ｆ 7/031

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）（化１）で表されるビスク
   マリン系化合物。 【化１】 ［式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ は、それぞれ同一また
   は独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル
   基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル
   基、アリール基、アルコキシカルボニルアルキル基を示
   し、互いに結合するか、骨格内のアミノ基の置換したベ
   ンゼン核と結合して環を形成してもよく、Ｒ₅ 、Ｒ
   ₆ は、それぞれ同一または独立に、水素原子、、ハロゲ
   ン原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキ
   シアルキル基、ハロゲノアルキル基、水酸基、アルコキ
   シ基、アリールオキシ基、アルコキシアルコキシ基、ア
   ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン酸基を示し、
   Ｒ₇ 、Ｒ₈ は、それぞれ同一または独立に、水素原子、
   ハロゲン原子、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シ
   アノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、シク
   ロアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
   基、アルケニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシ
   カルボニル基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボ
   ニル基、アルキルカルボニルアルコキシカルボニル基、
   あるいは下記（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）
   （化２）で表される置換基を示す。 【化２】 （ここで、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₅は水素原子、アルキル基、ヒドロ
   キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ア
   ルコキシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｍ、
   ｎ、ｐ、ｑはそれぞれ１〜５の整数を示す）を示し、Ｒ
   ₉ 、Ｒ₁₀はそれぞれ同一または独立に、シアノ基、ニト
   ロ基、カルボキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキ
   シカルボニル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリ
   ールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
   基、アラルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
   ニルアルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアル
   コキシカルボニル基、あるいは前記（１ａ）、（１
   ｂ）、（１ｃ）、（１ｄ）で表される置換基を示す。〕
2. 【請求項２】 請求項１記載のビスクマリン系化合物を
   含有してなる光増感剤。
3. 【請求項３】 請求項２記載の光増感剤を含有してなる
   可視光感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 請求項３記載の可視光感光性樹脂組成物
   と溶剤とを含有してなる可視光感光材料用インキ。
5. 【請求項５】 請求項３記載の可視光感光性樹脂組成物
   を基材上に有してなる可視光感光材料。