JPH09221486A - クマリン系化合物、およびこれを用いた可視光感光性樹脂組成物 - Google Patents

クマリン系化合物、およびこれを用いた可視光感光性樹脂組成物

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JPH09221486A
JPH09221486A JP2765296A JP2765296A JPH09221486A JP H09221486 A JPH09221486 A JP H09221486A JP 2765296 A JP2765296 A JP 2765296A JP 2765296 A JP2765296 A JP 2765296A JP H09221486 A JPH09221486 A JP H09221486A
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JP2765296A
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Yoriaki Matsuzaki
▲頼▼明 松▲崎▼
Rihoko Imai
理穂子 今井
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents

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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【解決手段】 一般式（１）で表される新規なクマリン
系化合物、及びこれを光増感剤として含む可視光感光性
樹脂組成物。 ［式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ９，Ｒ１０は、水
素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基等を；
Ｒ５，Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
水酸基、アルコキシ基等を；Ｒ７，Ｒ８は、水素原子、
ハロゲン原子、アルコキシ基、カルボキシ基、アルコキ
シカルボニル基等を；Ｘは、酸素原子または硫黄原子
を；それぞれ示す］ 【効果】 式（１）のクマリン系化合物は、特にアルゴ
ンレーザー及びＹＡＧレーザーの第二高調波に、十分な
感度を有し、これを光増感剤として含む可視光感光性樹
脂組成物は、可視光レーザー用の優れた感光層を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な化合物であ
るクマリン系化合物、およびこれを光増感剤として含有
する可視光領域の光線に対し高い感度を示す可視光感光
性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光重合反応を用いた情報、あるい
は画像記録の分野で、従来のフィルム原稿等を用いた紫
外線による記録方法に代わり、コンピューターによって
電子編集された原稿を、そのまま、高出力レーザーを用
いて直接出力し、記録する方法が検討されている。この
方法は、レーザーによる直接書き込みにより、記録、画
像形成工程が、大幅に簡略化できるという利点をもつ。
現在、一般的に使用されている高出力で安定なレーザー
光源は、可視領域にその出力波長を有するものが多い。
具体的には、波長４８８ｎｍおよび５１４．５ｎｍに安
定な発振線を持つアルゴンレーザー、あるいは第２高調
波として５３２ｎｍに輝線を持つＹＡＧレーザー等が汎
用されている。そのため、それらの波長に対して高感度
な化合物が望まれているが、従来使用されてきた紫外線
用の感光剤では、可視領域での感度が低いため使用でき
なかった。また、ピリリウム塩、またはチオピリリウム
塩類等の添加で、可視部での感度の向上は可能ではある
が、その感光層の保存安定性が低く、使用するのが困難
であった。
【０００３】可視領域に感光性を有する化合物として、
７−ジエチルアミノ−３−ベンゾチアゾイルクマリン
（慣用名；クマリン−６）、あるいはビス〔３−（７−
ジエチルアミノクマリル）〕ケトン（慣用名；ケトクマ
リン）が知られているが、これらは、最大吸収波長が４
５０ｎｍ前後にあるため、アルゴンレーザーの４８８ｎ
ｍよりは短波長であることから、感度が不十分である。
また、特開平４−１８０８８号公報に記載の４−置換−
３−ベンゾチアゾリルクマリン化合物は、アルゴンレー
ザーの４８８ｎｍには感光しうるものの、５１４．５ｎ
ｍあるいはＹＡＧレーザーの第二高調波である５３２ｎ
ｍでは、吸収能が低く、感度向上の余地を残していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高出力で安
定なレーザー光源であるアルゴンレーザーの４８８ｎ
ｍ、５１４．５ｎｍの発振線、あるいは、ＹＡＧレーザ
ーの第２高調波である５３２ｎｍ等の可視光領域の長波
長のレーザー光に対して高感度な光増感剤、及び感光性
樹脂組成物を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、ある種のクマリン系化
合物が効果が高いことを見出し、本発明を完成するに至
った。即ち、本発明は、下記一般式（１）（化３）で表
されるクマリン系化合物、該化合物を含有する光増感剤
及び可視光感光性樹脂組成物、さらに該組成物を基板上
に有してなる可視光感光材料に関するものである。
【０００６】
【化３】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は、それぞれ同一また
は独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル
基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシカルボニルアルキル基を示
し、Ｒ1 とＲ2 、Ｒ3 とＲ4 は互いに結合するか、骨格
内のアミノ基の置換したベンゼン核と結合して環を形成
してもよく、Ｒ5 、Ｒ6 は、それぞれ同一または独立
に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲノアルキル
基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコ
キシアルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホン酸基を示し、Ｒ7 、Ｒ 8 は、それぞれ同一また
は独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、シ
クロアルコキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキ
シカルボニル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアル
コキシカルボニル基、あるいは下記（１ａ）、（１
ｂ）、（１ｃ）（化４）で表される置換基を示し、
【０００７】
【化４】 （ここで、Ｒ11〜Ｒ14は水素原子、アルキル基、ヒドロ
キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｍ、
ｎ、ｐ、ｑはそれぞれ１〜５の整数を示す）Ｒ9 、Ｒ10
はそれぞれ同一または独立に、水素原子、アルキル基、
シクロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル
基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル基、アリール基
を示し、Ｘは、酸素原子または硫黄原子を示す。〕
【０００８】本発明の前記一般式（１）で表される化合
物は、光増感剤として有用な新規のクマリン系化合物で
ある。すなわち、本発明の化合物はビス（３−クマリ
ル）ケトン系化合物のカルボニル基とバルビツル酸誘導
体とを反応させることで得られ、極大吸収波長の長波長
化や樹脂中への高溶解性、さらには高感度化を実現した
ものであり、光硬化性樹脂（例えば、エチレン型不飽和
結合を分子中に少なくとも 1個以上有する光重合または
光架橋可能な化合物）、および光重合開始剤を用いる光
硬化に適用可能なきわめて有用な化合物である。更に従
来の増感剤は塗布方式の違いによって感度が大きく変動
していたが、本発明の増感剤は、いずれの方式において
も安定した感度を示し、要望を十分満足させるものであ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の前記一般式（１）で表される化合物にお
いて、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ 4 は水素原子、アルキル
基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシ
アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシカ
ルボニルアルキル基を示し、互いに同一であっても異な
っていてもよい。具体的には、水素原子；メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシ
ル等のアルキル基；メトキシメチル、メトキシエチル、
エトキシメチル、エトキシエチル、γ−メトキシプロピ
ル、γ−エトキシプロピル等のアルコキシアルキル基；
アリル、２−ブテニル、２−ペンテニル等のアルケニル
基；ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキ
シブチル等のヒドロキシアルキル基；ベンジル、フェネ
チル等のアラルキル基；フェニル、ｐ−メチルフェニ
ル、ｍ−メチルフェニル、ｏ−メチルフェニル、２，４
−ジメチルフェニル等のアリール基；メトキシカルボニ
ルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボ
ニルメチル、エトキシカルボニルエチル等のアルコキシ
カルボニルアルキル基が挙げられる。また、Ｒ1 と
Ｒ2 、Ｒ3 とＲ4 が互いに結合し、または骨格内のアミ
ノ基が置換しているベンゼン核と結合して、次の環（化
５）を形成してもよい。
【００１０】
【化５】 また一般式（１）において、Ｒ5 、Ｒ6 は、それぞれ同
一または独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハ
ロゲノアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホン酸基を示し、具体的には、水素
原子；塩素原子、フッ素原子、臭素原子等のハロゲン原
子；メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピ
ル、ｎ−ブチル等のアルキル基；メトキシメチル、メト
キシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル等のアル
コキシアルキル基；ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル
等のヒドロキシアルキル基；クロロメチル、２−クロロ
エチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル等のハロ
ゲノアルキル基；水酸基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プ
ロポキシ、ｎ−ブトキシ等のアルコキシ基；フェノキ
シ、ｏ−メチルフェノキシ、ｍ−メチルフェノキシ、ｐ
−メチルフェノキシ等のアリールオキシ基；メトキシメ
トキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキ
シエトキシ、ｎ−プロポキシエトキシ等のアルコキシア
ルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
ブチルチオ等のアルキルチオ基；フェニルチオ、ｏ−メ
チルフェニルチオ、ｍ−メチルフェニルチオ、ｐ−メチ
ルフェニルチオ等のアリールチオ基；スルホン酸基が挙
げられる。
【００１１】同様に一般式（１）において、Ｒ7 、Ｒ8
は、それぞれ同一または独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シアノ基、カ
ルボキシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケ
ニルオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、アルコキシカルボニルアルコキシカルボニル基、ア
ルキルカルボニルアルコキシカルボニル基、あるいは前
記（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）で表される置換基を示
す。具体的には水素原子；塩素原子、フッ素原子、臭素
原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキ
シ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキ
シ、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、ｎ−ヘ
プチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ等のアルコキシ基；
シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等のシク
ロアルコキシ基；シアノ基；カルボキシ基；メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボ
ニル、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカ
ルボニル、ｉｓｏ−ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペンチ
ルオキシカルボニル、ｎ−ヘキシルオキシカルボニルカ
ルボニル、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル、ｎ−オクチ
ルオキシカルボニル等のアルコキシカルボニル基；
【００１２】シクロペンチルオキシカルボニル、シクロ
ヘキシルオキシカルボニル等のシクロアルコキシカルボ
ニル基；フェノキシカルボニル、ｐ−メチルフェノキシ
カルボニル、ｍ−メチルフェノキシカルボニル、ｏ−メ
チルフェノキシカルボニル、２，４−ジメチルフェノキ
シカルボニル、２，６−ジメチルフェノキシカルボニ
ル、２，４，６−トリメチルフェノキシカルボニル、４
−フェニルフェノキシカルボニル等のアリールオキシカ
ルボニル基；プロペノキシカルボニル、２−ブテノキシ
カルボニル等のアルケニルオキシカルボニル基；ベンジ
ルオキシカルボニル、メチルベンジルオキシカルボニ
ル、フェネチルオキシカルボニル等のアラルキルオキシ
カルボニル基；メトキシカルボニルメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニルメトキシカルボニル、ｎ−プロ
ポキシカルボニルメトキシカルボニル、ｉｓｏ−プロポ
キシカルボニルメトキシカルボニル等のアルコキシカル
ボニルアルコキシカルボニル基；メチルカルボニルメト
キシカルボニル、エチルカルボニルメトキシカルボニル
等のアルキルカルボニルアルコキシカルボニル基；
【００１３】ヒドロキシメトキシカルボニル、ヒドロキ
シエトキシカルボニル、２−ヒドロキシプロポキシカル
ボニル、３−ヒドロキシプロポキシカルボニル等のヒド
ロキシアルコキシカルボニル基；ヒドロキシエトキシエ
トキシカルボニル、ヒドロキシプロポキシプロポキシカ
ルボニル、ヒドロキシエトキシエトキシエトキシカルボ
ニル等のヒドロキシポリエーテルカルボニル基；メトキ
シメトキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、
エトキシメトキシカルボニル、エトキシエトキシカルボ
ニル、γ−エトキシプロポキシカルボニル、メトキシエ
トキシエトキシカルボニル、エトキシエトキシエトキシ
カルボニル等のポリエーテルカルボニル基；
【００１４】ヒドロキシメチルカルボニル基、ヒドロキ
シエチルカルボニル基、ヒドロキシプロピルカルボニル
等のヒドロキシアルキルカルボニル基；ヒドロキシメト
キシメチルカルボニル、ヒドロキシエトキシエチルカル
ボニル、ヒドロキシエトキシプロピルカルボニル等のヒ
ドロキシアルコキシアルキルカルボニル基；ヒドロキシ
メトキシエトキシエチルカルボニル、ヒドロキシエトキ
シエトキシエチルカルボニル、ヒドロキシエトキシプロ
ポキシプロピルカルボニル、ヒドロキシエトキシエトキ
シエトキシエチルカルボニル等のヒドロキシポリエーテ
ルアルキルカルボニル基；メトキシエチルカルボニル、
エトキシメチルカルボニル、プロポキシメチルカルボニ
ル等のアルコキシアルキルカルボニル基；メトキシエト
キシメチルカルボニル、プロポキシエトキシエトキシエ
チルカルボニル等のポリエーテルアルキルカルボニル
基；
【００１５】アミノカルボニル基；メチルアミノカルボ
ニル、エチルアミノカルボニル、ｎ−プロピルアミノカ
ルボニル、ｎ−ブチルアミノカルボニル、ｎ−ペンチル
アミノカルボニル、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル、ｎ
−ヘプチルアミノカルボニル、ｎ−オクチルアミノカル
ボニル等のモノアルキルアミノカルボニル基；ジメチル
アミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、ジプロ
ピルアミノカルボニル、ジブチルアミノカルボニル、ジ
ペンチルアミノカルボニル、ジヘキシルアミノカルボニ
ル、ジヘプチルアミノカルボニル、ジオクチルアミノカ
ルボニル等のジアルキルアミノカルボニル基；ヒドロキ
シエチルアミノカルボニル、２−ヒドロキシプロピルア
ミノカルボニル、３−ヒドロキシプロピルアミノカルボ
ニル等のモノ（ヒドロキシアルキル）アミノカルボニル
基；ジ（ヒドロキシエチル）アミノカルボニル、ジ（２
−ヒドロキシプロピル）アミノカルボニル、ジ（３−ヒ
ドロキシプロピル）アミノカルボニル等のジ（ヒドロキ
シアルキル）アミノカルボニル基；
【００１６】ヒドロキシエトキシエチルアミノカルボニ
ル、ヒドロキシプロポキシエルアミノカルボニル、ヒド
ロキシプロポキシプロピルアミノカルボニル等のモノ
（ヒドロキシアルコキシアルキル）アミノカルボニル
基；ジ（ヒドロキシエトキシエチル）アミノカルボニ
ル、ジ（ヒドロキシプロポキシエチル）アミノカルボニ
ル、ジ（ヒドロキシプロポキシプロピル）アミノカルボ
ニル等のジ（ヒドロキシアルコキシアルキル）アミノカ
ルボニル基；メトキシメチルアミノカルボニル、メトキ
シエチルアミノ、エトキシメチルアミノカルボニル、エ
トキシエチルアミノカルボニル、プロポキシエチルアミ
ノカルボニル等のモノ（アルコキシアルキル）アミノカ
ルボニル基；ジ（メトキシメチル）アミノカルボニル、
ジ（メトキシエチル）アミノカルボニル、ジ（エトキシ
メチル）アミノカルボニル、ジ（エトキシエチル）アミ
ノカルボニル、ジ（プロポキシエチル）アミノカルボニ
ル等のジ（アルコキシアルキル）アミノカルボニル基；
シクロペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミ
ノカルボニル等のシクロアルキルアミノカルボニル基が
挙げられる。
【００１７】また一般式（１）において、Ｒ9 、Ｒ10は
それぞれ同一または独立に、水素原子、アルキル基、シ
クロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル
基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル基、アリール基
を示す。具体的には、水素原子；メチル、エチル、ｎ−
プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル等のア
ルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ
アルキル基；メトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シメチル、エトキシエチル、γ−メトキシプロピル、γ
−エトキシプロピル等のアルコキシアルキル基；アリ
ル、２−ブテニル、２−ペンテニル等のアルケニル基；
ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシ
プロピル、３−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブ
チル等のヒドロキシアルキル基；ベンジル、フェネチル
等のアラルキル基；フェニル、ｐ−メチルフェニル、ｍ
−メチルフェニル、ｏ−メチルフェニル、２，４−ジメ
チルフェニル等のアリール基が挙げられる。また、一般
式（１）において、Ｘは酸素原子または硫黄原子を示
す。
【００１８】本発明の一般式（１）で表される化合物
は、例えば、下記に示した２つの反応経路で製造するこ
とができる。一般式（１）において、左右対称なクマリ
ル基を有するクマリン化合物、つまり、Ｒ1 ＝Ｒ3 、Ｒ
2 ＝Ｒ4 、Ｒ5 ＝Ｒ6 、Ｒ7 ＝Ｒ8 である一般式（２）
（化６）で表される化合物を製造する方法は次の通りで
ある。即ち、一般式（３）（化６）で表される４−置換
アミノサリチルアルデヒド類とアセトンジカルボン酸ジ
エチルを、例えば、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略す）、ジメチ
ルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジ
ノン（以下、ＤＭＩと略す）の様な極性溶媒中で、モル
比２：１で混合したものに、１０分の１程度の触媒量の
弱塩基（例えば、ピペリジン、ピロリジン、ピリジン、
アニリンの様なアミン類が好ましい）を加え、その混合
物を０〜１００℃、好ましくは、６０〜８０℃で１〜１
２時間反応させ、一般式（４）（化６）で表される化合
物を製造する。この一般式（４）で表される化合物を、
クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサンあるいは酢
酸等の溶媒中、例えば、クネベナゲル反応（Ｋｎｏｅｖ
ｅｎａｇｅｌ反応）等の常法を利用して、反応促進剤あ
るいは触媒（例えば、四塩化チタン、アンモニア、ピリ
ジン、ピペリジン、トリエチルアミン、酢酸、無水酢
酸、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム等が好ましい）
及び、活性メチレンを有した一般式（５）（化６）で表
されるバルビツル酸誘導体を加え、その混合物を−１０
〜１５０℃、好ましくは、−５〜１３０℃で１〜１２時
間反応させ変換することによって一般式（２）でＲ7 が
水素原子である一般式（６）（化６）の化合物が得られ
る。
【００１９】
【化６】
【００２０】また、一般式（１）において、左右非対称
なクマリル基を有するクマリン化合物（１）を製造する
方法は次の通りである。即ち、一般式（７）（化７）で
表される４−置換アミノサリチルアルデヒド類とアセト
ンジカルボン酸ジエチルを、例えば、メタノール、エタ
ノール、ＤＭＦ、ジメチルスルホキシド、ＤＭＩの様な
極性溶媒中で、モル比１：１で混合したものに、１０分
の１程度の触媒量の弱塩基（例えば、ピペリジン、ピロ
リジン、ピリジン、アニリンの様なアミン類が好まし
い）を加え、その混合物を０〜１００℃、好ましくは、
６０〜８０℃で１〜５時間反応させ、一般式（８）（化
７）で表される化合物を製造する。次いで、この一般式
（８）で表される化合物と、一般式（３）で表される化
合物とを、例えば、メタノール、エタノール、ＤＭＦ、
ジメチルスルホキシド、ＤＭＩの様な極性溶媒中で、モ
ル比１：１で混合したものに、１０分の１程度の触媒量
の弱塩基（例えば、ピペリジン、ピロリジン、ピリジ
ン、アニリンの様なアミン類が好ましい）を加え、その
混合物を０〜１００℃、好ましくは、６０〜８０℃で１
〜１２時間反応させ、一般式（９）（化７）で表される
化合物を製造する。この一般式（９）で表される化合物
を、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ある
いは酢酸等の溶媒中、例えば、クネベナゲル反応（Ｋｎ
ｏｅｖｅｎａｇｅｌ反応）等の常法を利用して、反応促
進剤あるいは触媒（例えば、四塩化チタン、アンモニ
ア、ピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、酢酸、
無水酢酸、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウム等が好ま
しい）及び、活性メチレンを有した一般式（５）で表さ
れるバルビツル酸を加え、その混合物を−１０〜１５０
℃、好ましくは、−５〜１３０℃で１〜１２時間反応さ
せ変換することによって一般式（１）でＲ7 、Ｒ8 が水
素原子である一般式（１０）（化７）の化合物が得られ
る。
【００２１】
【化７】
【００２２】一般式（１）において、Ｒ7 及びＲ8 で表
される置換基を導入するためには、例えば、シアノ化を
行い、その後、異なった置換基に誘導していく方法等が
ある。例えば、シアノ化は、前記の方法で得られた化合
物（６）を、「Dyes and Pigments １巻、３〜１５ペー
ジ（１９８０年）」記載のクマリン化合物のシアノ化法
を参考に、ＤＭＦ中でＮａＣＮと反応させた後、臭素に
よって酸化する方法で行う。この方法により、モノシア
ノ体（１１）（化８）もしくはジシアノ体（１２）（化
８）が得られる。
【００２３】
【化８】
【００２４】シアノ体（１１）及び（１２）のシアノ基
は、５０〜９８％硫酸中で、７０〜１００℃に加熱し
て、加水分解すると、カルボキシ基に変換できる。さら
に、このカルボキシ基を含む化合物を、塩素化剤で一旦
酸クロライド体にした後、アルコール類、アミン類、ハ
ロゲン化アルキル類、各種トシレート類、またはフェノ
ール類等と反応させるか、もしくは、酸触媒、脱水剤存
在下、または無触媒で加熱する方法により、Ｒ7 、Ｒ8
にエステル類あるいはアミド類等が導入できる。また、
一般式（１０）についても、上記と同様な方法でシアノ
化することができる。さらに、一般式（１）において、
Ｒ7 及びＲ8 で表される置換基に、上記以外の置換基を
導入するためには、一般式（６）及び（１０）におい
て、例えば、臭素化等のハロゲン化を行い、その後、ア
ルキル基、水酸基、アルコキシ基、ハロゲノアルキル基
等の置換基に変換する方法を用いる。なお、一般式
（１）の製造法については、上記の如く、カルボニル基
をバルビツル酸誘導体と反応させ変換した後、置換基Ｒ
7 及びＲ8 を導入する方法、あるいは、初めに、クマリ
ン骨格に置換基Ｒ7 及びＲ8 を導入した後、最後に、カ
ルボニル基をバルビツル酸誘導体と反応させ変換する方
法の何れを用いてもよい。Ｒ1 〜Ｒ4 で表される置換基
は、前記置換基の内、好ましくは、アルキル基、アルコ
キシアルキル基、ヒドロキシアルキル基であり、また、
Ｒ1 とＲ2 、Ｒ3とＲ4 が互いに結合し環を形成した前
記の環である。Ｒ5 及びＲ6 で表される置換基は、好ま
しくは、水素原子である。Ｒ7 及びＲ8 で表される置換
基は、前記置換基の内、好ましくは、水素原子、シアノ
基、アルコキシカルボニル基、シクロアルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アル
コキシカルボニルアルコキシカルボニル基、アルキルカ
ルボニルアルコキシカルボニル基、または前記（１
ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）の置換基である。Ｒ9 及びＲ
10で表される置換基は、前記置換基の内、好ましくは、
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基である。本
発明の化合物は、４００〜７００ｎｍの可視光領域の
光、特に、４００〜６００ｎｍの光を吸収することによ
り励起され、光硬化性樹脂や、重合開始剤と相互作用を
有する化合物である。ここで言う「相互作用」には、励
起された本発明の化合物から光硬化性樹脂または重合開
始剤へのエネルギー移動や電子移動が包含される。この
ことから、本発明の化合物は、光増感剤として、極めて
有用な化合物である。
【００２５】本発明の光増感剤は、本発明の化合物を少
なくとも１種含有するものであり、本発明の化合物は単
独で使用しても複数併用してもよく、さらに他の公知の
光増感剤を混合して用いることもできる。公知の光増感
剤としては、一般に使用されている光増感剤であれば特
に限定されないが、例えば、ケトクマリン、クマリン−
６、特開平４−１８０８８号公報に記載されたクマリン
化合物等が挙げられる。他の光増感剤を混合して用いる
際、本発明の化合物は、使用するレーザーの波長におけ
る可視光感光性樹脂組成物の吸光度が、０．１〜２．
０、好ましくは、０．３〜１．５の範囲になるように配
合され、その使用量は、全光増感剤に対して、３０〜９
５重量％であり、好ましくは、７０〜９０重量％であ
る。
【００２６】本発明の可視光感光性樹脂組成物は、本発
明の化合物を含有する光増感剤、光硬化性樹脂、光重合
開始剤等を混合して得られる。本発明の可視光感光性樹
脂組成物において、本発明の化合物の使用量は、その種
類や相互作用すべき光硬化性樹脂および／または重合開
始剤の種類によって異なり、厳密に規定することは困難
であるが、一般的に言えば光硬化性樹脂固形成分１００
重量部当たり０．１〜１０重量部、好ましくは０．３〜
５重量部の範囲内が適当である。本化合物の使用量が
０．１重量部より少なすぎると、形成される被膜の感光
性が低下するので好ましくなく、１０重量部より多くな
ると、溶解性の点で、組成物中に均一な状態に保つこと
が困難になる傾向がみられる。
【００２７】本発明で用いる光硬化性樹脂としては、一
般に使用されている光照射により架橋もしくは重合しう
る感光性基を有する光硬化性樹脂であれば特に限定され
るものではなく、例えば、特開平３−２２３７５９号公
報の第２頁右下欄第６行〜第６頁左下欄第１６行目に記
載の感光性基として（メタ）アクリロイル基を含むアニ
オン性光硬化性樹脂、感光性基としてシンナモイル基を
含む光硬化性樹脂、感光性基としてアリル基を含む光感
光性樹脂等が挙げられる。
【００２８】本発明で用いる光重合開始剤としては、一
般に使用されている光重合開始剤であれば特に限定され
ないが、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジル、
キサントン、チオキサントン、アントラキノン等の芳香
族カルボニル化合物；アセトフェノン、プロピオフェノ
ン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α，α’−ジ
クロル−４−フェノキシアセトフェノン、１−ヒドロキ
シ−１−シクロヘキシルアセトフェノン等のアセトフェ
ノン類；ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオ
キシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチル
ヘキサノエート、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、
ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレート、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物；ジフェニルヨ
ードニウムブロマイド、ジフェニルヨードニウムクロラ
イド等のジフェニルハロニウム塩；四塩化炭素、四臭化
炭素、クロロホルム、ヨードホルム等の有機ハロゲン化
物；３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２，４，６
−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジ
ンベンズアントロン等の複素環式及び多環式化合物；
２，２’−アゾ（２，４−ジメチルバレロニトリル）、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−ア
ゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，
２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）等のアゾ
化合物；鉄−アレン錯体（Iron-Arene Complex：ヨーロ
ッパ特許１５２３７７号公報参照）；チタノセン化合物
（特開昭６３−２２１１１０号公報参照）；ビスイミダ
ゾール系化合物；Ｎ−アリールグリシン系化合物；アク
リジン系化合物；芳香族ケトン／芳香族アミンの組み合
わせ等が挙げられる。
【００２９】上記の光重合開始剤の中でも、ジ−ｔ−ブ
チルジパーオキシイソフタレート、３，３’，４，４’
−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、鉄−アレン錯体及びチタノセン化合物は、架橋
もしくは重合に対して活性が高いため好ましい化合物で
ある。これらの光重合開始剤の使用量は、臨界的なもの
ではなく、その種類等に応じて幅広い範囲で変えること
ができるが、一般には、前述した光硬化性樹脂固形成分
１００重量部当たり、０．１〜２５重量部、好ましく
は、０．２〜１０重量部の範囲内とすることができる。
２５重量部を越えて多量に用いると、得られる組成物の
安定性が低下し好ましくない。
【００３０】次に、本発明の可視光感光性樹脂組成物の
用途について説明する。本発明の可視光感光性樹脂組成
物は、一般に用いられている公知の感光性材料と同様に
取り扱うことができる。即ち、本発明の光増感剤を含有
する可視光感光性組成物を溶剤に溶解（着色剤に顔料を
用いた場合は、顔料を微分散）させることにより、可視
光感光材料用インキを調製することができる。また、該
インキを基材上に、例えばローラー、コールコーター、
スピンコーター等のごとき塗布装置を用いて塗布し、乾
燥する方法により、可視光感光材料を得ることができ
る。
【００３１】本発明の可視光感光性樹脂組成物を可視光
感光材料用インキとして用いる際は、該組成物をインキ
固形分濃度３〜４０重量％、好ましくは、５〜３０重量
％の範囲になるように溶剤で希釈する。使用する溶剤と
しては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等）、エステル類（酢酸
エチル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、プロピオン酸メ
チル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン等）、セロソルブ類（メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン等）、ハロゲン化炭化
水素（クロロホルム、トリクロロエチレン、ジクロロメ
タン等）、アルコール（エチルアルコール、ベンジルア
ルコール等）、その他（ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホンオキシム等）などが挙げられる。また、基材
としては、例えば、アルミニウム、マグネシウム、銅、
亜鉛、クロム、ニッケル、鉄等の金属またはそれらを成
分とした合金のシート又はこれらの金属で表面を処理し
たプリント基板、プラスチック、ガラス又はシリコーン
ウェハー、カーボンなどが挙げられる。
【００３２】また、本発明の可視光感光性樹脂組成物
は、通常の電着塗装用感光性材料と同様に取り扱うこと
ができ、電着塗装用の塗料として用いることもできる。
その場合、最初に光硬化性樹脂を水分散化物とするか、
又は水溶化物とする。光硬化性樹脂の水分散化又は水溶
化は、光硬化性樹脂中のカルボキシル基等のアニオン性
基が導入されている場合にはアルカリ（中和剤）で中和
するか、又は、アミノ基等のカチオン性基が導入されて
いる場合には酸（中和剤）で中和することによって行わ
れる。その際に使用されるアルカリ中和剤としては、例
えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミンなどのアルカノールアミン類；トリ
エチルアミン、ジエチルアミン、モノエチルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリメチルアミン、ジイソブチル
アミン等のアルキルアミン類；ジメチルアミノエタノー
ル等のアルキルアルカノールアミン類；シクロヘキシル
アミン等の脂環族アミン類；カセイソーダ、カセイカリ
等のアルカリ金属水酸化物；アンモニアなどが挙げられ
る。また、酸中和剤としては、例えば、ギ酸、酢酸、乳
酸、酪酸等のモノカルボン酸が挙げられる。これらの中
和剤は単独でまたは混合して使用できる。中和剤の使用
量は光硬化性樹脂中に含まれるイオン性基１当量当た
り、一般に、０．２〜１．０当量、特に０．３〜０．８
当量の範囲が望ましい。
【００３３】水溶化または水分散化した樹脂成分の流動
性をさらに向上させるために、必要により、上記光硬化
性樹脂に親水性溶剤、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、n-ブタノール、t-ブタノール、
メトキシエタノール、エトキシエタノール、ブトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等を加えることができ
る。かかる親水性溶剤の使用量は、一般には、光硬化性
樹脂固形成分１００重量部当り、３００重量部まで、好
ましくは１００重量部までとすることができる。また、
被塗装物への塗着量を多くするため、上記光硬化性樹脂
に対し、疎水性溶剤、例えばトルエン、キシレン等の石
油系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル
類；2-エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール
等のアルコール類なども加えることができる。これらの
疎水性溶剤の配合量は、光硬化性樹脂固形成分１００重
量部当り、通常、２００重量部まで、好ましくは１００
重量部以下とすることができる。
【００３４】電着塗装用の塗料の調製は、従来の公知の
方法で行うことができる。例えば、前記の中和により水
溶化された光硬化性樹脂、本発明の光増感剤、重合開始
剤、さらに必要に応じ、含窒素化合物、溶剤及びその他
の成分をよく混合し、水を加えることにより調製するこ
とができる。上記のように調製された塗料は、次のよう
にして被塗物である導体表面に塗装することができる。
即ち、まず、塗料を通常の方法でさらに水で希釈し、電
着浴のｐＨ及び浴濃度を、例えばｐＨが４〜９の範囲
内、浴濃度（固形分濃度）３〜２５重量％、好ましくは
５〜１５重量％の範囲に調製し、浴温度を１５〜４０
℃、好適には、１５〜３０℃に管理する。次いで、この
ように管理された電着浴に、塗装されるべき導体を電着
塗料がアニオン型の場合には陽極として、また、カチオ
ン型の場合には陰極として、浸漬、５〜２００Ｖの直流
電流を通電する。通電時間は、３０秒〜５分が適当であ
り、得られる膜厚は乾燥膜厚で、一般に、０．５〜５０
μｍ、好適には、１〜１５μｍである。電着塗装後、電
着浴から被塗物を引き上げ水洗した後、電着塗膜中に含
まれる水分などを熱風等で乾燥、除去する。導体として
は、金属、カーボン、酸化錫等の導電性材料またはこれ
らを積層、メッキ等によりプラスチック、ガラス表面に
固着させたものが使用できる。
【００３５】上記のようにして基材上に形成される可視
光感光材料、及び電着塗装によって導体上に得られる可
視光感光性電着塗膜は、画像に応じて、可視光で露光
し、硬化させ、非露光部を現像処理によって除去するこ
とにより、画像を形成することができる。
【００３６】露光のための光源としては、超高圧、高
圧、中圧、低圧の水銀灯、ケミカルランプ、カーボンア
ーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、蛍光灯、タン
グステン灯、太陽光等の各光源により得られる光源のう
ち、紫外線を紫外カットフィルターによりカットした可
視領域の光線や、可視領域に発振線をもつ各種レーザー
等が使用できる。高出力で安定なレーザー光源として、
アルゴンレーザー、あるいはＹＡＧレーザーの第２高調
波が好ましい。
【００３７】現像処理は、非露光部膜がアニオン性の場
合にはアルカリ水溶液を用いて、またカチオン性の場合
にはｐＨ５以下の酸水溶液を用いて洗い流すことにより
行われる。アルカリ水溶液は、通常、カセイソーダ、炭
酸ソーダ、カセイカリ、アンモニア水など塗膜中に有す
る遊離のカルボン酸と中和して水溶性を与えることので
きるものが、また、酸水溶液は酢酸、ギ酸、乳酸などが
使用可能である。また、イオン性基をもたない光硬化性
樹脂の場合の現像処理は、１，１，１−トリクロロエタ
ン、トリクレン、メチルエチルケトン、塩化メチレン等
の溶剤を使って、未露光部を溶解することによって行
う。現像した後の塗膜は、水洗後、熱風等により乾燥が
行われ、導体上に目的とする画像が形成される。また必
要に応じて、エッチングを施し、露出した導体部を除去
した後、レジスト膜を除去し、プリント回路板の製造を
行うこともできる。
【００３８】本発明の組成物は、フォトレジストをはじ
め、平板や凸版用製版材、オフセット印刷用ＰＳ板、情
報記録材料、レリーフ像作製材料等幅広い用途への応用
が可能である。
【００３９】
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明するが、これらは例示的なものであり、本発明
は、これらに限定されるものではない。実施例中、
「部」は重量部、「％」は重量％を示す。 実施例１ ４−ジエチルアミノサリチルアルデヒド５７部とアセト
ンジカルボン酸エチル２５部に、ピペリジン２部を加
え、エタノール溶媒中で、８０℃で４時間反応させ、濾
別後、結晶をエタノールで洗浄、乾燥して、ビス〔３−
（７−ジエチルアミノクマリル）〕ケトン５５部を得
た。この化合物９．２部を、２００部のクロロホルム中
に溶解させ、そこへ四塩化チタン１１．４部を室温で滴
下し、そのまま１時間反応させたのち、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルバルビツル酸３１．２部、ピリジン４１部及びクロロ
ホルム１２５部からなる溶液を室温で滴下した。７０℃
まで加熱した後、１時間攪拌し、反応を終了した。冷却
した後、水５００部を加え、無機物を分離し、クロロホ
ルム層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。カラ
ムクロマトグラフィーにより、このクロロホルム層を展
開させて、精製を行い、下記（Ａ）（化９）で表される
化合物８．８部を得た。
【００４０】
【化９】 電子スペクトル；吸収極大［λmax ］＝５２５ｎｍ（クロロホルム中） モル吸光係数［ε］＝４６５００ 元素分析値（Ｃ33Ｈ34Ｎ4 Ｏ7 ） ───────────────────────── Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） ───────────────────────── 計算値 ６６．２１ ５．７２ ９．３６ 実測値 ６６．３０ ５．６１ ９．２２ ───────────────────────── また、上記ビスクマリン誘導体（Ａ）５部とポリビニル
ピロリドンをバインダーポリマーとして１００部、ペン
タエリスリトールトリアクリレート１００部、重合開始
剤の３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン４部、メチルセルソルブ
１０００部を用いて感光液を調製し、積層銅板上にスピ
ナーを用いて塗布した。次いで、キセノンランプまたは
アルゴンレーザーまたはＹＡＧレーザーによって、上記
の感光層に光照射したところ、すみやかに樹脂が硬化す
ることが確認された。
【００４１】実施例２ 実施例１で得られたビス〔３−（７−ジエチルアミノク
マリル）〕ケトン１２部を１２０部のＤＭＦ中に加え、
そこへ３０％ＮａＣＮ水溶液４．３部を室温で滴下し、
４０℃で１時間反応させた後、臭素４．６部を１０℃以
下で滴下し、２時間攪拌した。この反応溶液を水２００
ｇへ排出して、結晶化させ、濾過し、水洗を十分に行
い、乾燥して、下記化合物（Ｂ）（化１０）８．２部を
得た。この化合物９．７部を、２００部のクロロホルム
中に溶解させ、そこへ四塩化チタン１１．４部を室温で
滴下し、そのまま１時間反応させたのち、Ｎ，Ｎ−ジブ
チルバルビツル酸４６部、ピリジン４１部及びクロロホ
ルム１２５部からなる溶液を室温で滴下した。７０℃ま
で加熱した後、１時間攪拌し、反応を終了した。冷却し
た後、水５００部を加え、無機物を分離し、クロロホル
ム層を抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。カラム
クロマトグラフィーにより、このクロロホルム層を展開
させて、精製を行い、下記（Ｃ）（化１１）で表される
化合物９．８部を得た。
【００４２】
【化１０】
【００４３】
【化１１】 電子スペクトル；吸収極大［λmax ］＝５５５ｎｍ （クロロホルム中） モル吸光係数［ε］＝５３０００ （クロロホルム中） また、上記カルボニルクマリン誘導体（Ｃ）を用い、実
施例１に示したものと同様の組成の感光液を調製して、
感光層を形成し、キセノンランプまたはアルゴンレーザ
ーまたはＹＡＧレーザーによって、上記の感光層に光照
射したところ、すみやかに樹脂が硬化することが確認さ
れた。
【００４４】実施例３ ９−ホルミル−８−ヒドロキシユーロリジン５７部、ア
セトンジカルボン酸エチル２５部に、ピペリジン２部を
加え、エタノール溶媒中で、８０℃で５時間反応させ、
濾別後、結晶をエタノールで洗浄し、乾燥して、ビス
（１０−ユーロリジルクマリル）ケトン５７部を得た。
この化合物１０．２部を、２００部のクロロホルム中に
溶解させ、そこへ四塩化チタン１１．４部を室温で滴下
し、そのまま１時間反応させたのち、Ｎ，Ｎ−ジブチル
バルビツル酸４８部、ピリジン４１部及びクロロホルム
１２５部からなる溶液を室温で滴下した。７０℃まで加
熱した後、１時間攪拌し、反応を終了した。冷却した
後、水５００部を加え、無機物を分離し、クロロホルム
層を抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させた。カラムク
ロマトグラフィーにより、このクロロホルム層を展開さ
せて、精製を行い、下記（Ｄ）（化１２）で表される化
合物９．８部を得た。
【００４５】
【化１２】 電子スペクトル；吸収極大［λmax ］＝５３５ｎｍ（クロロホルム中） モル吸光係数［ε］＝４５４００ 元素分析値（Ｃ43Ｈ46Ｎ4 Ｏ7 ） ───────────────────────── Ｃ（％） Ｈ（％） Ｎ（％） ───────────────────────── 計算値 ７０．６７ ６．３４ ７．６７ 実測値 ７０．６４ ６．４１ ７．５５ ───────────────────────── また、上記カルボニルクマリン誘導体（Ｄ）を用い、実
施例１に示したものと同様の組成の感光液を調整して、
感光層を形成し、キセノンランプまたはアルゴンレーザ
ーまたはＹＡＧレーザーによって、上記の感光層に光照
射したところ、すみやかに樹脂が硬化することが確認さ
れた。
【００４６】実施例４〜３１ 実施例１、２及び３と同様にして、第１表（表１〜表
６）に示す光増感剤を合成した。それらの吸収極大（λ
max クロロホルム中）、元素分析値を示す。また、これ
らの光増感剤を実施例１に示した方法と同様な方法によ
り感光液を調製して、感光層を形成し、キセノンランプ
またはアルゴンレーザーまたはＹＡＧレーザーによっ
て、上記の感光層に光照射したところ、全ての光増感剤
において、すみやかに樹脂が硬化することが確認され
た。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【表２】
【００４９】
【表３】
【００５０】
【表４】
【００５１】
【表５】
【００５２】
【表６】
【００５３】
【発明の効果】本発明のクマリン系化合物は、光増感剤
として極めて有用性の高い化合物である。従来、光重合
反応を用いた情報記録の分野で、コンピューターによっ
て電子編集された原稿を、そのまま直接レーザーを用い
て出力し記録する方式では、感光層の経時安定性が低
く、また、感度が低く、溶解性、保存安定性等に問題が
あった。しかし、本発明のクマリン系化合物は、基本樹
脂との相溶性がよく、かつ、汎用の塗布溶剤に溶解し、
支持体上で均一で平滑な塗面を得ることができる。ま
た、本発明のクマリン系化合物は、４８８ｎｍおよび５
１４．５ｎｍに安定な発振線をもつアルゴンレーザーや
第２高調波として５３２ｎｍに輝線を持つＹＡＧレーザ
ー等の汎用可視レーザーに対して、非常に高い感度を有
するため、本発明の光増感剤を用いて得られた感光材料
は、このようなレーザーにより高速走査露光が可能であ
る。また、高速走査露光により画像を形成した場合、極
めて微細な高解像度の画像が得られる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 11/10 Ｃ０９Ｄ 11/10 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｔ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５０１ 7303−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 7/26 ５０１ //(Ｃ０７Ｄ 405/14 239:60 311:16）

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（１）（化１）で表されるクマリ
    ン系化合物。 【化１】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 は、それぞれ同一また
    は独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル
    基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル
    基、アリール基、アルコキシカルボニルアルキル基を示
    し、Ｒ1 とＲ2 、Ｒ3 とＲ4 は互いに結合するか、骨格
    内のアミノ基の置換したベンゼン核と結合して環を形成
    してもよく、Ｒ5 、Ｒ6 は、それぞれ同一または独立
    に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
    アルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲノアルキル
    基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコ
    キシアルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
    スルホン酸基を示し、Ｒ7 、Ｒ 8 は、それぞれ同一また
    は独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、シ
    クロアルコキシ基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキ
    シカルボニル基、シクロアルコキシカルボニル基、アリ
    ールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル
    基、アラルキルオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
    ニルアルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルアル
    コキシカルボニル基、あるいは下記（１ａ）、（１
    ｂ）、（１ｃ）（化２）で表される置換基を示し、 【化２】 （ここで、Ｒ11〜Ｒ14は水素原子、アルキル基、ヒドロ
    キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、ア
    ルコキシアルキル基、シクロアルキル基を示し、ｍ、
    ｎ、ｐ、ｑはそれぞれ１〜５の整数を示す）Ｒ9 、Ｒ10
    はそれぞれ同一または独立に、水素原子、アルキル基、
    シクロアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル
    基、ヒドロキシアルキル基、アラルキル基、アリール基
    を示し、Ｘは、酸素原子または硫黄原子を示す。〕
  2. 【請求項２】 請求項１記載のクマリン系化合物を含有
    する光増感剤。
  3. 【請求項３】 請求項２記載の光増感剤を含有する可視
    光感光性樹脂組成物。
  4. 【請求項４】 請求項３記載の可視光感光性樹脂組成物
    と溶剤を含有してなる可視光感光性インキ。
  5. 【請求項５】 請求項３記載の可視光感光性樹脂組成物
    を基材上に有してなる可視光感光材料。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1041074A1 (en) * 1999-03-09 2000-10-04 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Light-sensitive 4-cyanocoumarin derivatives
JP2012095601A (ja) * 2010-11-02 2012-05-24 Japan Polyethylene Corp 農業用フィルム及びその製造方法
JP2015152867A (ja) * 2014-02-18 2015-08-24 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス及び新規化合物
CN114031622A (zh) * 2021-10-28 2022-02-11 同济大学 可阳离子引发聚合的香豆素并咔唑类光敏剂和制备方法及其应用

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