JPH08330213A

JPH08330213A - 現像装置

Info

Publication number: JPH08330213A
Application number: JP13452795A
Authority: JP
Inventors: Tsuguyuki Kamiyama; 嗣之上山
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1995-05-31
Filing date: 1995-05-31
Publication date: 1996-12-13

Abstract

(57)【要約】【構成】ディスク基板の製造に用いられるスタンパの
製造に供される現像装置であって、レジスト原盤１が載
置されるターンテーブル２と、各々吐出量調整が可能
な、回転中心近傍に固定された第１現像液吐出ノズル１
０と、レジスト原盤１の径方向に往復運動する第２現像
液吐出ノズル１１と、内周側と外周側の各ポイントＰ₁
・Ｐ₂にモニター用レーザ光Ｌを照射するレーザ４ａ・
４ｂと、その透過光の０次回折光Ｌ₀と１次回折光Ｌ₁
とを検出する検出器８ａ・９ａ・８ｂ・９ｂと、これら
の検出結果からレジスト原盤１の現像の進行度合を検出
し、それに応じて、第１及び第２の現像液吐出ノズル１
０・１１からの現像液の吐出量を調整する制御部とが設
けられている。【効果】安定した大きさ・形状の凹凸パターンを有す
るスタンパの作製が可能となり、ひいては、均一な光学
特性を有する光ディスクを作製できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクのトラッキ
ング用案内溝やセクタ番地を提供するプリピットのよう
なサブミクロンオーダの凹凸パターンを有するプラスチ
ック基板を、射出成形等により大量複製するときに用い
られるスタンパの製造工程に供される現像装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】光磁気ディスクや追記型光ディスクで
は、図２に示すようにトラッキング用の案内溝２１やセ
クタ番号等の記録再生位置情報を提供するピット２０
が、ディスク基板３５に予め形成されている。このよう
なディスク基板３５はスタンパを用いて射出成形等によ
り複製され大量生産される。

【０００３】スタンパの製造を図３を参照して簡単に説
明すると、まずは、図３（ａ）に示すように、ガラス基
板３１の表面にフォトレジスト３２を塗布してレジスト
原盤１を作製し、次に、同図（ｂ）に示すように、レジ
スト原盤１を回転させながら、内周から外周側へと露光
用レーザ１９を用いてカッティングを行う。続いて、同
図（ｃ）に示すように、これを現像して、ピット２０や
案内溝２１が形成された所望の形状のレジストパターン
３２ａを有するマスター原盤１ａを作製する。

【０００４】次いで、同図（ｄ）に示すように、レジス
トパターン３２ａ上にスパッタリングや蒸着等の方法で
ニッケル或いは銀等から成る導電膜３３を形成した後、
同図（ｅ）に示すように、導電膜３３を一方の電極とす
る電鋳処理によって金属、例えばニッケルの電鋳膜３４
を所望の厚さで形成する。その後、マスター原盤１ａか
ら導電膜３３及び電鋳膜３４を剥離して、電鋳膜３４の
裏面に研磨等の処理を施すことで、同図（ｆ）に示すよ
うなファザー１３を得る。ここで、導電膜３３がスパッ
タリング法で形成されたニッケル膜からなる場合は、導
電膜３３の膜質が密であり、電鋳で得られる電鋳膜３４
と同一の金属で一体化した表面層が得られるので、ファ
ザー１３がそのままスタンパとなる。一方、導電膜３３
が銀膜から成る場合は、硬度が低く成形中に表面が変形
するため、ファザー１３より導電膜３３を取り除いたも
のがスタンパとなる。

【０００５】ところで、大きなトラッキング信号とピッ
ト信号とが同時に得られるように、ピット２０と案内溝
２１の深さを２段階に、例えば案内溝２１の深さλ／
８、ピットの深さをλ／４といったように変えて形成す
る場合がある。この場合、深い方のピット２０について
は、レジスト３２の厚みによってその深さを規制できる
ので、レシズト３２の厚みをλ／４とすることで、充分
な露光量を与えて露光することができる。しかしなが
ら、浅い方の案内溝２１については、溝深さをレジスト
３２の厚みの約１／２にとどめる必要があるため、比較
的少ない露光量で露光する必要がある。その結果、レジ
スト感度の変動や、露光用レーザ１９の露光量の変動
（レーザ照射パワーの変動）、レジスト原盤１上の露光
ビームの焦点ずれ、現像におけるレジスト３２の表面温
度、現像液温度、現像液濃度の変動等によって、案内溝
２１の深さの再現性に問題が生じることとなる。しかし
ながら、これらの要因すべてを厳密に管理することは極
めて困難なことである。

【０００６】そこで、溝形成の最終工程である現像工程
で溝深さを制御する必要性が生じ、従来、図１１に示す
自動現像方式が導入された自動現像装置が提案されてい
る（「光ディスクの最適溝形状」,National Technical
Report Vol.35 No.2 Apr.1989 ) 。

【０００７】これにおいては、モータ５２にて駆動され
るターンテーブル５１の上に、レジスト３２（図３
（ａ）参照）の面を上にした状態でレジスト原盤１が載
置され、回転される。そして、レジスト原盤１の上方の
回転中心近傍に固定されるか、或いは回転中心近傍と外
周側とを径方向に往復運動するようになったノズル５６
から現像液が吐出され、レジスト原盤１におけるレジス
ト３２が現像される。一方、レジスト原盤１の裏面側に
は、レーザ５３からモニター用レーザ光Ｌが照射されて
おり、現像の進行と共に形成される案内溝２１（図３
（ｃ）参照）により回折されたモニター用レーザ光Ｌの
０次回折光Ｌ₀と一次回折光Ｌ₁とが、レジスト原盤１
の表面側に設けられた検出器５４・５５にて検出され
る。そして、予め求めた現像の進行度合である溝深さ
と、透過光の１次回折光対０次回折光の強度比I₁/I₀の
関係に基づき、一定の強度比となったとき、所望の案内
溝２１の深さを得たとして、現像が停止される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の現像装置でも、カッティング工程での露光用レ
ーザ１９のレーザ照射パワーの変動に充分に対応するこ
とはできず、やはり、露光量の変動に起因した案内溝２
１の深さの変動が生じており、深さの変動によって溝の
大きさ・形状が変動してしまい、安定した大きさ・形状
を有する案内溝２１を形成することが困難となってい
る。そして、このようにマスター原盤１ａを作製する段
階で案内溝２１の大きさ・形状が安定しないと、得られ
たスタンパを用いて作製された光ディスクに、光学特性
が場所によって異なるといった欠陥が発生することとな
る。

【０００９】つまり、従来の図１１に示した現像装置で
は、一か所の測定ポイントで現像の進行度合を見て、そ
の測定ポイントでの１次回折光対０次回折光の強度比I₁
/I₀が所定の値となった時、案内溝２１の深さが所定の
深さとなったとして、ノズル５６からの現像液の吐出を
停止し、現像を停止するようになっている。ところが、
露光用レーザ１９のレーザ照射パワーの変動は時間と共
に一様に起こることが多く、そのため、レーザ照射パワ
ーの変動に起因した案内溝２１の大きさ・形状の変動
も、内周側から外周側に向かって一様に起こることが多
い。したがって、従来のように一か所の測定ポイントで
現像の進行状態を判断し、現像を停止したのでは、この
ような内周側から外周側にかけての一様な変動に対応で
きず、図１２（ａ）或いは同図（ｂ）に示すように、大
きさ・形状の異なる案内溝２１となってしまう。

【００１０】さらに、上記従来の現像装置では、ノズル
５６は、レジスト原盤１の回転中心近傍に固定されてい
るか、或いは回転中心近傍と外周側とをレジスト原盤１
の径方向に往復運動するようになっているかのどちらか
であるが、何れにせよ、レジスト原盤１の内周側及び外
周側の現像速度は、それぞれ一定の値に決まってしま
い、それに対して現像速度を調整することは不可能であ
った。

【００１１】尚、ここでは、ピット２０についてはレジ
スト３２の厚みを調整することで、充分な露光量を与え
て露光することができるようにしているが、ピット２０
を案内溝２１と同様にレジスト３２の露光量により調整
する場合は、同様の問題が生じることはもちろんであ
る。

【００１２】本発明は、上記課題に鑑みて成されたもの
で、その目的は、露光量の変動に充分に対応して、安定
した大きさ・形状の凹凸パターンを有するスタンパの作
製を可能とする現像装置を提供し、ひいては、均一な光
学特性を有する光ディスクを作製することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
現像装置は、上記の課題を解決するために、微細な凹凸
パターンの複製に供されるスタンパの製造に用いられ、
ガラス基板の一方面にレジストが塗布されてなるレジス
ト原盤を、レジスト面を上にした状態で回転させなが
ら、現像液供給手段にてレジスト原盤のレジスト面に上
方から現像液を供給して現像を実施すると共に、現像進
行度合検出手段にて現像の進行度合を検出する現像装置
において、上記現像進行度合検出手段は、レジスト原盤
における回転中心近傍及び外周側の２か所の進行度合を
検出するように設けられ、上記現像液供給手段は、現像
液の供給量をレジスト原盤の径方向で調整し得るように
設けられていることを特徴としている。

【００１４】本発明の請求項２記載の現像装置は、上記
の課題を解決するために、請求項１の構成において、上
記現像進行度合検出手段による検出結果に基づいて、レ
ジスト原盤における回転中心近傍及び外周側の現像の進
行度合が等しくなるように、上記現像液供給手段におけ
る現像液の供給量の調整を行う現像制御手段が備えられ
ていることを特徴としている。

【００１５】本発明の請求項３記載の現像装置は、上記
の課題を解決するために、請求項１又は２の構成におい
て、上記現像液供給手段は、レジスト原盤の上方に配さ
れた、現像液の吐出量の調整が可能な二つの第１及び第
２の現像液吐出ノズル部を備えており、このうち第１現
像液吐出ノズル部はレジスト原盤の回転中心近傍に固定
され、第２現像液吐出ノズル部はレジスト原盤における
回転中心近傍と外周側とを径方向に往復運動するように
設けられていることを特徴としている。

【００１６】本発明の請求項４記載の現像装置は、上記
の課題を解決するために、請求項１又は２の構成におい
て、上記現像液供給手段は、レジスト原盤の上方に配さ
れ、レジスト原盤における回転中心近傍と外周側とを径
方向に往復運動する運動状態と、レジスト原盤の回転中
心近傍で停止する停止状態との切り換えが可能に設けら
れた第３現像液吐出ノズル部を備えていることを特徴と
している。

【００１７】

【作用】請求項１の構成によれば、現像進行度合検出手
段により、レジスト原盤における回転中心近傍及び外周
側の２か所の現像の進行度合が検出される。また、現像
液供給手段における現像液の供給量は、レジスト原盤の
径方向で調整し得るようになっている。したがって、操
作者は、現像進行度合検出手段による検出結果に基づい
て、レジスト原盤における回転中心近傍及び外周側の現
像の進行度合が等しくなるように現像液の供給量を調整
することが可能となる。例えば回転中心近傍の現像速度
が外周側に比べて速い場合は、回転中心近傍に供給され
る現像液の供給量を減らし、外周側に供給される現像液
の供給量を増やす。反対に回転中心近傍の現像速度が外
周側に比べて遅い場合は、回転中心近傍に供給される現
像液の供給量を増やし、外周側に供給される現像液の供
給量を減らす。

【００１８】これにより、従来のような一か所のみでの
現像の進行度合の検出では対応できなかった、露光時の
レーザ照射パワーの変動に伴うレジスト原盤の内周側か
ら外周側にかけての露光量の一様の変化に対応でき、こ
の現像装置を使用することで、安定した大きさ・形状の
凹凸パターンを有するスタンパの作製が可能となり、ひ
いては、均一な光学特性を有する光ディスクを作製する
ことができる。

【００１９】請求項２の構成によれば、現像制御手段
が、現像進行度合検出手段による検出結果に基づいて、
レジスト原盤における回転中心近傍及び外周側の現像の
進行度合が等しくなるように、上記現像液供給手段にお
ける現像液の供給量の調整を行うので、供給量の調整が
自動化されて操作者の手を煩わさず、操作性の向上が図
れる。

【００２０】請求項３の構成によれば、上記の現像液供
給手段が、各々現像液の吐出量の調整が可能な、レジス
ト原盤の回転中心近傍で固定された第１現像液吐出ノズ
ル部と、レジスト原盤の回転中心近傍と外周側とを径方
向に往復運動するように設けられた第２現像液吐出ノズ
ル部とを備えており、これら第１及び第２の現像液吐出
ノズル部からの現像液の吐出量を調整することで、現像
液の供給量をレジスト原盤の径方向で調整するようにな
っている。これにより、請求項１の構成においては、現
像液供給手段として、複数の現像液の吐出量の調整が可
能な現像液吐出ノズル部をレジスト原盤の径方向に沿っ
て配設する構成も含まれて構造の複雑化を招来すること
もあるが、これにより、非常に簡単な構造で、現像液の
供給量をレジスト原盤の径方向で調整可能な現像液供給
手段を構成できる。

【００２１】請求項４の構成によれば、上記の現像液供
給手段が、レジスト原盤の回転中心近傍と外周側とを径
方向に往復運動する運動状態と、レジスト原盤における
回転中心近傍で停止する停止状態との切り換えが可能に
設けられた第３現像液吐出ノズル部を備えており、第３
現像液吐出ノズル部の停止状態、運動状態の時間的配分
を換えることで、現像液の供給量をレジスト原盤の径方
向で調整するようになっている。これにより、請求項３
の構成よりもさらに簡単な構成で、現像液の供給量をレ
ジスト原盤の径方向で調整可能な現像液供給手段を構成
できる。

【００２２】

【実施例】

〔実施例１〕本発明の一実施例を図１ないし図７に基づ
いて説明すれば、以下の通りである。光ディスクである
光磁気ディスクや追記型光ディスクでは、図２に示すよ
うに、トラッキング用の案内溝２１やセクタ番号等の記
録再生位置情報を提供するピット２０が、ディスク基板
３５に予め形成されている。このようなディスク基板３
５は、スタンパを用いて射出成形等により複製され、大
量生産される。

【００２３】まず始めに、本実施例に係る現像装置が供
される上記スタンパの製造工程と、スタンパを用いた光
ディスクの製造工程を簡単に説明する。スタンパの製造
にあたり、まず、図３（ａ）に示すように、ガラス基板
３１の表面にフォトレジスト３２を塗布し、レジスト原
盤１を作製する。次に、同図（ｂ）に示すように、露光
用レーザ１９によるカッティングを行う。カッティング
は、レジスト原盤１を回転させながら、内周から外周側
へと行われる。露光用ーザ１９には、Ａｒレーザ又はＨ
ｅ−Ｃｄレーザが用いられ、波長４７８ｎｍ又は４４２
ｎｍのレーザ光を、レジスト３２の面に照射するように
なっている。

【００２４】次に、同図（ｃ）に示すように、これを現
像して、ピット２０や案内溝２１が形成された所望の形
状のレジストパターン３２ａを有するマスター原盤１ａ
を作製する。この現像工程に、後述する本実施例の現像
装置が用いられる。

【００２５】続いて、同図（ｄ）に示すように、レジス
トパターン３２ａ上にスパッタリングや蒸着等の方法で
ニッケル或いは銀等から成る導電膜３３を形成した後、
同図（ｅ）に示すように、導電膜３３を一方の電極とす
る電鋳処理によって金属、例えばニッケルの電鋳膜３４
を所望の厚さで形成する。

【００２６】その後、マスター原盤１ａから導電膜３３
及び電鋳膜３４を剥離して、電鋳膜３４の裏面に研磨等
の処理を施すことで、同図（ｆ）に示すようなファザー
１３を得る。ここで、導電膜３３がスパッタリング法で
形成されたニッケル膜からなる場合は、導電膜３３の膜
質が密であり、電鋳で得られる電鋳膜３４と同一の金属
で一体化した表面層が得られるので、ファザー１３をそ
のままスタンパと用いることができる。一方、導電膜３
３が銀膜から成る場合は、硬度が低く成形中に表面が変
形するため、ファザー１３より導電膜３３を取り除く処
理を施す必要がある。

【００２７】尚、ここでは、ガラス基板３１から直接得
られるファザー１３をスタンパとする場合を例示した
が、ファザーからマザーを形成した後、マザーからスタ
ンパを形成する場合等もある。

【００２８】こうして得られたスタンパは、安定した大
きさ・形状の凹凸パターンを有するものとなり、図４
（ａ）に示すように、ズタンパ１４を用いて射出成形等
によってプラスチックからなるディスク基板３５を作製
し、同図（ｂ）に示すように、ディスク基板３５におけ
るピット２０や案内溝２１が形成された面に記録膜（或
いは反射膜）３６を成膜した後、同図（ｃ）に示すよう
に、保護膜３７で両面をコーティングすることで、均一
な光学特性を有する光ディスクを作製することができ
る。

【００２９】次に、上記のスタンパ製造工程における現
像の工程で用いられる本実施例に係る現像装置について
詳細に説明する。図１に示すように、現像装置は、モー
タ３にて駆動されるターンテーブル２を備えており、そ
のターンテーブル２の上に上記レジスト原盤１が上述し
たレジスト３２の面を上にして載置されるようになって
いる。ターンテーブル２にレジスト原盤１が載置された
状態で、レジスト原盤１の上方には、現像液を吐出する
第１現像液吐出ノズル（第１現像液吐出ノズル部）１０
と、第２現像液吐出ノズル（第２現像液吐出ノズル部）
１１とが配設されている。各現像液吐出ノズル１０・１
１は、現像液の吐出量を調整可能に設けられている。こ
のうち、第１現像液吐出ノズル１０は、ターンテーブル
２にて回転されるレジスト原盤１の回転中心近傍に固定
され、第２現像液吐出ノズル１１は、レジスト原盤１の
回転中心近傍と外周側とを径方向に往復移動するよう構
成されている。尚、これら第１及び第２の現像液吐出ノ
ズル１０・１１により、本発明の現像液供給手段が構成
されている。

【００３０】また、ターンテーブル２に載置されたレジ
スト原盤１の下方には、モニター用レーザ光Ｌを発生す
る第１レーザ４ａ及び第２レーザ４ｂが配設されてい
る。これら第１及び第２のレーザ４ａ・４ｂには、レジ
スト原盤１に塗布されたレジスト３２が感光しないＨｅ
−Ｎｅレーザが用いられ、波長６３３ｎｍの光がモニタ
ー用レーザ光Ｌとして用いられる。第１及び第２のレー
ザ４ａ・４ｂからそれぞれ出射されたモニター用レーザ
光Ｌは、ミラー６・６に反射されてレジスト原盤１を透
過する。ここで、第１レーザ４ａからのモニター用レー
ザ光Ｌは、レジスト原盤１の回転中心に近い内周側ポイ
ントＰ₁で透過するようになっている。一方、第２レー
ザ４ｂからのモニター用レーザ光Ｌは、レジスト原盤１
の外周側に近い外周側ポイントＰ₂で透過するようにな
っている。

【００３１】また、ターンテーブル２に載置されたレジ
スト原盤１の上方には、レジスト原盤１を透過した各モ
ニター用レーザ光Ｌを受光して光強度を検出する４つの
検出器８ａ・８ｂ・９ａ・９ｂが配設されている。この
うち、検出器８ａ・８ｂは、第１及び第２のレーザ４ａ
・４ｂから出射された各モニター用レーザ光Ｌの０次回
折光Ｌ₀を受光するもので、検出器９ａ・９ｂは、第１
及び第２のレーザ４ａ・４ｂから出射された各モニター
用レーザ光Ｌの一次回折光Ｌ₁を受光するものである。

【００３２】さらに、上記現像装置には、図５に示すよ
うに制御部１２が具備されており、制御部１２は、上記
の検出器８ａ・９ａにてそれぞれ検出された０次回折光
Ｌ_０及び一次回折光Ｌ_１の強度比I₁/I₀から、内周側
ポイントＰ₁における現像の進行状況を検出し、上記の
検出器８ｂ・９ｂにてそれぞれ検出された０次回折光Ｌ
₀及び一次回折光Ｌ₁の強度比I₁/I₀から、外周側ポイ
ントＰ₂における現像の進行状況を検出するようになっ
ている。つまり、前述の図３（ｃ）に示すように、レジ
スト原盤１における現像が進行し、案内溝２１が形成さ
れはじめると、案内溝２１の溝構造が回折格子として作
用するようになり、レジスト原盤１の裏面から入射した
各モニター用レーザ光Ｌが回折されて回折光となる。そ
して、１次回折光対０次回折光の強度比I₁/I₀と溝深さ
との間には、図６に示すような関係が成り立ち、その結
果、強度比I₁/I₀から案内溝２１の深さを検出すること
が可能となる。本発明における現像進行度合検出手段
は、上記第１及び第２のレーザ４ａ・４ｂ、４つの検出
器８ａ・８ｂ・９ａ・９ｂ、及び制御部１２により構成
されている。

【００３３】そして、制御部１２は、本発明の現像制御
手段でもあり、検出された各ポイントＰ₁・Ｐ₂におけ
る案内溝２１の深さから、現像の進行度合を把握し、進
行状況に応じて第１及び第２の現像液吐出ノズル１０・
１１からの現像液の吐出量を、レジスト原盤１における
回転中心近傍及び外周側の現像の進行度合が等しくなる
ように制御する。つまり、内周側ポイントＰ₁の現像が
外周側ポイントＰ₂の現像に比べて進行している場合
は、第１現像液吐出ノズル１０の現像液の吐出量を減ら
す、或いは吐出を停止する一方、第２現像液吐出ノズル
１１からの現像液の吐出量を増加、或いは吐出を開始さ
せる。反対に、外周側ポイントＰ₂の現像が内周側ポイ
ントＰ₁の現像に比べて進行している場合は、第２現像
液吐出ノズル１１の現像液の吐出量を減らす、或いは吐
出を停止する一方、第１現像液吐出ノズル１０からの現
像液の吐出量を増加、或いは吐出を開始させる。

【００３４】ここで、案内溝２１の大きさ・形状と現像
方法との間の関係を調べるべく、案内溝２１の大きさ・
形状を示すものとして、案内溝２１の溝深さを例にとっ
て実験した結果を示す。

【００３５】実験では、ガラス基板３１上にレジスト３
２として東京応化工業（株）製のＯＦＰＲ１２−８００
レジストを、膜厚２００ｎｍで塗布し、露光用レーザ１
９としてＡｒレーザを用いて波長４５８ｎｍのビームで
カッティングを行った。カッティング時、ターンテーブ
ル２の回転数を９００ｒｐｍとし、レーザ光照射パワー
は、内周（半径３０ｍｍ）で1.２ｍＷ、外周（半径６０
ｍｍ）で2.４ｍＷとした。そして、現像液には東京応化
工業（株）製のＮＭＤ−３を用いて、現像液吐出ノズル
をレジスト原盤１の回転中心近傍で固定した状態と、現
像液吐出ノズルを回転中心近傍と外周側とを径方向に往
復移動させて、各々内周の案内溝２１の深さが１００ｎ
ｍとなったとき現像を停止し、外周の案内溝２１の深さ
を測定した。測定結果を表１に示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】このことから、レジスト原盤１の回転中心
近くから現像液を吐出させれば、レジスト原盤１におけ
る内周側の現像が速く進行され、レジスト原盤１の内周
側と外周側を径方向に移動させながら現像液を吐出させ
ると、レジスト原盤１における外周側の現像が速く進行
されることが判明した。したがって、本実施例では、制
御部１２が、上述のように、検出された各ポイントＰ₁
・Ｐ₂における案内溝２１の深さに応じて、第１及び第
２の現像液吐出ノズル１０・１１からの現像液の吐出量
を制御するようになっている。尚、上記制御部１２は、
この他、各レーザ４ａ・４ｂや、ターンテーブル２用の
モータ３の駆動等も制御するようにもなっている。

【００３８】次に、上記構成の現像装置の動作を説明す
る。操作者により、ターンテーブル２の上に、レジスト
原盤１がレジスト３２の面を上にし、かつ、ターンテー
ブル２の回転中心とレジスト原盤１の中心とが合うよう
に載置され、現像開始が図示しない指示手段を介して、
制御部１２に現像操作開始が指示されると、モータ３の
駆動を開始し、これにて、ターンテーブル２が回転され
レジスト原盤１が回転する。

【００３９】続いて、第１現像液吐出ノズル１０から現
像液が吐出され、レジスト３２の現像が開始される。現
像中、第１及び第２のレーザ４ａ・４ｂからモニター用
レーザ光Ｌが出射され、各モニター用レーザ光Ｌはミラ
ー６・６にて内周側及び外周側の各ポイントＰ₁・Ｐ₂
に導かれる。内周側ポイントＰ₁でレジスト原盤１を透
過した光の０次回折光Ｌ₀の強度は検出器８ａで検出さ
れ、一次回折光Ｌ₁の強度は検出器９ａで検出される。
一方、外周側ポイントＰ₂でレジスト原盤１を透過した
光の０次回折光Ｌ₀の強度は検出器８ｂで検出され、一
次回折光Ｌ₁の強度は検出器９ｂで検出される。こうし
て得られた各ポイントＰ₁・Ｐ₂における０次回折光と
１次回折光の強度から、制御部１２は、０次回折光対１
次回折光の強度比I₁/I₀を求め、各ポイントＰ₁・Ｐ₂
における現像の進行状況を検出する。

【００４０】ここで、もし、外周側ポイントＰ₂に比
べ、内周側ポイントＰ₁の方が強度比I₁/I₀が大きい場
合は、内周側における現像速度が速いと判断し、外周側
の現像速度を速めるべく、第１現像液吐出ノズル１０か
らの現像液の流出を停止し、第２現像液吐出ノズル１１
からの現像液の吐出に切り換える。

【００４１】その後、内周側ポイントＰ₂に比べ、外周
側ポイントＰ₁の方が強度比I₁/I₀が大きくなると、外
周側における現像速度が速いと判断し、内周側の現像速
度を速めるべく、第２現像液吐出ノズル１１からの現像
液の吐出を停止し、再び第１現像液吐出ノズル１０から
の現像液の吐出に切り換える。このような制御が、０次
回折光対１次回折光の強度比I₁/I₀から、必要な溝深さ
まで現像されたことが確認されるまで、繰り返される。

【００４２】このような現像装置を用いて、露光用レー
ザ１９としてＡｒレーザを用いて波長４５８ｎｍのビー
ムで、レーザ光照射パワーを内周（半径３０ｍｍ）で1.
２ｍＷ、外周（半径６０ｍｍ）で2.３ｍＷとしてカッテ
ィングを行ったレジスト原盤１を現像した結果、レジス
ト原盤１の内周側も外周側もそれぞれ等しい深さを有す
る案内溝２１を形成することができた。

【００４３】以上のように、本実施例の現像装置によれ
ば、レジスト原盤１の内周側と外周側のポイントＰ₁・
Ｐ₂で現像の進行状態を検出し、それに応じて、レジス
ト原盤１の内周側と外周側の現像の進行度合が等しくな
るように、レジスト原盤１の内周側に現像液を吐出する
第１現像液吐出ノズル１０と、レジスト原盤１の中心近
傍と外周側とを径方向に往復運動しながら現像液を吐出
する第２現像液吐出ノズル１１との間で切り換えられ
る。

【００４４】これにより、従来のような一か所だけでの
現像の進行度合の検出では対応できなかった、露光時の
レーザ照射パワーの変動に伴うレジスト原盤１の内周側
から外周側にかけてのレジスト３２の露光量の一様の変
化に対応でき、この現像装置を使用することで、安定し
た大きさ・形状の凹凸パターンを有するスタンパ１４の
作製が可能となり、ひいては、均一な光学特性を有する
光ディスクを作製することができる。

【００４５】尚、本実施例では、現像の開始時は、第１
現像液吐出ノズル１０からのみ現像液を吐出させるよう
になっているが、はじめから第１及び第２の現像液吐出
ノズル１０・１１から現像液を吐出させ、現像状態に応
じて第１現像液吐出ノズル１０のみの使用、或いは第２
現像液吐出ノズル１１のみの使用としてもよく、その
他、使用する現像液吐出ノズルを切り換えるのではな
く、現像状態に応じて第１及び第２の現像液吐出ノズル
１０・１１からの現像量の各吐出量を細かに調整するこ
ともできる。

【００４６】また、本実施例では、このような現像液の
供給量の調整が、制御部１２によって自動的になされ、
便利であるが、そのような自動制御は装置価格をアップ
させるので、操作者が現像の進行度合に応じて手動で切
り換える構成としてもよい。

【００４７】また、図７に示すように、一つのレーザ４
ｃから照射されるモニター用レーザ光Ｌを、ハーフミラ
ー７で二つに分割し、内周側と外周側の各ポイントＰ₁
・Ｐ₂に導く構成とすることで、上記の第１及ぶ第２の
レーザ４ａ・４ｂを一台で共用することが可能となり、
装置の構成を簡素化し、装置価格を低減できる。

【００４８】〔実施例２〕本発明のその他の実施例を図
８ないし図１０に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。尚、説明の便宜上、前記実施例にて示した部材と同
一の機能を有する部材には、同一の符号を付記し、その
説明を省略する。

【００４９】本実施例の現像装置は、図８に示すよう
に、現像液供給手段として、レジスト原盤１の回転中心
近傍と外周側とを径方向に往復運動する駆動状態と、レ
ジスト原盤１の回転中心近傍で停止する停止状態との動
作切り換えが可能な第３現像液吐出ノズル（第３現像液
吐出ノズル部・現像液供給手段）１５を備えている。そ
して、レジスト原盤１への現像液の供給量の径方向での
調整を、図９に示す制御部（現像制御手段）１６が、上
記第３現像液吐出ノズル１５の停止状態の時間と往復運
動状態の時間の割合を変えることで行うようになってい
る。これ以外は、前記実施例１の図１に示した現像装置
と同じである。

【００５０】これによれば、前記の実施例１の構成に比
べ、現像液吐出ノズルが一つで足りるので、さらなる構
造の簡素化が図れ、装置価格を低減できる。

【００５１】尚、この場合も、第３現像液吐出ノズル１
５の動作の切り換えは、制御部１６によって行っている
が、前記の実施例１の場合と同様に、現像の進行度合に
応じて手動で行ってもよく、それにより、さらに装置価
格を低減できる。

【００５２】また、前記の実施例１で、図７に示したも
のと同様に、図１０に示すように、一つのレーザ４ｃか
ら照射されるモニター用レーザ光Ｌを、ハーフミラー７
で二つに分割し、内周側と外周側の各ポイントＰ₁・Ｐ
₂に導く構成とすることで、上記の第１及ぶ第２のレー
ザ４ａ・４ｂを一台で共用することが可能となり、装置
の構成を簡素化し、さらなる低価格化を実現できる。

【００５３】

【発明の効果】本発明の請求項１記載の現像装置は、以
上のように、上記現像進行度合検出手段は、レジスト原
盤における回転中心近傍及び外周側の２か所の進行度合
を検出するように設けられ、上記現像液供給手段は、現
像液の供給量をレジスト原盤の径方向で調整し得るよう
に設けられている構成である。

【００５４】これにより、操作者は、現像進行度合検出
手段による検出結果に基づいて、レジスト原盤における
回転中心近傍及び外周側の現像の進行度合が等しくなる
ように現像液の供給量を調整することが可能となる。し
たがって、従来のような一か所のみでの現像の進行度合
の検出では対応できなかった、露光時のレーザ照射パワ
ーの変動に伴うレジスト原盤の内周側から外周側にかけ
てのレジストの露光量の一様の変化に対応でき、この現
像装置を使用することで、安定した大きさ・形状の凹凸
パターンを有するスタンパの作製が可能となり、ひいて
は、均一な光学特性を有する光ディスクを作製すること
ができるという効果を奏する。

【００５５】本発明の請求項２記載の現像装置は、以上
のように、請求項１の構成において、上記現像進行度合
検出手段による検出結果に基づいて、レジスト原盤にお
ける回転中心近傍及び外周側の現像の進行度合が等しく
なるように、上記現像液供給手段における現像液の供給
量の調整を行う現像制御手段が備えられている構成であ
る。

【００５６】これにより、請求項１の構成による効果に
加えて、供給量の調整が自動化されて操作者の手を煩わ
さず、操作性の向上が図れるという効果を奏する。

【００５７】本発明の請求項３記載の現像装置は、以上
のように、請求項１又は２の構成において、上記現像液
供給手段は、レジスト原盤の上方に配された、現像液の
吐出量の調整が可能な二つの第１及び第２の現像液吐出
ノズル部を備えており、このうち第１現像液吐出ノズル
部はレジスト原盤の回転中心近傍に固定され、第２現像
液吐出ノズル部はレジスト原盤における回転中心近傍と
外周側とを径方向に往復運動するように設けられている
構成である。

【００５８】請求項１の構成においては、現像液供給手
段として、複数の現像液の吐出量の調整が可能な現像液
吐出ノズル部をレジスト原盤の径方向に沿って配設する
構成も含まれて構造の複雑化を招来することもあるが、
これにより、請求項１又は２の構成による効果に加え
て、非常に簡単な構造で、現像液の供給量をレジスト原
盤の径方向で調整可能な現像液供給手段を構成できると
いう効果を奏する。

【００５９】本発明の請求項４記載の現像装置は、以上
のように、請求項１又は２の構成において、上記現像液
供給手段は、レジスト原盤の上方に配され、レジスト原
盤における回転中心近傍と外周側とを径方向に往復運動
する運動状態と、レジスト原盤の回転中心近傍で停止す
る停止状態との切り換えが可能に設けられた第３現像液
吐出ノズル部を備えている構成である。

【００６０】これにより、請求項１又は２の構成による
効果に加えて、請求項３の構成よりもさらに簡単な構成
で、現像液の供給量をレジスト原盤の径方向で調整可能
な現像液供給手段を構成できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示すものであり、ディスク
基板を複製するためのスタンパの製造に供される現像装
置の構成図である。

【図２】ピットや案内溝が形成されたディスク基板の拡
大図である。

【図３】スタンパの製造の各工程を示す縦断面図であ
る。

【図４】スタンパを用いて光ディスクを製造する各工程
を示す縦断面図である。

【図５】上記現像装置の制御系を示すブロック図であ
る。

【図６】レジスト原盤に形成された溝の深さと、モニタ
ー用レーザ光の透過光の１次回折光対０次回折光の強度
比との関係を示すグラフである。

【図７】本発明の他の実施例の現像装置の構成図であ
る。

【図８】本発明の他の実施例の現像装置の構成図であ
る。

【図９】図８の現像装置の制御系を示すブロック図であ
る。

【図１０】本発明の他の実施例の現像装置の構成図であ
る。

【図１１】従来の現像装置の構成を示す構成図である。

【図１２】従来の現像装置で現像したレジスト原盤の縦
断面図である。

【符号の説明】

１レジスト原盤２ターンテーブル４ａ第１レーザ（現像進行度合検出手段）４ｂ第２レーザ（現像進行度合検出手段）６ミラー７ハーフミラー８ａ検出器（現像進行度合検出手段）８ｂ検出器（現像進行度合検出手段）９ａ検出器（現像進行度合検出手段）９ｂ検出器（現像進行度合検出手段）１０第１現像液吐出ノズル（第１現像液吐出ノズル
部・現像液供給手段）１１第２現像液吐出ノズル（第２現像液吐出ノズル
部・現像液供給手段）１２制御部（現像進行度合検出手段，現像制御手
段）１４スタンパ１５第３現像液吐出ノズル（第３現像液吐出ノズル
部・現像液供給手段）１６制御部（現像進行度合検出手段，現像制御手
段）２０ピット（凹凸パターン）２１案内溝（凹凸パターン）３１ガラス基板３２レジスト３５ディスク基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】微細な凹凸パターンの複製に供されるスタ
ンパの製造に用いられ、ガラス基板の一方面にレジスト
が塗布されてなるレジスト原盤を、レジスト面を上にし
た状態で回転させながら、現像液供給手段にてレジスト
原盤のレジスト面に上方から現像液を供給して現像を実
施すると共に、現像進行度合検出手段にて現像の進行度
合を検出する現像装置において、上記現像進行度合検出手段は、レジスト原盤における回
転中心近傍及び外周側の２か所の進行度合を検出するよ
うに設けられ、上記現像液供給手段は、現像液の供給量をレジスト原盤
の径方向で調整し得るように設けられていることを特徴
とする現像装置。
【請求項２】上記現像進行度合検出手段による検出結果
に基づいて、レジスト原盤における回転中心近傍及び外
周側の現像の進行度合が等しくなるように、上記現像液
供給手段における現像液の供給量の調整を行う現像制御
手段が備えられていることを特徴とする上記請求項１記
載の現像装置。
【請求項３】上記現像液供給手段は、レジスト原盤の上
方に配された、現像液の吐出量の調整が可能な二つの第
１及び第２の現像液吐出ノズル部を備えており、このう
ち第１現像液吐出ノズル部はレジスト原盤の回転中心近
傍に固定され、第２現像液吐出ノズル部はレジスト原盤
における回転中心近傍と外周側とを径方向に往復運動す
るように設けられていることを特徴とする上記請求項１
又は２記載の現像装置。
【請求項４】上記現像液供給手段は、レジスト原盤の上
方に配され、レジスト原盤における回転中心近傍と外周
側とを径方向に往復運動する運動状態と、レジスト原盤
の回転中心近傍で停止する停止状態との切り換えが可能
に設けられた第３現像液吐出ノズル部を備えていること
を特徴とする上記請求項１又は２記載の現像装置。