JPH0832307B2 - 触媒組成物 - Google Patents

触媒組成物

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JPH0832307B2
JPH0832307B2 JP5051015A JP5101593A JPH0832307B2 JP H0832307 B2 JPH0832307 B2 JP H0832307B2 JP 5051015 A JP5051015 A JP 5051015A JP 5101593 A JP5101593 A JP 5101593A JP H0832307 B2 JPH0832307 B2 JP H0832307B2
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carbide
catalyst
cubic
tungsten carbide
oxide
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広明 栗田
邦夫 渋木
健三 福田
哲也 亀山
秋弘 本江
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Nihon Koshuha Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Tungaloy Corp
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Nihon Koshuha Co Ltd
Toshiba Tungaloy Co Ltd
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、窒素酸化物および有機
化合物の還元ないし水素化に好適な触媒組成物に関し、
さらに詳細には、排気中の窒素酸化物の還元、不飽和炭
化水素の水素化およびケトンの水素化に好適な触媒組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術】内燃機関、ボイラーその他の燃焼の際に
発生する排気には、窒素酸化物が含まれ、そのまま放出
されると大気を汚染して、光化学スモッグ、酸性雨、気
管支疾患などの原因となるので、その有効な除去法の開
発が望まれている。とくに、排気中に存在する低濃度の
窒素酸化物を除去するためには、優れた還元用触媒が必
要である。このような窒素酸化物の還元に用いられる触
媒系については数多くの提案があり、その代表的なもの
は、特開昭５３−４８９９２号公報、特開昭５３−４８
９９４号公報、特開昭５３−４８９９５号公報および特
開昭５３−４８９９６号公報である。
【０００３】特開昭５３−４８９９２号公報は、耐熱材
料である基体の表面が、周期律表の４ａ、５ａまたは６
ａ族の金属炭化物で被覆され、該被覆層中またはその表
面に、０．０００５重量％以上のルテニウムおよびロジ
ウムの少なくとも一方が添加された窒素酸化物還元用触
媒を開示している。
【０００４】特開昭５３−４８９９４号公報、特開昭５
３−４８９９５号公報及び特開昭５３−４８９９６号公
報は、基体の表面が、周期律表の４ａ、５ａまたは６ａ
族の１種または２種以上の金属、それらを含む合金、ま
たはそれらの金属酸化物で被覆され、その被覆層の一部
または表面が金属炭化物となった窒素酸化物還元用触媒
を開示している。
【０００５】これらの窒素酸化物還元用触媒についての
開示には、いずれも被覆層として炭化タングステンを用
いることが記載されているが、それらはいずれも六方晶
炭化タングステンであるＷＣを用いたものであり、立方
晶炭化タングステンであるＷＣ1-x(ｘ＝０．３〜０．
４）についての記載はない。用いられている六方晶炭化
タングステンは、窒素酸化物の還元触媒としての触媒能
が弱く、単位重量あたりの触媒効果が低い。
【０００６】オレフィンを水素化して飽和炭化水素を得
る水素化反応は、水素化転換反応や水素化分解反応を含
めて、多くの提案がなされている。常圧における水素化
には、白金、ルテニウム、ロジウムなどの白金族金属お
よびその化合物；ラネーニッケルなどの触媒が知られ、
加圧加熱下の水素化には、各種の担持された還元ニッケ
ル触媒などが知られている。しかし、白金族金属は高価
で、資源的にも限界があり、還元ニッケル触媒は反応に
高温高圧を要するなどの問題がある。タングステンもオ
レフィンの水素化反応への触媒効果が知られているが、
その効果は、満足されるものではない。
【０００７】ケトンを水素化して第二級アルコールを合
成する水素化反応の触媒としては、白金、ラネーニッケ
ル、けいそう土担持ニッケル、銅−クロム酸化物などの
触媒が知られている。これらのうち、白金は高価であ
り、その他の触媒は、５０気圧以上の高圧と高温を必要
とする。
【０００８】特開平１−１１５８１０号公報は、酸化タ
ングステン粉末またはタングステンカルボニル粉末を水
素および炭化水素とプラズマ中で気相反応させる立方晶
炭化タングステン微粉末の製造法を開示している。しか
し、このようにして得られた立方晶炭化タングステン微
粉末の用途としては、切削工具、耐摩耗工具、または粉
末冶金用の原料粉が挙げられているだけで、触媒として
の用途に関しては、まったく示唆されていない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、排気
中の低濃度の窒素酸化物を除去するのに有効な、触媒能
の高い還元触媒を提供することである。本発明のもうひ
とつの目的は、オレフィンやケトンのような有機化合物
の水素化を、比較的低圧の温和な条件で実施しうる、か
つ入手が容易な水素化触媒を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を解決するために検討を重ねた結果、特定量の立方晶
炭化タングステンを含有する組成物が、排気中の窒素酸
化物の還元触媒、およびオレフィンやケトンの水素化触
媒として触媒能が高く、上述の目的を満足させることを
見出して、本発明を完成するに至った。
【００１１】すなわち、本発明は、立方晶炭化タングス
テン３０容量％以上と、Ｎｉ、Ｃｏ 、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＣ
ｕからなる群より選ばれる金属、または該金属の酸化物
もしくは炭化物（立方晶炭化タングステンを除く）の少
なくとも１種とを含むことを特徴とする、排気中の窒素
酸化物の還元用、オレフィンの水素化用、またはケトン
の水素化用の触媒組成物に関する。
【００１２】本発明の触媒組成物は、立方晶炭化タング
ステンＷＣ1-x を３０容量％以上、好ましくは５０容量
％以上含有する。立方晶炭化タングステンの含有量が３
０容量％未満では、十分な触媒効果が得られない。
【００１３】本発明に用いられる立方晶炭化タングステ
ンは、たとえば次のようにして合成することができる。
すなわち、高周波プラズマまたは直流プラズマのような
プラズマ発生手段を備えた反応器にタングステン源と炭
化水素とを供給して、気相反応を行う。プラズマガスと
しては、通常、アルゴンを用いる。プラズマ温度は、通
常６，０００℃以上、好ましくは７，０００〜１１，０
００℃である。
【００１４】タングステン源としては、タングステンの
ほか、三酸化タングステン、六方晶炭化タングステン、
タングステンカルボニルおよびタングステン酸（Ｈ2 Ｗ
Ｏ4)のようなタングステン化合物が挙げられ、三酸化タ
ングステンが好ましい。またこれらは、粉末として供給
することが好ましい。炭化水素としては、メタン、エタ
ン、プロパン、ブタンのような飽和炭化水素でも、エチ
レン、プロピレン、ブチレン、アセチレンのような不飽
和炭化水素でもよく、これらの混合物でも差支えない。
両者の供給比は、Ｃ／Ｗ原子比として０．５〜２０の範
囲が好ましく、１〜１０の範囲がより好ましい。
【００１５】このようにプラズマ中で気相反応を行うこ
とにより、立方晶炭化タングステンＷＣ1-x を３０容量
％以上、好ましくは５０容量％以上含有する粉末が得ら
れる。
【００１６】このようにして得られた立方晶炭化タング
ステンを含有する粉末は、副生する六方晶炭化タングス
テン（ＷＣ、Ｗ2 Ｃ）、タングステンおよびカーボンを
含有する。本発明においては、これらを含有したまま
で、得られた粉末や粒状体を触媒に配合することができ
るし、必要に応じて、これらのタングステンや六方晶炭
化タングステンを、さらに追加して配合してもよい。
【００１７】本発明の触媒組成物には、使用目的に応じ
て、前述のタングステンや六方晶炭化タングステン以外
の金属、または金属の酸化物もしくは炭化物の少なくと
も１種を添加してもよい。それらは、粉末ないし粒状と
して立方晶炭化タングステンと併用する形で添加しても
よい。また、立方晶炭化タングステンの表面にそれらの
被膜を形成してもよいが、その場合、立方晶炭化タング
ステンが反応系と接触しうるように、被膜を部分的に形
成しなければならない。
【００１８】担体の上に立方晶炭化タングステンを含む
組成物の被膜を形成する場合、前述のプラズマ発生手段
を備えた反応器に、さらに担体の予熱手段および急冷手
段を備える。具体的には、たとえば高さ調節装置と水循
環装置を備えた支持台に担体を載置して、該担体をプラ
ズマ炎の尾炎部から適当な位置に置き、プラズマ炎の熱
で１，０００℃以上、好ましくは１，３００〜１，７０
０℃に予熱してから、プラズマ炎中で前述の気相反応を
行うとともに、担体を急冷する。冷却速度は１０6 〜１
０7K/sの範囲が好ましい。
【００１９】担体としては、上述のような被膜形成反応
において、プラズマの高熱に耐える耐熱性の炭化物、窒
化物などが好ましい。このような担体としては、炭化ケ
イ素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化タンタル、
炭化クロム、炭化モリブデンおよび六方晶炭化タングス
テンのような炭化物；窒化アルミニウム、窒化ケイ素、
窒化チタン、窒化ジルコニウムおよび窒化タンタルのよ
うな窒化物；炭酸化チタンのような炭酸化物、窒酸化チ
タンのような窒酸化物；ならびにこれらの複合体や、こ
れらをベースにしたセラミックス焼結体が例示される。
これらは、緻密質や多孔質の粉体、多孔板など、任意の
形状で用いることができる。
【００２０】本発明に用いられる金属は、前述のタング
ステンのほか；ニッケル、コバルト、鉄、パラジウム、
ロジウム、ルテニウム、白金、イリジウム、オスミウム
のような周期律表第８族金属；クロム、モリブデンなど
の周期律表第６族金属および銅；ならびにこれらを含有
する合金が例示され、第８族金属、銅およびタングステ
ンが好ましい。
【００２１】本発明に用いられる金属の酸化物として
は、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化鉄、酸
化白金、酸化モリブデン、酸化クロムをはじめ、さきに
金属として列挙した元素の酸化物およびそれらの複合酸
化物が例示され、酸化銅が好ましい。これらを触媒とし
て使用する際には、還元された状態であってもよい。
【００２２】本発明に用いられる金属炭化物（他の成分
として用いられる立方晶炭化タングステンを除く）とし
ては、前述の六方晶炭化タングステンのほか、炭化クロ
ム、炭化モリブデンなどが例示される。
【００２３】このような、立方晶炭化タングステンと併
用される金属、または金属の酸化物もしくは炭化物の、
本発明の触媒組成中の割合は、できるだけ少ない方が好
ましいが、従来から用いられている触媒物質を併用する
場合はとくに制限されず、たとえば０．１〜１０容量％
など、本発明の組成の範囲で任意に選択できる。
【００２４】本発明の触媒組成物は、使用条件に応じ
て、排気などの反応系と効果的に接触し、かつ系外に逸
出しないかぎり、任意の形状であることができる。すな
わち、粉末状、粒状、繊維状、層状などでもよく、これ
らを顆粒状に造粒した後、ペレット状に成形したものが
とくに好ましい。さらに、粉体、多孔板状など各種形状
の担体に担持された被膜状でもよい。
【００２５】本発明の触媒組成物は、排気中の窒素酸化
物の還元、オレフィンの水素化、およびケトンの水素化
に用いられ、内燃機関やボイラーなどで発生する廃ガス
中に微量ないし少量存在する窒素酸化物の還元にとくに
効果が著しい。
【００２６】窒素酸化物としては、亜酸化窒素、一酸化
窒素、三酸化二窒素、五酸化四窒素、六酸化四窒素、二
酸化窒素、三酸化二窒素、五酸化二窒素、三酸化窒素お
よび六酸化二窒素などがあり、空気中の窒素または燃料
中に存在する窒素化合物と酸素から高温で生成し、ＮＯ
x と総称される。これらはガソリン、ジーゼル燃料また
は航空燃料を用いる内燃機関から、また産業用ボイラー
から発生する排気中に微量ないし少量含有される。
【００２７】窒素酸化物の還元は、通常、大気圧または
数気圧（１０気圧以下）までの加圧下に、温度２００〜
６００℃で実施される。
【００２８】オレフィンとしては、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテ
ン、イソオクテン、ブテンオリゴマーなど、およびそれ
らの混合物が例示される。これらは水素化されて、それ
ぞれ対応する飽和炭化水素を生ずる。
【００２９】オレフィンの水素化は、通常、大気圧また
はたとえば３０気圧以下の加圧下に、温度１００〜５０
０℃で実施される。
【００３０】ケトンとしては、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケ
トン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ピナコロンなど、およびそれらの混合物が例示される。
これらは水素化されて、それぞれ対応する第二級アルコ
ールを生ずる。
【００３１】ケトンの水素化は、通常、大気圧またはた
とえば５０気圧以下の加圧下に、温度１００〜４００℃
で実施される。
【００３２】
【発明の効果】本発明によって、内燃機関やボイラーの
排気中に微量ないし少量含有される窒素酸化物を、常圧
の温和な条件で効果的に還元しうる触媒組成物を提供す
ることができる。本発明の触媒組成物を、自動車をはじ
めとする交通機関や工場の内燃機関、ならびに発電所、
工場、建物などのボイラーの排気系の管路に取りつける
ことにより、それらの排気中の窒素酸化物を除去し、こ
れらの排気による公害を防止するのに、きわめて有用で
ある。
【００３３】さらに、本発明の触媒組成物は、オレフィ
ンやケトンを、比較的低圧の温和な条件で、収率よく水
素化することができる。この反応により、飽和炭化水素
や第二級アルコールを得ることができるので、イソオク
タンの製造、合成潤滑油の熱安定化、２−プロパノール
の製造などに有用である。
【００３４】
【実施例】以下、実施例および比較例によって、本発明
をさらに詳細に説明する。本発明はこれらの実施例によ
って限定されるものではない。
【００３５】実施例１：立方晶炭化タングステンの合成 高周波熱プラズマ発生装置を備えた反応器を１０-3Torr
の減圧にした後、Ａｒガスを導入して１気圧に保持し
た。全流入速度５０リットル/minのＡｒガスを流入させ
るとともに、周波数３MHz 、出力１０kWの高周波をかけ
て、反応器上部のプラズマトーチ部分にプラズマを発生
させた。流入速度２，０００ml/minのＨ2ガスを導入す
るとともに、高周波出力を１３kWに増加させた。この状
態で、ＷＯ3 粉末とＣＨ4 とを、ＣＨ4 ／ＷＯ3 のモル
比１０、ＷＯ3 粉末の供給速度０．２g/min の条件で反
応器に導入し、プラズマトーチ部分で気相反応させて、
立方晶炭化タングステン（ＷＣ1-x)を主成分とする粉末
を得た。これをＸ線回析によって分析したところ、ＷＣ
1-x ：９５容量％、ＷＣ：３容量％、Ｗ2 Ｃ：１容量
％、Ｗ：０．７容量％および残余のカーボンからなって
いた。
【００３６】実施例２〜６、比較例１：廃ガス中の窒素
酸化物の還元 実施例１で得られたＷＣ1-x −ＷＣ−Ｗ2 Ｃ−Ｗ−Ｃ混
合粉に対して、表１に示す組合せと量で各種の金属およ
び酸化第二銅（実施例３の場合）を均一に混合して、そ
れぞれ、顆粒状の触媒組成物を調製した（実施例２〜
５）。ついで、これをプレスにかけて、直径５mm、長さ
５mmの円筒状のペレット状に成形した。
【００３７】別に、六方晶炭化タングステンＷＣをベー
スにして、これに表１に示す量のＣｕとＲｈを均一に混
合して、比較のための触媒組成物を調製した（比較例
１）。これを、上述と同様のペレット状に成形した。
【００３８】窒素酸化物を含有する自動車排気の模擬的
混合ガスとして、下記の容量比の混合ガスを調製した；
ＮＯ：０．１％、ＣＯ：１．０％、Ｈ2 ：０．３％、Ｃ
Ｈ4：２００ppm 、Ｃ3 Ｈ6 ：１００ppm 、Ｃ6 Ｈ6 ：
５０ppm 、ＣＯ2 ：１０％、Ｈ2 Ｏ：１０％、Ｏ2 ：
０．２５％および残部：Ｎ2 。
【００３９】それぞれの触媒組成物からなるペレット
を、常圧流通式反応器に固定床として仕込み、触媒床入
口のガス温度を１００℃、３００℃、および５００℃に
それぞれ調節して、上記の模擬的混合ガスに３％の空気
を混合した供給ガスを、触媒容積あたり２，０００h-1
の空間速度で供給し、１２０時間循環させた。なお、こ
こで空間速度とは、触媒１リットル当たり１時間に通過
した供給ガスの量を、標準状態（０℃、１気圧）に換算
したリットル数をいう。１２０時間後のＮＯの減少率は
表１に示すとおりであり、本発明の触媒は、比較例１の
触媒に比べて、きわめて高い触媒能を示した。
【００４０】
【表１】
【００４１】実施例７、８、比較例２：シス−２−ブテ
ンの水素化 実施例１で得られたＷＣ1-x −ＷＣ−Ｗ2 Ｃ−Ｗ−Ｃの
混合粉に対して、表２に示すように、それぞれ５容積％
のＰｔ（実施例７）またはＰｄ（実施例８）を均一に混
合して、顆粒状の触媒組成物を調製した。比較のため
に、従来から用いられていた、ゼオライトに５容量％の
Ｐｔを均一に混合した触媒組成物を調製した（比較例
２）。
【００４２】これらの触媒混合物をそれぞれ反応器に固
定床として仕込み、ゲージ圧力３００Torrの加圧下に、
温度４２５℃で、シス−２−ブテンおよび水素を触媒容
積あたりの空間速度それぞれ１，５００h-1 で反応器に
通し、シス−２−ブテンの水素化を行った。
【００４３】反応を２時間続け、生成物をガスクロマト
グラフィーによって分析し、ｎ−ブタンの生成率を求め
た。その結果を表２に示す。
【００４４】
【表２】
【００４５】実施例９〜１２：立方晶炭化タングステン
被覆触媒の調製とシス−２−ブテンの水素化 試料位置の調節による予熱、及び水循環による冷却が可
能な試料台を設けたほかは実施例１で用いたのと同様
の、熱プラズマ発生装置を備えた反応器を用いて、立方
晶炭化タングステン被覆触媒を調製した。すなわち、該
試料台に、細孔径１．０μm 、気孔率３０％の多孔質β
−ＳｉＣ基セラミックス焼結体の基板を載置した。反応
器を１０-3Torrの減圧にした後、Ａｒガスを導入して１
気圧に保持した。全流入速度５０リットル/minのＡｒガ
スを流入させるとともに、周波数３MHz 、出力１０kWの
高周波をかけて、反応器上部のプラズマトーチ部分にプ
ラズマを発生させた。流入速度２，０００ml/minのＨ2
ガスを導入するとともに、高周波出力を１３kWに増加さ
せた。この状態で、基板とプラズマ炎の尾炎部との距離
を調節して、該基板をプラズマ炎の熱で１，６５０℃に
予熱し、ついで該基板を尾炎部に挿入するとともに、Ｗ
Ｏ3 とＣＨ4 を、ＣＨ4 ／ＷＯ3 のモル比８、ならびに
表３に示すＷＯ3 粉末の供給速度および処理時間で、そ
れぞれプラズマトーチ部分の反応器内に導入し、気相反
応によって、基板の外表面に被膜を形成した。断面の顕
微鏡観察によって得た膜厚と、Ｘ線回折によって得た組
成比とを表３に示す。
【００４６】このようにして得られた、主として立方晶
炭化タングステンからなる被膜を有するβ−ＳｉＣ基板
を、それぞれ実施例７、８で用いたのと同様な反応器
に、触媒多孔板を装着した。これに、実施例７、８と同
じ条件でシス−２−ブテンおよびＨ2 を通して水素化を
行った。生成物をガスクロマトグラフィーによって分析
したところ、表３のような結果を得た。
【００４７】
【表３】
【００４８】表２および表３の結果から、本発明の触媒
組成物は、シス−２−ブテンを水素化してｎ−ブタンを
生成する反応において、従来のゼオライト−Ｐｔ触媒に
比べて、優れた触媒効果を示すことが理解される。
【００４９】実施例１３〜１５、比較例３〜５：アセト
ンの水素化 実施例１における立方晶炭化タングステンを含む粉末の
製造方法において、ＷＯ3 粉末の供給速度のみを表４の
ように変えて、立方晶炭化タングステンを主成分とする
３種類の混合粉末を得た。この粉末の電子顕微鏡観察に
よって測定して得た粒径範囲と、Ｘ線回折によって得ら
れた組成比とは、表４のとおりであった（実施例１３〜
１５）。これをプレスにより、直径５mm、長さ５mmのペ
レット状に成形した。
【００５０】比較のために、表４のように、市販のＷＣ
粉末とＷ2 Ｃ粉末を混合したもの（比較例３）、ならび
にＷ2 Ｃ粉末（比較例４）およびＷ粉末（比較例５）を
用いて、同様に直径５mm、長さ５mmのペレット状に成形
した。
【００５１】このようにして得られたペレット状触媒を
固定床して反応器に仕込み、ゲージ圧力４００Torrの加
圧下に、温度１６０℃で、アセトンおよび水素を触媒容
積あたりの空間速度それぞれ１，８００h-1 で反応器に
通し、アセトンの水素化を行った。
【００５２】反応を２時間続け、生成物をガスクロマト
グラフィーによって分析し、２−プロパノールの生成率
を求めた。その結果を表４に示す。
【００５３】
【表４】
【００５４】実施例１６〜２５ 実施例２において、添加成分２のＲｈの代わりにＰｔ
（実施例１６）、Ｐｄ（実施例１７）、Ｉｒ（実施例１
８）、Ｒｕ（実施例１９）、Ｏｓ（実施例２０）、Ｃｏ
（実施例２１）、Ｎｉ（実施例２２）、Ｆｅ（実施例２
３）、Ｃｒ（実施例２４）またはＭｏ（実施例２５）を
それぞれ用いた以外は実施例２と同様にし て、顆粒状の
触媒組成物を調製し、同様にペレット状に成形した。そ
れぞれのペレットを用いて、実施例２と同一の条件で、
同様の混合ガスを通し、１２０時間後のＮＯの減少率を
求めたところ、温度３００℃において、いずれも約４０
〜５５％の範囲の減少率を示した。
【００５５】実施例２６〜３３ 実施例３において、添加成分１のＣｕＯの代わりにＮｉ
Ｏ（実施例２６）、ＣｏＯ（実施例２７）、ＦｅＯ（実
施例２８）、Ｆｅ 3 Ｏ 4 （実施例２９）、Ｃｒ 2 Ｏ 3
（実施例３０）、Ｃｒ 3 Ｃ 2 （実施例３１）、Ｃｒ 23 Ｃ
7 （実施例３２）またはＭｏ 2 Ｃ（実施例３３）をそれ
ぞれ用いた以外は実施例３と同様の方法で得られたそれ
ぞれのペレットを用いて、実施例３と同一の条件で、同
様の混合ガスを通し、１２０時間後のＮＯの減少率を求
めたところ、温度５００℃において、いずれも約４５〜
６０％の範囲の減少率を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/94 Ｃ０７Ｃ 5/03 9546−4Ｈ 9/10 9546−4Ｈ 29/145 9155−4Ｈ 31/10 9155−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 渋木 邦夫 神奈川県川崎市幸区塚越１丁目７番地 東 芝タンガロイ株式会社内 (72)発明者 福田 健三 茨城県つくば市東１丁目１番地 工業技術 院物質工学工業技術研究所内 (72)発明者 亀山 哲也 茨城県つくば市東１丁目１番地 工業技術 院物質工学工業技術研究所内 (72)発明者 本江 秋弘 茨城県つくば市観音台１丁目５の１番地 審査官 富永 正史

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 立方晶炭化タングステン３０容量％以上
    と、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉ
    ｒ、Ｏｓ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＣｕからなる群より選
    ばれる金属、または該金属の酸化物もしくは炭化物（立
    方晶炭化タングステンを除く）の少なくとも１種とを含
    むことを特徴とする排気中の窒素酸化物の還元用触媒組
    成物。
  2. 【請求項２】 立方晶炭化タングステン３０容量％以上
    と、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉ
    ｒ、Ｏｓ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＣｕからなる群より選
    ばれる金属、または該金属の酸化物もしくは炭化物（立
    方晶炭化タングステンを除く）の少なくとも１種とを含
    むことを特徴とするオレフィンの水素化用触媒組成物。
  3. 【請求項３】 立方晶炭化タングステン３０容量％以上
    と、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｐｔ、Ｉ
    ｒ、Ｏｓ、Ｃｒ、Ｍｏ、ＷおよびＣｕからなる群より選
    ばれる金属、または該金属の酸化物もしくは炭化物（立
    方晶炭化タングステンを除く）の少なくとも１種とを含
    むことを特徴とするケトンの水素化用触媒組成物。
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