JPH08319258A - 金属錯体を用いた不斉化合物の製造方法 - Google Patents

金属錯体を用いた不斉化合物の製造方法

Info

Publication number
JPH08319258A
JPH08319258A JP8046106A JP4610696A JPH08319258A JP H08319258 A JPH08319258 A JP H08319258A JP 8046106 A JP8046106 A JP 8046106A JP 4610696 A JP4610696 A JP 4610696A JP H08319258 A JPH08319258 A JP H08319258A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
asymmetric
reaction
compound
group
optically active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8046106A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3782149B2 (ja
Inventor
Masakatsu Shibazaki
正勝 柴崎
Hiroaki Sasai
宏明 笹井
Takayoshi Arai
孝義 荒井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagase and Co Ltd
Original Assignee
Nagase and Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP04610696A priority Critical patent/JP3782149B2/ja
Application filed by Nagase and Co Ltd filed Critical Nagase and Co Ltd
Priority to AU50142/96A priority patent/AU5014296A/en
Priority to DE69636516T priority patent/DE69636516D1/de
Priority to CN96193449.2A priority patent/CN1182412A/zh
Priority to US08/913,784 priority patent/US5847186A/en
Priority to PCT/JP1996/000739 priority patent/WO1996029295A1/ja
Priority to AT96906911T priority patent/ATE338739T1/de
Priority to EP96906911A priority patent/EP0826652B1/en
Publication of JPH08319258A publication Critical patent/JPH08319258A/ja
Priority to US09/149,735 priority patent/US6090969A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3782149B2 publication Critical patent/JP3782149B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4056—Esters of arylalkanephosphonic acids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/12—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing organo-metallic compounds or metal hydrides
    • B01J31/14—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing organo-metallic compounds or metal hydrides of aluminium or boron
    • B01J31/143—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing organo-metallic compounds or metal hydrides of aluminium or boron of aluminium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/18—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms
    • B01J31/1805—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes containing nitrogen, phosphorus, arsenic or antimony as complexing atoms, e.g. in pyridine ligands, or in resonance therewith, e.g. in isocyanide ligands C=N-R or as complexed central atoms the ligands containing nitrogen
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
    • B01J31/22—Organic complexes
    • B01J31/2204—Organic complexes the ligands containing oxygen or sulfur as complexing atoms
    • B01J31/2208—Oxygen, e.g. acetylacetonates
    • B01J31/2226—Anionic ligands, i.e. the overall ligand carries at least one formal negative charge
    • B01J31/223—At least two oxygen atoms present in one at least bidentate or bridging ligand
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
    • C07B53/00—Asymmetric syntheses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
    • C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
    • C07C67/347—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by addition to unsaturated carbon-to-carbon bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4015—Esters of acyclic unsaturated acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/40—Esters thereof
    • C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/4018—Esters of cycloaliphatic acids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2231/00—Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
    • B01J2231/30—Addition reactions at carbon centres, i.e. to either C-C or C-X multiple bonds
    • B01J2231/32—Addition reactions to C=C or C-C triple bonds
    • B01J2231/323—Hydrometalation, e.g. bor-, alumin-, silyl-, zirconation or analoguous reactions like carbometalation, hydrocarbation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2231/00—Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
    • B01J2231/30—Addition reactions at carbon centres, i.e. to either C-C or C-X multiple bonds
    • B01J2231/34—Other additions, e.g. Monsanto-type carbonylations, addition to 1,2-C=X or 1,2-C-X triplebonds, additions to 1,4-C=C-C=X or 1,4-C=-C-X triple bonds with X, e.g. O, S, NH/N
    • B01J2231/341—1,2-additions, e.g. aldol or Knoevenagel condensations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2231/00—Catalytic reactions performed with catalysts classified in B01J31/00
    • B01J2231/30—Addition reactions at carbon centres, i.e. to either C-C or C-X multiple bonds
    • B01J2231/34—Other additions, e.g. Monsanto-type carbonylations, addition to 1,2-C=X or 1,2-C-X triplebonds, additions to 1,4-C=C-C=X or 1,4-C=-C-X triple bonds with X, e.g. O, S, NH/N
    • B01J2231/348—1,4-additions, e.g. conjugate additions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/02—Compositional aspects of complexes used, e.g. polynuclearity
    • B01J2531/0261—Complexes comprising ligands with non-tetrahedral chirality
    • B01J2531/0266—Axially chiral or atropisomeric ligands, e.g. bulky biaryls such as donor-substituted binaphthalenes, e.g. "BINAP" or "BINOL"
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/10—Complexes comprising metals of Group I (IA or IB) as the central metal
    • B01J2531/11—Lithium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/30—Complexes comprising metals of Group III (IIIA or IIIB) as the central metal
    • B01J2531/31—Aluminium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 希土類金属元素を含有せず、光学純度の高い
光学活性体を得ることができる金属錯体を用いた不斉化
合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 光学活性ビナフトールと水素化リチウム
アルミニウムを反応させるか、あるいは水素化ジアルキ
ルアルミニウムとアルカリ金属を含む塩基（あるいはア
ルカリ土類金属を含む塩基）を反応させて、光学活性ビ
ナフトール、アルミニウム、アルカリ金属（あるいはア
ルカリ土類金属）より成る金属錯体を調製する。この金
属錯体を触媒として用いて不斉マイケル反応、不斉ホス
ホニル化反応等を行えば、光学純度の高い不斉化合物を
高収率で得ることができる。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬、香
料、液晶等の分野で使用される不斉化合物の製造に使用
し得る金属錯体に関連し、より詳細には、不斉マイケル
付加反応、不斉ホスホニル化反応等の触媒として使用し
た場合に、高効率で光学純度の高い光学活性反応生成物
を得ることができる金属錯体及び該金属錯体の溶液を用
いた不斉化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の発明者等は、先に希土類金属元
素を用いた金属錯体を触媒とする不斉合成反応の研究を
行い、その成果として、塩化ランタンと光学活性ジリチ
ウム・ビナフトキシドをテトラヒドロフラン中で混合
し、水と水酸化ナトリウムを加える方法、又はナトリウ
ム-tert-ブトキシドを含むＬａ3（Ｏ−ｔＣ4Ｈ9）9のテ
トラヒドロフラン溶液に、光学活性ビナフトール、水、
塩化リチウムを順次加える方法により調製した金属錯体
が、不斉ニトロアルドール反応において触媒として有効
に作用して、光学純度の高いニトロアルドール体を得る
ことを見いだした（J. Am. Chem. Soc., vol.114, 4418
(1992)）。
【０００３】また、本発明の発明者等は、Ｌａ（Ｏ−ｉ
Ｃ3Ｈ7）3に光学活性ビナフトール１モル当量を加えて
調製した錯体が、不斉マイケル反応を触媒して光学純度
の高いマイケル付加体を得ることを明らかにした（有機
合成化学協会誌，51巻，972(1993)、J. Am. Chem. So
c., Vol.116, 1571(1994)）。
【０００４】更に、イミンのヒドロホスホニル化反応に
於いて、Ｌａ−Ｋ−Ｂｉｎｏｌ（ＬＰＢ）金属錯体が触
媒として有効に作用して、高い光学純度のヒドロホスホ
ニル化化合物を得ることを見いだした（J. Org. Chem.,
Vol.60, 6656(1995)）。
【０００５】また、アルデヒドヒドロホスホニル化反応
に於いて、Ｌａ−Ｌｉ−Ｂｉｎｏｌ（ＬｎＬＢ）金属錯
体が触媒として作用し、不斉ヒドロホスホニル化化合物
が得られることが見いだされた（Tetrahedron:Assymetr
y, Vol.4, 1783(1993), Tetrahedron Lett., Vol.35, 2
27(1994)）。
【０００６】しかしながら、上記の金属錯体に含まれる
希土類金属元素であるランタンは入手し難く貴重である
ため、これを用いない金属錯体触媒の開発が望まれてい
るが、そのような金属錯体触媒は未だ知られていない。
【０００７】一方、有用な不斉化合物反応生成物とし
て、不斉マイケル反応生成物、不斉ヒドロホスホニル化
化合物が知られている。特に、α−ヒドロキシ燐酸化化
合物は、高い生物活性を持ち、例えば、レニン、ＥＰＳ
Ｐシンターゼ、ＨＩＶプロテアーゼなどの合成酵素の阻
害剤として、有効に作用することが期待されており、こ
れらの不斉燐酸化化合物の光学選択的合成法の開発が望
まれている。しかしながら、上記のＬｎ−Ｌｉ−Ｂｉｎ
ｏｌ（ＬｎＬＢ）金属錯体をこれに適用しても、得られ
る燐酸化化合物の光学純度、収率とも満足すべき結果と
は言えず、また極低温での反応を余儀なくされるなど、
上記化合物の工業的製法としては未だ、未解決の課題が
多い。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、不斉マイケル反応及び
不斉ホスホニル化反応の触媒として使用し得て、しかも
希土類金属元素を含有せず、光学純度の高い光学活性体
を高効率で得ることができる金属錯体及び該金属錯体の
溶液を提供する。また、本発明は、このような金属錯体
を用いた不斉マイケル反応及び不斉ホスホニル化反応に
よる不斉化合物の製造方法を提供する。
【０００９】本発明者等は、上記の研究成果に基づき、
更に光学活性ビナフトールおよびその誘導体を用いる不
斉合成触媒につき研究を進め、その化学的構造の詳細は
明らかではないが、希土類金属化合物を使用することな
くアルミニウム化合物を用いて調製した金属錯体が、不
斉マイケル反応及び不斉ホスホニル化反応において極め
て効率よく触媒として作用し、高収率にて光学純度の高
いマイケル付加体及び不斉ホスホニル化合物を生成する
ことを見いだした。
【００１０】即ち、本発明の金属錯体は、光学活性ビナ
フトール又はその誘導体と、水素化アルカリ金属アルミ
ニウム又は水素化アルカリ金属アルミニウム化合物とを
反応させて得られることを特徴とする。
【００１１】また、本発明の金属錯体は、光学活性ビナ
フトール又はその誘導体と、水素化ジアルキルアルミニ
ウムと、アルカリ金属を含む塩基又はアルカリ土類金属
を含む塩基とを反応させて得られることを特徴とする。
【００１２】本発明の金属錯体の調製に使用し得る光学
活性ビナフトール又はその誘導体として、下記の一般式
で示す化合物を使用することができる。
【００１３】
【化１２】
【００１４】ここで、上式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3及びＲ
4は、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基及びニトロ基から
なる群から選択される基であり、Ｒ1〜Ｒ4は互いに同じ
であっても異なっていてもよい。
【００１５】本発明の金属錯体の調製に使用し得る水素
化アルカリ金属アルミニウムとしては、水素化リチウム
アルミニウムが代表的である。また、本発明の金属錯体
の調製に使用し得る水素化アルカリ金属アルミニウム化
合物としては、ナトリウム−水素化ビス（メトキシエト
キシ）・アルミニウム、水素化ジイソブチル−アルミニ
ウム等の入手容易な化合物を用いることができる。金属
錯体の調製に於ける光学活性ビナフトール又はその誘導
体と水素化アルカリ金属アルミニウムとの好ましいモル
比は１〜４：１の範囲であり、１．５〜２．５：１のモ
ル比が好ましく、２：１のモル比が更に好ましい。
【００１６】本発明の金属錯体の調製に使用し得る水素
化ジアルキルアルミニウムとしては、水素化ジエチル−
アルミニウム、水素化ジイソプロピル−アルミニウム、
水素化ジイソブチル−アルミニウム、ブチルリチウム等
が挙げられ、中でも水素化ジイソブチル−アルミニウム
が好ましく用いられる。また、アルカリ金属を含む塩基
としては、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウム-tert-ブ
トキシド、リチウムハイドライド、カリウムハイドライ
ド、ナトリウム−ボロ−ハイドライド、リチウム-tert-
ブトキシド等があげられ、中でもナトリウム-tert-ブト
キシドが好ましく用いられる。アルカリ土類金属を含む
塩基としては、バリウム-tert-ブトキシド等を用いるこ
とができる。光学活性ビナフトール又はその誘導体と、
水素化ジアルキルアルミニウムと、アルカリ金属を含む
塩基又はアルカリ土類金属を含む塩基との好ましい当量
比は、１〜４：０．５〜２：１の範囲であり、１．５〜
２．５：０．５〜１．５：１の当量比で使用するのが好
ましく、２：１：１の当量比で使用するのが更に好まし
い。
【００１７】また、上記の金属錯体の調製には種々の有
機溶媒を使用することができ、特にエーテル化合物が好
ましく、中でもテトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、メチル-tert-ブチルエーテル、ジオキサン及びこれ
らの混合物が特に好ましいが、トルエン、ヘキサン、ヘ
プタン等の溶媒も用いることが出来る。金属錯体の調製
反応後の有機溶媒の溶液は、これから金属錯体を単離す
ることなく、そのまま不斉化合物の合成反応に使用する
ことができる。
【００１８】本発明の金属錯体又はその溶液は不斉マイ
ケル反応に好適に使用することができ、特にシクロペン
テノン又はシクロヘキセノンと、マロン酸のジエステル
又はアルキルマロン酸のジエステルとの反応に有用であ
る。
【００１９】更に、本発明の金属錯体又はその溶液を用
いた不斉マイケル反応において、脂肪族又は芳香族のア
ルデヒドを加えることにより、下記一般式で示される光
学活性化合物を得ることができる。
【００２０】
【化１３】
【００２１】ここで、上式に於いて、Ｒ1は脂肪族化合
物又は芳香族化合物の残基、Ｒ2は水素又はアルキル
基、Ｒ3はアルキル基又はアラルキル基である。
【００２２】本発明の金属錯体又はその溶液は、不斉ホ
スホニル化反応に好適に使用することができる。この不
斉ホスホニル化反応を行う反応溶媒は特に限定されるも
のではないが、ベンゼン、トルエン又はキシレンが好ま
しい。
【００２３】本発明の不斉ヒドロホスホニル化合物の製
造方法は、下記一般式化１４に示すアルデヒドと、下記
一般式化１５で示す燐酸ジエステル化合物とを反応させ
ることにより、下記一般式化１６に示す不斉ヒドロホス
ホニル化合物を得るのに好適に使用することができる。
【００２４】
【化１４】
【００２５】
【化１５】
【００２６】
【化１６】
【００２７】ここで、化１４〜１６に於いて、Ｒ1は水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭
素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、又はジアルキルアミノ基であり、Ｒ2は
炭素数１〜８のアルキル基、アリールアルキル基又はシ
リルアルキル基である。また、＊は不斉炭素原子を表し
ている。
【００２８】また、本発明の不斉ヒドロホスホニル化合
物の製造方法は、下記一般式化１７に示すアルデヒド
と、下記一般式化１８で示す燐酸ジエステル化合物とを
反応させることにより、下記一般式化１９に示す不斉ヒ
ドロホスホニル化合物を得るのに好適に使用することが
できる。
【００２９】
【化１７】
【００３０】
【化１８】
【００３１】
【化１９】
【００３２】ここで、化１７〜１９に於いて、Ｒ3，Ｒ4
及びＲ5は互いに独立に、水素原子、フェニル基、低級
アルキル置換フェニル基、低級アルコキシ置換フェニル
基、又は炭素数１〜８のアルキル基若しくはアルコキシ
基であり、Ｒ3及びＲ4、又はＲ4及びＲ5によって環が形
成されていてもよい。また、Ｒ6は炭素数１〜８のアル
キル基、アリールアルキル基又はシリルアルキル基であ
り、＊は不斉炭素原子を表している。
【００３３】更に、本発明の不斉ヒドロホスホニル化合
物の製造方法は、下記一般式化２０に示すアルデヒド
と、下記一般式化２１で示す燐酸ジエステル化合物とを
反応させることにより、下記一般式化２２に示す不斉ヒ
ドロホスホニル化合物を得るのに好適に使用することが
できる。
【００３４】
【化２０】
【００３５】
【化２１】
【００３６】
【化２２】
【００３７】ここで、化２０〜２２に於いて、Ｒ1は直
鎖若しくは分枝の炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素
数３〜１０の環状アルキル基である。また、Ｒ2は炭素
数１〜８のアルキル基、アリールアルキル基又はシリル
アルキル基であり、＊は不斉炭素原子を表している。
【００３８】本発明に於いては、不斉ヒドロキシホスホ
ニル化反応は、温度−７０℃〜４５℃の範囲で行うこと
ができるが、光学純度の点では−２０℃〜−６０℃が好
ましく、更に−３０℃〜−４５℃が好ましく、最も好ま
しい反応温度は−４０℃である。
【００３９】本発明の不斉ヒドロキシホスホニル化反応
においては、種々の有機溶媒を用いることができるが、
中でも特にキシレン、トルエン、ベンゼンなどの芳香族
炭化水素及びこれらの混合物が特に好ましい。しかし、
ヘキサン，ヘプタン等の脂肪族炭化水素、テトラヒドロ
フラン，ジエチルエーテル，メチルーtertーブチルエー
テル，ジオキサン等のエーテル化合物等も用いることが
できる。
【００４０】
【実施例】以下に実施例をもって、本発明の金属錯体の
調製方法、これらを触媒とした不斉マイケル反応及び不
斉ホスホニル化反応による不斉化合物の製造方法につい
て説明するが、本発明はこれらの開示によって限定され
るものではない。
【００４１】（実施例１：Al-Li-(R)-ビナフトール錯体
の調製）水酸化リチウムアルミニウム（114mg, 3.0mmo
l）を無水テトラヒドロフラン（15 ml）にアルゴン雰囲
気下で溶解し、この溶液に対し、(R)-ビナフトールの無
水テトラヒドロフラン溶液（1.72g, 6.0mmol / THF 15m
l）を０℃にて滴下し、室温で１２時間撹拌した。上澄
みをAl-Li-(R)-ビナフトール錯体のテトラヒドロフラン
溶液（0.1M）として使用する。
【００４２】（実施例２：Al-Na-(R)-ビナフトール錯体
の調製）(R)-ビナフトールの無水テトラヒドロフラン溶
液（0.1M, 2.0ml）に対し、０℃において水素化ジイソ
ブチルアルミニウムのテトラヒドロフラン溶液（1.0M,
0.1ml）を滴下し、１５分間撹拌した。その後、ナトリ
ウム−第３級ブトキサイドのテトラヒドロフラン溶液
（0.8M, 0.12ml）を加え、更に室温で３０分間撹拌し
て、Al-Na-(R)-ビナフトール錯体のテトラヒドロフラン
溶液を得る。
【００４３】（実施例３：Al-Ba-(R)-ビナフトール錯体
の調製）(R)-ビナフトールの無水テトラヒドロフラン溶
液（0.1M, 2.0ml）に対し、０℃において、水素化ジイ
ソブチルアルミニウムのテトラヒドロフラン溶液（1.0
M,0.1ml）を滴下し、15分間撹拌した、その後、あらか
じめバリウム−第３級ブトキサイド（Ba(O-tC4H9)2）に
対し、２当量のマロン酸ジベンジルを作用させて調製し
た、ジベンジルマロネートBaのテトラヒドロフラン溶液
（1.0M, 0.1ml）を加え、更に室温で３０分間撹拌し
て、Al-Ba-(R)-ビナフトール錯体のテトラヒドロフラン
溶液を得る。
【００４４】（実施例４：Al-Li-(R)-6,6'-ジブロモビ
ナフトールの調製）(R)-6,6'-ジブロモビナフトール
（(株)環境科学センターより入手）を実施例１の(R)-ビ
ナフトールに代えて用い、実施例１と同様にして、Al-L
i-(R)-6,6'-ジブロモビナフトールを得た。なお、参考
例として、(R)-6,6'-ジブロモビナフトールの合成方法
を以下に示す。
【００４５】（参考例）（(R)-6,6'-ジブロモビナフト
ールの合成） ２０mlの塩化メチレンに(R)−ビナフトール（750mg、2.
6mmol）を溶解し、−７８℃まで冷却した。この溶液
に、臭素（0.32ml、6.3mmol）を滴下し、−７８℃で３
０分間撹拌した後、室温にて２時間撹拌した。反応終了
後、チオ硫酸ナトリウムで処理し、6,6'-ジブロモビナ
フトールを得た（下記構造式化２３）。
【００４６】
【化２３】
【００４７】（実施例５：Al-Li-(R)-6,6'-ジシアノビ
ナフトールの調製） （6,6'-シ゛シアノヒ゛ナフトールの調製） （１）実施例４の参考例と同様の操作で反応させ、チオ硫
酸ナトリウムで処理したあとの、精製工程を省いて得た、粗
6,6'-ジブロモビナフトールを次の工程にそのまま用い
た。
【００４８】（２）粗6,6'-ジブロモビナフトールをジ
メチルホルムアミド（５ml、以下、ＤＭＦと略記する）
に溶解した。この溶液を、ナトリウムハイドライド（80
0mg）をＤＭＦ（30ml）に懸濁させた溶液に、氷冷下で
加え３０分撹拌した後、メトキシメチルクロライド（以
下、ＭＯＭＣｌと略記する）（1.2ml）を加えて室温で
３時間撹拌した。反応溶液を水に投入し、酢酸エチルで
抽出し、溶媒を留去して、粗Ｂｒ−ＭＯＭ保護体を得た
（下記構造式化２４）。
【００４９】
【化２４】
【００５０】（３）前工程（２）で得た、粗Ｂｒ−ＭＯ
Ｍ保護体をベンゼンに溶解し、共沸脱水を３回行う。そ
の後テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略記する）30
mlに溶解し、アルゴン雰囲気下で−７８℃に冷却した
後、ｎ−ブチルリチウム（4.3ml、Ｂｒ−ＭＯＭ保護体
に対して1.05当量）を加え、１時間撹拌した。その後、
乾燥ＤＭＦを500μｌ加え、室温で５時間撹拌した。反
応物を水に投入し、酢酸エチルで抽出し、溶媒を留去し
て、粗ＯＨＣ−ＭＯＭ保護体を得た（下記構造式化２
５）。
【００５１】
【化２５】
【００５２】この化合物についての分析結果を表１に示
す
【００５３】
【表１】
【００５４】（４）前工程（３）で得た、粗ＯＨＣ−Ｍ
ＯＭ保護体をメチルアルコール（80ml）に溶解し、炭酸
水素ナトリウム（10g）、塩酸ヒドロキシルアミン（4.1
g）を加え、室温にて１時間撹拌した。大部分のメチル
アルコールを留去した後、水に投入し、酢酸エチルで抽
出し、濃縮して、粗ジオキシム-ＭＯＭ保護体を得た
（下記構造式化２６）。本品を精製せずに次の工程に供
した。
【００５５】
【化２６】
【００５６】この化合物についての分析結果を表２に示
す。
【００５７】
【表２】
【００５８】（５）前工程（４）で得た化合物を塩化メ
チレン80mlに懸濁させ、１，８−ジアザビシクロ［５．
４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）（3.2ml）を加
え、完全に溶解させた。この溶液に、室温でｐ−トルエ
ンスルホニルクロライド（2.0g）を加え、室温にて３０
分間撹拌した後、水に投入し、酢酸エチルで抽出し、炭
酸ナトリウム水溶液で洗浄し、濃縮して、カラムクロマ
トグラフィー（フラッシュクロマトグラフィー法、Ｓｉ
Ｏ2）で精製して、ジシアノ−ＭＯＭ保護体（1.1g（湿
重量））を得た（下記構造式化２７）。
【００５９】
【化２７】
【００６０】この化合物についての分析結果を表３に示
す。
【００６１】
【表３】
【００６２】（６）前工程（５）で得た、ジシアノ−Ｍ
ＯＭ保護体を、ＴＨＦ（20ml）と濃塩酸（15ml）の混合
溶媒に溶解し、室温で２時間撹拌した。反応終了を薄層
クロマトグラフィーで確認後、反応液を水に投入し、酢
酸エチルで抽出し、濃縮した。濃縮残査を酢酸エチル／
ヘキサンの混合溶媒（酢酸エチル：ヘキサン＝２：３〜
１：２）から室温で再結晶させ、(R)-6,6'-ジシアノビ
ナフトール（500mg）を得た。
【００６３】使用した原料ビナフトールに対する収率は
５１％であった。上記、再結晶母液から、再び再結晶を
行い、更に１６０ｍｇ（収率１６％）を得、合計６６０
ｍｇの(R)-6,6'-ジシアノビナフトール（下記構造式化
２８）を得た。(R)-ビナフトールからの合計収率は６７
％であった。
【００６４】
【化２８】
【００６５】この化合物についての分析結果を表４に示
す
【００６６】
【表４】
【００６７】（７）Al-Li-(R)-6,6'-ジシアノビナフト
ールの調製。
【００６８】上記の工程（１）〜（６）で得た(R)-6,6'
-ジシアノビナフトールを、実施例１の(R)-ビナフトー
ルに代えて用い、実施例１と同様の操作で、Al-Li-(R)-
6,6'-ジシアノビナフトールを得た。
【００６９】（実施例６：不斉マイケル反応）Al-Li-
(R)-ビナフトール錯体のテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 1.0ml）に、シクロヘキセノン（96mg, 1.0mmol）、
ジベンジル−マロネート（250mg, 1.0mmol）を加え、室
温で４８時間撹拌し、下記の化２９に示す不斉マイケル
反応を行った。反応液に対して1N-HCl水溶液（3ml）を
加えて反応を停止させ、酢酸エチル（15ml×３回）で抽
出を行い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させた。溶媒を溜去し、Ｓ
ｉＯ2を用いたフラッシュカラムクロマトグラフィー
（アセトン／ヘキサン＝1/10）によって精製することに
より、目的とするマイケル反応生成物を収率９１％で得
た。
【００７０】
【化２９】
【００７１】本実施例の反応生成物の分析結果を表５に
示す。
【００７２】
【表５】
【００７３】（実施例７：不斉マイケル反応）実施例６
と同様の反応条件及び操作により、シクロヘキセノンと
マロン酸ジエチルとを用いて不斉マイケル反応を行い、
化３０の反応生成物を収率８７％で得た。
【００７４】
【化３０】
【００７５】この反応生成物について実施例６と同様の
分析を行い、表６に示す結果を得た。
【００７６】
【表６】
【００７７】（実施例８：不斉マイケル反応）実施例６
と同様の反応条件及び操作により、シクロヘキセノンと
マロン酸ジメチルとを用いて不斉マイケル反応を行い、
化３１の反応生成物を収率９０％で得た。
【００７８】
【化３１】
【００７９】この反応生成物について実施例６と同様の
分析を行い、表７に示す結果を得た。
【００８０】
【表７】
【００８１】（実施例９：不斉マイケル反応）実施例６
と同様の反応条件及び操作により、シクロペンテノンと
マロン酸ジベンジルとを用いて不斉マイケル反応を行
い、化３２の反応生成物を収率９３％で得た。
【００８２】
【化３２】
【００８３】この反応生成物について実施例６と同様の
分析を行い、表８に示す結果を得た。
【００８４】
【表８】
【００８５】（実施例１０：不斉マイケル反応）実施例
６と同様の反応条件及び操作により、シクロペンテノン
とメチルマロン酸ジエチルを用いて不斉マイケル反応を
行い、化９の反応生成物を収率８４％で得た。
【００８６】
【化３３】
【００８７】この反応生成物について実施例２と同様の
分析を行い、表９に示す結果を得た。
【００８８】
【表９】
【００８９】（実施例１１：不斉マイケル反応）実施例
２にて得た溶液に、シクロヘキセノン（96mg, 1.0mmo
l）、マロン酸ジベンジル（250mg, 1.0mmol）を加え、
室温で４８時間撹拌した。反応液に対し、１Ｎ−ＨＣｌ
水溶液（３ml）を加えて反応を停止させ、酢酸エチル
（15ml×３回）にて抽出を行い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ
た。反応液から溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマ
トグラフィー（アセトン／ヘキサン＝１／１０、ＳｉＯ
2）により精製して、目的とするマイケル反応生成物を
収率４４％にて得た。ＨＰＬＣ分析による光学純度は９
７％e.e.（ＨＰＬＣ分析条件は実施例６に同じ）であっ
た。
【００９０】（実施例１２：不斉マイケル反応）実施例
３で得た溶液に、シクロヘキセノン（96mg, 1.0mmo
l）、マロン酸ジベンジル（250mg, 1.0mmol）を加え、
室温で６時間撹拌した。この反応液に１Ｎ−ＨＣｌ水溶
液（３ml）を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（15ml
×３回）にて抽出を行い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させた。反
応液から溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラ
フィー（アセトン／ヘキサン＝１／１０、ＳｉＯ2）に
より精製して、目的とするマイケル反応生成物を収率１
００％にて得た。ＨＰＬＣ分析による光学純度は８７％
e.e.（ＨＰＬＣ分析条件は実施例６に同じ）であった。
【００９１】（実施例１３：三成分連結型反応）実施例
１において得たAl-Li-(R)-ビナフトール錯体の溶液（0.
1M,1.0ml）に対し、シクロペンテノン（84mg, 1.0mmo
l）、メチルマロン酸ジエチル（138mg, 1.0mmol）及び
ハイドロシンナムアルデヒド（158mg, 1.2mmol）を加
え、室温で３６時間撹拌して、下記に示す反応を行っ
た。
【００９２】
【化３４】
【００９３】次に、この反応液に対し、１Ｎ−ＨＣｌ水
溶液（3ml）を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（15m
l×３回）にて抽出を行い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させた。
溶媒を溜去の後、フラッシュカラムクロマトグラフィー
（アセトン／ヘキサン＝１／１０、ＳｉＯ2）により精
製して目的の三成分連結型反応の生成物を収率６４％で
得た。この反応生成物について実施例６と同様の分析を
行い、表１０に示す結果を得た。
【００９４】
【表１０】
【００９５】（実施例１４：三成分連結型反応）実施例
１において得たAl-Li-(R)-ビナフトール錯体の溶液（0.
1M, 1.0ml）に対し、シクロペンテノン（84mg, 1.0mmo
l）、メチルマロン酸ジエチル（138mg,1.0mmol）及びベ
ンズアルデヒド（122mg, 1.2mmol）を加え、室温で７２
時間撹拌し、下記に示す反応を行った。
【００９６】
【化３５】
【００９７】以下、実施例１３と同様の処理を行い、目
的物を収率８２％にて得た。この反応生成物について実
施例６と同様の分析を行うため、化３６に示すようにク
ロロクロム酸ピリジニウム（以下、ＰＣＣと略記する）
で酸化してジケトン体を得た。このジケトン体の分析結
果を表１１に示した。この表に示すジケトン体のＨＰＬ
Ｃ分析によれば光学純度は８９％e.e.であった。従っ
て、本実施例の三成分連結型の反応生成物の光学純度も
８９％e.e.であると考えられる。
【００９８】
【化３６】
【００９９】
【表１１】
【０１００】（実施例１５：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１で得た、Al-Li-(R)-ビナフトール錯体（以
下、ＡＬＢと略記する）のテトラヒドロフラン溶液（0.
1M, 0.36ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol) を加え
て３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に冷却
し、１５分間この温度を保った後、ベンズアルデヒド
（0.48mmol）を加えた。９０時間反応後、１Ｎ塩酸を加
え反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽出
し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を溜
去し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（アセトン
／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって精製すること
により、目的とするジメチル-(S)-ヒドロキシフェニル
メチルホスホネートを収率９５％にて得た。本実施例に
於ける化学反応式を化３７に示す。
【０１０１】
【化３７】
【０１０２】この反応生成物についての分析結果を表１
２に示す。
【０１０３】
【表１２】
【０１０４】（実施例１６：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温
で加えて３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に
冷却し１５分間この温度を維持し、次にベンズアルデヒ
ド（0.40mmol）を加えた。５１時間反応後、１Ｎ塩酸を
加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽
出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を
溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（アセト
ン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって精製するこ
とにより、目的とするジメチル-(S)-ヒドロキシ−フェ
ニルメチルホスホネートを収率９０％にて得た。本実施
例に於ける化学反応式を化３８に示す。
【０１０５】
【化３８】
【０１０６】この反応生成物についての分析結果を表１
３に示す。
【０１０７】
【表１３】
【０１０８】（実施例１７〜２０：不斉ヒドロホスホニ
ル化反応）更に、化３８と同様の反応を反応溶媒を変え
て行い、表１４に示す分析結果を得た。
【０１０９】
【表１４】
【０１１０】（実施例２１：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温
で加えて３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に
冷却し、１５分間この温度を保った後、p-クロロベンズ
アルデヒド（0.40mmol）を加えた。３８時間反応後、１
Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３
回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィ
ー （アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によっ
て精製することにより、目的とするジメチル-(S)-ヒド
ロキシ（ｐ−クロロフェニル）メチルホスホネートを収
率９０％にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化３
９に示す。
【０１１１】
【化３９】
【０１１２】この反応生成物についての分析結果を表２
に示す。
【０１１３】
【表１５】
【０１１４】（実施例２２：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温
で加えて３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に
冷却し、１５分間この温度を保った後、p-メチルベンズ
アルデヒド（0.40mmol）を加えた。９２時間反応後、１
Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３
回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィ
ー （アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によっ
て精製することにより、目的とするジメチル-(S)-ヒド
ロキシ（ｐ−メチルフェニル）メチルホスホネートを収
率８２％にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化４
０に示す。
【０１１５】
【化４０】
【０１１６】この反応生成物についての分析結果を表１
６に示す。
【０１１７】
【表１６】
【０１１８】（実施例２３：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温
で加えて３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に
冷却し、１５分間この温度を保った後、p-メトキシベン
ズアルデヒド（0.40mmol） を加えた。１１５時間反応
後、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10
ml×３回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾
燥した。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラ
フィー（アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によ
って精製することにより、目的とするジメチル-(S)-ヒ
ドロキシ（ｐ−メトキシフェニル）メチルホスホネート
を収率８８％にて得た。本実施例に於ける化学反応式を
化４１に示す。
【０１１９】
【化４１】
【０１２０】この反応生成物についての分析結果を表１
７に示す。
【０１２１】
【表１７】
【０１２２】（実施例２４：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１で得た、ＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液
（0.1M, 0.40ml）に、室温でジメチルホスファイト（37
μl, 0.40mmol）を加えて３０分間撹拌する。次に反応
容器を−７８℃に冷却し、１５分間この温度を保った
後、ｐ-ニトロベンズアルデヒド（0.40mmol）を加え
た。室温まで反応温度を上昇させ、１２時間反応後、１
Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３
回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィ
ー（アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって
精製することにより、目的とするジメチル-(S)-ヒドロ
キシ-（ｐ−ニトロフェニル）メチルホスホネートを収
率８１％にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化４
２に示す。
【０１２３】
【化４２】
【０１２４】この反応生成物についての分析結果を表１
８に示す。
【０１２５】
【表１８】
【０１２６】（実施例２５：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１で得た、ＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液
（0.1 M, 0.40ml）に、室温でジメチルホスファイト（3
7μl, 0.40mmol）を室温で加えて３０分間撹拌する。次
に反応容器を−４０℃に冷却し、１５分間この温度を保
った後、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド（0.40mm
ol）を加えた。４８時間反応後、１Ｎ塩酸を加えて反応
を停止させ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽出し、食塩
水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を溜去し、フ
ラッシュカラムクロマトグラフィー（アセトン／ヘキサ
ン＝１／５、ＳｉＯ2）によって精製することにより、
目的とするジメチル-(S)-ヒドロキシ-（ｐ−ジメチルア
ミノフェニル）メチルホスホネートを収率７１％にて得
た。本実施例に於ける化学反応式を化４３に示す。
【０１２７】
【化４３】
【０１２８】この反応生成物についての分析結果を表１
９に示す。
【０１２９】
【表１９】
【０１３０】（実施例２６：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１で得た、ＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液
（0.1 M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴ
ン雰囲気下でトルエンを 0.4ml 添加する。この溶液に
対し、室温でジエチルホスファイト（0.40mmol）を加え
て３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に冷却
し、１５分間この温度を保った後、ベンズアルデヒド
（0.40mmol）を加えた。９０時間反応後、１Ｎ塩酸を加
えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽出
し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を溜
去し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（アセトン
／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって精製すること
により、目的とするジエチル-(S)-ヒドロキシ-フェニル
メチルホスホネートを収率３９％にて得た。本実施例に
於ける化学反応式を化４４に示す。
【０１３１】
【化４４】
【０１３２】この反応生成物についての分析結果を表２
０に示す。
【０１３３】
【表２０】
【０１３４】（実施例２７：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例２６で用いたジエチルホスファイトに代え
て、ジブチルホスファイトを用いた他は、実施例２６と
同様の操作を行い、目的とするジブチル-(S)-ヒドロキ
シ-フェニルメチルホスホネートを収率４２％にて得
た。
【０１３５】この反応生成物についての分析結果を表２
１に示す。
【０１３６】
【表２１】
【０１３７】（実施例２８：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例２６で用いた、ジエチルホスファイトに代え
て、ジベンジルホスファイトを用い、室温で６．５時間
反応させた他は、実施例２６と同様の操作を行い、目的
とするジベンジル-(S)-ヒドロキシ-フェニルメチルホス
ホネートを収率６０％にて得た。この反応生成物につい
ての分析結果を表２２に示す。
【０１３８】
【表２２】
【０１３９】（実施例２９：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M,0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲気
下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室温
でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温で
加えて３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に冷
却し、１５分間この温度を保った後、シンナムアルデヒ
ド（0.40mmol）を加えた。８１時間反応後、１Ｎ塩酸を
加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽
出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を
溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（アセト
ン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって精製するこ
とにより、目的とするジメチル-(E)-(S)-１-ヒドロキシ
-３-フェニル-２-プロペニルホスホネートを収率８５％
にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化４５に示
す。
【０１４０】
【化４５】
【０１４１】この反応生成物についての分析結果を表２
３に示す。
【０１４２】
【表２３】
【０１４３】（実施例３０：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温
で加えて３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に
冷却し、１５分間この温度を保った後、(E)-β-メチル
シンナムアルデヒド（0.40mmol）を加えた。８１時間反
応後、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル
（10ml×３回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4
で乾燥した。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマト
グラフィー（アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）
によって精製することにより、目的とするジメチル-(E)
-(S)-１-ヒドロキシ-３-メチル-３-フェニル-２-プロペ
ニルホスホネートを収率９３％にて得た。本実施例に於
ける化学反応式を化４６に示す。
【０１４４】
【化４６】
【０１４５】この反応生成物についての分析結果を表２
４に示す。
【０１４６】
【表２４】
【０１４７】（実施例３１：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40 mmol）を加え
て３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に冷却
し、１５分間この温度を保った後、３-メチル-２-ブテ
ナール（0.40 mmol） を加えた。８１時間反応後、１Ｎ
塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３
回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィ
ー（アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって
精製することにより、目的とするジメチル-(S)-１-ヒド
ロキシ-３-メチル-２-ブテニルホスホネートを収率７２
％にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化４７に示
す。
【０１４８】
【化４７】
【０１４９】この反応生成物についての分析結果を表２
５に示す。
【０１５０】
【表２５】
【０１５１】（実施例３２：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M,0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲気
下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室温
でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を加えて
３０分間撹拌する。次に反応容器を−４０℃に冷却し、
１５分間この温度を保った後、２-ヘキシニルアルデヒ
ド（0.40mmol）を加えた。３９時間反応後、１Ｎ塩酸を
加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽
出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を
溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィー（アセト
ン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって精製するこ
とにより、目的とするジメチル-(E)-(S)-１-ヒドロキシ
-２-ヘキセニルホスホネートを収率５３％にて得た。本
実施例に於ける化学反応式を化４８に示す。
【０１５２】
【化４８】
【０１５３】この反応生成物についての分析結果を表２
６に示す。
【０１５４】
【表２６】
【０１５５】（実施例３３：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M, 0.40ml）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol）を室温
で加えて３０分撹拌する。次に反応容器を−４０℃に冷
却し、１５分間この温度を保った後、(E)-α-メチルシ
ンナムアルデヒド（0.40mmol） を加えた。６１時間反
応後、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル
（10ml ×３回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ
4で乾燥した。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマ
トグラフィー（アセトン／ヘキサン＝１／５、Ｓｉ
Ｏ2）によって精製することにより、目的とするジメチ
ル-(E)-(S)-１-ヒドロキシ-２-メチル-３-フェニル-２-
プロペニルホスホネートを収率４７％にて得た。本実施
例に於ける化学反応式を化４９に示す。
【０１５６】
【化４９】
【０１５７】この反応生成物についての分析結果を表２
７に示す。
【０１５８】
【表２７】
【０１５９】（実施例３４：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例３３に用いた(E)-α-メチルシンナムアルデ
ヒド（0.40mmol）に代えて２−メチルプロペナールを用
い、３５時間反応する他は、実施例３３と同様の操作で
目的とするジメチル-(E)-(S)-１-ヒドロキシ-２-メチル
-２-プロペニルホスホネートを収率６５％にて得た。本
実施例に於ける化学反応式を化５０に示す。
【０１６０】
【化５０】
【０１６１】この反応生成物についての分析結果を表２
８に示す。
【０１６２】
【表２８】
【０１６３】（実施例３５：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例３３に用いた(E)-α-メチルシンナムアルデ
ヒド（0.40mmol）に代えて、シクロヘキシリデン−△1
α−アセトアルデヒドを用い、４７時間反応する他は、
実施例３３と同様の操作で目的とするジメチル-(S)-シ
クロヘキシリデン−△1α−１−ヒドロキシエチルホス
ホネートを収率６５％にて得た。本実施例に於ける化学
反応式を化５１に示す。
【０１６４】
【化５１】
【０１６５】この反応生成物についての分析結果を表２
９に示す。
【０１６６】
【表２９】
【０１６７】（実施例３６：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例１のＡＬＢのテトラヒドロフラン溶液（0.1
M,0.40ml ）を室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲
気下でトルエンを0.4ml添加する。この溶液に対し、室
温でジメチルホスファイト（37μl, 0.40mmol ）を加え
て３０分撹拌する。次に反応容器を-４０℃に冷却し、
１５分間この温度を保った後、２-メチルプロピオンア
ルデヒド（0.40mmol）を加えた。３８時間反応後、１Ｎ
塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチル（10ml×３
回）で抽出し、食塩水で洗浄後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を溜去し、フラッシュカラムクロマトグラフィ
ー（アセトン／ヘキサン＝１／５、ＳｉＯ2）によって
精製することにより、目的とするジメチル−(S)−１−
ヒドロキシ−２−メチルプロピルホスホネートを収率９
５％にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化５２に
示す。
【０１６８】
【化５２】
【０１６９】この反応生成物についての分析結果を表３
０に示す。
【０１７０】
【表３０】
【０１７１】（実施例３７：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例３６に用いた２-メチルプロピオンアルデヒ
ドに代えてヘキサナールを用い、２０時間反応する他
は、実施例３６と同様の操作で目的とするジメチル-(S)
-１-ヒドロキシヘキシルホスホネートを収率９０％にて
得た。本実施例に於ける化学反応式を化５３に示す。
【０１７２】
【化５３】
【０１７３】この反応生成物についての分析結果を表３
１に示す。
【０１７４】
【表３１】
【０１７５】（実施例３８：不斉ヒドロホスホニル化反
応）実施例３６に用いた２-メチルプロピオンアルデヒ
ドに代えてシクロヘキサナールを用い、４３時間反応す
る他は、実施例３６と同様の操作で目的とするジメチル
-(S)-１-ヒドロキシヘキシルホスホネートを収率９１％
にて得た。本実施例に於ける化学反応式を化５４に示
す。
【０１７６】
【化５４】
【０１７７】この反応生成物についての分析結果を表３
２に示す。
【０１７８】
【表３２】
【０１７９】（実施例３９：Al-Li-(R)-6,6'-ジブロモ
ビナフトール（以下、ＡＬＢ−Ｂｒと略記する）を用い
た不斉ヒドロホスホニル化反応）実施例４で得た、ＡＬ
Ｂ−Ｂｒのテトラヒドロフラン溶液（0.1M, 0.40ml）を
室温で１時間減圧濃縮し、アルゴン雰囲気下でトルエン
を0.4ml添加する。この溶液に対し、ジメチルホスファ
イト（37μl, 0.40 mmol) を室温で加えて３０分撹拌す
る。次に反応容器を−４０℃に冷却し、１５分間この温
度を保った後、ベンズアルデヒド（0.40mmol）を加え
た。５９時間反応後、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止さ
せ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽出し、食塩水で洗浄
後、Ｎａ2ＳＯ４で乾燥した。溶媒を溜去し、フラッシ
ュカラムクロマトグラフィー（アセトン／ヘキサン＝１
／５、ＳｉＯ２）によって精製することにより、目的と
するジメチル-(S)-ヒドロキシ−フェニルメチルホスホ
ネートを収率９１％にて得た。本実施例に於ける化学反
応式を化５５に示す。
【０１８０】
【化５５】
【０１８１】この反応生成物についての分析結果を表３
３に示す。
【０１８２】
【表３３】
【０１８３】（実施例４０：ＡＬＢ−Ｂｒを用いた不斉
ヒドロホスホニル化反応）実施例３９で用いた、ベンズ
アルデヒドに代えて、ｐ-メトキシベンズアルデヒドを
用いた他は、実施例３９と同様の操作を行い、目的とす
るジメチル-(S)-ヒドロキシ（ｐ−メトキシフェニル）
メチルホスホネートを収率７２％にて得た。本実施例に
於ける化学反応式を化５６に示す。
【０１８４】
【化５６】
【０１８５】この反応生成物についての分析結果を表３
４に示す。
【０１８６】
【表３４】
【０１８７】（実施例４１：Al-Li-(R)-6,6'-シ゛シアノヒ゛ナフ
トール（以下、ＡＬＢ−ＣＮと略記する）を用いた不斉ヒト゛
ロホスホニル化反応-1）実施例５で得た、ＡＬＢ−ＣＮのテト
ラヒドロフラン溶液（0.1M, 0.40ml）を室温で１時間減
圧濃縮し、アルゴン雰囲気下でトルエンを0.4ml添加す
る。この溶液に対し、ジメチルホスファイト（37μl,
0.40mmol)を室温で加えて３０分間撹拌する。次に反応
容器を−４０℃に冷却し、１５分間この温度を保った
後、ｐ-メトキシベンズアルデヒド（0.40mmol）を加え
た。５９時間反応後、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止さ
せ、酢酸エチル（10ml×３回）で抽出し、食塩水で洗浄
後、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を溜去し、フラッシュ
カラムクロマトグラフィー（アセトン／ヘキサン＝１／
５、ＳｉＯ2）によって精製することにより、目的とす
るジメチル-(R)-ヒドロキシ（ｐ−メトキシフェニル）
メチルホスホネートを収率２５％にて得た。本実施例に
於ける化学反応式を化５７に示す。
【０１８８】
【化５７】
【０１８９】この反応生成物についての分析結果を表３
５に示す。
【０１９０】
【表３５】
【０１９１】（実施例４２：ＡＬＢ−ＣＮを用いた不斉
ヒドロホスホニル化反応）実施例４１で用いた、ｐ-メ
トキシベンズアルデヒドに代えて、２−メチルプロピオ
ンアルデヒドを用いた他は、実施例４１と同様の操作を
行い、目的とするジメチル-(S)-1-ヒドロキシ-2-メチル
プロピルホスホネートを収率６６％にて得た。本実施例
に於ける化学反応式を化５８に示す。
【０１９２】
【化５８】
【０１９３】この反応生成物についての分析結果を表３
６に示す。
【０１９４】
【表３６】
【０１９５】（実施例４３：ＡＬＢ−ＣＮを用いた不斉
ヒドロホスホニル化反応）実施例４１で用いた、ｐ-メ
トキシベンズアルデヒドに代えて、３-メチル-２-ブテ
ナールを用いた他は、実施例４１と同様の操作を行い、
目的とするジメチル-(R)-１-ヒドロキシ-３-メチル-２-
ブテニルホスホネートを収率３４％にて得た。本実施例
に於ける化学反応式を化５９に示す。
【０１９６】
【化５９】
【０１９７】この反応生成物についての分析結果を表３
７に示す。
【０１９８】
【表３７】
【０１９９】（参考例：不飽和結合の還元）実施例３１
で得たジメチル(S)-１-ヒドロキシ-３-メチル-２-ブテ
ニルホスホネート（68% e.e., 54mg）をメタノール１０
mlに溶解し、１０％Pd/C（16mg）を加える。室温、水素
雰囲気下で３時間撹拌後、反応液をセライトを用いてろ
過し、酢酸エチルで洗った。有機層を減圧下で溶媒留去
し、残査をフラッシュカラムクロマトグラフィー（アセ
トン／ヘキサン＝１／４、ＳｉＯ2）によって精製する
ことにより、目的とするジメチル-(S)-１-ヒドロキシ-
３-メチルブチルホスホネートを収率９８％で得た。こ
の化合物は、医薬品などの原料として有用であることが
知られている。本実施例に於ける化学反応式を化６０に
示す。
【０２００】
【化６０】
【０２０１】この反応生成物についての分析結果を表３
８に示す。
【０２０２】
【表３８】
【０２０３】
【発明の効果】本発明の不斉化合物の製造方法によれ
ば、不斉マイケル反応、不斉ホスホニル化反応に於い
て、希土類金属元素を含有していない金属錯体を触媒と
して使用しているにもかかわらず、光学純度の高い光学
活性体を高収率で得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/738 9546−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 69/738 Ａ 9546−4Ｈ Ｚ Ｃ０７Ｆ 9/40 9450−4Ｈ Ｃ０７Ｆ 9/40 Ｂ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光学活性ビナフトール又はその誘導体
    と、水素化アルカリ金属アルミニウム又は水素化アルカ
    リ金属アルミニウム化合物とを反応させて得られる金属
    錯体を用いて不斉マイケル反応を行う、不斉マイケル付
    加化合物の製造方法。
  2. 【請求項２】 光学活性ビナフトール又はその誘導体
    と、水素化アルカリ金属アルミニウム又は水素化アルカ
    リ金属アルミニウム化合物とを反応させて得られる金属
    錯体を用いて、不斉ホスホニル化反応を行う、不斉ヒド
    ロホスホニル化化合物の製造方法。
  3. 【請求項３】 光学活性ビナフトール又はその誘導体
    と、水素化ジアルキルアルミニウムと、アルカリ金属を
    含む塩基又はアルカリ土類金属を含む塩基とを反応させ
    て得られる金属錯体を用いて不斉マイケル反応を行う、
    不斉マイケル付加化合物の製造方法。
  4. 【請求項４】 光学活性ビナフトール又はその誘導体
    と、水素化ジアルキルアルミニウムと、アルカリ金属を
    含む塩基又はアルカリ土類金属を含む塩基とを反応させ
    て得られる金属錯体を用いて不斉ヒドロホスホニル化反
    応を行う、不斉ヒドロホスホニル化化合物の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記光学活性ビナフトール又はその誘導
    体と、前記水素化アルカリ金属アルミニウムとの当量比
    が１〜４：１である、請求項１又は２に記載の製造方
    法。
  6. 【請求項６】 前記光学活性ビナフトール又はその誘導
    体と、前記水素化ジアルキルアルミニウムと、前記アル
    カリ金属を含む塩基又は前記アルカリ土類金属を含む塩
    基との当量比が、１〜４：０．５〜２：１である、請求
    項３又は４に記載の製造方法。
  7. 【請求項７】 前記光学活性ビナフトール誘導体が、一
    般式化１に示される化合物の光学活性体である請求項１
    〜６に記載の製造方法。 【化１】 （式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水
    素原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハロゲ
    ン、シアノ基及びニトロ基からなる群から選択される基
    であり、Ｒ1〜Ｒ4は互いに同じ又は異なっていても良
    い。）
  8. 【請求項８】 前記金属錯体は、有機溶媒を用いて前記
    反応を行うことにより得られる前記金属錯体又はその溶
    液として用いられる請求項１〜７に記載の製造方法。
  9. 【請求項９】 前記有機溶媒がエーテル化合物である請
    求項８に記載の製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記エーテル化合物が、テトラヒドロ
    フラン、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエー
    テル、ジオキサンからなる群から選択されるものである
    請求項９に記載の製造方法。
  11. 【請求項１１】 請求項１又は３に於ける前記不斉マイ
    ケル反応が、シクロペンテノン又はシクロヘキセノン
    と、マロン酸ジエステル又はアルキルマロン酸のジエス
    テルとの反応である不斉化合物の製造方法。
  12. 【請求項１２】 更に、脂肪酸又は芳香族のアルデヒド
    を加えて不斉マイケル反応を行うことにより、下記一般
    式化２で示される三成分連結型の光学活性化合物を得る
    請求項１１に記載の不斉化合物の製造方法 【化２】 （Ｒ1は脂肪族化合物又は芳香族化合物の残基、Ｒ2は水
    素又はアルキル基、Ｒ3はアルキル基又はアラルキル基
    である。）
  13. 【請求項１３】 請求項２又は４に於いて、前記不斉ホ
    スホニル化反応をベンゼン、トルエン及びキシレンから
    なる群から選択される有機溶媒を用いて行う不斉ヒドロ
    ホスホニル化化合物の製造方法。
  14. 【請求項１４】 請求項２、４又は１３に於いて、前記
    不斉ホスホニル化反応が下記一般式化３で示されるアル
    デヒドと、 【化３】 （Ｒ1は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のア
    ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトロ基、ア
    ミノ基、アルキルアミノ基、又はジアルキルアミノ基で
    ある。） 下記一般式化４で示される燐酸ジエステル化合物とを、
    反応させることにより、 【化４】 （Ｒ2は、炭素数１〜８のアルキル基、アリールアルキ
    ル基又はシリルアルキル基である。） 下記一般式化５で示される不斉ヒドロホスホニル化化合
    物を得る反応である、不斉ヒドロホスホニル化化合物の
    製造方法。 【化５】 （Ｒ1，Ｒ2はそれぞれ化３及び化４と同じであり、＊は
    不斉炭素原子を表わす。）
  15. 【請求項１５】 請求項２、４又は１３に於いて、前記
    不斉ホスホニル化反応が、下記一般式化６で示されるア
    ルデヒドと、 【化６】 （Ｒ3，Ｒ4及びＲ5は互いに独立に、水素原子、フェニ
    ル基、低級アルキル置換フェニル基、低級アルコキシ置
    換フェニル基、又は炭素数１〜８のアルキル基若くはア
    ルコキシ基であり、Ｒ3及びＲ4、又はＲ4及びＲ5によっ
    てそれぞれ環状構造が形成されていてもよい。） 下記一般式化７で示される燐酸ジエステル化合物とを、
    反応させることにより、 【化７】 （Ｒ6は、炭素数１〜８のアルキル基、アリールアルキ
    ル基又はシリルアルキル基である。） 下記一般式化８で示される不斉ヒドロホスホニル化化合
    物を得る反応である、不斉ヒドロホスホニル化化合物の
    製造方法。 【化８】 （Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ化６及び化７と同じであり、＊
    は不斉炭素原子を表わす。）
  16. 【請求項１６】 請求項２、４又は１３に於いて前記不
    斉ホスホニル化反応が下記一般式化９で示されるアルデ
    ヒドと、 【化９】 （Ｒ1は、直鎖若くは分岐の炭素数１〜８のアルキル
    基、又は炭素数３〜１０の環状アルキル基である。） 下記一般式化１０で示される燐酸ジエステル化合物と
    を、不斉ホスホニル化反応させることにより、 【化１０】 （Ｒ2は、炭素数１〜８のアルキル基、アリールアルキ
    ル基又はシリルアルキル基である。） 下記一般式化１１で示される不斉ヒドロホスホニル化化
    合物を得る反応である、不斉ヒドロホスホニル化化合物
    の製造方法。 【化１１】 （Ｒ1及びＲ2は、それぞれ化１０及び化１１と同じであ
    り、＊は不斉炭素原子を表わす。）
  17. 【請求項１７】 前記不斉ホスホニル化反応が、−７０
    ℃〜４５℃の範囲で行われる請求項１４乃至１６の何れ
    かに記載の不斉ホスホニル化化合物の製造方法。
JP04610696A 1995-03-22 1996-03-04 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法 Expired - Lifetime JP3782149B2 (ja)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04610696A JP3782149B2 (ja) 1995-03-22 1996-03-04 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法
DE69636516T DE69636516D1 (de) 1995-03-22 1996-03-21 Verfahren zur herstellung einer asymmetrischen verbindung unter verwendung eines metallkomplexes
CN96193449.2A CN1182412A (zh) 1995-03-22 1996-03-21 用金属配合物制备不对称化合物的方法
US08/913,784 US5847186A (en) 1995-03-22 1996-03-21 Process for preparing asymmetric compound by using metal complex
AU50142/96A AU5014296A (en) 1995-03-22 1996-03-21 Process for preparing asymmetric compound by using metal complex
PCT/JP1996/000739 WO1996029295A1 (fr) 1995-03-22 1996-03-21 Procede pour l'elaboration d'un compose asymetrique a l'aide d'un complexe metallique
AT96906911T ATE338739T1 (de) 1995-03-22 1996-03-21 Verfahren zur herstellung einer asymmetrischen verbindung unter verwendung eines metallkomplexes
EP96906911A EP0826652B1 (en) 1995-03-22 1996-03-21 Process for preparing asymmetric compound by using metal complex
US09/149,735 US6090969A (en) 1995-03-22 1998-09-08 Process for the preparation of an asymmetric compound using a metal complex

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6309195 1995-03-22
JP7-63091 1995-03-22
JP04610696A JP3782149B2 (ja) 1995-03-22 1996-03-04 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08319258A true JPH08319258A (ja) 1996-12-03
JP3782149B2 JP3782149B2 (ja) 2006-06-07

Family

ID=26386228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP04610696A Expired - Lifetime JP3782149B2 (ja) 1995-03-22 1996-03-04 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (2) US5847186A (ja)
EP (1) EP0826652B1 (ja)
JP (1) JP3782149B2 (ja)
CN (1) CN1182412A (ja)
AT (1) ATE338739T1 (ja)
AU (1) AU5014296A (ja)
DE (1) DE69636516D1 (ja)
WO (1) WO1996029295A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11240865A (ja) * 1998-02-23 1999-09-07 Nissan Chem Ind Ltd 光学活性化合物の製造法
WO2006109442A1 (ja) * 2005-04-12 2006-10-19 Japan Science And Technology Agency 光学活性なα－ヒドロキシホスホン酸及びその誘導体の製造方法、光学活性アルミニウム（サラレン）錯体及びその製造方法、並びにサラレン配位子の製造方法
US7268250B2 (en) 2003-01-17 2007-09-11 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Process for producing optically active compound

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3782149B2 (ja) * 1995-03-22 2006-06-07 長瀬産業株式会社 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法
ES2299538T3 (es) 2001-03-07 2008-06-01 Firmenich Sa Procedimiento para la preparacion de aductos de michael.
TW200619222A (en) * 2004-09-02 2006-06-16 Rohm & Haas Elect Mat Method for making organometallic compounds

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0714898B2 (ja) * 1988-07-28 1995-02-22 高砂香料工業株式会社 光学活性α−ヒドロキシカルボン酸エステルの製造法
JP3439255B2 (ja) * 1994-03-31 2003-08-25 長瀬産業株式会社 不斉マイケル反応を触媒する金属錯体
JP3782149B2 (ja) * 1995-03-22 2006-06-07 長瀬産業株式会社 不斉合成用の金属錯体、触媒及びこれを用いた不斉化合物の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11240865A (ja) * 1998-02-23 1999-09-07 Nissan Chem Ind Ltd 光学活性化合物の製造法
US7268250B2 (en) 2003-01-17 2007-09-11 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Process for producing optically active compound
WO2006109442A1 (ja) * 2005-04-12 2006-10-19 Japan Science And Technology Agency 光学活性なα－ヒドロキシホスホン酸及びその誘導体の製造方法、光学活性アルミニウム（サラレン）錯体及びその製造方法、並びにサラレン配位子の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69636516D1 (de) 2006-10-19
ATE338739T1 (de) 2006-09-15
US5847186A (en) 1998-12-08
JP3782149B2 (ja) 2006-06-07
EP0826652A4 (en) 1999-05-26
CN1182412A (zh) 1998-05-20
US6090969A (en) 2000-07-18
WO1996029295A1 (fr) 1996-09-26
EP0826652B1 (en) 2006-09-06
EP0826652A1 (en) 1998-03-04
AU5014296A (en) 1996-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4264418B2 (ja) メタセシス反応用（予備）触媒としてのルテニウム錯体
Bandini et al. The First Catalytic Enantioselective Nozaki–Hiyama Reaction
Gendrineau et al. C1-symmetric monosubstituted chiral diene ligands in asymmetric rhodium-catalyzed 1, 4-addition reactions.
Kisanga et al. Synthesis of new proazaphosphatranes and their application in organic synthesis
Dimitrov et al. Chiral β-and γ-aminoalcohols derived from (+)-camphor and (−)-fenchone as catalysts for the enantioselective addition of diethylzinc to benzaldehyde
Sobhani et al. One‐pot synthesis of primary 1‐aminophosphonates: Coupling reaction of carbonyl compounds, hexamethyldisilazane, and diethyl phosphite catalyzed by Al (OTf) 3
NZ262945A (en) Chiral oxazaborolidine derivatives; use as enantioselective catalysts for reduction of prochiral ketones to chiral alcohols
JPH08319258A (ja) 金属錯体を用いた不斉化合物の製造方法
JP3310381B2 (ja) イソプレン誘導体の製造方法
Giuseppone et al. Tandem Mukaiyama Michael–aldol reactions catalysed by samarium diiodide
JP2004536153A (ja) 新規遷移金属錯体及び遷移金属−触媒反応におけるその使用
CN110615811B (zh) 一种手性亚磺酰胺单膦配体的大量制备方法
CN109503670B (zh) 一类二茂铁骨架的手性单膦配体WJ-Phos及制备方法和应用
FR3023291A1 (fr) Nouveau procede de fabrication du (e,z)-7,9 dodecandienyl-1-acetate
EP0676404B1 (en) Oxotitanium complexes useful as asymmetric reaction catalysts particularly for producing beta-hydroxy ketones or alpha-hydroxy carboxylic acid esters
JP3441344B2 (ja) 光学活性チタンアルコキシド錯体の製造方法
US20080275274A1 (en) Process for the preparation of enantiomerically enriched compounds
US4144257A (en) Process for preparing derivatives of conjugated diene dimers
JP3610014B2 (ja) 不斉水素化のための改良された製法
EP1107936B1 (en) Copper-catalysed enantioselective allylic substitution reactions
CN115650824B (zh) 手性二醇及其制备方法、制得的催化剂及制备方法和应用
JP2004196710A (ja) 配位子及び不斉触媒
JP3207172B2 (ja) 光学活性環状化合物類の製造方法
RU2239639C1 (ru) Ахиральные p,n-бидентатные лиганды и способ их получения
JP5981747B2 (ja) アザディールス−アルダー反応用触媒、それを用いたテトラヒドロピリジン化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060228

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060309

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090317

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100317

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110317

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120317

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130317

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140317

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term