JPH08318263A - レジスト剥離廃液の処理装置、及びこれを備えているレジスト剥離・廃液処理設備 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 レジスト剥離液、水分、フォトレジストを含
むレジスト剥離廃液から、レジスト剥離液を連続的に分
離蒸留し、各機器を小型化させる。 【構成】 レジスト剥離廃液が流入する水分蒸留器３２
と、水分蒸留器内の廃液から水が蒸発するよう、水分蒸
留器内の圧力を低下させる水分蒸留用減圧ポンプ３９
と、水分蒸留器内の残液が流入する剥離液蒸留器４２
と、剥離液蒸留器内の残液からレジスト剥離液が蒸発す
るよう、剥離液蒸留器内の圧力を低下させるレジスト剥
離液蒸留用減圧ポンプ４９と、剥離液蒸留器から蒸発し
たレジスト剥離液を回収する再生剥離液回収タンク４４
とを備えている。レジスト剥離廃液中の水分、レジスト
剥離液をそれぞれ分離蒸留する蒸留器を設けたので、レ
ジスト剥離廃液を連続蒸留することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板等に付着している
フォトレジストを剥離するレジスト剥離液の使用済み廃
液を再生するレジスト剥離廃液の処理装置、及びこれを
備えているレジスト剥離・廃液処理設備に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイに代表される薄膜加工
製品の製造プロセスでは、基板上に金属膜や絶縁膜を成
膜し、所定の形状にフォトレジストをパターニングし、
エッチングにより所定パターンを形成し、最後にレジス
トを剥離する一連の工程を複数回繰返すプロセスがあ
る。

【０００３】かかる薄膜加工製品の製造には大量の化学
薬品を使用するため、使用後に不要となった廃液の量も
膨大なものとなる。製造に用いる各種の処理液のなか
で、レジスト剥離液は、有機溶剤を主成分とするものが
多く、かかる剥離液の例としては特開平５−２７３７６
８号公報等にその成分や性能が開示されており、製造元
は、これを購入して使用する場合がほとんどである。こ
のレジスト剥離液の廃液には、剥離液の他に、レジスト
が含有しているのはもちろん、水分が含まれている。

【０００４】かかるレジスト剥離廃液の廃棄処理方法と
しては、焼却処理をするのが一般的である。しかし、こ
の方法は、焼却に伴って発生するガスを大気放出するた
め、環境へ悪影響が懸念されると共に、剥離廃液中の有
用な成分まで廃棄してしまうことになるため、経済性の
面からも好ましくない。

【０００５】そこで、レジスト剥離廃液の廃棄処理方法
として、廃液から有用なレジスト剥離液を蒸留分離し、
これを再利用するものがある。この方法を実現する装置
としては、例えば、図１０に示すようなものがある。こ
の装置は、廃液を溜めておく廃液タンク１と、廃液を加
熱して廃液中のレジスト剥離液及び水を蒸発させる蒸発
器２と、蒸発器２からのガス等が通る精留塔３と、精留
塔３を通過したガスを冷却して凝縮させるコンデンサ４
ａ，４ｂと、コンデンサ４ａ，４ｂで凝縮した水やレジ
スト剥離液をそれぞれ貯える蒸留水回収タンク５ａ、再
生剥離液回収タンク５ｂとを備えている。一般的に、レ
ジスト剥離液は、水よりも沸点が高い。このため、蒸発
器２中の廃液が温められると、まず、水が蒸発し、その
後、しばらくしてからレジスト剥離液が蒸発する。レジ
スト剥離液が蒸発してしまった蒸発器２内には、フォト
レジスト等の高沸点成分や非揮発成分が残る。蒸発器２
内で気化した水は、精留塔３を通過し、三方切替弁６を
経て蒸留水コンデンサ４ａで液化され、蒸留水回収タン
ク５ａに溜められる。蒸発器２内でレジスト剥離液が気
化し始めると、三方切替弁６が切り替えられ、精留塔３
からのガスが剥離液コンデンサ４ｂに導かれ、そこで、
このガスが液化されてレジスト剥離液となり、再生剥離
液回収タンク５ｂに溜められる。

【０００６】このように、この方法では、レジスト剥離
廃液中のフォトレジスト、レジスト剥離液、水の沸点の
違いによる蒸発時期のズレを利用しているため、一旦、
蒸発器２に廃液を入れた後は、この廃液が完全に処理さ
れるまで、蒸発器２内に廃液を入れることができない。
すなわち、この方法では、廃液をバッヂ処理している。
このため、剥離液でフォトレジストを剥離するレジスト
剥離装置から逐次排出される廃液を溜めておく廃液タン
ク１が、蒸発器２の前段に必ず必要になる。このような
バッヂ処理では、効率的に装置を稼動させるために、各
タンクや精留塔等として大型のものを用いている。たと
えば、廃液タンク１として廃液を１か月分溜めておくこ
とができるものを用い、精留塔３として１か月分の廃液
を１日で処理できる能力のものを用いることになる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来技術では、このような従来の装置では、大型化
して製造コストが嵩むという問題点がある。また、この
ような従来の装置では、図４（ｂ）に示すように、レジ
スト剥離過程で温められた剥離液が大きなタンク内で何
日も溜められて常温程度までに冷えた後、再び、加熱し
ているために、この加熱のためのエネルギーが必要にな
り、ランニングコストも嵩むという問題点もある。

【０００８】本発明は、このような従来の問題点に着目
してなされたもので、装置を小型化でき製造コストを削
減することができると共に、ランニングコストも削減す
ることができるレジスト剥離廃液の処理装置、及びレジ
スト剥離・廃液処理設備を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
のレジスト剥離廃液の処理装置は、レジスト剥離廃液が
流入する廃液流入口が形成され、該廃液流入口から流入
した該レジスト剥離廃液を一時的に溜め、その上部にガ
ス排気口が形成され、その下部に残液排出口が形成され
ている水分蒸留器と、前記水分蒸留器内の前記レジスト
剥離廃液から水が蒸発するよう、該水分蒸留器内の該レ
ジスト剥離廃液を加熱及び／又は水分蒸留器内の圧力を
低下させる水蒸発手段と、前記水分蒸留器の前記残液排
出口から該水分蒸留器内の残液が流入する残液流入口が
形成され、該残液流入口から流入した該残液を一時的に
溜め、その上部にガス排気口が形成され、その下部に最
終残液排出口が形成されている剥離液蒸留器と、前記剥
離液蒸留器内の前記残液からレジスト剥離液が蒸発する
よう、該剥離液蒸留器内の該残液を加熱及び／又は該剥
離液蒸留器内の圧力を低下させるレジスト剥離液蒸発手
段と、前記剥離液蒸留器から蒸発した前記レジスト剥離
液を回収する再生剥離液回収タンクと、を備えているこ
とを特徴とするものである。

【００１０】ここで、前記レジスト剥離廃液の処理装置
は、前記剥離液蒸留器から蒸発した前記レジスト剥離液
を冷却して凝縮させ、凝縮した該レジスト剥離液を前記
再生剥離液回収タンクに導くコンデンサを備えているこ
とが好ましい。

【００１１】また、前記レジスト剥離廃液の処理装置に
おいて、前記水分蒸発手段と前記レジスト剥離液蒸発手
段は、真空ポンプであっても、液を加熱するヒータであ
っても、さらに、回収タンク内の液体を循環させる循環
手段と該液体の液流で真空を作るアスピレータとを有し
て構成されるものであってもよい。

【００１２】また、前記レジスト剥離廃液の処理装置に
おいて、前記水分蒸留器と前記剥離液蒸留器は、単蒸留
器であっても、カラム充填式蒸留器であっても、液を受
ける受け皿が内部に複数積層されている蒸留器であって
もよい。

【００１３】また、前記目的を達成するためのレジスト
剥離・廃液処理設備は、フォトレジストが表面に形成さ
れている基板に前記レジスト剥離液をかけ、該基板から
該フォトレジストを剥離し、前記レジスト剥離廃液を排
出するレジスト剥離装置と、前記レジスト剥離装置から
排出された前記レジスト剥離廃液から前記レジスト剥離
液を分離蒸留する前記レジスト剥離廃液の処理装置と、
前記レジスト剥離装置からの前記レジスト剥離廃液を前
記処理装置の前記水分蒸留に導き、該処理装置で分離蒸
留された前記レジスト剥離液を該レジスト剥離装置に戻
すレジスト剥離液循環装置と、を備えていることを特徴
とするものである。

【００１４】ここで、前記レジスト剥離・廃液処理設備
は、前記基板に前記レジスト剥離液をかけて、該基板か
ら該フォトレジストを剥離する複数のユニットを備え、
複数のユニットは、直列的に並べられ、それぞれ、前記
基板を次のユニットへ搬送する基板搬送機構と、該基板
搬送機構により搬送されている該基板に前記レジスト剥
離液を噴霧するノズルと、該基板に噴霧された該レジス
ト剥離液を溜めておく剥離液槽と、該剥離液槽内の該レ
ジスト剥離液を該ノズルに送る剥離液循環噴霧手段と、
該剥離液槽内の該レジスト剥離液を該基板が送られてく
る上流側の機器に送る剥離液移送手段とを有し、前記剥
離液循環装置は、複数の前記ユニットのうち、前記基板
が搬送されて行く最下流のユニットの前記剥離液槽に、
前記処理装置で分離蒸留された前記レジスト剥離液を送
る剥離液供給手段を有し、複数の前記ユニットのうち、
前記基板が搬送されてくる最上流のユニットの前記剥離
液移送手段は、前記レジスト剥離廃液を前記処理装置に
導く前記剥離液循環装置に、該最上流のユニットの前記
剥離液槽内の液体をレジスト剥離廃液として送るもので
あり、複数の前記ユニットのうち、前記最上流のユニッ
トを除くユニットの前記剥離液移送手段は、該ユニット
の前記剥離液槽内の液体を一つ上流側のユニットの前記
剥離液槽内に送るものであることが好ましい。

【００１５】また、前記レジスト剥離・廃液処理設備に
おいて、前記剥離液循環装置は、前記レジスト剥離装置
からの前記レジスト剥離廃液を一時的に溜めておく廃液
タンクと、該レジスト剥離装置からの該レジスト剥離廃
液を該廃液タンクを介して前記処理装置に導く配管とを
有し、前記剥離液循環装置の前記廃液タンクと前記配管
とには、断熱材が施されていることが好ましい。

【００１６】

【作用】レジスト剥離廃液は、廃液流入口から水分蒸留
器内に流れ込む。水分蒸留器内では、水分蒸発手段によ
り、この水分蒸留器内のレジスト剥離廃液が加熱され、
及び／又はこの水分蒸留器内の圧力が低下させられ、レ
ジスト剥離廃液中の水分が蒸発する。

【００１７】剥離液蒸留器には、水分蒸留器内に残った
残液が、その残液流入口から流入する。剥離液蒸留器内
では、剥離液蒸発手段により、この剥離液蒸留器内の残
液が加熱され、及び／又はこの剥離液蒸留器内の圧力が
低下させられ、残液中のレジスト剥離廃液が蒸発する。
蒸発したレジスト剥離液は、再生剥離液回収タンクに回
収される。また、レジスト剥離液が蒸発した剥離液蒸留
器内の残液は、最終残液排出口から排出される。この最
終残液排出口から排出される残液は、廃液中から水分及
び剥離液がほとんど除かれているので、基板から剥離さ
れたフォトレジストが主成分になっている。

【００１８】このように、レジスト剥離廃液中の水分及
びレジスト剥離液を、二つの蒸留器でそれぞれ分離蒸留
しているので、１つの容器内で異なる成分が順次蒸発す
るのを待つ必要がなく、レジスト剥離廃液からレジスト
剥離液を連続分離蒸留することができる。従って、廃液
処理装置を構成する各機器の処理能力を小さくすること
ができ、小型化を図ることができるので、製造コストを
減らすことができる。また、本発明では、レジスト剥離
廃液を連続分離蒸留できる結果、レジスト剥離廃液を溜
めておく廃液タンクが不要、又は用いる場合であっても
容量を非常に小さくできるので、レジスト剥離装置で温
められた廃液をほとんど冷すことなく、暖かい廃液に対
して分離蒸留できるので、加熱エネルギーを削減するこ
とができる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明に係る各種実施例について図面
を用いて説明する。

【００２０】まず、図１〜図４を用いて、本発明に係る
レジスト剥離・廃液処理設備について説明する。本実施
例のレジスト剥離・廃液処理設備は、図２に示すよう
に、薄膜加工製品である基板上にレジスト剥離液をかけ
て基板上のフォトレジストを剥離する複数のレジスト剥
離装置１０と、レジスト剥離装置１０から排出されるレ
ジスト剥離廃液を処理する廃液処理装置３０と、レジス
ト剥離装置１０からの廃液を廃液処理装置３０に導くと
共に廃液処理装置３０での廃液処理で得られるレジスト
剥離液をレジスト剥離装置１０に戻すレジスト剥離液循
環装置２０とを備えている。

【００２１】なお、本実施例で用いるレジスト剥離液
は、１級アミノエタノールを主成分とするものであり、
具体的には、１級アミノエタノールが９０重量％以上、
より好ましくは９８重量％以上の純度のものを用いてい
る。このように、アミノアルコールを剥離液として用い
るのは、塩基性のアミノアルコールがポジ型フォトレジ
ストの主成分であるクレゾールノボラツク樹脂を容易に
溶解するためである。また、この剥離液でフォトレジス
トの剥離処理をした後の剥離廃液中には、剥離液の他
に、本実施例では、剥離液より蒸気圧の低い水分が約３
重量％、フォトレジストが約２重量％含んでいる。

【００２２】レジスト剥離装置１０は、図３に示すよう
に、複数のレジスト剥離ユニット１１ａ，１１ｂ，１１
ｃが直列に接続されたものである。各レジスト剥離ユニ
ット１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、基板Ｐを搬送する基板
搬送機構１２と、搬送中の基板Ｐにレジスト剥離液を噴
霧する複数のノズル１３，１３，…と、基板Ｐに噴霧さ
れたレジスト剥離液が溜る剥離液槽１４と、剥離液槽１
４内の剥離液を複数のノズル１３，１３，…に導く噴霧
ポンプ１５と、剥離液槽１４から噴霧ポンプ１５で送ら
れてくる剥離液中の異物を除去するフィルタ１６と、剥
離液槽１４内の剥離液を上流側のレジスト剥離ユニット
１１ａ，１１ｂの剥離液槽１４，１４，２２等に送る剥
離液移送ポンプ１７とを備えている。剥離液槽１４に
は、槽内の剥離液の温度を測定する温度計１４ａと、こ
の温度計１４ａで測られた温度に応じて剥離液槽１４内
の剥離液を温めるヒータ１４ｂと、槽内の剥離液量を測
定する液面計１４ｃとが設けられている。この液面計１
４ｃは、槽内の剥離液量が予め定められた量を超える
と、移送ポンプ１７に対して駆動するよう制御信号を出
力する。

【００２３】各ユニット１１ａ，１１ｂ，１１ｃの搬送
機構１２は、基板Ｐが順に次のユニットの搬送機構１２
に移るよう、直列的に並んで配置されている。最も上流
側のユニット１１ａの移送ポンプ１７は、このユニット
１１ａの剥離液槽１４内の剥離液を、後述するレジスト
剥離液循環装置２０の廃液タンク２２に移送できるよ
う、この廃液タンク２２と廃液排出配管２１で接続され
ている。また、最も下流側のユニット１１ｃの剥離液槽
１４には、後述するレジスト剥離液循環装置２０の剥離
液供給ポンプ２７から剥離液が送られるよう、この剥離
液供給ポンプ２７と剥離液供給配管２９で接続されてい
る。

【００２４】レジスト剥離液循環装置２０は、図２に示
すように、複数のレジスト剥離装置１０，１０，…から
廃液排出配管２１を介して送られていくるレジスト剥離
廃液を一時的に溜める廃液タンク２２と、廃液タンク２
２内の廃液を廃液処理装置３０に送る廃液供給ポンプ２
３と、廃液処理装置３０での廃液処理で得られるレジス
ト剥離液を溜めておく剥離液タンク２５と、補給用の剥
離液を溜めておく補給剥離液タンク２６と、補給剥離液
タンク２６内の剥離液を剥離液タンク２５に送る剥離液
補給ポンプ２６ａと、剥離液タンク２５内の剥離液を前
述した剥離液供給配管２９を介してレジスト剥離装置１
０に送る剥離液供給ポンプ２７とを備えている。廃液排
出配管２１、廃液タンク２２及び廃液供給配管２４に
は、これらの中を流れる廃液の温度が低下しないよう、
断熱材Ｉが施されている。

【００２５】剥離液タンク２５には、剥離液タンク２５
内の剥離液量を測る液面計２５ａが設けられている。こ
の液面計２５ａは、タンク内の剥離液量が予め定められ
た量より少なくなると、剥離液補給ポンプ２６ａに対し
て駆動するよう制御信号を出力する。剥離液タンク２５
とレジスト剥離装置１０とをつなぐ剥離液供給配管２９
には、レジスト剥離装置１０に目的量の剥離液が供給さ
れるよう、配管内を流れる剥離液の流量を測る流量計２
８ａと、この流量計２８ａで測られた剥離液流量に応じ
て剥離液流量を調節する流量調節弁２８ｂが設けられて
いる。なお、図２においては、流量計２８ａ及び流量調
節弁２８ｂが１つずつしか設けられていないが、実際に
は、各レジスト剥離装置１０，１０，…に目的量の剥離
液が供給されるよう、各レジスト剥離装置１０，１０，
…ごとに、流量計及び流量調節弁がそれぞれ１つずつ設
けられている。

【００２６】廃液処理装置３０は、図１に示すように、
廃液中の水分を分離蒸留する第１蒸留系３１と、第１蒸
留系３１で水分が除かれた廃液の残液から剥離液を分離
蒸留する第２蒸留系４１とを備えている。

【００２７】各蒸留系３１，４１は、上流側の装置から
の液が流入し、流入した液中の特定成分を蒸発させる蒸
留器３２，４２と、蒸留器３２，４２内で蒸発して生成
された気体を冷却して凝縮させるコンデンサ３３，４３
と、コンデンサ３３，４３で凝縮した蒸留液を溜めてお
く蒸留液回収タンク３４，４４と、蒸留器３２，４２内
の液から特定成分が蒸発するよう、蒸留器３２，４２内
の圧力を下げる減圧ポンプ３９，４９と、蒸留器３２，
４２内の残液を抜く残液排出ポンプ３６，４６と、蒸留
液回収タンク３４，４４内の蒸留液を抜く蒸留液排出ポ
ンプ３８，４８とを備えている。

【００２８】蒸留器３２，４２には、上流側の装置から
の液が蒸留器３２，４２内に流入する流入口３２ａ，４
２ａと、蒸留器３２，４２内で気化した気体を排気する
排気口３２ｂ，４２ｂと、蒸留器３２，４２内の残液を
排出する残液排出口３３ｃ，４３ｃとが形成されてい
る。この蒸留器３２，４２の排気口３２ｂ，４２ｂは蒸
留器３２，４２の頂部に形成され、残液排出口３３ｃ，
４３ｃは蒸留器３２，４２の底部に形成されている。蒸
留液回収タンク３４，４４には、コンデンサ３３，４３
で凝縮した蒸留液が流れ込む蒸留液流入口３４ａ，４４
ａと、蒸留液回収タンク３４，４４内の蒸留液を排出す
る蒸留液排出口３４ｂ，４４ｂと、蒸留液回収タンク３
４，４４及び蒸留器３２，４２内の圧力を低下させるた
めに減圧ポンプ３９，４９で蒸留液回収タンク３４，４
４内の気体を抜く気体吸排気口３４ｃ，４４ｃとが形成
されている。この蒸留液回収タンク３４，４４の蒸留液
流入口３４ａ，４４ａは蒸留液回収タンク３４，４４の
頂部に形成され、蒸留液排出口３４ｂ，４４ｂは蒸留液
回収タンク３４，４４の底部に形成されている。

【００２９】第１蒸留系３１の蒸留器３２（以下、水分
蒸留器とする。）に、レジスト剥離液循環装置２０の廃
液タンク２２内の廃液が流入するよう、その流入口３２
ａ（以下、廃液流入口とする。）は、廃液タンク２２か
ら伸びている廃液供給配管２４と接続されている。水分
蒸留器３２の残液排出口３２ｃと、第２蒸留系４１の蒸
留器４２（以下、剥離液蒸留器４２とする。）の流入口
４２ａ（以下、残液流入口とする。）とは、残液移送配
管３５で接続されている。この残液移送配管３５には、
第１蒸留系３１の残液排出ポンプ３６（以下、残液移送
ポンプとする。）が設けられている。

【００３０】第１蒸留系３１の減圧ポンプ３９（以下、
水分蒸留用減圧ポンプとする。）は、水分蒸留器３２内
の廃液から、その廃液温度で水分が蒸発し得る圧力ま
で、水分蒸留器３２内の圧力を低下させる。第２蒸留系
４１の減圧ポンプ４９（以下、剥離液蒸留用減圧ポンプ
とする。）は、剥離液蒸留器４２内の残液から、その液
温度で剥離液が蒸発し得る圧力まで、剥離液蒸留器４２
内の圧力を低下させる。なお、具体的な、水分蒸留器３
２内の圧力及び廃液温度、剥離液蒸留器４２内の圧力及
び残液温度に関しては、後述する。

【００３１】第２蒸留系４１の蒸留液回収タンク４４
（以下、再生剥離液回収タンクとする。）の蒸留液排出
口４４ｂ（以下、再生剥離液排出口とする。）は、レジ
スト剥離液循環装置２０の剥離液タンク２５と、再生剥
離液移送配管４７で接続されている。この再生剥離液移
送配管４７には、第２蒸留系４１の蒸留液排出ポンプ４
８（以下、再生剥離液移送ポンプとする。）が設けられ
ている。

【００３２】次に、本実施例のレジスト剥離・廃液処理
設備の動作について説明する。レジスト剥離装置１０の
最も下流側のレジスト剥離ユニット１１ｃに至った基板
Ｐには、このユニット１１ｃのノズル１３，１３，…か
ら噴霧されたレジスト剥離液がかけられる。ノズル１
３，１３，…から噴霧される剥離液は、剥離液槽１４か
ら噴霧ポンプ１５でノズル１３，１３，…に送られる。
剥離液槽１４内の剥離液は、ヒータ１４ｂにより温めら
れ、常時約８０℃に保たれている。従って、基板Ｐに
は、約８０℃の剥離液がかけられる。基板Ｐに剥離液が
かけられると、基板Ｐ上のフォトレジストが溶解して、
基板Ｐからフォトレジストが剥離される。基板Ｐにかけ
られた剥離液は、基板Ｐから剥離したフォトレジスト、
及び剥離過程で溶け込んだ水分と共に、剥離液槽１４に
戻る。この剥離液槽１４には、剥離液循環装置２０の剥
離液タンク２５から剥離液供給配管２９を介して、純度
の高い剥離液が供給される。剥離液槽１４内の剥離液が
予め定められた量を超えると、剥離液槽１４に設けられ
た液面計１４ｃからの制御信号により移送ポンプ１７が
駆動し、最下流ユニット１１ｃの剥離液槽１４内の剥離
液が一つ上流側のユニット１１ｂの剥離液槽１４に送ら
れる。

【００３３】一つ上流側のユニット１１ｂでも、以上と
同様に、このユニット１１ｂの剥離液槽１４内の剥離液
が噴霧ポンプ１５でノズル１３，１３，…に送られ、こ
のユニット１１ｂに至った基板Ｐにノズル１３，１３，
…から剥離液が噴霧される。基板Ｐにかけられた剥離液
は、再び、このユニット１１ｂの剥離液槽１４内に戻
る。このユニット１１ｂの剥離液槽１４内の剥離液が予
め定められた量を超えると、このユニット１１ｂの移送
ポンプ１７により、さらに上流側のユニット１１ａの剥
離液槽１４に送られる。

【００３４】剥離液循環装置２０の剥離液タンク２５か
らの純度の高い剥離液は、以上のように、最下流のユニ
ット１１ｃから、次第に上流側のユニット１１ａ，１１
ｂへ移送されて行き、その過程で汚れて行く、つまり異
物（フォトレジストや水分）の量が増えて行く。従っ
て、最上流のユニット１１ａでは、剥離液が最も汚れた
状態になっている。このように、本実施例では、全ての
ユニット１１ａ，１１ｂ，１１ｃに純度の高い剥離液を
用いるのではなく、下流側のユニット１１ｃで用いた剥
離液を上流側のユニット１１ａ，１１ｂで用いるように
しているので、純度の高い剥離液の消費量を少なくする
ことができる。なお、上流側のユニット１１ａに汚れた
剥離液を用いるのは、後段階のフォトレジスト剥離で純
度の高い剥離液を用いれば、初期段階のフォトレジスト
剥離には、汚れた剥離液で十分であるからである。従っ
て、最終段階のフォトレジスト剥離では、最も純度の高
い剥離液を用い、基板Ｐに異物等が付着しないようにす
る必要がある。

【００３５】最上流のユニット１１ａの剥離液槽１４内
の剥離液が予め定められた量を超えると、この剥離液は
廃液として、このユニット１１ａの移送ポンプ１７によ
り、レジスト剥離液循環装置２０の廃液タンク２２に、
廃液排出配管２１を介して送られる。

【００３６】廃液タンク２２内の廃液は、廃液供給配管
２４を介して、廃液供給ポンプ２３により廃液処理装置
３０の水分蒸留器３２に送られる。水分蒸留器３２の内
径は300mmで、水分蒸留器３２内の廃液液面高さは800mm
で、ここに廃液が約1kg/minで送られる。レジスト剥離
装置１０から約８０℃の温度で送られていきた廃液は、
廃液タンク２２内に一時的に溜められている過程で、温
度がいくらか低下し、水分蒸留器３２に送られた段階で
は、約７０℃になっている。

【００３７】水分蒸留器３２，４２内の圧力は、７０℃
の水が確実に蒸発し得る圧力である５０mmHgまで、水分
蒸留用減圧ポンプ３９により減圧されている。従って、
水分蒸留器３２内の剥離液からは、水分が蒸発して、こ
れが水蒸気排気口３２ｂから排気される。水分蒸留器３
２から排気された水蒸気は、コンデンサ３３で常温の２
５℃程度まで冷却され、液化する。液化した水は、蒸留
水回収タンク３４に一時的に溜められる。この蒸留水回
収タンク３４内の蒸留水は、その量が予め定められた量
を超えると、液面計３４ｄから制御信号により蒸留水排
出ポンプ３８が駆動し、ドレンとして排出される。

【００３８】水分蒸留器３２内で水分が除かれた残液
は、約1kg/minで、残液移送配管３５を介して残液移送
ポンプ３６により、剥離液蒸留器４２に送られる。

【００３９】剥離液蒸留器４２内の圧力は、７０℃のレ
ジスト剥離液が確実に蒸発し得る圧力である３５mmHgま
で、剥離液蒸留用減圧ポンプ４９により減圧されてい
る。従って、剥離液蒸留器４２内の残液からは、レジス
ト剥離液が蒸発して、これが排気口４２ｂから排気され
る。剥離液蒸留器４２から排気された剥離液ガスは、コ
ンデンサ４３で常温の２５℃程度まで冷却され、凝縮す
る。凝縮したレジ図と剥離液は、再生剥離液回収タンク
４４に一時的に溜められる。この再生剥離液回収タンク
４４内の剥離液量が予め定められた量を超えると、液面
計４４ｄから制御信号により再生剥離液移送ポンプ４８
が駆動し、再生剥離液回収タンク４４内の剥離液は、再
生剥離液移送配管４７を介して、剥離液循環装置２０の
剥離液タンク２５に送られる。

【００４０】剥離液が除かれて剥離液蒸留器４２内に残
った最終残液（主にフォトレジストを含む。）は、剥離
液蒸留器４２の最終残液排出口４２ｃからドレンとして
排出される。

【００４１】なお、水分蒸留器３２内では、順次、水分
が分離蒸留されるものの、廃液供給配管２４から水分を
含む廃液が常時供給されるため、水分蒸留器３２から剥
離液蒸留器４２に送られる残液内には、僅かに水分が含
まれている。この僅かな水分は、剥離液蒸留器４２内で
蒸発して、再生剥離液回収タンク４４及び剥離液タンク
２５に、剥離液と共に送られる。また、剥離液蒸留器４
２内においても、順次、剥離液が分離蒸留されるもの
の、残液移送配管３５から残液が常時供給されるため、
剥離液蒸留器４２から排出される最終残液中には、フォ
トレジストの他に、僅かに剥離液が含まれている。

【００４２】以上のように連続蒸留して再生させたレジ
スト剥離液をガスクロマトグラフ法及びカールフィッシ
ャー法のように周知の方法で分析した結果、水分が約
０．５重量％以下で、且つレジストを全く含まない１級
アミノエタノールであることがわかり、さらに、約９０
％の収率で回収することがでることがわかった。かかる
再生液の品質は、レジスト剥離に使用する前の新液と同
等以上であり、製品の生産に再使用してもなんら差し支
えない。

【００４３】再生剥離液回収タンク４４から剥離液循環
装置２０の剥離液タンク２５に送られてくるレジスト剥
離液の量は、回収率が約９０％であることからもわかる
ように、レジスト剥離装置１０から廃液処理装置３０に
送られてくる廃液中のレジスト剥離液の量よりも少な
い。これは、前述したように、廃液処理装置３０の剥離
液蒸留器４２からフォトレジストと共に剥離液が排出さ
れるためである。従って、レジスト剥離装置１０と廃液
処理装置３０との間で単純にレジスト剥離液を循環させ
ていると、系全体を流れる剥離液の量が減少してくる。
このため、剥離液循環装置２０では、剥離液タンク２５
内の剥離液量が少なくなってくると、補給剥離液タンク
２６から純度の高い剥離液を新たに補給するようにして
いる。

【００４４】剥離液タンク２５内の剥離液は、剥離液供
給ポンプ２７により、各レジスト剥離液の最下流ユニッ
ト１１ｃの剥離液槽１４に送られる。最下流ユニット１
１ｃの剥離液槽１４に送られたレジスト剥離液は、前述
したように、順次、上流側ユニット１１ａ，１１ｂの送
られて行く。

【００４５】以上のように、本実施例では、レジスト剥
離廃液から水分及びフォトレジストを除くに当たり、従
来技術のように、一つの蒸留器（又は精留塔）ではな
く、２つの蒸留器３２，４２を用いて、それぞれの蒸留
器３２，４２で各成分を分離蒸留しているので、連続蒸
留が可能になる。この結果、廃液処理装置３０を構成す
る各機器の処理能力を小さくでき、小型化を図ることが
できるので、製造コストを削減することができる。

【００４６】また、本実施例では、連続蒸留であるため
に廃液タンク２２の容量を少なくでき、このタンク２２
に廃液を溜めておく時間が短く、且つ廃液タンク２２等
に断熱材を施しているため、図４（ａ）に示すように、
約８０℃で廃液タンク２２に入ってきた廃液は、廃液タ
ンク２２から出て廃液処理装置３０に送られるまでに、
約７０℃程度までしか低下しない。この結果、廃液処理
装置３０でこの廃液から剥離液を分離蒸留する際に、液
の加熱のためのエネルギーを使用しないで済む。さら
に、本実施例では、レジスト剥離装置１０の各ユニット
１１ａ，１１ｂ，１１ｃにおいて、最下流のユニット１
１ｃで使用した剥離液を順次上流側のユニット１１ａ，
１１ｂに導いて、そのユニット１１ａ，１１ｂでも使用
しているため、剥離液を効率良く利用できると共に、剥
離液を循環使用しているため、新たな剥離液の使用量を
少なくすることができる。従って、エネルギーの面から
も、剥離液使用の面からも、ランニングコストを削減す
ることができる。なお、廃液排出配管２１と廃液供給配
管２４とを合わせて配管長は、廃液温度の低下量を少な
くする観点から、１０００ｍ以下が好ましく、できれば
２００ｍ以下が好ましい。すなわち、レジスト剥離装置
１０と廃液処理装置３０との間の距離をできる限り、短
くすることが好ましい。

【００４７】また、本実施例では、減圧蒸留を実施して
いるため、高温での反応や分解といった副作用を回避す
ることができる。

【００４８】なお、本実施例では、減圧蒸留している
が、大気圧下で加熱蒸留してもよい。このとき、水分蒸
留器３２内の廃液は１００℃に、剥離液蒸留器４２内の
残液は１７０℃に、ヒータ等で加熱する必要がある。こ
のように、廃液や残液を加熱する場合であっても、従来
技術のように、常温から加熱するよりも、以上の実施例
のように７０℃から加熱した方が加熱エネルギーを少な
くすることができることは、言うまでもない。また、加
熱蒸留及び減圧蒸留を併用してもよい。

【００４９】また、本実施例では、レジスト剥離液とし
て、１級アミノエタノールを主成分とするものである
が、本発明は、これに限定されるものではなく、レジス
ト剥離液として、例えば、アミノプロパノール等の他の
アミノアルコール等を用いているものに、適用してもよ
い。

【００５０】次に、本発明に係る廃液処理装置の第２の
実施例について、図５を用いて説明する。本実施例の廃
液処理装置は、第２蒸留系４１に対して第１蒸留系５１
を上部に配したものである。第１蒸留系５１の水分蒸留
器３２は、第２蒸留系４１の剥離液蒸留器４２のほぼ真
上に設けられ、両者をつなぐ残液移送配管５５は、水分
蒸留器３２の下部から剥離液蒸留器４２の上部へ、ほぼ
まっすぐに伸びている。水分蒸留器３２の残液排出口３
２ｃには、残液移送配管５５が接続されていると共に、
水分蒸留器３２の内部上方に向かって伸びるオーバーフ
ロー配管３２ｄが接続されている。

【００５１】水分蒸留器３２内の残液の液面高さがオー
バーフロー配管３２ｄの上端より高くなると、水分蒸留
器３２内の残液は、オーバーフロー配管３２ｄ、残液移
送配管５５を介して、剥離液蒸留器４２に、自重で流れ
込む。このように、水分蒸留器３２を剥離液蒸留器４２
の上部に設けたことにより、水分蒸留器３２内の残液を
剥離液蒸留器４２へ移送するために、第１の実施例のよ
うに、残液移送ポンプ３６を設ける必要がなくなる。

【００５２】なお、本実施例において、第１の実施例と
同一番号の部位に関しては、第１の実施例のものと基本
的に同一構成である。

【００５３】次に、本発明に係る廃液処理装置の第３及
び第４の実施例について、それぞれ、図６、図７を用い
て説明する。これらの実施例は、各蒸留系の蒸留器とし
てカラム充填式の蒸留器を用いたもので、具体的には、
第３の実施例の廃液処理装置は、図６に示すように、第
１蒸留系６１の蒸留器にのみカラム充填式の蒸留器６２
を用いたもので、第４の実施例の廃液処理装置は、第１
蒸留系６１及び第２蒸留系７１の蒸留器にカラム充填式
の蒸留器６２，７２を用いたものであり、その他の構成
に関しては、第２の実施例のものと同一である。

【００５４】このように、カラム充填式の蒸留器を用い
ることにより、蒸留器で分離蒸留する成分の分離蒸留性
能を向上させることができる。

【００５５】なお、以上の各実施例では、各蒸留系にお
いて、それぞれ、１つずつの蒸留器を設けたが、各蒸留
系での分離蒸留性能を高めるために、各蒸留系に２基以
上の蒸留器を直列的に設けるようにしてもよい。但し、
この場合には、製造コストがアップするので、基数増加
に伴う、製造コストアップと分離蒸留性能のアップとを
比較考量して、基数を決定すべきである。

【００５６】また、通常の単蒸留式の蒸留器では分離能
力が不足し、カラム充填式の蒸留器では能力が過剰のよ
うな場合には、図８に示すような蒸留器８２を使用して
もよい。この蒸留器８２には、その内部に複数の受け皿
８４，８４，…が積層されている。最上部の受け皿８４
に供給された廃液は、オーバーフローして、順次、下方
の受け皿８４に流下して、蒸留器８２の底部に溜る。こ
のとき、各受け皿８２，８２，…で発生した蒸気と、上
の受け皿８２から流下してきた廃液と気液交換を繰り返
すことで、実質的に多段蒸留と同じになり、通常の単蒸
留よりは分離能力が向上する。さらに温度の微調整用の
ヒータ８３を設けることで設定蒸気圧、設定圧力の可変
範囲をより密に制御することも可能となる。

【００５７】このように、本発明に用いられる蒸留器と
しては、いわゆる通常の単蒸留やカラム充填式のものに
限定されるものではないことは強調されるべきである。

【００５８】また、以上の実施例では、蒸留器内の圧力
を低下させるために、真空ポンプを使用しているが、本
発明は、これに限定されるものではなく、例えば、図９
に示すように、アスピレータ９２を使用して蒸留器３２
内の圧力を低下させてもよい。

【００５９】アスピレータ９２には、動作流体（この場
合、蒸留液）が流れ込む動作流体口９２ａと、吸引する
気体が流れ込む吸引口９２ｃと、動作流体口９２ａから
流入した動作流体及び吸引口９２ｃから吸い込まれた気
体が流出する排出口９２ｂとが形成されている。

【００６０】回収タンク３４には、この中の蒸留液を下
部から引き抜いて上部から戻すための蒸留液循環配管９
３が設けられている。この循環配管９３中に、蒸留液循
環ポンプ９１及びアスピレータ９２が設けられている。
アスピレータ９２は、その動作液口９２ａが上流側を向
き、その排出口９２ｂが下流側に向くように、循環配管
９３に設けられている。アスピレータ９２の吸引口９２
ｃは、コンデンサ３３の出口と接続されている。蒸留器
３２内のガスは、回収タンク３４からの蒸留液がアスピ
レータ９２内を流れる過程で、コンデンサ３３で凝縮し
た蒸留液と共に吸引される。この結果、蒸留器３３内の
圧力が低下する。

【００６１】アスピレータ９２による到達真空度は、動
作液である蒸留液の温度で制限されるため、液温が異常
に上昇しないように、コンデンサ３３の他に、回収タン
ク３４内に冷却機９６を設けることが望ましい。また、
蒸留器３２内の圧力を一定に保つために、蒸留器３２に
圧力計９４を設け、この圧力計９４からの信号を循環ポ
ンプ９１の回転制御にフィードバックさせるようにする
ことが好ましい。このようなフィードバック制御は、以
上の実施例の真空ポンプ３５，４５の制御においても適
用することが好ましい。

【００６２】

【発明の効果】本発明によれば、レジスト剥離廃液から
レジスト剥離液を連続的に分離蒸留することができるの
で、各機器の処理能力を小さくすることができ、各機器
の小型化を図ることができることができ、結果として製
造コストを減らすことができる。また、連続分離蒸留で
きることから、レジスト剥離廃液を溜めておく廃液タン
クが不要、又は用いる場合であっても容量を非常に小さ
くできるので、レジスト剥離装置で温められた廃液をほ
とんど冷すことなく、暖かい廃液に対して分離蒸留処理
を行え、加熱エネルギーを削減することができ、結果と
してランニングコストも減らすことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１の実施例のレジスト剥離廃液
の処理装置の系統図である。

【図２】本発明に係る一実施例のレジスト剥離・廃液処
理設備の系統図である。

【図３】本発明に係る一実施例のレジスト剥離装置の系
統図である。

【図４】レジスト剥離液の温度変化を示すグラフであ
る。

【図５】本発明に係る第２の実施例のレジスト剥離廃液
の処理装置の系統図である。

【図６】本発明に係る第３の実施例のレジスト剥離廃液
の処理装置の系統図である。

【図７】本発明に係る第４の実施例のレジスト剥離廃液
の処理装置の系統図である。

【図８】本発明に係る他の実施例の蒸留器の構成図であ
る。

【図９】本発明に係る他の実施例の蒸留系の系統図であ
る。

【図１０】従来のレジスト剥離廃液の処理装置の系統図
である。

【符号の説明】

１０…レジスト剥離装置、１０ａ，１０ｂ，１０ｃ…レ
ジスト剥離ユニット、１２…基板搬送機構、１３…ノズ
ル、１４…剥離液槽、１５…噴霧ポンプ、１７…剥離液
移送ポンプ、２０…レジスト剥離液循環装置、２１…廃
液排出配管、２２…廃液干拓、２３…廃液供給ポンプ、
２４…廃液供給配管、２５…剥離液タンク、２６…補給
剥離液タンク、２６ａ…剥離液補給ポンプ、２７…剥離
液供給ポンプ、２９…剥離液供給配管、３０…廃液処理
装置、３１，５１，６１…第１蒸留系、３２…水分蒸留
器、３２ｄ…オーバーフロー管、３３…蒸留水コンデン
サ、３４…蒸留水回収タンク、３５，５５…残液移送配
管、３６…残液移送ポンプ（残液排出ポンプ）、３８…
蒸留水排出ポンプ（蒸留液排出ポンプ）（蒸留液排出ポ
ンプ）、３９…水分蒸留用減圧ポンプ、４１，７１…第
２蒸留系、４２…剥離液蒸留器、４３…剥離液コンデン
サ、４４…再生剥離液回収タンク、４６…最終残液排出
ポンプ（残液排出ポンプ）、４７…再生剥離液移送配
管、４８…再生剥離液移送ポンプ（蒸留液排出ポン
プ）、４９…剥離液蒸留用減圧ポンプ、６２…カラム充
填式水分蒸留器、７２…カラム充填式剥離液蒸留器、８
２…蒸留器、８４…受け皿、８３…ヒータ、９１…蒸留
液循環ポンプ、９２…アスピレータ、９３…蒸留液循環
配管、９６…冷却機。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】水、該水よりも蒸気圧の高く、基板等に付
   着しているフォトレジストを剥離するレジスト剥離液、
   該レジスト剥離液により該基板等から剥離されたフォト
   レジストを含むレジスト剥離廃液から、該レジスト剥離
   液を分離するレジスト剥離廃液の処理装置において、 前記レジスト剥離廃液が流入する廃液流入口が形成さ
   れ、該廃液流入口から流入した該レジスト剥離廃液を一
   時的に溜め、その上部にガス排気口が形成され、その下
   部に残液排出口が形成されている水分蒸留器と、 前記水分蒸留器内の前記レジスト剥離廃液から前記水が
   蒸発するよう、該水分蒸留器内の該レジスト剥離廃液を
   加熱及び／又は水分蒸留器内の圧力を低下させる水蒸発
   手段と、 前記水分蒸留器の前記残液排出口から該水分蒸留器内の
   残液が流入する残液流入口が形成され、該残液流入口か
   ら流入した該残液を一時的に溜め、その上部にガス排気
   口が形成され、その下部に最終残液排出口が形成されて
   いる剥離液蒸留器と、 前記剥離液蒸留器内の前記残液から前記レジスト剥離液
   が蒸発するよう、該剥離液蒸留器内の該残液を加熱及び
   ／又は該剥離液蒸留器内の圧力を低下させるレジスト剥
   離液蒸発手段と、 前記剥離液蒸留器から蒸発した前記レジスト剥離液を回
   収する再生剥離液回収タンクと、 を備えていることを特徴とするレジスト剥離廃液の処理
   装置。
2. 【請求項２】請求項１記載のレジスト剥離廃液の処理装
   置において、 前記剥離液蒸留器から蒸発した前記レジスト剥離液を冷
   却して凝縮させ、凝縮した該レジスト剥離液を前記再生
   剥離液回収タンクに導くコンデンサを備えていることを
   特徴とするレジスト剥離廃液の処理装置。
3. 【請求項３】請求項１又は２記載のレジスト剥離廃液の
   処理装置において、 前記水分蒸発手段と前記レジスト剥離液蒸発手段とのう
   ち少なくとも一方は、真空ポンプであることを特徴とす
   るレジスト剥離廃液の処理装置。
4. 【請求項４】請求項１、２又は３記載のレジスト剥離廃
   液の処理装置において、 前記水分蒸発手段と前記レジスト剥離液蒸発手段とのう
   ち少なくとも一方は、液を加熱するヒータであることを
   特徴とするレジスト剥離廃液の処理装置。
5. 【請求項５】請求項１、２、３又は４記載のレジスト剥
   離廃液の処理装置において、 前記水分蒸留器から蒸発した水分を回収する蒸留水回収
   タンクを備え、 前記水分蒸発手段と前記レジスト剥離液蒸発手段とのう
   ち少なくとも一方は、前記回収タンク内の液体を循環さ
   せる循環手段と、循環している該液体の液流で真空を作
   るアスピレータとを有して構成されていることを特徴と
   するレジスト剥離廃液の処理装置。
6. 【請求項６】請求項１、２、３、４又は５記載のレジス
   ト剥離廃液の処理装置において、 前記水分蒸留器と前記剥離液蒸留器とうち少なくとも一
   方は、カラム充填式蒸留器であることを特徴とするレジ
   スト剥離廃液の処理装置。
7. 【請求項７】請求項１、２、３、４、５又は６記載のレ
   ジスト剥離廃液の処理装置において、 前記水分蒸留器と前記剥離液蒸留器とうち少なくとも一
   方は、液を受ける受け皿が内部に複数積層されている蒸
   留器であることを特徴とするレジスト剥離廃液の処理装
   置。
8. 【請求項８】前記フォトレジストが表面に形成されてい
   る基板に前記レジスト剥離液をかけ、該基板から該フォ
   トレジストを剥離し、前記レジスト剥離廃液を排出する
   レジスト剥離装置と、 前記レジスト剥離装置から排出された前記レジスト剥離
   廃液から前記レジスト剥離液を分離蒸留する請求項１、
   ２、３、４、５、６又は７記載のレジスト剥離廃液の処
   理装置と、 前記レジスト剥離装置からの前記レジスト剥離廃液を前
   記処理装置の前記水分蒸留に導き、該処理装置で分離蒸
   留された前記レジスト剥離液を該レジスト剥離装置に戻
   すレジスト剥離液循環装置と、 を備えていることを特徴とするレジスト剥離・廃液処理
   設備。
9. 【請求項９】請求項８記載のレジスト剥離・廃液処理設
   備において、 前記レジスト剥離装置は、基板に前記レジスト剥離液を
   かけて、該基板から該フォトレジストを剥離する複数の
   ユニットを備え、 複数のユニットは、直列的に並べられ、それぞれ、前記
   基板を次のユニットへ搬送する基板搬送機構と、該基板
   搬送機構により搬送されている該基板に前記レジスト剥
   離液を噴霧するノズルと、該基板に噴霧された該レジス
   ト剥離液を溜めておく剥離液槽と、該剥離液槽内の該レ
   ジスト剥離液を該ノズルに送る剥離液循環噴霧手段と、
   該剥離液槽内の該レジスト剥離液を該基板が送られてく
   る上流側の機器に送る剥離液移送手段とを有し、 前記剥離液循環装置は、複数の前記ユニットのうち、前
   記基板が搬送されて行く最下流のユニットの前記剥離液
   槽に、前記処理装置で分離蒸留された前記レジスト剥離
   液を送る剥離液供給手段を有し、 複数の前記ユニットのうち、前記基板が搬送されてくる
   最上流のユニットの前記剥離液移送手段は、前記レジス
   ト剥離廃液を前記処理装置に導く前記剥離液循環装置
   に、該最上流のユニットの前記剥離液槽内の液体をレジ
   スト剥離廃液として送るものであり、 複数の前記ユニットのうち、前記最上流のユニットを除
   くユニットの前記剥離液移送手段は、該ユニットの前記
   剥離液槽内の液体を一つ上流側のユニットの前記剥離液
   槽内に送るものであることを特徴とするレジスト剥離・
   廃液処理設備。
10. 【請求項１０】請求項８又は９記載のレジスト剥離・廃
    液処理設備において、 前記剥離液循環装置は、 前記レジスト剥離装置からの前記レジスト剥離廃液を一
    時的に溜めておく廃液タンクと、該レジスト剥離装置か
    らの該レジスト剥離廃液を該廃液タンクを介して前記処
    理装置に導く配管とを有し、 前記剥離液循環装置の前記廃液タンクと前記配管とに
    は、断熱材が施されていることを特徴とするレジスト剥
    離・廃液処理設備。