JPH08313206A - 斜入射干渉計装置 - Google Patents

斜入射干渉計装置

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JPH08313206A
JPH08313206A JP14693295A JP14693295A JPH08313206A JP H08313206 A JPH08313206 A JP H08313206A JP 14693295 A JP14693295 A JP 14693295A JP 14693295 A JP14693295 A JP 14693295A JP H08313206 A JPH08313206 A JP H08313206A
Authority
JP
Japan
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light
optical path
diffraction grating
reference light
attenuating
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JP14693295A
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English (en)
Inventor
Masatoshi Hizuka
正敏 肥塚
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Fujinon Corp
Original Assignee
Fuji Photo Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 反射率の低い被検体の測定を行う際に、物体
光から分離した参照光の光路に、光量減衰手段を挿脱可
能に臨ませた状態で行うことにより、干渉縞のコントラ
ストを向上させる。 【構成】 レーザ光源1からの光を回折させる第1の回
折格子7と、この第1の回折格子7における0次光であ
る参照光と、+1次回折光が被検物9に反射して得られ
る物体光との波面を重ね合わせる第2の回折格子10と
の間の部位において、参照光の光路と物体光の光路とが
完全に分離した位置に光量減衰板20がスライドガイド
21にガイドされて、光量減衰板20は参照光の光路に
臨む位置と、参照光の光路から退避した位置との間にス
ライド変位できるようになっている。被検物9の反射率
が高い場合には、光量減衰板20を退避させるが、反射
率の低い被検物9を測定する場合には、光量減衰板20
を参照光の光路に臨ませて、この参照光の光量を減衰さ
せて、物体光との光量差を小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光の干渉作用を利用し
て被検体の表面状態の検査を行う干渉計装置において、
被検体に対して斜め方向から光を入射させるようにした
斜入射干渉計装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学部品や、その他の被検物の表面形状
を非接触で精密に測定するために干渉計が用いられる。
この干渉計の一般的なものとして、フィゾー型干渉計,
マイケルソン型干渉計等種々のタイプのものがあるが、
表面形状の変化の大きな被検体や反射率の低い被検体の
測定を行うのに適した干渉計として、斜入射干渉計が用
いられる。
【0003】そこで、図6にこの斜入射干渉計の構成を
示す。図中において、1はレーザ光源であって、このレ
ーザ光源1からの光は、反射プリズム3により光路が9
0°曲折されて、発散レンズ3及びピンホール4を介す
ることにより発散することになり、反射ミラー5により
再度90°曲折するように引き回され、コリメータレン
ズ6により平行光束化される。このコリメータレンズ6
からの平行光束は、第1の回折格子7に入射されること
により光の回折が生じる。ここで、第1の回折格子7の
出力側では、直進透過光、即ち0次光L1 と+1次回折
光L2 とが利用される。0次光L1 は参照光であって、
+1次回折光L2 は試料台8に載置した被検体9に入射
される入射光となる。
【0004】被検体9には、+1次回折光L2 が所定の
角度をもって照射されて、この被検体9の被検面で反射
して、この反射光が物体光L3 となる。そして、これら
物体光L3 と参照光L1 とが交差する位置には、第2の
回折格子10が設けられている。これら物体光L3 と参
照光L1 とは、この第2の回折格子10で再び回折が生
じるが、この第2の回折格子10における物体光の直進
透過光である0次光L4 と、参照光の−1次回折光L5
とが重なり合う。従って、これら物体光の0次光L4
参照光の−1次回折光L5 との波面が相互に干渉するこ
とになって、干渉縞が生成される。
【0005】干渉縞を有する光の光路には、干渉縞観察
手段が設けられている。即ち、この干渉縞を持った画像
はスクリーン11に投影され、このスクリーン11の画
像は干渉縞結像用レンズ12を介して撮像手段13に入
射され、この撮像手段13により干渉縞が撮影される。
ここで、スクリーン11のスクリーン面は被検体9の被
検面と平行に配置され、また干渉縞結像用レンズ12及
び撮像手段13は、このスクリーン11に対向配設され
ている。なお、図中において、14はアライメント用の
受光素子である。
【0006】ここで、第1,第2の回折格子10は、コ
ンピュータ合成ホログラム光学素子で形成することがで
きる。ここで、コンピュータ合成ホログラム光学素子
は、ガラス基板上にフォトレジスト膜を塗布し、このフ
ォトレジスト膜を電子ビームで走査させることによっ
て、物体波と参照波との干渉縞と同等のホログラムパタ
ーンを露光した後、それを現像することにより干渉縞を
顕在化させた光学素子である。このホログラム光学素子
における干渉縞に参照波と同じ再生波を入射すると、物
体波が再生される。
【0007】以上の構成を有する斜入射干渉計を用いれ
ば、被検体9に対しては、斜め方向から光が入射される
ことから、この被検体9からの反射光量、即ち物体光の
光量が大きくなり、従って透明度が高い被検体でも測定
が可能になる。また、図7に示したように、第1の回折
格子7の格子Gのピッチをdとしたときに、+1次回折
光の回折角度をθ、レーザ光源1の波長をλとすると、
一般に、sin θ/λ=1/dが成立する。被検体の凹凸
差をhとすると、この凹凸差hによって発生する+1次
回折光の光路差ΔIは、ΔI=2h・sinθとして表され
る。そこで、この光路差により1本の干渉縞が発生する
とした場合には、ΔI=2h・sinθ=λとなり、h=λ
/2sin θ=d/2となる。従って、レーザ光源1から
のレーザ光の波長λが632.8nmのものを用い、ま
た第1の回折格子7の格子Gのピッチ間隔dを4μmと
すると、+1次回折光の回折角度θが9.1°となるか
ら、感度は2μmとなり、形状変化の大きい被検体の表
面測定を行うのに都合が良い。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、干渉縞は明
暗のコントラストであることから、参照光と物体光との
光量に差があると、干渉縞のコントラストが低下する。
参照光は第1の回折格子では直進透過し、第2の回折格
子では、−1次回折光となる。従って、その光量はレー
ザ光源の光源光量のみに依存する。これに対して、物体
光は被検体で反射することから、被検体の反射率により
反射光量が変化する。このために、被検体の反射率が極
端に低い場合には、斜入射干渉計であるからある程度の
反射は得られるものの、反射光量に不足が生じて、結像
される干渉縞のコントラストが著しく低下して、実質的
に測定不能となる場合もある、という問題があった。
【0009】本発明は以上の点に鑑みてなされたもので
あって、その目的とするところは、干渉縞のコントラス
トを良好ならしめるようにすることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明は、第1の回折格子と第2の回折格子と
の間で、被検物で反射する光路から分離した参照光の光
路に、光量減衰手段を挿脱可能に臨ませる構成としたこ
とをその特徴とするものである。
【0011】
【作用】斜入射干渉計においては、物体光は、第1の回
折格子における+1次回折光であり、また参照光は、第
2の回折格子における−1次回折光であり、共に1次回
折光であるから、被検体で全反射しない限り、実質的に
物体光の方が光量が少ない。また、第1次回折格子から
第2の回折格子までの間では、第1の回折格子による光
の回折により、被検物に入射され、またこの被検物から
反射する光の光路は、この第1の回折格子を直進透過す
る参照光の光路と完全に分離されている部位がある。
【0012】以上のことから、参照光の光路において、
被検物への入射側を含めた物体光と完全に分離されてい
る部位に、光量減衰手段を介在させる。ここで、光量減
衰手段は、透過光量を減少させるフィルタであり、単波
長光であるレーザ光源を用いれば、必ずしも必須ではな
いが、特に減衰波長が平均的な特性を持った、中性濃度
フィルタ、所謂NDフィルタが好ましい。被検体が反射
率の低いものである場合には、参照光の光路に、この光
量減衰手段を介在させる。これによって、物体光と参照
光との間の差を補正できることになって、観察される干
渉縞のコントラストが向上する。
【0013】ここで、物体光と参照光との光量が等しい
場合には、干渉縞のコントラストが最も高くなる。従っ
て、参照光の減衰による光量補正値は、被検体に応じて
変えることができるようになっている方が干渉縞を観察
する上でより好ましい。このためには、異なる減衰特性
を持った光量減衰部材を交換可能にすることにより複数
段階で減衰量の調整を行えるようにすれば良い。光量減
衰部材を交換するには、例えば着脱式,回転式,水平送
り方式等を採用できる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例について図1乃至図5
に基づいて詳細に説明する。なお、斜入射干渉計そのも
のの構成については、図6のものと実質的に変わるとこ
ろがないので、この図6のものと同一または均等な部材
については、同一の符号を付して、その説明は省略す
る。
【0015】まず、図1及び図2は、本発明の第1の実
施例を示すものであって、図中において、20は光量減
衰手段を構成する光量減衰板である。この光量減衰板2
0は透明ガラスからなる平行平面板の表面にNDフィル
タを積層したものから構成される。ここで、光量減衰板
20の平行度が劣ると、レンズ作用を発揮したり、透過
光が散乱したりするから、極めて厳格な平行度を持った
もので形成される。この光量減衰板20は、第1の回折
格子7と第2の回折格子10との間の部位に配置され
る。第1の回折格子7では、参照光がこの第1の回折格
子7を直進透過し、被検物9に向けた光は+1次回折光
であり、この+1次回折光が完全に参照光と離れた位置
で被検体9に照射されるから、特に参照光の光路が物体
光の光路と最も離れた位置、即ち被検体9がセットされ
ている部位の上部位置において、参照光の光路に挿脱可
能に設けられている。
【0016】光量減衰板20を参照光の光路に挿脱可能
にするために、例えば干渉計を構成する各部材が設けら
れている定盤または擾乱防止用のハウジングにスライド
ガイド21が固定的に装着されている。このスライドガ
イド21は、参照光の光路の上部位置において、この参
照光の光路と直交する方向に向けられており、この光量
減衰板20の上端部に連結部材22が固着して設けら
れ、この連結部材22はスライドガイド21のガイド溝
23に沿って摺動可能となっている。また、連結部材2
2の端面部には把手24が取り付けられており、この把
手24を手で把持して押し引き操作することによって、
光量減衰板20は参照光の光路に臨む位置と、参照光の
光路から退避した位置との間にスライド変位できるよう
になっている。なお、光量減衰板20の参照光の光路へ
の挿脱は、手動操作ではなく、モータ,シリンダ等の駆
動手段を用いて自動的に行うようにしても良い。
【0017】本実施例は以上のように構成されるもので
あって、レーザ光源1からのレーザ光が第1の回折格子
7を通過する際に、光の回折が生じて、第1の回折格子
7の出力側では、0次光と+1次回折光とに分離され
る。0次光は参照光として直進するが、+1次回折光は
被検体9に反射して物体光が生成される。ここで、物体
光の光量は、被検体9の反射率に応じて変化する。
【0018】反射率の高い被検体の測定を行う場合に
は、物体光の光量が大きいから、光量減衰板20は、参
照光の光路から退避させて、その光量を減少させないよ
うにする。参照光は、第2の回折格子10において回折
した−1次回折光の波面が物体光の波面とが重なり合う
ことから、物体光と参照光との光量差があまり大きくな
い。従って、撮像手段13により撮影される干渉縞のコ
ントラストは高く、干渉縞の識別を容易に行える。
【0019】これに対して、被検体の透明度が高い等に
より反射率が低い場合には、この被検体からの物体光は
参照光に対して光量が少な過ぎることから、干渉縞のコ
ントラストが極めて低くなり、その識別が不可能にな
る。そこで、物体光と参照光との間で光量バランスが良
くなるように補正する必要がある。このために光量減衰
板20が向けられており、この光量減衰板20をスライ
ドガイド21に沿って摺動させて、参照光の光路に臨ま
せる。これによって、参照光がこの光量減衰板20を通
過する際に、その光量が減少する。これに対して、物体
光の光路は光量減衰板20を通らないことから、この被
検体9の被検面から反射する物体光は減衰することがな
い。これによって、物体光と参照光との間に光量差が小
さくなって、干渉縞画像のコントラストが高くなる。ま
た、物体光の入射方向が斜めになっている斜入射干渉計
という特質と相まって、従来技術では測定不能とされて
いた反射率が極端に低い被検体でも、その表面状態の検
査・測定を正確に行えるようになる。
【0020】ここで、前述の実施例においては、光量減
衰板20は、スライドガイド21に沿って動かすことに
よって、参照光の光路に臨むか、またはそれから退避す
るかという構成としたが、多段階に光量の調整を行うよ
うに構成することもできる。このためには、スライドガ
イドに光量減衰板を着脱できるようになし、それぞれ光
量減衰率の異なる光量減衰板を複数用意しておけば、被
検体の反射率に応じて最適の光量減衰板をスライドガイ
ドに装着することができる。
【0021】光量減衰板をスライドガイドに装着した時
に、安定的に位置決めするには、図3に示したように、
スライドガイド30には、左右に各2箇所の凹部30a
を設けて、この凹部30a内に位置決め用の板ばね31
を装着し、この板ばね31を凹部30aからガイド溝3
2内に突出させるようになし、また光量減衰板を連結し
た連結部材33には、各板ばね31が係合する凹部33
aを形成する。これによって、一種のクリック機構が構
成され、連結部材33をスライドガイド30に装着する
と、板ばね31の作用により安定的に位置決めできる。
そして、この場合には、光量を減衰させない場合には、
光量減衰板を抜き取れば良いので、スライドガイド30
は連結部材33の長さとほぼ同じ長さとなし、その端部
を擾乱防止用のハウジング等、所定の支持部材34に固
定しておけば良い。
【0022】また、図4に示したように、参照光の光路
にターレット40を設け、このターレット40に光量減
衰板を装着しない透孔部41aと、減衰率の異なる光量
減衰板42b,42c,42dを嵌め込んだ光量減衰部
41b,41c,41dを設けるようになし、被検体の
反射率に応じてターレット40を回転軸40aを中心と
して適宜の方向に手動またはモータ等の駆動手段により
回転させて、透孔部41aまたは光量減衰部41b,4
1c,41dのいずれかを参照光の光路に臨ませるよう
に構成することもできる。なお、透孔部41a及び光量
減衰部41b,41c,41dは楕円状になっている
が、被検物9に斜め方向から光が入反射されることか
ら、物体光の光路が略楕円形状となるからである。
【0023】前述した各実施例においては、光量減衰部
材として、透明ガラスからなる平行平面板を基板とした
が、図5に示したように、透明の可撓性フィルムの基板
にNDフィルタを積層した光量減衰フィルム50を用い
ることもできる。そして、この光量減衰フィルム50を
長尺のものとすることにより、所定の幅にわたって特定
の減衰率を持ったフィルタ領域を多数設けることができ
る。この光量減衰フィルム50は、参照光の光路を挟む
ように設けた一対の巻き取りドラム51a,51bに巻
き付けておき、これら巻き取りドラム51a,51bを
手動またはモータ等により回転させて、被検体に応じて
異なる減衰率のフィルタ領域を参照光の光路に臨ませ
る。この場合において、光量減衰フィルム50は、真直
ぐな状態となるように張りを持たせる必要がある。この
ために、ばね等の付勢手段で図5に矢印方向に付勢力を
持たせた張力付与用のローラ52a,52bを設けて、
このローラ52a,52b間で所定の張力を持たせるよ
うにすれば良い。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、第1の
回折格子と第2の回折格子との間で、被検物で反射する
光路から分離した参照光の光路に、光量減衰手段を挿脱
可能に臨ませる構成としたので、反射率の低い被検体で
あっても、物体光と参照光との光量差を小さくでき、干
渉縞のコントラストを向上させて、その表面状態の正確
な測定が可能になる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す斜入射干渉計装置の構
成説明図である。
【図2】光量減衰手段の構成を示す外観図である。
【図3】光量減衰板を着脱可能とした構成を示す図2の
X−Xの位置に相当する部分の断面図である。
【図4】本発明の第2の実施例を示す光量減衰手段の構
成説明図である。
【図5】本発明の第3の実施例を示す光量減衰手段の構
成説明図である。
【図6】斜入射干渉計の全体構成図である。
【図7】斜入射干渉計装置の感度についての式を求める
ための光路説明図である。
【符号の説明】
1 レーザ光源 7 第1の回折格子 9 被検体 10 第2の回折格子 11 スクリーン 13 撮像手段 20,42b,42c,42d 光量減衰板 21,30 スライドガイド 22,33 連結部材 23,32 ガイド溝 40 ターレット 41a 透孔部 41b,41c,41d 光量減衰部 50 光量減衰フィルム 51a,51b 巻き取りドラム 52a,52b ローラ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、この光源からの光を直進透過す
    る参照光と、この参照光に対して所定の角度を持った回
    折光とに分ける第1の回折格子と、この第1の回折格子
    からの回折光が反射する部位に設けられ、被検体が装着
    される試料台と、試料台の被検体から反射した物体光を
    直進させると共に、前記参照光を回折させて、この物体
    光の波面と参照光の波面とを重ね合わせる第2の回折格
    子と、物体光の波面と参照光の波面との間で生じる干渉
    縞を観察する干渉縞観察手段とを備えたものにおいて、
    前記第1の回折格子と第2の回折格子との間で、被検物
    で反射する光路から分離した参照光の光路に、光量減衰
    手段を挿脱可能に臨ませる構成としたことを特徴とする
    斜入射干渉計装置。
  2. 【請求項2】 前記光量減衰手段は、複数段階にわたっ
    て減衰量を可変にするNDフィルタにより構成としたこ
    とを特徴とする請求項1記載の斜入射干渉計装置。
JP14693295A 1995-05-23 1995-05-23 斜入射干渉計装置 Pending JPH08313206A (ja)

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JP14693295A JPH08313206A (ja) 1995-05-23 1995-05-23 斜入射干渉計装置

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JP14693295A JPH08313206A (ja) 1995-05-23 1995-05-23 斜入射干渉計装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003529743A (ja) * 1999-06-18 2003-10-07 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション スキャン、繋ぎ合わせ、および防振を含む両面計測検査具での測定
US6885459B2 (en) 1996-01-24 2005-04-26 Nanopro Luftlager-Produktions-Und Messtechnik Gmbh Apparatus and method for measuring two opposite surfaces of a body
JP2007248411A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Kobe Steel Ltd 形状測定装置
JP2015155865A (ja) * 2014-02-21 2015-08-27 株式会社ミツトヨ 斜入射干渉計

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