JPH08309666A - 電着砥石およびその製造方法 - Google Patents

電着砥石およびその製造方法

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JPH08309666A
JPH08309666A JP11748295A JP11748295A JPH08309666A JP H08309666 A JPH08309666 A JP H08309666A JP 11748295 A JP11748295 A JP 11748295A JP 11748295 A JP11748295 A JP 11748295A JP H08309666 A JPH08309666 A JP H08309666A
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JP
Japan
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layer
abrasive grain
superabrasive grains
grindstone
particles
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JP11748295A
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Inventor
Tsutomu Takahashi
務 高橋
Satoru Katsumata
哲 勝又
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 硬質で脆い被削材を研削する場合にもチッピ
ングが少なく、かつ十分に長い砥石寿命を有する電着砥
石を提供する。 【構成】 砥石基体1と、その砥粒層形成面1A上に配
置された超砥粒8と、それらを固定する砥粒保持相10
とを有し、砥粒保持相10は、下層2、中層4、上層6
とからなる。下層2は、Ni,Coまたはこれらの合金
で形成され、Hv30〜250、厚さは超砥粒8の平均
粒径の10〜40%である。中層4は、NiにP,B,
WおよびReから選択される1または2以上の元素を合
計0.5〜20wt%添加した組成からなり、Hv50
0〜1200、厚さは前記平均粒径の5〜30%であ
る。上層6は、Ni,Coまたはこれらの合金からな
り、Hv30〜300、厚さは超砥粒8の平均粒径の5
〜30%である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスやセラミックス
等のように、硬質で脆い被削材を研削する用途に適した
電着砥石およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】被削材を研削して高精度な仕上げ面を形
成する用途においては、一般に、電着砥石が使用される
場合が多い。この種の電着砥石は、被削材の仕上げ面形
状に対応する形状の砥粒層形成面を有する台金と、前記
砥粒層形成面上に形成された電着砥粒層とからなり、前
記電着砥粒層は、通常、ダイヤモンドまたはCBN等の
超砥粒をNi,Co等の金属めっき相によって固定した
ものである。このような電着砥石によれば、電着砥粒層
が極めて硬質で、摩耗しにくいことから、比較的大きな
被削材除去量が要求される場合にも、長期に亙って高い
仕上げ面精度が得られる利点を有する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、板硝子やセ
ラミックス板の端面の面取り加工を行う場合や、光学レ
ンズの外周を削って光軸を合わせる、いわゆる芯取り加
工を行う場合には、上述した理由により電着砥石が主に
使用されているが、ガラスやセラミックスは硬質でしか
も脆いため、砥石表面の超砥粒が切刃として切り込む際
に、切刃衝突の衝撃でチッピング(被削材の欠け)を生
じやすく、チッピングに起因する仕上げ面精度の低下が
生じるという欠点を有していた。
【0004】この種のチッピングを低減するためには、
超砥粒の粒径を小さくして切り込み量を減らせばよいの
であるが、その場合には、砥石の切れ味が低下して充分
な研削効率が得られない。また、チッピングを低減する
手段としては、金属めっき相の硬度を低下させることも
考えられるが、その場合には、超砥粒の保持力が低下し
て超砥粒が脱落し易くなり、砥石寿命が短く、使用に耐
えないという問題が生じる。
【0005】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、硬質で脆い被削材を研削する場合にも、被削材にチ
ッピングが生じにくく、しかも十分に長い砥石寿命を得
ることができる電着砥石およびその製造方法を提供する
ことを課題としている。
【0006】なお、砥粒を保持する金属めっき相を多層
状とした電着砥石としては、特開昭59−59352号
公報、特開昭59−110560号公報、特開昭59−
110561号公報、特開昭61−25775号公報、
特開昭63−221977号公報、特開昭63−221
978号公報、特開昭63−272466号公報などに
記載されたものがあるが、これらはいずれも、本発明と
は解決すべき課題を異にしており、構成も異なってい
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る電着砥石は、砥粒層形成面を有する砥
石基体と、前記砥粒層形成面上に単層状に分散配置され
た超砥粒と、これら超砥粒を、前記砥粒層形成面上に固
定する砥粒保持相とを有し、前記砥粒保持相は、前記砥
粒層形成面上に形成された下層と、この下層上に形成さ
れた中層と、この中層上に形成された上層とを有し、前
記下層は、Ni,Coまたはこれらの合金からなり、ビ
ッカース硬さは30〜250であり、その厚さは前記超
砥粒の平均粒径の10〜40%とされ、前記中層は、N
iにP,B,WおよびReから選択される1または2以
上の元素を合計0.5〜20wt%添加した組成からな
り、そのビッカース硬さは500〜1200であり、そ
の厚さは前記超砥粒の平均粒径の5〜30%とされ、前
記上層は、Ni,Coまたはこれらの合金からなり、そ
のビッカース硬さは30〜300であり、その厚さは前
記超砥粒の平均粒径の5〜30%とされ、さらに前記砥
粒層保持相全体の厚さは、前記超砥粒の平均粒径の40
〜75%とされていることを特徴としている。
【0008】一方、本発明に係る電着砥石の製造方法
は、Ni,Coの少なくとも一方をイオン種として含む
電解めっき液中に、砥石基体を浸漬し、この砥石基体の
砥粒層形成面上に超砥粒を分散配置したうえ、前記砥粒
層形成面上に、第1電解めっき層を超砥粒の平均粒径の
10〜40%の厚さで析出させる工程と、前記砥石基体
を、P,B,WおよびReから選択される1または2以
上のイオン種を含有するNi無電解めっき液に浸漬し、
前記第1電解めっき層上に、無電解めっき層を超砥粒の
平均粒径の5〜30%の厚さで析出させる工程と、前記
砥石基体を、Ni,Coの少なくとも一方をイオン種と
して含み、さらに光沢剤を含む電解めっき液中に配置
し、前記無電解めっき層上に、第2電解めっき層を超砥
粒の平均粒径の5〜30%の厚さで析出させる工程と、
前記砥石基体を、300〜500℃で加熱処理すること
により、前記第1電解めっき層のビッカース硬さを30
〜250、前記無電解めっき層のビッカース硬さを50
0〜1200、前記第2電解めっき層のビッカース硬さ
を30〜300とする工程とを具備することを特徴とし
ている。
【0009】
【作用】本発明の電着砥石では、超砥粒を保持している
砥粒保持相が、軟質の下層と上層、および硬質の中層か
ら構成されているため、個々の超砥粒が被削材に切り込
む時に、超砥粒には砥粒層形成面に対し垂直な力と平行
な力が同時に加わる。これらの力により一定程度以上の
衝撃力が超砥粒にかかると、硬質の中層と超砥粒との界
面で滑りが生じ、超砥粒は、軟質の下層を塑性変形させ
つつ硬質の中層で支えられた状態で回転する。その過程
で超砥粒に加わった衝撃が緩和され、クッション作用が
得られるため、被削材の表面にチッピングが生じにく
い。
【0010】一方、超砥粒の高さ方向中央部の周面は、
硬質の中層により強固に包囲されているので、砥粒層形
成面と平行な方向への力に対しては、高い砥粒保持力が
得られ、砥粒の流動落脱が防止できる。したがって、上
記のように砥粒回転によるクッション効果が得られるに
もかかわらず、超砥粒の無駄な脱落は生じにくく、砥石
寿命の延長が図れる。
【0011】また、硬質の中層の上に、中間的な硬度を
有する上層を形成していることにより、超砥粒の回転運
動を許容して前記クッション効果が確実化できるうえ、
硬質の中層に微細な割れが生じることが防止でき、中層
の割れによる超砥粒の無駄な脱落が防止できる。
【0012】一方、本発明に係る電着砥石の製造方法で
は、前述したような優れた性能を有する砥石が容易に製
造できる。
【0013】
【実施例】図1は、本発明に係る電着砥石の一実施例を
示す断面拡大図である。図中符号1は砥石基体1であ
り、少なくともその砥粒層形成面1Aは導電性を有する
材質で形成されている。本発明では、砥石基体1の形状
は限定されず、従来から使用されているいかなる形状の
砥石基体であってもよい。
【0014】砥粒層形成面1A上には、多数の超砥粒8
が分散配置され、砥粒保持相10により砥粒層形成面1
A上に単層状に固定されている。砥粒保持相10は、砥
粒層形成面1A側から順に、下層2、中層4および上層
6の3層で構成され、砥粒層保持相10全体としての厚
さは、超砥粒8の平均粒径の40〜75%、より好まし
くは45〜70%とされている。砥粒保持相10の厚さ
が超砥粒8の平均粒径の40%未満では砥粒保持力が不
足し、75%より厚いと超砥粒8の突出量が減って切れ
味が低下する。なお、超砥粒8の下端は砥粒層形成面1
Aに接していてもよいし、下層2中に位置していてもよ
い。
【0015】下層2は、Ni,Coまたはこれらの合金
からなり、ビッカース硬さはHv30〜250、より好
ましくはHv50〜150とされ、その厚さは超砥粒8
の平均粒径の10〜40%、より好ましくは15〜35
%とされている。
【0016】中層4は、NiにP,B,WおよびReか
ら選択される1または2以上の元素を合計0.5〜20
wt%添加した組成、例えば、Ni−P系合金,Ni−
B系合金,Ni−P−W系合金,Ni−P−Re系合金
等から形成されており、そのビッカース硬さはHv50
0〜1200、より好ましくはHv700〜1200と
され、その厚さは超砥粒8の平均粒径の5〜30%、よ
り好ましくは5〜20%とされている。中層4の硬さが
Hv500未満では充分な砥粒保持力が得られず、Hv
1200より高いものは製造困難である。
【0017】中層4には、Hv1500以上、かつ平均
粒径が超砥粒8の平均粒径の20%以下である硬質粒子
が分散されていてもよい。硬質粒子としては、超砥粒8
よりも小さい小径超砥粒や、SiC,Si34,Al2
3,SiO2等の硬質セラミックス粒子などが例示でき
る。このように中層4中に硬質粒子を添加しておけば、
個々の砥粒6の周囲に硬質粒子を均一に配置することが
できるから、砥粒6の保持力を高めるなどの機能を効果
的に付与することが可能である。硬質粒子の添加量は、
5〜30vol%程度が好適である。
【0018】上層6は、Ni,Coまたはこれらの合金
からなり、光沢剤を含有することにより、そのビッカー
ス硬さはHv30〜300、より好ましくはHv50〜
200とされ、その厚さは超砥粒8の平均粒径の5〜3
0%、より好ましくは5〜20%とされている。
【0019】上層6には、黒鉛粒子,MoS2 粒子,雲
母粒子,hBN粒子,フッ素樹脂粒子から選択される1
または2以上の、平均粒径が超砥粒8の平均粒径の20
%以下である潤滑性粒子が分散されていてもよい。この
ような潤滑性粒子を上層6に添加すれば、研削時に研削
面に徐々に潤滑性物質が供給され、潤滑性向上による研
削抵抗の削減、砥粒の自生発刃作用の促進による切れ味
向上を図ることができる。
【0020】上記構成からなる電着砥石によれば、超砥
粒8を保持している砥粒保持相10が、軟質の下層2お
よび上層6、並びに硬質の中層4の3層から構成されて
いるため、個々の超砥粒8が被削材に切り込む時に、超
砥粒8に砥粒層形成面と垂直な方向の力と平行な方向の
力が同時に加わり一定程度以上の衝撃力がかかると、硬
質の中層4と超砥粒8との界面で滑りが生じ、超砥粒
は、軟質の下層2を塑性変形させつつ、硬質の中層4で
支えられた状態で回転する。この過程で超砥粒8に加わ
った衝撃が緩和され、クッション作用が得られるため、
被削材の表面にチッピングが生じにくい。
【0021】一方、超砥粒8の高さ方向中央部の周面
は、硬質の中層4により強固に包囲されているので、砥
粒層形成面1Aと平行な方向への力、すなわち砥粒を引
き出し脱落させる力に対しては、高い砥粒保持力が得ら
れる。したがって、上記のように砥粒回転によるクッシ
ョン効果が得られるにもかかわらず、超砥粒8の無駄な
脱落は生じにくく、砥石寿命の延長が図れる。
【0022】また、硬質の中層4の上に、中間的な硬度
を有する上層6を形成していることにより、超砥粒8の
回転運動を許容して前記クッション効果が確実化できる
うえ、硬質な中層4に微細な亀裂が生じることが防止で
き、中層4の割れによる超砥粒8の無駄な脱落が防止で
きる。
【0023】次に、上記構成からなる電着砥石の製造方
法を説明する。この方法では、始めに、Ni,Coの少
なくとも一方をイオン種として含む電解めっき液中に、
砥石基体1を浸漬し、この砥石基体1の砥粒層形成面1
A上に超砥粒8を分散配置したうえ、砥粒層形成面1A
上に、第1電解めっき層を超砥粒8の平均粒径の10〜
40%の厚さで析出させ、超砥粒8を仮固定する。
【0024】次に、砥石基体1を電解めっき液から取り
出し、余分な超砥粒8を除去した後、P,B,Wおよび
Reから選択される1または2以上のイオン種を含有す
るNi無電解めっき液に浸漬し、第1電解めっき層上
に、無電解めっき層を超砥粒8の平均粒径の5〜30%
の厚さで析出させ、仮固定されている超砥粒8を埋め込
む。この時、必要であれば、無電解めっき液中に硬質粒
子を分散させておき、中層4中に均一に硬質粒子を添加
してもよい。
【0025】次に、砥石基体1を無電解めっき液から取
り出したうえ、Ni,Coの少なくとも一方をイオン種
として含む第2の電解めっき液中に配置する。第2の電
解めっき液の組成は第1の電解めっき液と同じではな
く、析出金属の表面粗度を向上させるために光沢剤が添
加されている。光沢剤としては、1−5ナフタリンスル
ホン酸ナトリウム、2−ブチン−1,4−ジオール等が
使用可能であり、電解めっき液中の添加量は、0.5w
t%程度が好適である。そして、砥石基体1と、電解め
っき液中に浸漬した陽極との間で通電することにより、
無電解めっき層上に、第2電解めっき層を超砥粒の平均
粒径の5〜30%の厚さで析出させ、超砥粒8を埋め込
んでいく。なお、上層6に潤滑性粒子を添加する場合に
は、第2の電解めっき液に潤滑性粒子を添加しておけば
よい。
【0026】以上3種のめっきが完了したら、砥石基体
1を300〜500℃、より好ましくは350〜450
℃で加熱処理することにより、第1電解めっき層のビッ
カース硬さを30〜250、無電解めっき層をビッカー
ス硬さを500〜1200、第2電解めっき層のビッカ
ース硬さを30〜300とし、それぞれを下層2、中層
4および上層6とする。
【0027】上記構成からなる電着砥石の製造方法によ
れば、前述したような優れた性能を有する砥石が容易に
製造できる。
【0028】
【実験例】次に、実験例を挙げて本発明の効果を実証す
る。表1に示す各層構造を有する同一寸法のホイール型
砥石をそれぞれ作成し、下記の条件で研削試験を行い、
研削面の最大面粗さおよび最大チッピングを比較した。
なお、砥石の寸法等および研削条件は以下の通りであ
る。
【0029】[砥石および切断条件]砥石寸法:外径2
00mm×厚さ6mm×内径50.8mm 砥粒層中のダイヤモンド砥粒:平均粒径50μm、砥粒
面積率:60% 砥石周速度:1500m/min テーブル送り速度:10m/min クロス送り量:4mm 切込み量:20μm ワーク:ソーダガラス 研削液:W2種 研削量:500cc
【0030】
【表1】
【0031】表1から明らかなように、実施例1〜4で
は比較例1〜3に比して最大面粗さが小さく、最大チッ
ピングも低減できた。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電着
砥石は、超砥粒を保持している砥粒保持相が、軟質の下
層と上層、および硬質の中層から構成されているため、
個々の超砥粒が被削材に切り込む時に、超砥粒には砥粒
層形成面に対し垂直な力と平行な力が同時に加わる。こ
れらの力により一定程度以上の衝撃力が超砥粒にかかる
と、硬質の中層と超砥粒との界面で滑りが生じ、超砥粒
は、軟質の下層を塑性変形させつつ硬質の中層で支えら
れた状態で回転する。その過程で超砥粒に加わった衝撃
が緩和され、クッション作用が得られるため、被削材の
表面にチッピングが生じにくく、仕上げ面粗さも改善さ
れる。
【0033】一方、超砥粒の高さ方向中央部の周面は、
硬質の中層により強固に包囲されているので、砥粒層形
成面と平行な方向への力、すなわち超砥粒を引出し脱落
させる力に対しては、高い砥粒保持力が得られる。した
がって、上記のよう砥粒回転によるにクッション効果が
得られるにもかかわらず、超砥粒の無駄な脱落は生じに
くく、砥石寿命の延長が図れる。
【0034】また、硬質の中層の上に、中間的な硬度を
有する上層を形成していることにより、超砥粒の回転運
動を許容して前記クッション効果が確実化できるうえ、
硬質の中層に微細な割れが生じることが防止でき、中層
の割れによる超砥粒の無駄な脱落が防止できる。
【0035】一方、本発明に係る電着砥石の製造方法に
よれば、前述したような優れた性能を有する砥石が容易
に製造できる利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電着砥石の一実施例を示す断面拡
大図である。
【符号の説明】
1 砥石基体 1A 砥粒層形成面 2 下層 4 中層 6 上層 8 超砥粒

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】砥粒層形成面を有する砥石基体と、 前記砥粒層形成面上に単層状に分散配置された超砥粒
    と、 これら超砥粒を、前記砥粒層形成面上に固定する砥粒保
    持相とを有し、 前記砥粒保持相は、前記砥粒層形成面上に形成された下
    層と、この下層上に形成された中層と、この中層上に形
    成された上層とを有し、 前記下層は、Ni,Coまたはこれらの合金からなり、
    ビッカース硬さは30〜250であり、その厚さは前記
    超砥粒の平均粒径の10〜40%とされ、 前記中層は、NiにP,B,WおよびReから選択され
    る1または2以上の元素を合計0.5〜20wt%添加
    した組成からなり、そのビッカース硬さは500〜12
    00であり、その厚さは前記超砥粒の平均粒径の5〜3
    0%とされ、 前記上層は、Ni,Coまたはこれらの合金からなり、
    そのビッカース硬さは30〜300であり、その厚さは
    前記超砥粒の平均粒径の5〜30%とされ、 さらに前記砥粒層保持相全体の厚さは、前記超砥粒の平
    均粒径の40〜75%とされていることを特徴とする電
    着砥石。
  2. 【請求項2】前記中層には、ビッカース硬さが1500
    以上で、その平均粒径が前記超砥粒の20%以下である
    硬質粒子が分散されていることを特徴とする請求項記載
    の電着砥石。
  3. 【請求項3】前記上層には、黒鉛粒子,MoS2 粒子,
    雲母粒子,hBN粒子,フッ素樹脂粒子から選択される
    1または2以上の、平均粒径が前記超砥粒の20%以下
    である潤滑性粒子が分散されていることを特徴とする請
    求項1または2記載の電着砥石。
  4. 【請求項4】Ni,Coの少なくとも一方をイオン種と
    して含む電解めっき液中に、砥石基体を浸漬し、この砥
    石基体の砥粒層形成面上に超砥粒を分散配置したうえ、
    前記砥粒層形成面上に、第1電解めっき層を超砥粒の平
    均粒径の10〜40%の厚さで析出させる工程と、 前記砥石基体を、P,B,WおよびReから選択される
    1または2以上のイオン種を含有するNi無電解めっき
    液に浸漬し、前記第1電解めっき層上に、無電解めっき
    層を超砥粒の平均粒径の5〜30%の厚さで析出させる
    工程と、 前記砥石基体を、Ni,Coの少なくとも一方をイオン
    種として含み、さらに光沢剤を含む電解めっき液中に配
    置し、前記無電解めっき層上に、第2電解めっき層を超
    砥粒の平均粒径の5〜30%の厚さで析出させる工程
    と、 前記砥石基体を、300〜500℃で加熱処理すること
    により、前記第1電解めっき層のビッカース硬さを30
    〜250、前記無電解めっき層のビッカース硬さを50
    0〜1200、前記第2電解めっき層のビッカース硬さ
    を30〜300とする工程とを具備することを特徴とす
    る電着砥石の製造方法。
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