JPH08300252A - 研磨用クロス及び研磨装置 - Google Patents
研磨用クロス及び研磨装置Info
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- JPH08300252A JPH08300252A JP12739195A JP12739195A JPH08300252A JP H08300252 A JPH08300252 A JP H08300252A JP 12739195 A JP12739195 A JP 12739195A JP 12739195 A JP12739195 A JP 12739195A JP H08300252 A JPH08300252 A JP H08300252A
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- polishing liquid
- liquid
- cloth
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 研磨液を研磨面に均一にかつ必要な量を過不
足なく供給できるようにした研磨用クロス及びその研磨
用クロスに適した研磨装置を提供する。 【構成】 本研磨用クロス１０は、上表面に研磨面１１
を有する発泡ポリウレタン製の厚さ０．５mm〜３mmの研
磨液含有層１２と、厚さ４mmの研磨液透液性のベース層
１４とから構成されている。ベース層１４は、ベース層
１４の下方から研磨液を透液させて研磨液含有層１２に
供給するために研磨液透液性の材料、例えば発泡ポリウ
レタン或いは発泡ポリスチレン等の発泡材又は不織布材
で構成されている。研磨液透液性とは、研磨液を透液さ
せる性質を言い、研磨液に含まれる研磨砥粒の大きさ
は、０．０１μm から数μm であるから、ベース層１４
の研磨液透液性は、この大きさの研磨砥粒を通過させる
研磨液透液性である必要がある。
足なく供給できるようにした研磨用クロス及びその研磨
用クロスに適した研磨装置を提供する。 【構成】 本研磨用クロス１０は、上表面に研磨面１１
を有する発泡ポリウレタン製の厚さ０．５mm〜３mmの研
磨液含有層１２と、厚さ４mmの研磨液透液性のベース層
１４とから構成されている。ベース層１４は、ベース層
１４の下方から研磨液を透液させて研磨液含有層１２に
供給するために研磨液透液性の材料、例えば発泡ポリウ
レタン或いは発泡ポリスチレン等の発泡材又は不織布材
で構成されている。研磨液透液性とは、研磨液を透液さ
せる性質を言い、研磨液に含まれる研磨砥粒の大きさ
は、０．０１μm から数μm であるから、ベース層１４
の研磨液透液性は、この大きさの研磨砥粒を通過させる
研磨液透液性である必要がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、研磨用クロス及びその
研磨用クロスを装着した研磨装置に関し、更に詳細に
は、均一にしかも必要な量の研磨液を過不足なく研磨面
に供給できるようにした研磨用クロス及びそれを装着し
た研磨装置にに関するものである。
研磨用クロスを装着した研磨装置に関し、更に詳細に
は、均一にしかも必要な量の研磨液を過不足なく研磨面
に供給できるようにした研磨用クロス及びそれを装着し
た研磨装置にに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ウェハ等の半導体基板（以下、簡
単にウェハと言う）の表面を研磨する際には、図８及び
図９に示すような研磨装置４０を使用している。研磨装
置４０は、研磨用クロスＧを張り付けた平坦な回転定盤
４２と、回転定盤４２を回転させる回転軸４４と、研磨
用クロスＧに研磨液を供給する研磨液供給パイプ４６
と、ウェハホルダ４８とから構成されている。研磨に当
たっては、回転軸４４の周りに回転定盤４２を回転させ
つつ、研磨用クロスＧの上面に研磨液供給パイプ４６か
ら研磨液を流しながら、研磨用クロスＧ上にウェハＷの
表面を押し付ける。これにより、ウェハＷの表面は、研
磨液の研磨作用によって研磨される。ウェハＷは矢印の
方向の真空吸引によりウェハホルダ４８に吸着保持され
ている。
単にウェハと言う）の表面を研磨する際には、図８及び
図９に示すような研磨装置４０を使用している。研磨装
置４０は、研磨用クロスＧを張り付けた平坦な回転定盤
４２と、回転定盤４２を回転させる回転軸４４と、研磨
用クロスＧに研磨液を供給する研磨液供給パイプ４６
と、ウェハホルダ４８とから構成されている。研磨に当
たっては、回転軸４４の周りに回転定盤４２を回転させ
つつ、研磨用クロスＧの上面に研磨液供給パイプ４６か
ら研磨液を流しながら、研磨用クロスＧ上にウェハＷの
表面を押し付ける。これにより、ウェハＷの表面は、研
磨液の研磨作用によって研磨される。ウェハＷは矢印の
方向の真空吸引によりウェハホルダ４８に吸着保持され
ている。
【０００３】従来の研磨用クロスＧには、大別して、図
１０（ａ）に示すように、表面に研磨面１を有し、発泡
ポリウレタン等の発泡材からなる厚さ０．５mmから３mm
の研磨液保液層２と、研磨液保液層２を支持する数mmの
厚さのポリエステル等のベース層３とを備えた研磨用ク
ロス４と、図１０（ｂ）に示すように、図１０（ａ）の
研磨用クロス４の研磨液保液層２に代えて、研磨液保液
層としてポリエステル等の不織布材からなる厚さ０．５
mmから３mmの研磨液保液層５を有する研磨用クロス６と
がある。研磨用クロスＧ上に滴下された研磨液は、図９
（ｂ）に示すように、研磨液保液層２又は５に吸収、ま
たは付着した状態で回転定盤４２とウェハＷの相対運動
により研磨面１に供給される。ここで、図９（ａ）は図
８の平面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）の線Ｉ−Ｉ
での断面図である。
１０（ａ）に示すように、表面に研磨面１を有し、発泡
ポリウレタン等の発泡材からなる厚さ０．５mmから３mm
の研磨液保液層２と、研磨液保液層２を支持する数mmの
厚さのポリエステル等のベース層３とを備えた研磨用ク
ロス４と、図１０（ｂ）に示すように、図１０（ａ）の
研磨用クロス４の研磨液保液層２に代えて、研磨液保液
層としてポリエステル等の不織布材からなる厚さ０．５
mmから３mmの研磨液保液層５を有する研磨用クロス６と
がある。研磨用クロスＧ上に滴下された研磨液は、図９
（ｂ）に示すように、研磨液保液層２又は５に吸収、ま
たは付着した状態で回転定盤４２とウェハＷの相対運動
により研磨面１に供給される。ここで、図９（ａ）は図
８の平面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）の線Ｉ−Ｉ
での断面図である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、集積回路基板
の層間膜の凹凸を除去して層間膜の平坦化を行う平坦化
研磨や、ＳＯＩ基板の高精度な平坦化研磨等のウェハの
精密研磨が要求されるにつれて、かかる従来の研磨用ク
ロス及び研磨装置には次のような問題があることが明ら
かになって来た。第１には、従来の研磨装置では、研磨
液を研磨液供給パイプによって上方から研磨用クロスに
供給するので、研磨用クロスの全面に研磨液を均一に供
給できない。そのため、均一な研磨が難しく、研磨ムラ
が生じると言う問題があった。第２には、研磨液保液層
の保液性が悪いため、ウェハ表面と研磨用クロスとの間
に均一な分布で研磨液を供給することが難しく、均一な
精密研磨を行うことが困難であると言う問題があった。
この問題は、特に保水性の悪い発泡ポリウレタン製の研
磨用クロスを使用した場合に著しい。第３には、逆に、
研磨用クロスに必要な研磨液を十分に供給しようとする
と、どうしても過剰な量の研磨液を供給することとな
り、そのため、研磨液保液層に保有できない過剰の研磨
液が定盤の外に遠心力で飛び散ったり、流れ出たりし
て、無駄になり、研磨コストが嵩むと言う問題であっ
た。
の層間膜の凹凸を除去して層間膜の平坦化を行う平坦化
研磨や、ＳＯＩ基板の高精度な平坦化研磨等のウェハの
精密研磨が要求されるにつれて、かかる従来の研磨用ク
ロス及び研磨装置には次のような問題があることが明ら
かになって来た。第１には、従来の研磨装置では、研磨
液を研磨液供給パイプによって上方から研磨用クロスに
供給するので、研磨用クロスの全面に研磨液を均一に供
給できない。そのため、均一な研磨が難しく、研磨ムラ
が生じると言う問題があった。第２には、研磨液保液層
の保液性が悪いため、ウェハ表面と研磨用クロスとの間
に均一な分布で研磨液を供給することが難しく、均一な
精密研磨を行うことが困難であると言う問題があった。
この問題は、特に保水性の悪い発泡ポリウレタン製の研
磨用クロスを使用した場合に著しい。第３には、逆に、
研磨用クロスに必要な研磨液を十分に供給しようとする
と、どうしても過剰な量の研磨液を供給することとな
り、そのため、研磨液保液層に保有できない過剰の研磨
液が定盤の外に遠心力で飛び散ったり、流れ出たりし
て、無駄になり、研磨コストが嵩むと言う問題であっ
た。
【０００５】上述の問題に鑑み、本発明は、研磨液を研
磨面に均一にかつ必要な量を過不足なく供給できるよう
にした研磨用クロス及びその研磨用クロスに適した研磨
装置を提供することである。
磨面に均一にかつ必要な量を過不足なく供給できるよう
にした研磨用クロス及びその研磨用クロスに適した研磨
装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る研磨用クロスは、表面に研磨面を有
し、発泡材又は不織布材のいずれかからなる研磨液保液
層と、研磨液保液層を支持するベース層とを備える研磨
用クロスにおいて、ベース層が研磨液透液性であること
を特徴としている。
に、本発明に係る研磨用クロスは、表面に研磨面を有
し、発泡材又は不織布材のいずれかからなる研磨液保液
層と、研磨液保液層を支持するベース層とを備える研磨
用クロスにおいて、ベース層が研磨液透液性であること
を特徴としている。
【０００７】研磨液保液層に使用する発泡材又は不織布
材は従来の研磨用クロスに使用したものを使用できる。
これは、以下の本発明に係る研磨用クロスでも同じであ
る。本発明で使用するベース層の材料には、例えば不織
布材を使用できる。研磨液透液性とは、研磨液を透液さ
せる性質を言い、研磨液に含まれる研磨砥粒の大きさ
は、０．０１μm から数μm であるから、ベース層の研
磨液透液性は、この大きさの研磨砥粒を通過させる研磨
液透液性を有する必要がある。本発明では、研磨液透液
性のベース層を介してベース層の下面から研磨液を研磨
液保液層に導くことができる。
材は従来の研磨用クロスに使用したものを使用できる。
これは、以下の本発明に係る研磨用クロスでも同じであ
る。本発明で使用するベース層の材料には、例えば不織
布材を使用できる。研磨液透液性とは、研磨液を透液さ
せる性質を言い、研磨液に含まれる研磨砥粒の大きさ
は、０．０１μm から数μm であるから、ベース層の研
磨液透液性は、この大きさの研磨砥粒を通過させる研磨
液透液性を有する必要がある。本発明では、研磨液透液
性のベース層を介してベース層の下面から研磨液を研磨
液保液層に導くことができる。
【０００８】また、本発明に係る別の研磨用クロスは、
表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布材のいずれかか
らなる研磨液保液層と、研磨液保液層を支持するベース
層とを備える研磨用クロスにおいて、ベース層の下面か
ら厚さ方向に貫通して研磨液保液層に連通する研磨液供
給孔をベース層に設けたことを特徴としている。
表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布材のいずれかか
らなる研磨液保液層と、研磨液保液層を支持するベース
層とを備える研磨用クロスにおいて、ベース層の下面か
ら厚さ方向に貫通して研磨液保液層に連通する研磨液供
給孔をベース層に設けたことを特徴としている。
【０００９】研磨液を研磨液供給孔を介してベース層の
下面から研磨液保液層に導くことができる。研磨液供給
孔は、均一な分布でベース層の全面に配置した全面均等
配置でも、又は、局所的な配置でも、例えば後述する研
磨装置の回転テーブルの回転により研磨すべきウェハが
通るトラックのセンターライン上に線状に配置した局所
的な配置でも良い。
下面から研磨液保液層に導くことができる。研磨液供給
孔は、均一な分布でベース層の全面に配置した全面均等
配置でも、又は、局所的な配置でも、例えば後述する研
磨装置の回転テーブルの回転により研磨すべきウェハが
通るトラックのセンターライン上に線状に配置した局所
的な配置でも良い。
【００１０】また、本発明に係る更に別の研磨用クロス
は、表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布材のいずれ
かからなる研磨液保液層と、研磨液保液層を支持するベ
ース層とを備える研磨用クロスにおいて、ベース層の側
面からその交差方向に穿孔された横孔と横孔から研磨液
保液層に通じる導液孔とを有する研磨液通路をベース層
に備えたことを特徴としている。研磨液を研磨液通路を
介して研磨液保液層に導くことができる。
は、表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布材のいずれ
かからなる研磨液保液層と、研磨液保液層を支持するベ
ース層とを備える研磨用クロスにおいて、ベース層の側
面からその交差方向に穿孔された横孔と横孔から研磨液
保液層に通じる導液孔とを有する研磨液通路をベース層
に備えたことを特徴としている。研磨液を研磨液通路を
介して研磨液保液層に導くことができる。
【００１１】研磨液中の研磨砥粒の大きさが０．０１μ
m から数μm であるから、研磨液供給孔及び研磨液通路
の大きさ（径）は、使用する研磨液によって異なるが、
通常は１μm から１mm程度で良い。ベース層が例えば不
織布材等で形成されていて研磨液を通過させる導液性が
あれば、導液路を必ずしもベース層に設ける必要はな
い。
m から数μm であるから、研磨液供給孔及び研磨液通路
の大きさ（径）は、使用する研磨液によって異なるが、
通常は１μm から１mm程度で良い。ベース層が例えば不
織布材等で形成されていて研磨液を通過させる導液性が
あれば、導液路を必ずしもベース層に設ける必要はな
い。
【００１２】また、上記目的を達成するために、本発明
に係る研磨装置は、表面に研磨面を有し、発泡材又は不
織布材のいずれかからなる研磨液保液層を支持するベー
ス層が研磨液透液性である研磨用クロス、又はベース層
の下面から厚さ方向に貫通して研磨液保液層に連通する
研磨液供給孔をベース層に有する研磨用クロスのいずれ
かを定盤上に装着して基板を研磨する研磨装置であっ
て、回転軸と、上面に研磨用クロスを装着させる定盤
と、定盤の下面に接して設けられ、研磨液を滞留させる
溜部とを上部に備え、下部で回転軸に連結されて回転軸
と共に回転する回転テーブルと、回転軸をその軸線方向
に貫通し、かつ回転テーブルの溜部に通じる研磨液供給
路と、溜部から定盤上の研磨用クロスに研磨液を導くた
めに定盤に設けられた導液手段とを備えていることを特
徴としている。
に係る研磨装置は、表面に研磨面を有し、発泡材又は不
織布材のいずれかからなる研磨液保液層を支持するベー
ス層が研磨液透液性である研磨用クロス、又はベース層
の下面から厚さ方向に貫通して研磨液保液層に連通する
研磨液供給孔をベース層に有する研磨用クロスのいずれ
かを定盤上に装着して基板を研磨する研磨装置であっ
て、回転軸と、上面に研磨用クロスを装着させる定盤
と、定盤の下面に接して設けられ、研磨液を滞留させる
溜部とを上部に備え、下部で回転軸に連結されて回転軸
と共に回転する回転テーブルと、回転軸をその軸線方向
に貫通し、かつ回転テーブルの溜部に通じる研磨液供給
路と、溜部から定盤上の研磨用クロスに研磨液を導くた
めに定盤に設けられた導液手段とを備えていることを特
徴としている。
【００１３】本発明の好適な実施態様は、前記導液手段
が、研磨液透液性の定盤、溜部から定盤上面に研磨液を
導くように定盤に設けられた貫通孔、定盤の上面に設け
れた横溝と溜部から横溝に研磨液を導く導液路とからな
る研磨液供給路のいずれかであることを特徴としてい
る。
が、研磨液透液性の定盤、溜部から定盤上面に研磨液を
導くように定盤に設けられた貫通孔、定盤の上面に設け
れた横溝と溜部から横溝に研磨液を導く導液路とからな
る研磨液供給路のいずれかであることを特徴としてい
る。
【００１４】また、本発明に係る別の研磨装置は、表面
に研磨面を有し、発泡材又は不織布材からなる研磨液保
液層と、研磨液保液層を支持するベース層とを有し、ベ
ース層の側面からその交差方向に穿孔された横孔と横孔
から研磨液保液層に通じる導液孔とを有する研磨液通路
をベース層に備えた研磨用クロスを定盤上に装着して基
板を研磨する研磨装置であって、回転軸と、上面に研磨
用クロスを装着させる定盤を上部に備え、下部で回転軸
に連結されて回転軸と共に回転する回転テーブルと、回
転軸をその軸線方向に貫通した第１研磨液供給路と回転
テーブルを貫通して、一端で第１研磨液供給管に接続
し、他端で研磨用クロスの研磨液通路に接続する第２研
磨液供給管とを備えていることを特徴としている。
に研磨面を有し、発泡材又は不織布材からなる研磨液保
液層と、研磨液保液層を支持するベース層とを有し、ベ
ース層の側面からその交差方向に穿孔された横孔と横孔
から研磨液保液層に通じる導液孔とを有する研磨液通路
をベース層に備えた研磨用クロスを定盤上に装着して基
板を研磨する研磨装置であって、回転軸と、上面に研磨
用クロスを装着させる定盤を上部に備え、下部で回転軸
に連結されて回転軸と共に回転する回転テーブルと、回
転軸をその軸線方向に貫通した第１研磨液供給路と回転
テーブルを貫通して、一端で第１研磨液供給管に接続
し、他端で研磨用クロスの研磨液通路に接続する第２研
磨液供給管とを備えていることを特徴としている。
【００１５】導液手段、第１研磨液供給管及び第２研磨
液供給管は、研磨液を導液する大きさを必要とし、研磨
液中の研磨砥粒の大きさが０．０１μm から数μm であ
るから、正確には、使用する研磨液によって異なるが、
通常は１μm から１mm程度の大きさを有する必要があ
る。
液供給管は、研磨液を導液する大きさを必要とし、研磨
液中の研磨砥粒の大きさが０．０１μm から数μm であ
るから、正確には、使用する研磨液によって異なるが、
通常は１μm から１mm程度の大きさを有する必要があ
る。
【００１６】
【作用】請求項１から３に記載の研磨用クロスでは、研
磨液透液性のベース層を備えるか、研磨液保液層に連通
する研磨液供給孔をベース層に設けるか、又は研磨液通
路を設けるかすることにより、ベース層の下面から研磨
液を研磨液保液層に導くようにしている。これにより、
研磨液保液層の全面に均一にかつ必要な量を過不足なく
供給できる。
磨液透液性のベース層を備えるか、研磨液保液層に連通
する研磨液供給孔をベース層に設けるか、又は研磨液通
路を設けるかすることにより、ベース層の下面から研磨
液を研磨液保液層に導くようにしている。これにより、
研磨液保液層の全面に均一にかつ必要な量を過不足なく
供給できる。
【００１７】請求項４に記載の研磨装置では、導液手段
を定盤に設けることにより、研磨液は、回転軸を貫通し
た研磨液供給路、溜部及び導液手段を経て定盤上の研磨
用クロスに供給される。請求項５は、導液手段の例を挙
げている。
を定盤に設けることにより、研磨液は、回転軸を貫通し
た研磨液供給路、溜部及び導液手段を経て定盤上の研磨
用クロスに供給される。請求項５は、導液手段の例を挙
げている。
【００１８】請求項６に記載の研磨装置では、第２研磨
液供給管が、回転テーブルを貫通して、一端で第１研磨
液供給管に接続し、他端で研磨用クロスの研磨液通路に
接続されている。研磨液は、第１研磨液供給路及び第２
研磨液供給管を経て定盤上の研磨用クロスに供給され
る。
液供給管が、回転テーブルを貫通して、一端で第１研磨
液供給管に接続し、他端で研磨用クロスの研磨液通路に
接続されている。研磨液は、第１研磨液供給路及び第２
研磨液供給管を経て定盤上の研磨用クロスに供給され
る。
【００１９】
【実施例】以下、添付図面を参照し、実施例に基づいて
本発明をより詳細に説明する。研磨用クロスの実施例１ 図１は本発明に係る研磨用クロスの実施例１の構成を示
す断面図で、図１（ａ）は研磨液保液層が発泡材で形成
された例、図１（ｂ）は研磨液保液層が不織布材で形成
された例である。本実施例の研磨用クロス１０は、図１
（ａ）に示すように、上表面に研磨面１１を有する発泡
ポリウレタン製の厚さ０．５mm〜３mmの研磨液保液層１
２と、厚さ４mmの研磨液透液性のベース層１４とから構
成されている。
本発明をより詳細に説明する。研磨用クロスの実施例１ 図１は本発明に係る研磨用クロスの実施例１の構成を示
す断面図で、図１（ａ）は研磨液保液層が発泡材で形成
された例、図１（ｂ）は研磨液保液層が不織布材で形成
された例である。本実施例の研磨用クロス１０は、図１
（ａ）に示すように、上表面に研磨面１１を有する発泡
ポリウレタン製の厚さ０．５mm〜３mmの研磨液保液層１
２と、厚さ４mmの研磨液透液性のベース層１４とから構
成されている。
【００２０】ベース層１４は、ベース層１４の下方から
研磨液を透液させて研磨液保液層１２に供給するために
研磨液透液性の材料、例えば発泡ポリウレタン或いは発
泡ポリスチレン等の発泡材又は不織布材で構成されてい
る。研磨液透液性とは、研磨液を透液させる性質を言
い、研磨液に含まれる研磨砥粒の大きさは、０．０１μ
m から数μm であるから、ベース層１４の研磨液透液性
は、この大きさの研磨砥粒を通過させる研磨液透液性を
有する必要がある。図１（ｂ）に示す研磨用クロス１６
は、研磨用クロス１０の改変例であって、研磨液保液層
１８が発泡材に代えてポリエステルの不織布材で形成さ
れていることを除いて、図１（ａ）に示す研磨用クロス
１０の構成と同じである。
研磨液を透液させて研磨液保液層１２に供給するために
研磨液透液性の材料、例えば発泡ポリウレタン或いは発
泡ポリスチレン等の発泡材又は不織布材で構成されてい
る。研磨液透液性とは、研磨液を透液させる性質を言
い、研磨液に含まれる研磨砥粒の大きさは、０．０１μ
m から数μm であるから、ベース層１４の研磨液透液性
は、この大きさの研磨砥粒を通過させる研磨液透液性を
有する必要がある。図１（ｂ）に示す研磨用クロス１６
は、研磨用クロス１０の改変例であって、研磨液保液層
１８が発泡材に代えてポリエステルの不織布材で形成さ
れていることを除いて、図１（ａ）に示す研磨用クロス
１０の構成と同じである。
【００２１】研磨用クロスの実施例２ 図２は本発明に係る研磨用クロスの実施例２の構成を示
す断面図で、図２（ａ）は研磨液保液層が発泡材で形成
された例、図２（ｂ）は研磨液保液層が不織布材で形成
された例である。図２（ａ）に示す本実施例の研磨用ク
ロス２０は、実施例１の研磨用クロス１０、１６のベー
ス層１４に代えて、別の構成のベース層２２を備えてい
ることを除いて、実施例１の研磨用クロス１０と同じ構
成を備えている。
す断面図で、図２（ａ）は研磨液保液層が発泡材で形成
された例、図２（ｂ）は研磨液保液層が不織布材で形成
された例である。図２（ａ）に示す本実施例の研磨用ク
ロス２０は、実施例１の研磨用クロス１０、１６のベー
ス層１４に代えて、別の構成のベース層２２を備えてい
ることを除いて、実施例１の研磨用クロス１０と同じ構
成を備えている。
【００２２】本実施例のベース層２２は、図２（ａ）に
示すように、ベース層２２の下側から研磨液保液層１２
に研磨液を供給するために、ベース層２２の下面から研
磨液保液層１２までベース層２２の厚さ方向に研磨液供
給孔２４が設けてある。研磨液供給孔２４の孔径は、研
磨用クロス２０の平坦度及び圧縮率の均一性を損なわな
い程度に小さく、かつ使用する研磨液中の研磨砥粒によ
る目詰まりが生じない程度に大きいことが必要である。
通常、研磨液供給孔２４の孔径は、正確には、使用する
研磨砥粒により異なるが、研磨液に含まれる研磨砥粒の
大きさは通常０．０１μm から数μm であることを考慮
すると、１μm から１mm程度の大きさで良い。また、研
磨液供給孔２４は、均一な分布でベース層２２の全面に
配置した全面均等配置でも、又は、局所的な配置でも、
例えば後述する研磨装置の回転テーブルの回転により研
磨すべきウェハが通るトラックのセンターライン上に線
状に配置した局所的な配置でも良い。
示すように、ベース層２２の下側から研磨液保液層１２
に研磨液を供給するために、ベース層２２の下面から研
磨液保液層１２までベース層２２の厚さ方向に研磨液供
給孔２４が設けてある。研磨液供給孔２４の孔径は、研
磨用クロス２０の平坦度及び圧縮率の均一性を損なわな
い程度に小さく、かつ使用する研磨液中の研磨砥粒によ
る目詰まりが生じない程度に大きいことが必要である。
通常、研磨液供給孔２４の孔径は、正確には、使用する
研磨砥粒により異なるが、研磨液に含まれる研磨砥粒の
大きさは通常０．０１μm から数μm であることを考慮
すると、１μm から１mm程度の大きさで良い。また、研
磨液供給孔２４は、均一な分布でベース層２２の全面に
配置した全面均等配置でも、又は、局所的な配置でも、
例えば後述する研磨装置の回転テーブルの回転により研
磨すべきウェハが通るトラックのセンターライン上に線
状に配置した局所的な配置でも良い。
【００２３】図２（ｂ）に示す研磨用クロス２６は、研
磨用クロス２０の改変例であって、研磨液保液層１８が
発泡材に代えてポリエステルの不織布材で形成されてい
ることを除いて、図２（ａ）に示す研磨用クロス２０の
構成と同じである。
磨用クロス２０の改変例であって、研磨液保液層１８が
発泡材に代えてポリエステルの不織布材で形成されてい
ることを除いて、図２（ａ）に示す研磨用クロス２０の
構成と同じである。
【００２４】研磨用クロスの実施例３ 図３は本発明に係る研磨用クロスの実施例３の構成を示
す断面図で、図３（ａ）は研磨液保液層が発泡材で形成
された例、図３（ｂ）は研磨液保液層が不織布材で形成
された例である。図３（ａ）に示す本実施例の研磨用ク
ロス３０は、実施例１の研磨用クロス１０、１６のベー
ス層１４に代えて、別の構成のベース層３２を備えてい
ることを除いて、実施例１の研磨用クロス１０と同じ構
成を備えている。
す断面図で、図３（ａ）は研磨液保液層が発泡材で形成
された例、図３（ｂ）は研磨液保液層が不織布材で形成
された例である。図３（ａ）に示す本実施例の研磨用ク
ロス３０は、実施例１の研磨用クロス１０、１６のベー
ス層１４に代えて、別の構成のベース層３２を備えてい
ることを除いて、実施例１の研磨用クロス１０と同じ構
成を備えている。
【００２５】本実施例の研磨用クロス３０のベース層３
２には、ベース層３２の側面からその底面にほぼ平行に
延在する研磨液供給横孔３４と、研磨液供給横孔３４か
ら研磨液保液層１２に研磨液を導くために研磨液供給横
孔３４から分岐して縦方向に研磨液保液層１２まで延び
る研磨液供給縦孔３６とかなる研磨液通路が設けてあ
る。研磨液供給横孔３４及び縦孔３６の孔径は、正確に
は使用する研磨液中の研磨砥粒により異なるが、研磨液
に含まれる研磨砥粒の大きさは通常０．０１μm から数
μm であることを考慮すると、１μm から１mm程度の大
きさである。尚、ベース層３２が、研磨液透液性の材
料、例えば不織布材で形成されている場合には、研磨液
供給縦孔３６を設けなくても、横孔３４からベース層の
研磨液透液性により研磨液保液層１２に研磨液を供給で
きる場合もある。また、横孔３４は、多数の孔をパイプ
壁に設けたパイプ等を埋めて形成しても良い。
２には、ベース層３２の側面からその底面にほぼ平行に
延在する研磨液供給横孔３４と、研磨液供給横孔３４か
ら研磨液保液層１２に研磨液を導くために研磨液供給横
孔３４から分岐して縦方向に研磨液保液層１２まで延び
る研磨液供給縦孔３６とかなる研磨液通路が設けてあ
る。研磨液供給横孔３４及び縦孔３６の孔径は、正確に
は使用する研磨液中の研磨砥粒により異なるが、研磨液
に含まれる研磨砥粒の大きさは通常０．０１μm から数
μm であることを考慮すると、１μm から１mm程度の大
きさである。尚、ベース層３２が、研磨液透液性の材
料、例えば不織布材で形成されている場合には、研磨液
供給縦孔３６を設けなくても、横孔３４からベース層の
研磨液透液性により研磨液保液層１２に研磨液を供給で
きる場合もある。また、横孔３４は、多数の孔をパイプ
壁に設けたパイプ等を埋めて形成しても良い。
【００２６】図３（ｂ）に示す研磨用クロス３８は、研
磨用クロス３０の改変例であって、研磨液保液層１８が
発泡材に代えてポリエステルの不織布材で形成されてい
ることを除いて、図３（ａ）に示す研磨用クロス３０の
構成と同じである。
磨用クロス３０の改変例であって、研磨液保液層１８が
発泡材に代えてポリエステルの不織布材で形成されてい
ることを除いて、図３（ａ）に示す研磨用クロス３０の
構成と同じである。
【００２７】研磨装置の実施例１ 図４は、本発明に係る研磨装置の実施例１の要部構成を
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置５０は、
実施例１又は実施例２の研磨用クロス１０、１６、２
０、２６のいずれかを定盤上に装着して基板を研磨する
研磨装置であって、図４に示すように、回転軸５２と、
底部で回転軸５２に一体的に連結され、回転軸５２の回
転と共に一体的に回転する回転テーブル５４とから構成
されている。回転テーブル５４は、上面に研磨用クロス
を装着させる定盤５６と、定盤５６に接してその下に設
けられ、研磨液を滞留させる溜部５８とを上部に備え、
下部で回転軸５２に連結されている。回転軸５２の軸芯
部には、研磨液供給路６０が回転軸５２の軸線方向に貫
通し、かつ回転テーブル５４の溜部５８に通じるように
設けられている。定盤５６は、研磨液透液性を備えるよ
うに多孔質の焼結金属又はセラミックで形成されてい
る。
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置５０は、
実施例１又は実施例２の研磨用クロス１０、１６、２
０、２６のいずれかを定盤上に装着して基板を研磨する
研磨装置であって、図４に示すように、回転軸５２と、
底部で回転軸５２に一体的に連結され、回転軸５２の回
転と共に一体的に回転する回転テーブル５４とから構成
されている。回転テーブル５４は、上面に研磨用クロス
を装着させる定盤５６と、定盤５６に接してその下に設
けられ、研磨液を滞留させる溜部５８とを上部に備え、
下部で回転軸５２に連結されている。回転軸５２の軸芯
部には、研磨液供給路６０が回転軸５２の軸線方向に貫
通し、かつ回転テーブル５４の溜部５８に通じるように
設けられている。定盤５６は、研磨液透液性を備えるよ
うに多孔質の焼結金属又はセラミックで形成されてい
る。
【００２８】定盤５６上に実施例１又は実施例２の研磨
用クロス１０、１６、２０及び２６のいずれかを貼着
し、研磨液供給路６０を介して研磨液を供給すると、研
磨液は溜部５８及び研磨液透液性の定盤５６を経て研磨
用クロス１０、１６の研磨液透液性のベース層１４又は
研磨用クロス２０、２６の研磨液供給孔２６より研磨液
保液層１２、１８に到達する。研磨装置５０の操作方法
は、研磨液の供給方法を除いて、従来の研磨装置４０と
同じである。
用クロス１０、１６、２０及び２６のいずれかを貼着
し、研磨液供給路６０を介して研磨液を供給すると、研
磨液は溜部５８及び研磨液透液性の定盤５６を経て研磨
用クロス１０、１６の研磨液透液性のベース層１４又は
研磨用クロス２０、２６の研磨液供給孔２６より研磨液
保液層１２、１８に到達する。研磨装置５０の操作方法
は、研磨液の供給方法を除いて、従来の研磨装置４０と
同じである。
【００２９】研磨装置の実施例２ 図５は、本発明に係る研磨装置の実施例２の要部構成を
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置７０は、
実施例１又は実施例２の研磨用クロス１０、１６、２
０、２６のいずれかを定盤上に装着して基板を研磨する
研磨装置であって、実施例１の研磨装置５０の定盤５６
に代えて、別の構成の定盤７２を備えていることを除い
て、実施例１の研磨装置５０の構成と同じ構成を備えて
いる。
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置７０は、
実施例１又は実施例２の研磨用クロス１０、１６、２
０、２６のいずれかを定盤上に装着して基板を研磨する
研磨装置であって、実施例１の研磨装置５０の定盤５６
に代えて、別の構成の定盤７２を備えていることを除い
て、実施例１の研磨装置５０の構成と同じ構成を備えて
いる。
【００３０】本実施例の研磨装置７０に設けられた定盤
７２には、その下面から上面に向かって多数の貫通孔７
４が均一な分布で定盤７２の全面に配置した全面均等配
置で設けられている。貫通孔７４の径は、正確には使用
する研磨液中の研磨砥粒により異なるが、研磨液に含ま
れる研磨砥粒の大きさは通常０．０１μm から数μm で
あることを考慮すると、１μm から１mm程度の大きさで
ある。
７２には、その下面から上面に向かって多数の貫通孔７
４が均一な分布で定盤７２の全面に配置した全面均等配
置で設けられている。貫通孔７４の径は、正確には使用
する研磨液中の研磨砥粒により異なるが、研磨液に含ま
れる研磨砥粒の大きさは通常０．０１μm から数μm で
あることを考慮すると、１μm から１mm程度の大きさで
ある。
【００３１】定盤７２上に実施例１又は実施例２の研磨
用クロス１０、１６、２０及び２６のいずれかを貼着
し、研磨液供給路６０を介して研磨液を供給すると、研
磨液は溜部５８及び貫通孔７４を介して研磨用クロス１
０、１６の研磨液透液性のベース層１４又は研磨用クロ
ス２０、２６の研磨液供給孔２４より研磨液保液層１
２、１８に到達する。研磨装置７０の操作方法は、研磨
液の供給方法を除いて、従来の研磨装置４０と同じであ
る。
用クロス１０、１６、２０及び２６のいずれかを貼着
し、研磨液供給路６０を介して研磨液を供給すると、研
磨液は溜部５８及び貫通孔７４を介して研磨用クロス１
０、１６の研磨液透液性のベース層１４又は研磨用クロ
ス２０、２６の研磨液供給孔２４より研磨液保液層１
２、１８に到達する。研磨装置７０の操作方法は、研磨
液の供給方法を除いて、従来の研磨装置４０と同じであ
る。
【００３２】研磨装置の実施例３ 図６は、本発明に係る研磨装置の実施例３の要部構成を
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置８０は、
研磨用クロスの実施例１又は実施例２のいずれかを定盤
上に装着して基板を研磨する研磨装置であって、実施例
１の研磨装置５０の定盤５６に代えて、別の構成の定盤
８２が備えられていることを除いて、実施例１の研磨装
置５０の構成と同じ構成を備えている。本実施例の研磨
装置８０に設けられた定盤８２には、その上面に放射状
に横溝８４が設けられ、その横溝８４に連通する縦溝８
６が定盤８２の側面に溝状に刻設されている。
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置８０は、
研磨用クロスの実施例１又は実施例２のいずれかを定盤
上に装着して基板を研磨する研磨装置であって、実施例
１の研磨装置５０の定盤５６に代えて、別の構成の定盤
８２が備えられていることを除いて、実施例１の研磨装
置５０の構成と同じ構成を備えている。本実施例の研磨
装置８０に設けられた定盤８２には、その上面に放射状
に横溝８４が設けられ、その横溝８４に連通する縦溝８
６が定盤８２の側面に溝状に刻設されている。
【００３３】定盤８２上に実施例１又は実施例２の研磨
用クロス１０、１６、２０及び２６のいずれかを貼着
し、研磨液供給路６０を介して研磨液を供給すると、研
磨液は溜部５８、次いで縦溝８６及び横溝８４を経て研
磨用クロス１０、１６の研磨液透液性のベース層１４又
は研磨用クロス２０、２６の研磨液供給孔２４より研磨
液保液層１２、１８に到達する。研磨装置８０の操作方
法は、研磨液の供給方法を除いて、従来の研磨装置４０
と同じである。
用クロス１０、１６、２０及び２６のいずれかを貼着
し、研磨液供給路６０を介して研磨液を供給すると、研
磨液は溜部５８、次いで縦溝８６及び横溝８４を経て研
磨用クロス１０、１６の研磨液透液性のベース層１４又
は研磨用クロス２０、２６の研磨液供給孔２４より研磨
液保液層１２、１８に到達する。研磨装置８０の操作方
法は、研磨液の供給方法を除いて、従来の研磨装置４０
と同じである。
【００３４】研磨装置の実施例４ 図７は、本発明に係る研磨装置の実施例４の要部構成を
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置９０は、
実施例３の研磨用クロス３０、３８を定盤上に装着して
基板を研磨する研磨装置であって、図７に示すように、
回転軸９２と、底部で回転軸９２に一体的に連結され、
回転軸９２の回転と共に一体的に回転する回転テーブル
９４と、第１研磨液供給路９６と、第２研磨液供給路９
８とから構成されている。第１研磨液供給路９６は、回
転軸９２の軸線方向に回転軸９２の軸芯部を貫通して設
けられている。回転テーブル９４は、上面に研磨用クロ
スを装着させるための定盤９６を上部に備え、下部で回
転軸９２に連結されている。第２研磨液供給路９８は、
一端で研磨液供給路９６の上部に接続し、回転テーブル
９４を貫通して、他端で定盤９６上に装着された研磨用
クロス３０、３８の研磨液供給横孔３４に接続してい
る。
示す模式的断面図である。本実施例の研磨装置９０は、
実施例３の研磨用クロス３０、３８を定盤上に装着して
基板を研磨する研磨装置であって、図７に示すように、
回転軸９２と、底部で回転軸９２に一体的に連結され、
回転軸９２の回転と共に一体的に回転する回転テーブル
９４と、第１研磨液供給路９６と、第２研磨液供給路９
８とから構成されている。第１研磨液供給路９６は、回
転軸９２の軸線方向に回転軸９２の軸芯部を貫通して設
けられている。回転テーブル９４は、上面に研磨用クロ
スを装着させるための定盤９６を上部に備え、下部で回
転軸９２に連結されている。第２研磨液供給路９８は、
一端で研磨液供給路９６の上部に接続し、回転テーブル
９４を貫通して、他端で定盤９６上に装着された研磨用
クロス３０、３８の研磨液供給横孔３４に接続してい
る。
【００３５】定盤９６上に実施例３の研磨用クロス３
０、３８のいずれかを貼着し、第１研磨液供給路６０を
介して研磨液を供給すると、研磨液は第２研磨液供給路
９８を経て研磨用クロス３０、３８のベース層３２の研
磨液供給横孔３４に流入し、研磨液供給縦孔３６を経て
研磨液保液層１２、１８に到達する。
０、３８のいずれかを貼着し、第１研磨液供給路６０を
介して研磨液を供給すると、研磨液は第２研磨液供給路
９８を経て研磨用クロス３０、３８のベース層３２の研
磨液供給横孔３４に流入し、研磨液供給縦孔３６を経て
研磨液保液層１２、１８に到達する。
【００３６】
【発明の効果】請求項１から３に記載の研磨用クロスの
構成によれば、ベース層を介して研磨用クロスの研磨液
保液層の裏面全面に研磨液を均一に供給できるので、研
磨に必要な量の研磨液を過不足なく、かつ均一に供給で
きる。請求項４から６に記載の研磨装置の構成によれ
ば、回転軸及び回転テーブルに設けた研磨液供給手段を
介して定盤に装着された請求項１から３に記載の研磨用
クロスに必要な量の研磨液を過不足なく、かつ均一に供
給できる。よって、本発明に係る研磨用クロスを装着し
た本発明に係る研磨装置を使用してウェハを研磨するこ
とにより、研磨の均一性及び再現性を向上させ、かつ研
磨液の無駄な消費を防止できる。よって、研磨コストを
節減することができる。
構成によれば、ベース層を介して研磨用クロスの研磨液
保液層の裏面全面に研磨液を均一に供給できるので、研
磨に必要な量の研磨液を過不足なく、かつ均一に供給で
きる。請求項４から６に記載の研磨装置の構成によれ
ば、回転軸及び回転テーブルに設けた研磨液供給手段を
介して定盤に装着された請求項１から３に記載の研磨用
クロスに必要な量の研磨液を過不足なく、かつ均一に供
給できる。よって、本発明に係る研磨用クロスを装着し
た本発明に係る研磨装置を使用してウェハを研磨するこ
とにより、研磨の均一性及び再現性を向上させ、かつ研
磨液の無駄な消費を防止できる。よって、研磨コストを
節減することができる。
【図１】本発明に係る研磨用クロスの実施例１の構成を
示す断面図で、図１（ａ）は研磨液保液層が発泡材のも
の、図１（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものであ
る。
示す断面図で、図１（ａ）は研磨液保液層が発泡材のも
の、図１（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものであ
る。
【図２】本発明に係る研磨用クロスの実施例２の構成を
示す断面図で、図２（ａ）は研磨液保液層が発泡材のも
の、図２（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものであ
る。
示す断面図で、図２（ａ）は研磨液保液層が発泡材のも
の、図２（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものであ
る。
【図３】本発明に係る研磨用クロスの実施例３の構成を
示す断面図で、図３（ａ）は研磨液保液層が発泡材のも
の、図３（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものであ
る。
示す断面図で、図３（ａ）は研磨液保液層が発泡材のも
の、図３（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものであ
る。
【図４】本発明に係る研磨装置の実施例１の要部構成を
示す模式的断面図である。
示す模式的断面図である。
【図５】本発明に係る研磨装置の実施例２の要部構成を
示す模式的断面図である。
示す模式的断面図である。
【図６】本発明に係る研磨装置の実施例３の要部構成を
示す模式的断面図である。
示す模式的断面図である。
【図７】本発明に係る研磨装置の実施例４の要部構成を
示す模式的断面図である。
示す模式的断面図である。
【図８】従来の研磨装置の斜視図である。
【図９】図９（ａ）は図８の研磨装置の平面図、図９
（ｂ）は図９（ａ）の線Ｉ−Ｉでの断面図である。
（ｂ）は図９（ａ）の線Ｉ−Ｉでの断面図である。
【図１０】従来の研磨用クロスの構成を示す断面図で、
図１０（ａ）は研磨液保液層が発泡材のもの、図１０
（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものである。
図１０（ａ）は研磨液保液層が発泡材のもの、図１０
（ｂ）は研磨液保液層が不織布材のものである。
１ 研磨面 ２、５ 研磨液保液層 ３ ベース層 ４、６ 従来の研磨用クロス １０ 研磨用クロスの実施例１ １２ 研磨液保液層 １４ ベース層 １６ 研磨用クロスの実施例１の改変例 １８ 研磨液保液層 ２０ 研磨用クロスの実施例２ ２２ ベース層 ２４ 研磨液供給孔 ２６ 研磨用クロスの実施例１の改変例 ３０ 研磨用クロスの実施例３ ３２ ベース層 ３４ 研磨液供給横孔 ３６ 研磨液供給縦孔 ３８ 研磨用クロスの実施例３の改変例 ４０ 従来の研磨装置 ４２ 回転定盤 ４４ 回転軸 ４６ 研磨液供給パイプ ４８ ウェハホルダ ５０ 研磨装置の実施例 ５２ 回転軸 ５４ 回転テーブル ５６ 定盤 ５８ 溜部 ６０ 研磨液供給路 ７０ 研磨装置の実施例２ ７２ 定盤 ７４ 貫通孔 ８０ 研磨装置の実施例３ ８２ 定盤 ８４ 横溝 ８６ 縦溝 ９０ 研磨装置の実施例４ ９２ 回転軸 ９４ 回転テーブル ９６ 第１研磨液供給路 ９８ 第２研磨液供給路
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３２１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３２１Ｚ
Claims (6)
- 【請求項１】 表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布
材のいずれかからなる研磨液保液層と、研磨液保液層を
支持するベース層とを備える研磨用クロスにおいて、 ベース層が研磨液透液性であることを特徴とする研磨用
クロス。 - 【請求項２】 表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布
材のいずれかからなる研磨液保液層と、研磨液保液層を
支持するベース層とを備える研磨用クロスにおいて、 ベース層の下面から厚さ方向に貫通して研磨液保液層に
連通する研磨液供給孔をベース層に設けたことを特徴と
する研磨用クロス。 - 【請求項３】 表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布
材のいずれかからなる研磨液保液層と、研磨液保液層を
支持するベース層とを備える研磨用クロスにおいて、 ベース層の側面からその交差方向に穿孔された横孔と横
孔から研磨液保液層に通じる導液孔とを有する研磨液通
路をベース層に備えたことを特徴とする研磨用クロス。 - 【請求項４】 表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布
材のいずれかからなる研磨液保液層を支持するベース層
が研磨液透液性である研磨用クロス、又はベース層の下
面から厚さ方向に貫通して研磨液保液層に連通する研磨
液供給孔をベース層に有する研磨用クロスのいずれかを
定盤上に装着して基板を研磨する研磨装置であって、 回転軸と、 上面に研磨用クロスを装着させる定盤と、定盤の下面に
接して設けられ、研磨液を滞留させる溜部とを上部に備
え、下部で回転軸に連結されて回転軸と共に回転する回
転テーブルと、 回転軸をその軸線方向に貫通し、かつ回転テーブルの溜
部に通じる研磨液供給路と、 溜部から定盤上の研磨用クロスに研磨液を導くために定
盤に設けられた導液手段とを備えていることを特徴とす
る研磨装置。 - 【請求項５】 前記導液手段が、研磨液透液性の定盤、
溜部から定盤上面に研磨液を導くように定盤に設けられ
た貫通孔、定盤の上面に設けれた横溝と溜部から横溝に
研磨液を導く導液路とからなる研磨液供給路のいずれか
であることを特徴とする請求項４に記載の研磨装置。 - 【請求項６】 表面に研磨面を有し、発泡材又は不織布
材からなる研磨液保液層と、研磨液保液層を支持するベ
ース層とを有し、ベース層の側面からその交差方向に穿
孔された横孔と横孔から研磨液保液層に通じる導液孔と
を有する研磨液通路をベース層に備えた研磨用クロスを
定盤上に装着して基板を研磨する研磨装置であって、 回転軸と、 上面に研磨用クロスを装着させる定盤を上部に備え、下
部で回転軸に連結されて回転軸と共に回転する回転テー
ブルと、 回転軸をその軸線方向に貫通した第１研磨液供給路と回
転テーブルを貫通して、一端で第１研磨液供給管に接続
し、他端で研磨用クロスの研磨液通路に接続する第２研
磨液供給管とを備えていることを特徴とする研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12739195A JPH08300252A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 研磨用クロス及び研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12739195A JPH08300252A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 研磨用クロス及び研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08300252A true JPH08300252A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=14958839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12739195A Pending JPH08300252A (ja) | 1995-04-28 | 1995-04-28 | 研磨用クロス及び研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08300252A (ja) |
Cited By (5)
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-
1995
- 1995-04-28 JP JP12739195A patent/JPH08300252A/ja active Pending
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|
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