JPH08295875A - スライシング用研磨液組成物 - Google Patents
スライシング用研磨液組成物Info
- Publication number
- JPH08295875A JPH08295875A JP12434295A JP12434295A JPH08295875A JP H08295875 A JPH08295875 A JP H08295875A JP 12434295 A JP12434295 A JP 12434295A JP 12434295 A JP12434295 A JP 12434295A JP H08295875 A JPH08295875 A JP H08295875A
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- JP
- Japan
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- slicing
- liquid composition
- abrading
- water
- polishing
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 沸点が２００℃以上、２０℃における粘度が
１０センチポイズ以下である水溶性有機化合物１００容
量部に対し、炭化ケイ素を主体とする研磨微粉８０〜１
８０重量部を混合してなることを特徴とするスライシン
グ用研磨液組成物。 【効果】 本発明によれば、スライシング時に、摩擦熱
が発生して、これにより温度上昇が伴っても、分散溶液
の濃度変化が殆んどなく、スライス面のうねりやソーマ
ークが少なく安定的なスライシング作業を行うことがで
き、またスライシング後のワークの洗浄を簡便に行うこ
とができるものである。
１０センチポイズ以下である水溶性有機化合物１００容
量部に対し、炭化ケイ素を主体とする研磨微粉８０〜１
８０重量部を混合してなることを特徴とするスライシン
グ用研磨液組成物。 【効果】 本発明によれば、スライシング時に、摩擦熱
が発生して、これにより温度上昇が伴っても、分散溶液
の濃度変化が殆んどなく、スライス面のうねりやソーマ
ークが少なく安定的なスライシング作業を行うことがで
き、またスライシング後のワークの洗浄を簡便に行うこ
とができるものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性材料、半導体、結
晶材料、硬質材料等をスライシングする際に用いられる
スライシング用研磨液組成物に関する。
晶材料、硬質材料等をスライシングする際に用いられる
スライシング用研磨液組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】通常、
フェライト、センダスト、サマリウムコバルト、ネオジ
ウム等の磁性材料、シリコン単結晶、多結晶、ＧａＡ
ｓ、ＧａＰ、ＩｎＳｂ、ＬＴ、ＧＧＧ、水晶等の半導
体、結晶材料及びセラミックス、ガラス、石英等の硬質
材料をスライシングする場合、マルチブレイドソー及び
ワイヤーソーが用いられており、これらブレイドやワイ
ヤーにスライシング用研磨液組成物を付着させ、その摩
擦力によりスライシングする方式が採用されている。
フェライト、センダスト、サマリウムコバルト、ネオジ
ウム等の磁性材料、シリコン単結晶、多結晶、ＧａＡ
ｓ、ＧａＰ、ＩｎＳｂ、ＬＴ、ＧＧＧ、水晶等の半導
体、結晶材料及びセラミックス、ガラス、石英等の硬質
材料をスライシングする場合、マルチブレイドソー及び
ワイヤーソーが用いられており、これらブレイドやワイ
ヤーにスライシング用研磨液組成物を付着させ、その摩
擦力によりスライシングする方式が採用されている。
【０００３】従来、この研磨液組成物としては、ケロシ
ンを主体とする水不溶性の炭化水素化合物を分散媒体と
して、これに研磨微粉を混合分散させた研磨液組成物が
広く用いられている。
ンを主体とする水不溶性の炭化水素化合物を分散媒体と
して、これに研磨微粉を混合分散させた研磨液組成物が
広く用いられている。
【０００４】しかしながら、従来のケロシン等の炭化水
素系化合物を分散媒として用いた研磨液組成物は、スラ
イシング後のワークの洗浄が複雑となる欠点がある。即
ち、スライシング後のワーク洗浄に際しては、組成物が
不水溶性なため、石油ナフサ、塩素系溶剤或いはケトン
等の有機溶剤を用いた後、アルコール類で洗浄し、更に
水洗する等の複雑な洗浄作業を要しなければならなかっ
た。また、廃液の処理等の油分の焼却等により極めてコ
ストが高くなってしまう欠点もあった。
素系化合物を分散媒として用いた研磨液組成物は、スラ
イシング後のワークの洗浄が複雑となる欠点がある。即
ち、スライシング後のワーク洗浄に際しては、組成物が
不水溶性なため、石油ナフサ、塩素系溶剤或いはケトン
等の有機溶剤を用いた後、アルコール類で洗浄し、更に
水洗する等の複雑な洗浄作業を要しなければならなかっ
た。また、廃液の処理等の油分の焼却等により極めてコ
ストが高くなってしまう欠点もあった。
【０００５】従って、上記研磨液組成物を用いて目的材
料をスライシングすることは、作業工程数が多くなり、
作業時間、コスト等大きくなる欠点を要しているため、
上記課題を克服したより工業的に有用なスライシング用
研磨液組成物を開発することが望まれていた。
料をスライシングすることは、作業工程数が多くなり、
作業時間、コスト等大きくなる欠点を要しているため、
上記課題を克服したより工業的に有用なスライシング用
研磨液組成物を開発することが望まれていた。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、スライシングを円滑に行うことができ、作業コス
ト、作業工程、作業時間を大幅に削減することを可能と
した工業的に有用なスライシング用研磨液組成物を提供
することを目的とする。
で、スライシングを円滑に行うことができ、作業コス
ト、作業工程、作業時間を大幅に削減することを可能と
した工業的に有用なスライシング用研磨液組成物を提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記課題を解決するために、水溶性スライシング用研磨液
につき種々の検討を重ねた結果、分散媒として、沸点が
２００℃以上で、２０℃における粘度が１０センチポイ
ズ以下であり、かつ水に自由に溶解する特性を持つ有機
溶媒に対し、炭化ケイ素研磨微粉の特定量を混合配合し
て研磨液組成物とすることにより、スライシング時に摩
擦熱が発生して温度上昇が伴っても、分散媒の濃度変化
が殆んどなく、スライス面のうねりやソーマークが少な
い安定的なスライシング作業を行うことができると共
に、スライシング後のワーク洗浄を水洗を主体とする簡
単なものにすることもできることを知見し、本発明をな
すに至ったものである。
記課題を解決するために、水溶性スライシング用研磨液
につき種々の検討を重ねた結果、分散媒として、沸点が
２００℃以上で、２０℃における粘度が１０センチポイ
ズ以下であり、かつ水に自由に溶解する特性を持つ有機
溶媒に対し、炭化ケイ素研磨微粉の特定量を混合配合し
て研磨液組成物とすることにより、スライシング時に摩
擦熱が発生して温度上昇が伴っても、分散媒の濃度変化
が殆んどなく、スライス面のうねりやソーマークが少な
い安定的なスライシング作業を行うことができると共
に、スライシング後のワーク洗浄を水洗を主体とする簡
単なものにすることもできることを知見し、本発明をな
すに至ったものである。
【０００８】従って、本発明は、沸点が２００℃以上、
２０℃における粘度が１０センチポイズ以下である水溶
性有機化合物１００容量部に対し、炭化ケイ素を主体と
する研磨微粉８０〜１８０重量部を混合してなることを
特徴とするスライシング用研磨液組成物を提供する。
２０℃における粘度が１０センチポイズ以下である水溶
性有機化合物１００容量部に対し、炭化ケイ素を主体と
する研磨微粉８０〜１８０重量部を混合してなることを
特徴とするスライシング用研磨液組成物を提供する。
【０００９】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明は、種々の磁性材料、半導体、結晶材料及び硬質材料
等の材料をスライシングする際に用いられる研磨液組成
物であり、有機化合物からなる分散媒体と炭化ケイ素を
主体とする研磨微粉を混合配合して得られる研磨液組成
物である。
明は、種々の磁性材料、半導体、結晶材料及び硬質材料
等の材料をスライシングする際に用いられる研磨液組成
物であり、有機化合物からなる分散媒体と炭化ケイ素を
主体とする研磨微粉を混合配合して得られる研磨液組成
物である。
【００１０】ここで、上記分散媒体としては、沸点が２
００℃以上であり、かつ２０℃における粘度が１０セン
チポイズ以下である水溶性有機化合物を使用する。この
水溶性有機化合物は、水に自由に溶解することができる
有機化合物であり、具体的には、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ
−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、こ
れらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。
００℃以上であり、かつ２０℃における粘度が１０セン
チポイズ以下である水溶性有機化合物を使用する。この
水溶性有機化合物は、水に自由に溶解することができる
有機化合物であり、具体的には、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ
−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、こ
れらの１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。
【００１１】一方、上記研磨微粉としては、炭化ケイ素
を主体とするもので、必要によりこれにアルミナ質、ジ
ルコニア質などを混合使用することもできる。炭化ケイ
素としては、黒色又は緑色の平均粒子径（ＪＩＳ Ｒ−
６００１）１．２〜３０μｍのものが好適に用いられ
る。
を主体とするもので、必要によりこれにアルミナ質、ジ
ルコニア質などを混合使用することもできる。炭化ケイ
素としては、黒色又は緑色の平均粒子径（ＪＩＳ Ｒ−
６００１）１．２〜３０μｍのものが好適に用いられ
る。
【００１２】上記炭化ケイ素を主体とする研磨微粉は、
上記水溶性有機化合物（分散媒）１００容量部に対し８
０〜１８０重量部、特に１００〜１５０重量部使用す
る。８０重量部より少ないと、ワイヤーの切断が起こり
やすくなり、１８０重量部より多くなると、スライス面
のうねりが大きくなり、スライシング効率が低下するお
それがある。
上記水溶性有機化合物（分散媒）１００容量部に対し８
０〜１８０重量部、特に１００〜１５０重量部使用す
る。８０重量部より少ないと、ワイヤーの切断が起こり
やすくなり、１８０重量部より多くなると、スライス面
のうねりが大きくなり、スライシング効率が低下するお
それがある。
【００１３】本発明の研磨液組成物には、必要により、
少量の水、洗浄剤、金属防錆剤、増粘剤及び消泡剤を添
加することができる。
少量の水、洗浄剤、金属防錆剤、増粘剤及び消泡剤を添
加することができる。
【００１４】本発明のスライシング用研磨液組成物は、
マルチブレイドソー、ワイヤーソー等を用い、常法に従
った使用法でスライシングを行うことができるが、スラ
イシング後は水洗により容易にワークの洗浄を行うこと
ができるものである。
マルチブレイドソー、ワイヤーソー等を用い、常法に従
った使用法でスライシングを行うことができるが、スラ
イシング後は水洗により容易にワークの洗浄を行うこと
ができるものである。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、スライシング時に、摩
擦熱が発生して、これにより温度上昇が伴っても、分散
溶液の濃度変化が殆んどなく、スライス面のうねりやソ
ーマークが少なく安定的なスライシング作業を行うこと
ができ、またスライシング後のワークの洗浄を簡便に行
うことができるものである。
擦熱が発生して、これにより温度上昇が伴っても、分散
溶液の濃度変化が殆んどなく、スライス面のうねりやソ
ーマークが少なく安定的なスライシング作業を行うこと
ができ、またスライシング後のワークの洗浄を簡便に行
うことができるものである。
【００１６】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し本発明を具体的
に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるもの
ではない。
に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるもの
ではない。
【００１７】ここで、下記例で使用した分散媒を表１に
示し、また下記例で使用したマルチワイヤーソーの仕様
を表２に示す。
示し、また下記例で使用したマルチワイヤーソーの仕様
を表２に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】［実施例１〜３、比較例１〜４］表１の分
散媒Ｎｏ．１，３，５及び６〜９をそれぞれ１００容量
部用い、これに平均径が１４μｍの炭化ケイ素粉末（信
濃電気製錬（株）社製ＧＰ−８００）１２０重量部を均
一に分散し、研磨液組成物を調製した。
散媒Ｎｏ．１，３，５及び６〜９をそれぞれ１００容量
部用い、これに平均径が１４μｍの炭化ケイ素粉末（信
濃電気製錬（株）社製ＧＰ−８００）１２０重量部を均
一に分散し、研磨液組成物を調製した。
【００２１】これらの研磨液組成物を用いて人口水晶
（幅６５ｍｍ，高さ７８ｍｍ，長さ１７１ｍｍ）及びシ
リコン単結晶（直径４インチ，長さ１９０ｍｍ）のスラ
イシングを実施した。人工水晶の研磨結果を表３に、シ
リコン単結晶の研磨結果を表４に示す。
（幅６５ｍｍ，高さ７８ｍｍ，長さ１７１ｍｍ）及びシ
リコン単結晶（直径４インチ，長さ１９０ｍｍ）のスラ
イシングを実施した。人工水晶の研磨結果を表３に、シ
リコン単結晶の研磨結果を表４に示す。
【００２２】
【表３】
【００２３】
【表４】
【００２４】上記の結果より、本発明の研磨液組成物
は、ケロシンを分散媒として用いた比較例４の研磨液組
成物と同等のスライシング性を有することが確認され
た。一方、沸点が２００℃以下である比較例１の分散媒
はスライシングの進行と共に次第に蒸発が生じ、研磨液
の増粘のためスライシング効率が著しく低下した。また
粘度が１０センチポイズ以上の比較例２の分散媒の場合
は、研磨液の初期粘度が極めて高く、スライシング速度
が著しく低いことが確認された。
は、ケロシンを分散媒として用いた比較例４の研磨液組
成物と同等のスライシング性を有することが確認され
た。一方、沸点が２００℃以下である比較例１の分散媒
はスライシングの進行と共に次第に蒸発が生じ、研磨液
の増粘のためスライシング効率が著しく低下した。また
粘度が１０センチポイズ以上の比較例２の分散媒の場合
は、研磨液の初期粘度が極めて高く、スライシング速度
が著しく低いことが確認された。
【００２５】次に、上記スライシングした人工石英（実
施例１〜３、比較例３）の各１００枚を５００ｍｌのビ
ーカーに入れ、超音波洗浄機を用いて２０ｋＨｚでワー
ク体積の１０倍の純水に浸漬して２分間洗浄し、研磨微
粉の粒子が確認できなくなるまで繰り返した。その回数
により水洗浄の難易度を判定した。結果を表５に示す。
施例１〜３、比較例３）の各１００枚を５００ｍｌのビ
ーカーに入れ、超音波洗浄機を用いて２０ｋＨｚでワー
ク体積の１０倍の純水に浸漬して２分間洗浄し、研磨微
粉の粒子が確認できなくなるまで繰り返した。その回数
により水洗浄の難易度を判定した。結果を表５に示す。
【００２６】
【表５】
【００２７】表５の結果より、比較例３の水溶性の低い
分散媒ではスライシング後の水洗浄に長時間を要し、実
用性に劣ることが確認された。
分散媒ではスライシング後の水洗浄に長時間を要し、実
用性に劣ることが確認された。
【００２８】［実施例４〜８、比較例５，６］分散媒Ｎ
ｏ．１のジエチレングリコールモノブチルエーテル１０
０容量部に平均径が１４．５μｍの黒色炭化ケイ素質研
磨微粉（信濃電気製錬（株）社製ＣＰ−８００）を５〜
２００重量部を添加し混合分散した研磨液組成物を調製
し、表２のワイヤーソーを用いてガリウムヒ素（ＧａＡ
ｓ）半導体（直径３インチ，長さ９３ｍｍ）をスライシ
ングした。結果を表６に示す。
ｏ．１のジエチレングリコールモノブチルエーテル１０
０容量部に平均径が１４．５μｍの黒色炭化ケイ素質研
磨微粉（信濃電気製錬（株）社製ＣＰ−８００）を５〜
２００重量部を添加し混合分散した研磨液組成物を調製
し、表２のワイヤーソーを用いてガリウムヒ素（ＧａＡ
ｓ）半導体（直径３インチ，長さ９３ｍｍ）をスライシ
ングした。結果を表６に示す。
【００２９】
【表６】
【００３０】表６の結果より、研磨微粉の混合率の低い
場合、或いは高すぎる場合はスライシング効率が著しく
低下してしまい、特に高すぎる場合はうねりが大きくま
た混合率が低い場合はワイヤーの切断が多発した。従っ
て、研磨微粉の配合量は、分散媒１００容量部に対して
８０〜１８０重量部の範囲が適当であることがわかっ
た。
場合、或いは高すぎる場合はスライシング効率が著しく
低下してしまい、特に高すぎる場合はうねりが大きくま
た混合率が低い場合はワイヤーの切断が多発した。従っ
て、研磨微粉の配合量は、分散媒１００容量部に対して
８０〜１８０重量部の範囲が適当であることがわかっ
た。
Claims (3)
- 【請求項１】 沸点が２００℃以上、２０℃における粘
度が１０センチポイズ以下である水溶性有機化合物１０
０容量部に対し、炭化ケイ素を主体とする研磨微粉８０
〜１８０重量部を混合してなることを特徴とするスライ
シング用研磨液組成物。 - 【請求項２】 上記水溶性有機化合物が、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール
モノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエー
テル及びＮ−メチル−２−ピロリドンから選ばれる１種
又は２種以上の混合物である請求項１記載のスライシン
グ用研磨液組成物。 - 【請求項３】 上記炭化ケイ素として、黒色又は緑色で
あり、平均粒子径（ＪＩＳ Ｒ−６００１）が１．２〜
３０μｍの範囲のものを使用した請求項１又は２の記載
のスライシング用研磨液組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12434295A JPH08295875A (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | スライシング用研磨液組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12434295A JPH08295875A (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | スライシング用研磨液組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08295875A true JPH08295875A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=14882991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12434295A Pending JPH08295875A (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | スライシング用研磨液組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08295875A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002080883A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-03-22 | Neos Co Ltd | ワイヤソ−用水溶性加工液 |
| US6381830B1 (en) | 1998-09-01 | 2002-05-07 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method for cutting rare earth alloy, method for manufacturing rare earth alloy plates and method for manufacturing rare earth alloy magnets using wire saw, and voice coil motor |
| US6408840B2 (en) | 1999-12-14 | 2002-06-25 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method and apparatus for cutting a rare earth alloy |
| CN103131330A (zh) * | 2008-02-01 | 2013-06-05 | 福吉米株式会社 | 研磨用组合物以及使用其的研磨方法 |
-
1995
- 1995-04-25 JP JP12434295A patent/JPH08295875A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6381830B1 (en) | 1998-09-01 | 2002-05-07 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method for cutting rare earth alloy, method for manufacturing rare earth alloy plates and method for manufacturing rare earth alloy magnets using wire saw, and voice coil motor |
| US6505394B2 (en) | 1998-09-01 | 2003-01-14 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method for cutting rare earth alloy, method for manufacturing rare earth alloy plates and method for manufacturing rare earth alloy magnets using wire saw, and voice coil motor |
| US6408840B2 (en) | 1999-12-14 | 2002-06-25 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Method and apparatus for cutting a rare earth alloy |
| JP2002080883A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-03-22 | Neos Co Ltd | ワイヤソ−用水溶性加工液 |
| CN103131330A (zh) * | 2008-02-01 | 2013-06-05 | 福吉米株式会社 | 研磨用组合物以及使用其的研磨方法 |
| US10144849B2 (en) | 2008-02-01 | 2018-12-04 | Fujimi Incorporated | Polishing composition and polishing method using the same |
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