JPH0827168A - カルバペネム中間体 - Google Patents
カルバペネム中間体Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C205/00—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton
- C07C205/39—Compounds containing nitro groups bound to a carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by esterified hydroxy groups
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
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Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 チエナマイシン等のカルバペネム抗生物質の
合成に用いて有用な中間体化合物及びその製造法を提供
する。 【構成】 (式中、R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4
アルキルを表わす)で示されることを特徴とする化合物
は、式 (式中Lは普通の離脱基を表わし、かつR4′は普通の
ヒドロキシル−保護基を表わす)をもつ化合物と反応さ
せることにより、式 (式中R4は水素又は普通のヒドロキシル保護基を表
す)で示される化合物が得られ、このものはカルバペネ
ム抗生物質合成の中間体として有用である。
合成に用いて有用な中間体化合物及びその製造法を提供
する。 【構成】 (式中、R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4
アルキルを表わす)で示されることを特徴とする化合物
は、式 (式中Lは普通の離脱基を表わし、かつR4′は普通の
ヒドロキシル−保護基を表わす)をもつ化合物と反応さ
せることにより、式 (式中R4は水素又は普通のヒドロキシル保護基を表
す)で示される化合物が得られ、このものはカルバペネ
ム抗生物質合成の中間体として有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、チエナマイシンおよび
他のカルバペネム抗生物質の合成に使われる重要中間体
の新規製法に関する。
他のカルバペネム抗生物質の合成に使われる重要中間体
の新規製法に関する。
【0002】
式:
【化8】 をもつ抗生物質チエナマイシンは元来米国特許第3,9
50,357号に記載のストレプトマイセス キヤトレ
ヤの発酵によってえられた。チエナマイシンはβ−ラク
タム抗生物質に明らかに抵抗する有機体、種々のブシュ
ードモナス種に対し強い活性をもつ特に効力のある広汎
スペクトル抗生物質である。
50,357号に記載のストレプトマイセス キヤトレ
ヤの発酵によってえられた。チエナマイシンはβ−ラク
タム抗生物質に明らかに抵抗する有機体、種々のブシュ
ードモナス種に対し強い活性をもつ特に効力のある広汎
スペクトル抗生物質である。
【0003】チエナマイシンの特別な生物学的活性のた
め多数の誘導体が製造されている。カルバペネム環の6
−位置にヒドロキシエチル以外の種々の置換基をもつ誘
導体合成が試みられたが、最適活性をもたせるにはヒド
ロキシエチル基は6−置換基が最も便利と考えられる。
め多数の誘導体が製造されている。カルバペネム環の6
−位置にヒドロキシエチル以外の種々の置換基をもつ誘
導体合成が試みられたが、最適活性をもたせるにはヒド
ロキシエチル基は6−置換基が最も便利と考えられる。
【0004】チエナマイシンおよびその誘導体製造の発
酵法は不満足なので、種々の全合成法が文献(例えば米
国特許第4,287,123号、第4,269,772
号、第4,282,148号、第4,273,709
号、第4,290,947号、およびヨーロッパ特許出
願7973)に報告されている。種々の合成法はちがっ
た出願物質を使うがいづれも式:
酵法は不満足なので、種々の全合成法が文献(例えば米
国特許第4,287,123号、第4,269,772
号、第4,282,148号、第4,273,709
号、第4,290,947号、およびヨーロッパ特許出
願7973)に報告されている。種々の合成法はちがっ
た出願物質を使うがいづれも式:
【0005】
【化9】
【0006】(式中R1は普通のカルボキシル保護基を
表わす)をもつ共通ジアゾ中間体を経る。中間体Iの最
も好ましいカルボキシル保護基の一つはp−ニトロベン
ジル基で、これは最終カルバペネム生成物生成後接触水
添によって容易に除去できる。
表わす)をもつ共通ジアゾ中間体を経る。中間体Iの最
も好ましいカルボキシル保護基の一つはp−ニトロベン
ジル基で、これは最終カルバペネム生成物生成後接触水
添によって容易に除去できる。
【0007】最近容易に入手できる6−APAから中間
体I(および次いでチエナマイシンと他のカルバペネム
誘導体)合成が試みられている。例えばJ.Am.Ch
em.Soc.103(22):6765−6767
(1981)にカラデーらは式:
体I(および次いでチエナマイシンと他のカルバペネム
誘導体)合成が試みられている。例えばJ.Am.Ch
em.Soc.103(22):6765−6767
(1981)にカラデーらは式:
【0008】
【化10】 をもつO−保護されたアゼチジノンを式:
【0009】
【化11】 をもつベンジル2−ジアゾアセトアセテイトのエノール
シリルエーテルで置換して式:
シリルエーテルで置換して式:
【0010】
【化12】 (式中Pはt−ブチルジメチルシリルを表わす)をもつ
ジアゾ中間体生成法を発表している。
ジアゾ中間体生成法を発表している。
【0011】Tetrahedron Lett.23
(22):2293−2296(1982)は4−アセ
トキシ−3−(1−ヒドロキシエチル)−2−アゼチジ
ノンから対応する式:
(22):2293−2296(1982)は4−アセ
トキシ−3−(1−ヒドロキシエチル)−2−アゼチジ
ノンから対応する式:
【0012】
【化13】 をもつシリルエノールエーテルを使ってルイスの酸接触
アルキル化法によって式:
アルキル化法によって式:
【0013】
【化14】 をもつジアゾ中間体製法を発表している。
【0014】Chem.Pharm.Bull.29
(10):2899−2909(1981)にヨシダら
は上記Tetrahedron Lett.,に記載の
方法によって式Iをもつジアゾ中間体に転化できる式:
(10):2899−2909(1981)にヨシダら
は上記Tetrahedron Lett.,に記載の
方法によって式Iをもつジアゾ中間体に転化できる式:
【0015】
【化15】 をもつO−保護されたアゼチジノンに6−APAを転化
する他の合成法を報告している。
する他の合成法を報告している。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】p−ニトロベンジルエ
ステル保護基をもつ式Iで示されるジアゾ中間体は好ま
しいカルバペネム中間体であるから、一般式:
ステル保護基をもつ式Iで示されるジアゾ中間体は好ま
しいカルバペネム中間体であるから、一般式:
【0017】
【化16】
【0018】(式中Lはハロ又はアセトキシの様な普通
の離脱基でありかつPはトリオルガノシリルの様な普通
のヒドロキシル−保護基である)をもつ容易に入手でき
るアゼチジノン化合物を対応する式Iをもつp−ニトロ
ベンジルエステル中間体に転化する方法があれば望まし
いであろう。
の離脱基でありかつPはトリオルガノシリルの様な普通
のヒドロキシル−保護基である)をもつ容易に入手でき
るアゼチジノン化合物を対応する式Iをもつp−ニトロ
ベンジルエステル中間体に転化する方法があれば望まし
いであろう。
【0019】ケトンのルイスの酸に接触されたアルキル
化がそれらのシリル エノール エーテルとして文献
(例えば Tetrahedron Lett.,23
(22):2293−2296,1982およびTet
rahedron Lett.,23(4):379−
382(1982)参照)に記載されているので、望む
p−ニトロベンジルエステル中間体I又はそのヒドロキ
シ−保護された誘導体は適当するアゼチジノン化合物I
Iを式:
化がそれらのシリル エノール エーテルとして文献
(例えば Tetrahedron Lett.,23
(22):2293−2296,1982およびTet
rahedron Lett.,23(4):379−
382(1982)参照)に記載されているので、望む
p−ニトロベンジルエステル中間体I又はそのヒドロキ
シ−保護された誘導体は適当するアゼチジノン化合物I
Iを式:
【0020】
【化17】
【0021】(式中R1、R2およびR3は各無関係に
C1−C4アルキルを表わす)をもつp−ニトロベンジ
ルジアゾアセトアセテイトのエノールシリルエーテルを
使いルイスの酸による接触アルキル化して製造できると
予想される。しかしながら、残念なことに出願人らは式
IIIをもつ化合物の知られた製法はp−ニトロベンジ
ル−保護基を望む場合うまく行かないことを発見したの
である。つまりジアゾアセトアセテイトのエノールシリ
ルエーテルの従来の製法は強塩基、例えばトリメチルク
ロロシランとリチウム塩基、例えばリチウムヘキサメチ
ルジシラザイドの存在でトリオルガノシリルハロゲン化
物シリル化剤を使って式:
C1−C4アルキルを表わす)をもつp−ニトロベンジ
ルジアゾアセトアセテイトのエノールシリルエーテルを
使いルイスの酸による接触アルキル化して製造できると
予想される。しかしながら、残念なことに出願人らは式
IIIをもつ化合物の知られた製法はp−ニトロベンジ
ル−保護基を望む場合うまく行かないことを発見したの
である。つまりジアゾアセトアセテイトのエノールシリ
ルエーテルの従来の製法は強塩基、例えばトリメチルク
ロロシランとリチウム塩基、例えばリチウムヘキサメチ
ルジシラザイドの存在でトリオルガノシリルハロゲン化
物シリル化剤を使って式:
【0022】
【化18】
【0023】(R1はカルボキシル−保護基とする)を
もつジアゾアセトアセテイトエステルのエノールシリル
エーテルエステル
もつジアゾアセトアセテイトエステルのエノールシリル
エーテルエステル
【化19】
【0024】(式中R1、R2およびR3は各無関係に
C1−C4アルキルを表わす)へのシリル化法を用いて
いる。従来のこのシリル化法がp−ニトロベンジルエス
テル
C1−C4アルキルを表わす)へのシリル化法を用いて
いる。従来のこのシリル化法がp−ニトロベンジルエス
テル
【化20】
【0025】について用いた場合、p−ニトロベンジル
は高反応性メチレン基を持つためエノレイト生成に要す
る強塩基はp−ニトロベンジルエステルと混合できな
い。しかしトリアルキルアミンの様な弱有機塩基をトリ
オルガノシリルハロゲン化物シリル化物剤と共に使用し
ても望むエノールシリルエーテルは生成しない。
は高反応性メチレン基を持つためエノレイト生成に要す
る強塩基はp−ニトロベンジルエステルと混合できな
い。しかしトリアルキルアミンの様な弱有機塩基をトリ
オルガノシリルハロゲン化物シリル化物剤と共に使用し
ても望むエノールシリルエーテルは生成しない。
【0026】
中間体
【化21】 からp−ニトロベンジルシリルエノールエーテル
【化22】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルを表わす)を生成するシリル化法を提供すること
が本発明の目的であった。
ルキルを表わす)を生成するシリル化法を提供すること
が本発明の目的であった。
【0027】中間体IIIの製造成功によってそれを
式:
式:
【化23】 (式中PとLは上に定義したとおりとする)をもつ適当
なO−保護されたアゼチジノンと反応させ、必要ならば
ヒドロキシル−保護基を除去して重要なカルバペネム中
間体
なO−保護されたアゼチジノンと反応させ、必要ならば
ヒドロキシル−保護基を除去して重要なカルバペネム中
間体
【化24】 又はそのヒドロキシル−保護された誘導体が製造され
る。
る。
【0028】本発明は式:
【化25】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルを表わす)をもつ新規のカルバペネム中間体を提
供するものである。
ルキルを表わす)をもつ新規のカルバペネム中間体を提
供するものである。
【0029】また本発明により式:
【化26】 をもつ化合物を式V:
【化27】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルを表わす)をもつシリルトリフレイトと不活性溶
媒中有機塩基の存在において反応させることより成る式
IIIをもつ中間体製法が提供される。
ルキルを表わす)をもつシリルトリフレイトと不活性溶
媒中有機塩基の存在において反応させることより成る式
IIIをもつ中間体製法が提供される。
【0030】更に本発明により式II:
【化28】 (式中R4′は普通のヒドロキシル−保護基でありかつ
Lはアセトキシ、プロピオニルオキシ、t−ブチリルオ
キシ、又はクロロの様な普通の離脱基である)をもつ化
合物を有機溶媒中ルイスの酸触媒の存在のもとで式:
Lはアセトキシ、プロピオニルオキシ、t−ブチリルオ
キシ、又はクロロの様な普通の離脱基である)をもつ化
合物を有機溶媒中ルイスの酸触媒の存在のもとで式:
【0031】
【化29】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルを表わす)をもつシリルエノールエーテルと反応
させることより成る式Ib:
ルキルを表わす)をもつシリルエノールエーテルと反応
させることより成る式Ib:
【0032】
【化30】 (式中R4は水素又は普通のヒドロキシル−保護基を表
わす)をもつ中間体製法が提供される。
わす)をもつ中間体製法が提供される。
【0033】本発明は式IV:
【化31】 をもつp−ニトロベンジルジアゾアセトアセテイト中間
体を不活性有機溶媒中有機塩基の存在において式V:
体を不活性有機溶媒中有機塩基の存在において式V:
【0034】
【化32】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルとする)をもつトリオルガノシリルトリフレイト
シリル化剤と反応させて式:
ルキルとする)をもつトリオルガノシリルトリフレイト
シリル化剤と反応させて式:
【0035】
【化33】 (式中R1、R2およびR3は上に定義したとおりとす
る)をもつ対応するエノールシリルエーテル中間体にう
まく転化できるという予想しなかった発見に基づく。従
来法のシリル塩化物試薬の代りにシリルトリフレイトシ
リル化剤を使用すれば従来の強塩基の代りにトリアルキ
ルアミン〔例えばトリ(C1−C4)アルキルアミン〕
の様な有機塩基が使用できるのでp−ニトロベンジル部
分の高反応性メチレン基の存在にも拘らず望むシリルエ
ノールエーテル中間体IIIを高収率でうまく製造でき
るのである。
る)をもつ対応するエノールシリルエーテル中間体にう
まく転化できるという予想しなかった発見に基づく。従
来法のシリル塩化物試薬の代りにシリルトリフレイトシ
リル化剤を使用すれば従来の強塩基の代りにトリアルキ
ルアミン〔例えばトリ(C1−C4)アルキルアミン〕
の様な有機塩基が使用できるのでp−ニトロベンジル部
分の高反応性メチレン基の存在にも拘らず望むシリルエ
ノールエーテル中間体IIIを高収率でうまく製造でき
るのである。
【0036】中間体IVとトリオルガノシリルトリフレ
イトシリル化剤との反応は塩化メチレン、テトラヒドロ
フラン、4塩化炭素、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチルエーテル又はクロロホルムの様な不活性有機溶
媒中約−40℃乃至約30℃の温度範囲で行なわれる。
反応は約0−5℃の温度において最も便利におこる。
イトシリル化剤との反応は塩化メチレン、テトラヒドロ
フラン、4塩化炭素、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチルエーテル又はクロロホルムの様な不活性有機溶
媒中約−40℃乃至約30℃の温度範囲で行なわれる。
反応は約0−5℃の温度において最も便利におこる。
【0037】トリオルガノシリルトリフレイトはトリア
ルキルシリルトリフルオロメチルスルホネイトでもよい
が、トリメチルシリルトリフルオロメチルスルホネイト
又はtert−ブチルジメチルシリルトリフルオロメチ
ルスルホネイトの様な市販入手できる試薬が好ましい。
最も好ましいシリル化剤はtert−ブチルジメチルシ
リルトリフルオロメチルスルホネイトである。
ルキルシリルトリフルオロメチルスルホネイトでもよい
が、トリメチルシリルトリフルオロメチルスルホネイト
又はtert−ブチルジメチルシリルトリフルオロメチ
ルスルホネイトの様な市販入手できる試薬が好ましい。
最も好ましいシリル化剤はtert−ブチルジメチルシ
リルトリフルオロメチルスルホネイトである。
【0038】有機アミン塩基、例えばジイソプロピルエ
チルアミン、DBU(1,8−ジアザバイシクロ〔5.
4.0〕ウンデス−7−エン)、DBN(1,5−ジア
ザバイシクロ〔4.3.0〕ノン−5−エン)および特
にトリ(C1−C4)アルキルアミン(例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリ
プロピルアミン)はトリオルガノシリルトリフレイトシ
リル化剤と共に使うに適している。
チルアミン、DBU(1,8−ジアザバイシクロ〔5.
4.0〕ウンデス−7−エン)、DBN(1,5−ジア
ザバイシクロ〔4.3.0〕ノン−5−エン)および特
にトリ(C1−C4)アルキルアミン(例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリ
プロピルアミン)はトリオルガノシリルトリフレイトシ
リル化剤と共に使うに適している。
【0039】一般に有機塩基、トリオルガノシリルトリ
フレイトと中間体IVは約等モル量で反応させ塩基は稍
過剰に使用する。最もよい中間体IV:トリオルガノシ
リルトリフレイト:塩基のモル比は約1:1.2:1.
4である。一般式IIIをもつ望むシリルエノールエー
テル中間体は上記方法を用いて高収率でえられる。式I
IIをもつ範囲内の新規中間体のうち最も好ましい化合
物はトリメチルシリル又はtert−ブチルジメチルシ
リル保護基をもつものである。
フレイトと中間体IVは約等モル量で反応させ塩基は稍
過剰に使用する。最もよい中間体IV:トリオルガノシ
リルトリフレイト:塩基のモル比は約1:1.2:1.
4である。一般式IIIをもつ望むシリルエノールエー
テル中間体は上記方法を用いて高収率でえられる。式I
IIをもつ範囲内の新規中間体のうち最も好ましい化合
物はトリメチルシリル又はtert−ブチルジメチルシ
リル保護基をもつものである。
【0040】式IIIをもつ中間体が一旦製造されれば
それらは本発明の方法で知られたジアゾ中間体Ia製造
に使用できる。故に中間体IIIは塩化メチレン、クロ
ロホルム、4塩化炭素、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンの様な不
活性有機溶媒中塩化亜鉛、よう化亜鉛、臭化亜鉛、4塩
化チタン、臭化マグネシウム、3弗化ほう素、塩化アル
ミニウム、塩化第2錫、又は塩化第2鉄の様なルイスの
酸触媒の存在において式IIをもつ適当するO−保護さ
れたアゼチジノンと反応させる。好ましい溶媒は塩化メ
チレンで、好ましい触媒は塩化亜鉛である。
それらは本発明の方法で知られたジアゾ中間体Ia製造
に使用できる。故に中間体IIIは塩化メチレン、クロ
ロホルム、4塩化炭素、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンの様な不
活性有機溶媒中塩化亜鉛、よう化亜鉛、臭化亜鉛、4塩
化チタン、臭化マグネシウム、3弗化ほう素、塩化アル
ミニウム、塩化第2錫、又は塩化第2鉄の様なルイスの
酸触媒の存在において式IIをもつ適当するO−保護さ
れたアゼチジノンと反応させる。好ましい溶媒は塩化メ
チレンで、好ましい触媒は塩化亜鉛である。
【0041】式IIをもつアゼチジノンは知られた化合
物であり、また知られた方法で製造できる。この化合物
のヒドロキシアルキル基は普通のヒドロキシ−保護基で
保護される。使用保護基は重要でなくこの分野で知られ
たこの様な基多数から選ばれるが、トリオルガノシリル
保護基はメタノール性HCl又はフルオライドイオン
(例えばテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオライド
/テトラヒドロフラン)と処理して容易に除去できるか
ら、この様なトリメチルシリル又はtert−ブチルジ
メチルシリル基を使うとよい。適当する他のヒドロキシ
−保護基の例には接触水添によって除去できるp−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、Pd(PO3)4−接触
反応によって除去できるアリルオキシカルボニル、およ
びメタノール中Zn−酢酸と処理して除去できる2−ト
リハロエトキシカルボニル(−CO2CH2CX3、但
しXはCl又はBr)がある。離脱基Lは普通のハロ
(例えばクロロ)又はアシルオキシ(例えばアセトキ
シ、プロピオニルオキシ又はt−ブチリルオキシ)でも
よいが、最も好ましいのはアセトキシである。一般にア
ゼチジノンIIに対し過剰のシリルエノールエーテルI
IIを加えることが好ましい。
物であり、また知られた方法で製造できる。この化合物
のヒドロキシアルキル基は普通のヒドロキシ−保護基で
保護される。使用保護基は重要でなくこの分野で知られ
たこの様な基多数から選ばれるが、トリオルガノシリル
保護基はメタノール性HCl又はフルオライドイオン
(例えばテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオライド
/テトラヒドロフラン)と処理して容易に除去できるか
ら、この様なトリメチルシリル又はtert−ブチルジ
メチルシリル基を使うとよい。適当する他のヒドロキシ
−保護基の例には接触水添によって除去できるp−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、Pd(PO3)4−接触
反応によって除去できるアリルオキシカルボニル、およ
びメタノール中Zn−酢酸と処理して除去できる2−ト
リハロエトキシカルボニル(−CO2CH2CX3、但
しXはCl又はBr)がある。離脱基Lは普通のハロ
(例えばクロロ)又はアシルオキシ(例えばアセトキ
シ、プロピオニルオキシ又はt−ブチリルオキシ)でも
よいが、最も好ましいのはアセトキシである。一般にア
ゼチジノンIIに対し過剰のシリルエノールエーテルI
IIを加えることが好ましい。
【0042】ヒドロキシル−保護されたジアゾ中間体生
成のアルキル化反応後つづいて知られた方法で保護基を
除去して望む中間体Iaとする。上記のとおりトリオル
ガノシリル保護基は分子残部を分解せずに容易に除去で
きるので特に好ましい。ジアゾ中間体Iaは知られた方
法で抗菌活性をもつチエナマイシンおよび種々の他のカ
ルバペネム誘導体に転化できる。次に実施例は本発明を
例証するものであるが本発明の範囲を限定するものでは
ない。
成のアルキル化反応後つづいて知られた方法で保護基を
除去して望む中間体Iaとする。上記のとおりトリオル
ガノシリル保護基は分子残部を分解せずに容易に除去で
きるので特に好ましい。ジアゾ中間体Iaは知られた方
法で抗菌活性をもつチエナマイシンおよび種々の他のカ
ルバペネム誘導体に転化できる。次に実施例は本発明を
例証するものであるが本発明の範囲を限定するものでは
ない。
【0043】
実施例1 p−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−トリメチルシリル
オキシ−3−ブテノエイトの製造 A.p−ニトロベンジルアセトアセテイト
オキシ−3−ブテノエイトの製造 A.p−ニトロベンジルアセトアセテイト
【0044】
【化34】
【0045】トルエン1l中のエチルアセトアセテイト
140g(1.08モル)とp−ニトロベンジルアルコ
ール153g(1.00モル、使用前ジエチルエーテル
で洗った)の混合物をしづかに蒸留し15時間にわたり
溶媒900mlを捕集した。冷却後セライトをとおし不
溶物を濾過しトルエンで洗い真空蒸発して粗油280g
をえた。油を5℃でジエチルエーテル280mlから晶
出させて首題化合物の灰白色結晶181.55g(0.
766モル、収率76.6%)をえた。
140g(1.08モル)とp−ニトロベンジルアルコ
ール153g(1.00モル、使用前ジエチルエーテル
で洗った)の混合物をしづかに蒸留し15時間にわたり
溶媒900mlを捕集した。冷却後セライトをとおし不
溶物を濾過しトルエンで洗い真空蒸発して粗油280g
をえた。油を5℃でジエチルエーテル280mlから晶
出させて首題化合物の灰白色結晶181.55g(0.
766モル、収率76.6%)をえた。
【0046】
【数1】
【0047】B.p−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−
ケトブテノエイト
ケトブテノエイト
【化35】
【0048】CH3CN340ml中のp−ニトロベン
ジルアセトアセテイト134.6g(0.568モル)
とトリエチルアミン79.0ml(0.568モル)の
溶液に0−5℃窒素雰囲気中でp−トルエンスルフオニ
ルアジ化物130g(0.639モル、97%純度)を
15分間にわたり加えた。この間に首題化合物が沈澱し
始めた。冷却浴をとり去り室温で混合物を3時間攪拌し
た。混合物を氷浴中で30分冷し沈澱を濾過し冷CH3
CN75mlと次いでジエチルエーテル200mlで洗
い乾燥して首題化合物の淡黄色粉末135.06g
(0.514モル、収率90.4%)をえた。
ジルアセトアセテイト134.6g(0.568モル)
とトリエチルアミン79.0ml(0.568モル)の
溶液に0−5℃窒素雰囲気中でp−トルエンスルフオニ
ルアジ化物130g(0.639モル、97%純度)を
15分間にわたり加えた。この間に首題化合物が沈澱し
始めた。冷却浴をとり去り室温で混合物を3時間攪拌し
た。混合物を氷浴中で30分冷し沈澱を濾過し冷CH3
CN75mlと次いでジエチルエーテル200mlで洗
い乾燥して首題化合物の淡黄色粉末135.06g
(0.514モル、収率90.4%)をえた。
【0049】
【数2】
【0050】C.p−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−
トリメチルシリルオキシ−ブテノエイト
トリメチルシリルオキシ−ブテノエイト
【化36】
【0051】CH2Cl22ml中にp−ニトロベンジ
ルα−ジアゾアセトアセテイト236mg(1ミリモ
ル)とトリエチルアミン0.15ml(1.08ミリモ
ル)の懸濁液に0−5℃窒素雰囲気下でトリメチルシリ
ルトリフルオロメチルスルホネイト0.22mlを加え
混合物を30分攪拌した。この透明黄色液に乾燥ヘキサ
ン30mlを加え混合物を10分攪拌した。油状沈澱を
とり去りヘキサン溶液を真空蒸発し生じた黄色固体を乾
燥ヘキサン50mlに再溶解した。不溶物質をセライド
で濾過し濾液を真空蒸発して首題黄色結晶化合物277
mg(0.90ミリモル、収率90%)をえた。
ルα−ジアゾアセトアセテイト236mg(1ミリモ
ル)とトリエチルアミン0.15ml(1.08ミリモ
ル)の懸濁液に0−5℃窒素雰囲気下でトリメチルシリ
ルトリフルオロメチルスルホネイト0.22mlを加え
混合物を30分攪拌した。この透明黄色液に乾燥ヘキサ
ン30mlを加え混合物を10分攪拌した。油状沈澱を
とり去りヘキサン溶液を真空蒸発し生じた黄色固体を乾
燥ヘキサン50mlに再溶解した。不溶物質をセライド
で濾過し濾液を真空蒸発して首題黄色結晶化合物277
mg(0.90ミリモル、収率90%)をえた。
【0052】
【数3】
【0053】p−ニトロベンジル2−ジアゾ−3−t−
ブチルジメチルシリルオキシ−3−ブテノエイトの製造
ブチルジメチルシリルオキシ−3−ブテノエイトの製造
【化37】
【0054】乾燥塩化メチレン200ml中にp−ニト
ロベンジルα−ジアゾアセトアセテイト26.30
(0.10)とトリエチルアミン14.57g(20.
00ml、0.14モル)の懸濁液に2℃、窒素雰囲気
のもとで30分にわたりtert−ブチルジメチルシリ
ルトリフルオロメチルスルホネイト31.72g(2
7.50ml)を加え2℃で1時間攪拌した。透明オレ
ンジ色溶液を塩化メチレン50mlで希釈し水3×20
0mlで洗った後塩溶液100mlで洗いNa2SO4
で乾燥し蒸発して首題黄色固体化合物37.40g
(0.099モル、収率99%)をえた。
ロベンジルα−ジアゾアセトアセテイト26.30
(0.10)とトリエチルアミン14.57g(20.
00ml、0.14モル)の懸濁液に2℃、窒素雰囲気
のもとで30分にわたりtert−ブチルジメチルシリ
ルトリフルオロメチルスルホネイト31.72g(2
7.50ml)を加え2℃で1時間攪拌した。透明オレ
ンジ色溶液を塩化メチレン50mlで希釈し水3×20
0mlで洗った後塩溶液100mlで洗いNa2SO4
で乾燥し蒸発して首題黄色固体化合物37.40g
(0.099モル、収率99%)をえた。
【0055】
【数4】
【0056】実施例3 (3R,4R)−3−〔(1R)−ヒドロキシエチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジルオキシ)カルボニル
−2−オクソ−3−ジアゾプロピル〕アゼチジン−2−
オンの製造
−4−〔3−(4−ニトロベンジルオキシ)カルボニル
−2−オクソ−3−ジアゾプロピル〕アゼチジン−2−
オンの製造
【0057】
【化38】
【0058】塩化メチレン2ml中に無水塩化亜鉛34
mg(0.25ミリモル)の懸濁液に塩化メチレン4m
l中に(1′R,3R,4R)−3−(1′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセトキ
シアゼチジン−2−オン144mg(0.5ミリモル)
の溶液と次いで固体4−ニトロベンジル−2−ジアゾ−
3−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3−ブテ
ノエイト350mg(0.93ミリモル)を窒素雰囲気
のもとで加えた。混合物を室温窒素雰囲気のもとで4.
5時間攪拌した。混合物を酢酸エチル50mlで希釈し
飽和重炭酸ナトリウム溶液2×25mlで洗い更に塩溶
液30mlで洗いNa2SO4上で乾燥し蒸発して粗黄
色油状固体をえた。これを管クロマトグラフ法(SiO
230g,塩化メチレン:酢酸エチル4:1で溶離)で
精製して従来法で製造された認定試料と同定(tlc,
1Hmr)された油として首題化合物198mg(0.
405ミリモル、81%)をえた。
mg(0.25ミリモル)の懸濁液に塩化メチレン4m
l中に(1′R,3R,4R)−3−(1′−tert
−ブチルジメチルシリルオキシエチル)−4−アセトキ
シアゼチジン−2−オン144mg(0.5ミリモル)
の溶液と次いで固体4−ニトロベンジル−2−ジアゾ−
3−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3−ブテ
ノエイト350mg(0.93ミリモル)を窒素雰囲気
のもとで加えた。混合物を室温窒素雰囲気のもとで4.
5時間攪拌した。混合物を酢酸エチル50mlで希釈し
飽和重炭酸ナトリウム溶液2×25mlで洗い更に塩溶
液30mlで洗いNa2SO4上で乾燥し蒸発して粗黄
色油状固体をえた。これを管クロマトグラフ法(SiO
230g,塩化メチレン:酢酸エチル4:1で溶離)で
精製して従来法で製造された認定試料と同定(tlc,
1Hmr)された油として首題化合物198mg(0.
405ミリモル、81%)をえた。
【0059】実施例4 (3R,4R)−3−〔(1R)−ヒドロキシエチル〕
−4−〔3−(4−ニトロベンジルオキシ)カルボニル
−2−オクソ−3−ジアゾブロピル〕アゼチジン−2−
オンの製造
−4−〔3−(4−ニトロベンジルオキシ)カルボニル
−2−オクソ−3−ジアゾブロピル〕アゼチジン−2−
オンの製造
【0060】
【化39】
【0061】メタノール1.0ml中に(3R,4R)
−3−〔(1R)−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジルオキ
シ)カルボニル−2−オクソ−3−ジアゾプロピル〕ア
ゼチジン−2−オン72mg(0.15ミリモル)を含
む溶液に1NHCl水溶液0.2mlを加え混合物を室
温で2時間攪拌した。この時点でtlc(酢酸エチル)
は反応完了を示した。この間に首題化合物は沈澱した。
これを濾過し冷CH3OH−H2O(9:1)で洗い次
に冷ジエチルエーテルで洗い首題化合物白色固体43m
g(0.11ミリモル、収率73%)をえた。同様に首
題化合物は(3R,4R)−3−{(1R)−〔(2,
4,6−トリ−tert−ブチルフェノキシ)ジメチル
シリルオキシ〕エチル}−4−〔3−(4−ニトロベン
ジルオキシ)カルボニル−2−オクソ−3−ジアゾプロ
ピル〕アセチジン−2−オンからもえられた。
−3−〔(1R)−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル〕−4−〔3−(4−ニトロベンジルオキ
シ)カルボニル−2−オクソ−3−ジアゾプロピル〕ア
ゼチジン−2−オン72mg(0.15ミリモル)を含
む溶液に1NHCl水溶液0.2mlを加え混合物を室
温で2時間攪拌した。この時点でtlc(酢酸エチル)
は反応完了を示した。この間に首題化合物は沈澱した。
これを濾過し冷CH3OH−H2O(9:1)で洗い次
に冷ジエチルエーテルで洗い首題化合物白色固体43m
g(0.11ミリモル、収率73%)をえた。同様に首
題化合物は(3R,4R)−3−{(1R)−〔(2,
4,6−トリ−tert−ブチルフェノキシ)ジメチル
シリルオキシ〕エチル}−4−〔3−(4−ニトロベン
ジルオキシ)カルボニル−2−オクソ−3−ジアゾプロ
ピル〕アセチジン−2−オンからもえられた。
【0062】実施例5 (3R,4R)−3−{(1R)−〔(2,4,6−ト
リ−tert−ブチルフェノキシ)ジメチルシリルオキ
シ〕エチル}−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキ
シカルボニル−2−オクソ−3−ジアゾプロピル〕アゼ
チジン−2−オンの製造
リ−tert−ブチルフェノキシ)ジメチルシリルオキ
シ〕エチル}−4−〔3−(4−ニトロベンジル)オキ
シカルボニル−2−オクソ−3−ジアゾプロピル〕アゼ
チジン−2−オンの製造
【0063】
【化40】
【0064】(3R,4Rおよび4S)−4−アセトキ
シ−3−{(1R−〔(2,4,6−トリ−tert−
ブチルフェノキシ)ジメチルシリルオキシ〕エチル}−
2−アゼチジノンから対応するt−ブチルジメチルシリ
ル誘導体に対する上記方法によって収率84%で首題化
合物を製造した。
シ−3−{(1R−〔(2,4,6−トリ−tert−
ブチルフェノキシ)ジメチルシリルオキシ〕エチル}−
2−アゼチジノンから対応するt−ブチルジメチルシリ
ル誘導体に対する上記方法によって収率84%で首題化
合物を製造した。
【0065】
【数5】
【0066】本発明に従えば、次なる特徴を有する構成
を半提供される、すなわち 1.式:
を半提供される、すなわち 1.式:
【化41】 をもつ化合物を不活性溶媒中有機塩基存在のもとで式:
【化42】
【0067】(式中R1、R2およびR3は各無関係に
C1−C4アルキルを表わす)で示されるシリルトリフ
レイトと反応させることを特徴とする式:
C1−C4アルキルを表わす)で示されるシリルトリフ
レイトと反応させることを特徴とする式:
【化43】
【0068】(式中R1、R2およびR3は上に定義し
たとおりとする)で示される化合物の製法、 2.反応を約−40℃乃至+30℃の温度範囲で行なう
前記第1項に記載の方法、 3.有機塩基がC1−C4トリアルキルアミンでありか
つ溶媒が塩化メチレンである前記第1項又は2項に記載
の方法、及び 4.式:
たとおりとする)で示される化合物の製法、 2.反応を約−40℃乃至+30℃の温度範囲で行なう
前記第1項に記載の方法、 3.有機塩基がC1−C4トリアルキルアミンでありか
つ溶媒が塩化メチレンである前記第1項又は2項に記載
の方法、及び 4.式:
【0069】
【化44】 又は式:
【化45】 をもつ化合物を製造する前記第1項に記載の方法が提供
される。
される。
Claims (8)
- 【請求項1】 式: 【化1】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルを表わす)で示されることを特徴とする化合物。 - 【請求項2】 式: 【化2】 で示される請求項第1項に記載の化合物。
- 【請求項3】 式: 【化3】 で示される請求項第1項に記載の化合物。
- 【請求項4】 式: 【化4】 (式中Lは普通の離脱基を表わし、かつR4′は普通の
ヒドロキシル−保護基を表わす)をもつ化合物を不活性
有機溶媒中ルイスの酸触媒のもとで式: 【化5】 (式中R1、R2およびR3は各無関係にC1−C4ア
ルキルを表わす)で示されるエノールシリルエーテル化
合物と反応させ、必要ならばヒドロキシル−保護基を除
去して対応するヒドロキシエチル中間体とすることを特
徴とする式: 【化6】 (式中R4は水素又は普通のヒドロキシル保護基を表わ
す)で示される化合物の製法。 - 【請求項5】 離脱基Lが 【化7】 である請求項第4項に記載の方法。
- 【請求項6】 ルイスの酸触媒がZnCl2である請求
項第4項又は5項に記載の方法。 - 【請求項7】 溶媒が塩化メチレンである請求項第4項
から6項までのいづれかに記載の方法。 - 【請求項8】 ヒドロキシル−保護基がtert−ブチ
ルジメチルシリル、トリメチルシリル又は(2,4,6
−tert−ブチルフェノキシ)ジメチルシリルである
請求の範囲第4項から7項までのいづれかに記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US47244383A | 1983-03-07 | 1983-03-07 | |
US472443 | 1983-03-07 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59042202A Division JPS59170096A (ja) | 1983-03-07 | 1984-03-07 | カルバペネム中間体 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8226195A Division JPH09176113A (ja) | 1983-03-07 | 1996-08-28 | カルバペネム中間体の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0827168A true JPH0827168A (ja) | 1996-01-30 |
Family
ID=23875532
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59042202A Granted JPS59170096A (ja) | 1983-03-07 | 1984-03-07 | カルバペネム中間体 |
JP3355457A Pending JPH0827168A (ja) | 1983-03-07 | 1991-11-28 | カルバペネム中間体 |
JP8226195A Pending JPH09176113A (ja) | 1983-03-07 | 1996-08-28 | カルバペネム中間体の製法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59042202A Granted JPS59170096A (ja) | 1983-03-07 | 1984-03-07 | カルバペネム中間体 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8226195A Pending JPH09176113A (ja) | 1983-03-07 | 1996-08-28 | カルバペネム中間体の製法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (3) | JPS59170096A (ja) |
BE (1) | BE899085A (ja) |
CA (1) | CA1220215A (ja) |
CY (1) | CY1447A (ja) |
DE (1) | DE3408196A1 (ja) |
FR (1) | FR2542317B1 (ja) |
GB (1) | GB2136009B (ja) |
HK (1) | HK84588A (ja) |
IT (1) | IT1175944B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4683296A (en) * | 1983-03-07 | 1987-07-28 | Bristol-Myers Company | Carbapenem intermediates |
US5340927A (en) * | 1989-07-18 | 1994-08-23 | Merck & Co., Inc. | Process for the preparation of 2-diazo-3-trisubstituted silyloxy 3-butenoates |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58103358A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-06-20 | メルク・エンド・カムパニ−・インコ−ポレ−テツド | 抗生物質中間体の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3950357A (en) * | 1974-11-25 | 1976-04-13 | Merck & Co., Inc. | Antibiotics |
US4174316A (en) * | 1978-08-14 | 1979-11-13 | Merck & Co., Inc. | 4-Iodomethylazetidin-2-one |
US4290947A (en) * | 1979-04-27 | 1981-09-22 | Merck & Co., Inc. | Process for the preparation of thienamycin and intermediates |
PT71553B (en) * | 1979-07-23 | 1981-12-14 | Merck & Co Inc | Process for the preparation of thienamycin and intermediates |
US4360684A (en) * | 1981-04-08 | 1982-11-23 | Merck & Co., Inc. | Process for the preparation of (2S)-tetrahydro-2α-methyl-6-oxo-4βα-carboxylic acid |
CA1190236A (en) * | 1981-10-23 | 1985-07-09 | Edward J.J. Grabowski | Antibiotic synthesis |
-
1984
- 1984-02-10 CA CA000447155A patent/CA1220215A/en not_active Expired
- 1984-03-02 IT IT19891/84A patent/IT1175944B/it active
- 1984-03-06 GB GB08405878A patent/GB2136009B/en not_active Expired
- 1984-03-06 DE DE19843408196 patent/DE3408196A1/de active Granted
- 1984-03-06 FR FR8403469A patent/FR2542317B1/fr not_active Expired
- 1984-03-06 BE BE0/212513A patent/BE899085A/fr not_active IP Right Cessation
- 1984-03-07 JP JP59042202A patent/JPS59170096A/ja active Granted
-
1988
- 1988-10-20 HK HK845/88A patent/HK84588A/xx not_active IP Right Cessation
- 1988-12-30 MY MY117/88A patent/MY8800117A/xx unknown
-
1989
- 1989-03-10 CY CY1447A patent/CY1447A/xx unknown
-
1991
- 1991-11-28 JP JP3355457A patent/JPH0827168A/ja active Pending
-
1996
- 1996-08-28 JP JP8226195A patent/JPH09176113A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58103358A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-06-20 | メルク・エンド・カムパニ−・インコ−ポレ−テツド | 抗生物質中間体の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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BE899085A (fr) | 1984-09-06 |
GB2136009B (en) | 1986-04-30 |
MY8800117A (en) | 1988-12-31 |
DE3408196C2 (ja) | 1992-03-19 |
GB2136009A (en) | 1984-09-12 |
JPH09176113A (ja) | 1997-07-08 |
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FR2542317B1 (fr) | 1987-11-27 |
CA1220215A (en) | 1987-04-07 |
GB8405878D0 (en) | 1984-04-11 |
CY1447A (en) | 1989-03-10 |
FR2542317A1 (fr) | 1984-09-14 |
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