JPH082649Y2 - 液晶製造装置 - Google Patents
液晶製造装置Info
- Publication number
- JPH082649Y2 JPH082649Y2 JP11047191U JP11047191U JPH082649Y2 JP H082649 Y2 JPH082649 Y2 JP H082649Y2 JP 11047191 U JP11047191 U JP 11047191U JP 11047191 U JP11047191 U JP 11047191U JP H082649 Y2 JPH082649 Y2 JP H082649Y2
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- JP
- Japan
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- vacuum
- liquid crystal
- substrate
- chamber
- container
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- Liquid Crystal (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、ＴＦＴ（薄膜トラン
ジスタ）、ＭＩＭを含むＬＣＤ製品の製造全般に利用さ
れる液晶製造装置に関するものである。
ジスタ）、ＭＩＭを含むＬＣＤ製品の製造全般に利用さ
れる液晶製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置の製造において、液晶駆動
用の電極等の形成には、気相法を用いて真空容器中で被
膜を形成している。特に、ＴＦＴやＭＩＭ基板を製造す
るには、各種被膜を積層しなければならないので、従来
は高度にクリーン化されたクリーンルーム内でほぼ自動
化し、ダストが基板に付着しないようにして製造するた
め、図２に図示したように、基板ｂを載置し搬送する製
造ラインａにロードロック室ｅ、プラズマｇを発生する
真空容器ｆ、アンロック室ｈを備えたクリーンルームｄ
を設置し、真空容器ｆ、ロードロック室ｅ、アンロック
室ｈの各室は真空ポンプｖで排気して真空可能に構成
し、また、クリーンルームｄの前後にエアシャワー室ｃ
を設置している。
用の電極等の形成には、気相法を用いて真空容器中で被
膜を形成している。特に、ＴＦＴやＭＩＭ基板を製造す
るには、各種被膜を積層しなければならないので、従来
は高度にクリーン化されたクリーンルーム内でほぼ自動
化し、ダストが基板に付着しないようにして製造するた
め、図２に図示したように、基板ｂを載置し搬送する製
造ラインａにロードロック室ｅ、プラズマｇを発生する
真空容器ｆ、アンロック室ｈを備えたクリーンルームｄ
を設置し、真空容器ｆ、ロードロック室ｅ、アンロック
室ｈの各室は真空ポンプｖで排気して真空可能に構成
し、また、クリーンルームｄの前後にエアシャワー室ｃ
を設置している。
【０００３】また、ＣＶＤやスパッタ等装置で成膜時真
空が必要な時には、その都度真空容器ｆから真空ポンプ
ｖで真空引きを行って製造を行っている。
空が必要な時には、その都度真空容器ｆから真空ポンプ
ｖで真空引きを行って製造を行っている。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】しかし、前記従来の技
術では、いかに部屋をクリーンルームにしてダストを減
らしたとしても被膜の製造装置である真空容器ｆ内にお
いて、ＣＶＤ装置やスパッタ装置等の真空容器内の壁面
等には基板に成膜した膜が付着しているので、同一真空
容器で数回成膜後にはこの膜が剥がれてガラス基板上等
に付着し、液晶セル製造上極めて重大な製品不良を引き
起こす。そこで、この製品不良を防ぐため、一定期間ご
とに壁面内をクリーニングする必要があるが、真空容器
は装置から分離できない状態で設置されているため、完
全なクリーニング作業は行えない。また、クリーニング
中は製造ラインを停止しなければ作業ができず、またこ
の作業により真空容器内のダストをクリーンルーム内に
飛散させるという問題点がある。
術では、いかに部屋をクリーンルームにしてダストを減
らしたとしても被膜の製造装置である真空容器ｆ内にお
いて、ＣＶＤ装置やスパッタ装置等の真空容器内の壁面
等には基板に成膜した膜が付着しているので、同一真空
容器で数回成膜後にはこの膜が剥がれてガラス基板上等
に付着し、液晶セル製造上極めて重大な製品不良を引き
起こす。そこで、この製品不良を防ぐため、一定期間ご
とに壁面内をクリーニングする必要があるが、真空容器
は装置から分離できない状態で設置されているため、完
全なクリーニング作業は行えない。また、クリーニング
中は製造ラインを停止しなければ作業ができず、またこ
の作業により真空容器内のダストをクリーンルーム内に
飛散させるという問題点がある。
【０００５】Ｂ．クリーン化するためには空気の流れを
考慮したクリーンルームを必要とし、設備費が極めて高
価となる。また、対流を完全に防ぐことはできない。従
って、微小なダストによる悪影響を零にはできないとい
う問題点がある。
考慮したクリーンルームを必要とし、設備費が極めて高
価となる。また、対流を完全に防ぐことはできない。従
って、微小なダストによる悪影響を零にはできないとい
う問題点がある。
【０００６】そこで、本考案は上記従来の技術の問題点
に鑑み案出されたもので、製造工程におけるダストの発
生を防止可能な液晶製造装置の提供を目的としている。
に鑑み案出されたもので、製造工程におけるダストの発
生を防止可能な液晶製造装置の提供を目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本考案における液晶表示素子の基板上に真空中で被
膜を形成する製造装置において、被覆を形成するための
複数の真空容器が排気可能な内部空間を有する真空室内
に移動可能に設けられており、前記基板に被膜を形成す
る際には、該基板が所定の真空容器中に配設された状態
で、該真空容器が独立に排気可能になると共に、被膜を
形成しない際には、前記真空容器が交換可能なことを特
徴としている。
に、本考案における液晶表示素子の基板上に真空中で被
膜を形成する製造装置において、被覆を形成するための
複数の真空容器が排気可能な内部空間を有する真空室内
に移動可能に設けられており、前記基板に被膜を形成す
る際には、該基板が所定の真空容器中に配設された状態
で、該真空容器が独立に排気可能になると共に、被膜を
形成しない際には、前記真空容器が交換可能なことを特
徴としている。
【０００８】
【作用】真空中で製造を行うため、真空装置を使う工程
の場合に、真空引きやガス出しの時間が短縮される。
の場合に、真空引きやガス出しの時間が短縮される。
【０００９】また、真空中では、空気の抵抗や対流がな
いため、微小なゴミ（ダスト）が発生しても直ぐに下に
落ち、再び舞い上がることを防止でき、高度なクリーン
ルームが達成できる。
いため、微小なゴミ（ダスト）が発生しても直ぐに下に
落ち、再び舞い上がることを防止でき、高度なクリーン
ルームが達成できる。
【００１０】
【実施例】実施例について図１を参照して説明すると、
基板２を載置し搬送する製造ライン１の液晶製造工程Ｒ
の一部又は大部分を真空にするため、該液晶製造工程Ｒ
には、排気口４１を設けた真空室４を設置し、該真空室
４は真空ポンプＶで排気して真空可能にされている。
基板２を載置し搬送する製造ライン１の液晶製造工程Ｒ
の一部又は大部分を真空にするため、該液晶製造工程Ｒ
には、排気口４１を設けた真空室４を設置し、該真空室
４は真空ポンプＶで排気して真空可能にされている。
【００１１】また、該真空室４の内部には回転装置９が
設置されていて、該回転装置９は、成膜工程で真空容器
７が所定位置に下降可能な吊り線９１で吊設され、ま
た、成膜時にプラズマ８を利用して被膜を形成する際に
は、図示しないＣＶＤ装置やスパッタ装置によりプラズ
マ８を発生させるようになされている。
設置されていて、該回転装置９は、成膜工程で真空容器
７が所定位置に下降可能な吊り線９１で吊設され、ま
た、成膜時にプラズマ８を利用して被膜を形成する際に
は、図示しないＣＶＤ装置やスパッタ装置によりプラズ
マ８を発生させるようになされている。
【００１２】更に、この成膜工程には排気口６１を有す
る高真空室６が配置され、真空ポンプＶで排気して高真
空可能にされている。Ｃは成膜工程における使用時の真
空容器７をあらわしている。
る高真空室６が配置され、真空ポンプＶで排気して高真
空可能にされている。Ｃは成膜工程における使用時の真
空容器７をあらわしている。
【００１３】更に、該真空室４の後側すなわち、基板２
供給側には、排気口３１を設けたロードロック室３が設
置され、該ロードロック室３は真空ポンプＶ１で排気し
て真空可能にされ、該真空室４の前側すなわち、基板２
搬出側には排気口５１を有するアンロック室５が設置さ
れ、該アンロック室５は真空ホンプＶ２で排気して真空
可能にされている。
供給側には、排気口３１を設けたロードロック室３が設
置され、該ロードロック室３は真空ポンプＶ１で排気し
て真空可能にされ、該真空室４の前側すなわち、基板２
搬出側には排気口５１を有するアンロック室５が設置さ
れ、該アンロック室５は真空ホンプＶ２で排気して真空
可能にされている。
【００１４】また、真空容器７のうち使用済容器Ｂは取
り換え可能にし、該使用済容器Ｂはアンロック室５を通
って外に搬出可能にされている。
り換え可能にし、該使用済容器Ｂはアンロック室５を通
って外に搬出可能にされている。
【００１５】なお、作業者が製造ライン１に入る場合
は、ダストの発生及び飛散を防止するため、例えば宇宙
服の様な被服を着用する。
は、ダストの発生及び飛散を防止するため、例えば宇宙
服の様な被服を着用する。
【００１６】
【考案の効果】本考案は上述の通り構成されているの
で、次に記載する効果を奏する。真空中で液晶セルの薄
膜製造の一部又は大部分を行うため、ＣＶＤやスパッタ
の際のように真空装置を使用する工程では真空引きやガ
ス出しの時間が短縮できる。
で、次に記載する効果を奏する。真空中で液晶セルの薄
膜製造の一部又は大部分を行うため、ＣＶＤやスパッタ
の際のように真空装置を使用する工程では真空引きやガ
ス出しの時間が短縮できる。
【００１７】真空中では、空気の抵抗や対流がないた
め、液晶製造工程で微小なゴミ（ダスト）が発生しても
直ぐに下に落ち、再び舞い上がることがない。従って、
製品不良を引き起こすことが防止できる。
め、液晶製造工程で微小なゴミ（ダスト）が発生しても
直ぐに下に落ち、再び舞い上がることがない。従って、
製品不良を引き起こすことが防止できる。
【００１８】ＣＶＤやスパッタ装置で薄膜形成の際に、
容器内壁に膜が付着した場合は、使用済容器ごと交換で
きる。このため、液晶セル製造上極めて重大な問題点で
ある成膜装置壁面からのゴミ（ダスト）発生を完全に防
ぐことができる。
容器内壁に膜が付着した場合は、使用済容器ごと交換で
きる。このため、液晶セル製造上極めて重大な問題点で
ある成膜装置壁面からのゴミ（ダスト）発生を完全に防
ぐことができる。
【００１９】クリーン化するために高価なＨＥＰＡフィ
ルター等を多数用いることなく、高度なクリーンルーム
が実現できる。
ルター等を多数用いることなく、高度なクリーンルーム
が実現できる。
【００２０】さらに、真空容器は交換可能に構成されて
いるため、装置のメンテナンスに要する時間も短縮でき
るため、スループット（生産高、処理量）も向上でき
る。
いるため、装置のメンテナンスに要する時間も短縮でき
るため、スループット（生産高、処理量）も向上でき
る。
【図１】本考案の液晶製造装置の説明図である。
【図２】従来の液晶製造装置の説明図である。
１ 製造ライン ２ 基板 ３ ロードロック室 ３１ 排気口 ４ 真空室 ４１ 排気口 ５ アンロック室 ５１ 排気口 ６ 高真空室 ７ 容器 ８ プラズマ ９ 回転装置 ９１ 吊り線 Ｖ 真空ポンプ Ｖ１ 真空ポンプ Ｖ２ 真空ポンプ Ｒ 液晶製造工程
Claims (1)
- 【請求項１】液晶表示素子の基板上に真空中で被膜を形
成する製造装置において、被膜を形成するための複数の
真空容器が排気可能な内部空間を有する真空室内に移動
可能に設けられており、前記基板に被膜を形成する際に
は、該基板が所定の真空容器中に配設された状態で、該
真空容器が独立に排気可能になると共に、被膜を形成し
ない際には、前記真空容器が交換可能なことを特徴とす
る液晶表示素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047191U JPH082649Y2 (ja) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | 液晶製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11047191U JPH082649Y2 (ja) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | 液晶製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0552821U JPH0552821U (ja) | 1993-07-13 |
| JPH082649Y2 true JPH082649Y2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=14536550
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11047191U Expired - Lifetime JPH082649Y2 (ja) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | 液晶製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH082649Y2 (ja) |
-
1991
- 1991-12-18 JP JP11047191U patent/JPH082649Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0552821U (ja) | 1993-07-13 |
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