JPH08264620A - カセット保持装置並びにこれを具備した基板搬送装置 及び基板自動処理装置 - Google Patents

カセット保持装置並びにこれを具備した基板搬送装置 及び基板自動処理装置

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JPH08264620A
JPH08264620A JP10995095A JP10995095A JPH08264620A JP H08264620 A JPH08264620 A JP H08264620A JP 10995095 A JP10995095 A JP 10995095A JP 10995095 A JP10995095 A JP 10995095A JP H08264620 A JPH08264620 A JP H08264620A
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cassette
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Hiroaki Murao
博明 村尾
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板自動処理装置の作業能率の向上、メンテ
ナンス作業の削減、コストの低減及び設計自由度の増大
等の達成に寄与するカセット保持装置を提供すること。
また、該カセット保持装置とこれを所定経路に沿って搬
送する搬送手段とからなる基板搬送装置の提供、更に、
上記基板自動処理装置を提供すること。 【構成】 カセット保持装置12が具備する保持部材4
0がカセット10を保持する際に歪が生ずべき該カセッ
ト保持装置の所定部位に、抵抗線歪ゲージ42を固着
し、該ゲージの抵抗値の変化を以てカセットの保持及び
非保持の状態を確認する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェハーやガ
ラス基板等の基板を複数枚収納し得るカセットを保持す
るカセット保持装置に関する。また、本発明は、該カセ
ット保持装置を具備してこれらの基板を該カセットと共
に所望の経路に沿って自動的に搬送する基板搬送装置に
関すると共に、該基板搬送装置を具備して該基板をカセ
ットごと処理槽内の処理液中に浸漬して洗浄処理等を施
す基板自動処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のカセット保持装置及び基
板搬送装置を備える基板自動処理装置として、図4及び
図5に示すものがある。
【0003】図4に示すように、この基板自動処理装置
においては、その架台1上に、複数、例えば5つの処理
槽2乃至6が順に配設されている。これら各処理槽内に
は洗浄用液及びエッチング用液等、所要の処理液2a乃
至6aが貯留されている。
【0004】図5にも示すように、当該基板自動処理装
置においては、処理対象としてのシリコンウェハー若し
くはガラス基板等の基板8は、処理用の専用のカセット
10に多数収納された状態にて取り扱われる。なお、該
カセット10内において、各基板8はその主面同士が平
行となるように、且つ各々が直立した状態で一定間隔で
整列されている。当該基板自動処理装置はこれらの基板
8の洗浄処理を自動的に行うものであり、後述する一連
の工程にて該各基板8の洗浄を完了することができる。
【0005】上記基板8を収容したカセット10は、図
4及び図5に示すカセット保持装置12によって保持さ
れ、搬送手段14(図4参照)によって該カセット保持
装置12が所定経路に沿って搬送されることによって上
記の各処理槽2乃至6を巡る。該カセット保持装置12
と搬送手段14とを、基板搬送装置と総称する。
【0006】図4に示すように、上記搬送手段14は、
上述した各処理槽2乃至6が並ぶ方向、すなわち水平方
向(矢印Hにて示す)において移動自在な可動ベース1
6と、該可動ベース16を移動させる駆動手段(図示せ
ず)とを有している。同図に示すように、この可動ベー
ス16には、可動ポール17が上下方向(矢印Vにて示
す)において往復動自在に設けられており、該可動ベー
ス16に内蔵された図示しない駆動手段によって昇降せ
しめられる。
【0007】上述した構成の搬送手段14が作動するこ
とによって、上記カセット保持装置12がその保持した
カセット10と共に各処理槽2乃至6内の処理液2a乃
至6aによる浸漬位置を経て該各処理槽外に至る所定経
路(後述)に沿って搬送される。
【0008】次いで、上記カセット保持装置12につい
て詳述する。
【0009】このカセット保持装置12は、上記可動ポ
ール17の上端部に固定された基体部19と、該基体部
19に対して各々一端部にて取り付けられて互いに平行
に水平に伸長する2本の円柱状の長手支持部材21及び
22とを有している。該両長手支持部材21、22は、
基体部19内に設けられた軸受機構(図示せず)によっ
てその軸中心を中心として回転自在に支持されており、
該基体部19に内蔵された駆動手段(図示せず)によっ
て回転駆動される。
【0010】上記両長手支持部材21及び22の各他端
側には、上記カセット10を保持するための保持部材2
4が2本ずつ、取付けブロック25を介して取り付けら
れている。図から明らかなように、これら4本の保持部
材24は長手状に形成され、上記長手支持部材21、2
2に対して、具体的には取付けブロック25に対し、片
持梁状態、この場合、垂下状態にて装着されている。そ
して、図5に示すように、該各保持部材24の下端部は
フック部24aとされ、カセット10に形成された鍔部
10aをこのフック部24aによって支え持つようにな
されている。
【0011】ところで、当該基板自動処理装置において
は、上記カセット10がカセット保持装置12によって
確かに保持されているかどうかを検出するための検出手
段が設けられている。これは、該カセット保持装置12
によって保持されて搬送中のカセット10が何等かの原
因により途中で落下してしまったり、又、チャックミス
で上記各処理槽2乃至6内に取り残されてしまう場合を
想定して設けられるものである。このような不都合な事
態が発生した際、該検出手段よりの検出信号によってこ
れを確認することができ、装置を停止させて復旧作業を
行うなど、迅速に対処し得るものである。
【0012】上記検出手段の一例として、図5に示す構
成のものが採用される。
【0013】すなわち、夫々発光素子及び受光素子を内
蔵した2つのフォトセンサ31及び32が用いられる。
これら2つのフォトセンサを一組とする光透過型の検出
手段は、例えば、図4に示す各処理槽2乃至6の各々に
ついて、その近傍に個別に設置される。かかる構成の検
出手段によれば、図5に示す如く、上記発光素子から受
光素子に向かって光33が常時照射され、この照射光3
3をカセット10が横切ることによって該受光素子から
の受光出力が得られなくなることを以てカセット10の
存在を検出する。すなわち、カセットの通過にも拘ら
ず、該受光素子に入射する光が遮られることなく続けて
入射していれば、上述の異常事態が発生したものと確認
される。
【0014】なお、検出手段の他の例として、図6に示
す光反射型のフォトセンサ35も用いられる。このフォ
トセンサ35は、発光素子及び受光素子の両者を内蔵し
ており、該発光素子からの照射光36がカセット10の
表面にて反射したその反射光37を該受光素子にて受け
るように設置され、検出の原理としては上記した光透過
型のものと同様である。
【0015】続いて、上記した構成の基板自動処理装置
の動作について説明する。
【0016】図4において、まず、前段の工程より、多
数の基板8を配列収容したカセット10が供給され、こ
れをカセット保持装置12が受け入れて保持する。具体
的には、基体部19内に設けられた駆動手段(図示せ
ず)の作動によって2本の長手支持部材21、22が回
転駆動され、これにより、4本の保持部材24が閉方向
に作動してカセット10の鍔部10a(図5参照)を保
持する。
【0017】このようにカセット保持装置12がカセッ
ト10を保持すると、図示しない各駆動手段が適宜作動
して可動ベース16の水平移動と可動ポール17の昇降
動作とが行われる。これにより、カセット10はこれを
保持したカセット保持装置12と共に、図4に示す経路
1 →H1 →V2 に沿って搬送され、1つ目の処理槽2
内に貯留されている処理液2aに浸漬され、且つ、該処
理槽2内に設けられた受台(図示せず)上に載置され
る。そして、該カセット10を保持している各保持部材
24が開方向に作動させられてカセット10の保持状態
が解除され、処理液2aによる各基板8に対する処理、
例えば前洗浄が施される。
【0018】上記の前洗浄が終了すると、上記各保持部
材24が閉作動させられ、カセット10を保持する。続
いて、上記可動ベース16及び可動ポール17が作動さ
せられて、該カセット10は図4に示す経路V3 →H2
→V4 を辿って搬送され、次の処理槽3内の受台(図示
せず)上に載置される。そして、処理液3aによる基板
8の処理が行われる。
【0019】以降、カセット10は、上述と同様にして
図4に示す経路V5 →H3 →V6 、V7 →H4 →V8
9 →H5 →V10を順次辿って搬送され、隣接する他の
処理槽4乃至6内の受台(図示せず)上に載置される。
これにより、各基板8は各処理液4a、5a、及び6a
による処理を受ける。斯くして各基板8の洗浄作業を完
了する。なお、図5に示す両フォトセンサ31、32を
用いてのカセット10の検出は、カセット搬送経路中の
所要位置にて適宜行われる。
【0020】続いて、カセット10はカセット保持装置
12上から回収され、各基板8は該カセット10と共に
次工程に向けて搬出される。
【0021】一方、カセット10が外されたカセット保
持装置12は、上記可動ベース16及び可動ポール17
の作動により、経路V11→H6 →V12に沿って移動させ
られ、再び元の位置に戻される。この後、これまでの一
連の動作が繰り返される。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の装置に
おいては、カセット10がカセット保持装置12によっ
て保持されていることの確認を、フォトセンサ31、3
2(若しくはこれに準ずるもの)を用いて行っている。
このようにフォトセンサ等を使用する場合、一般に、そ
のカセット検出を確実ならしめるためには、カセット1
0が該フォトセンサ等による検出位置を通過する際に一
時的に停止させるか、または搬送速度を遅くする必要が
ある。よって、洗浄開始から終了に至るまでの所要時間
がその分長くなり、作業能率の向上を図る上で解決され
るべき問題となっている。
【0023】また、上記基板8の洗浄に使用される各処
理液2a乃至6aには、水蒸気は勿論のこと、腐食性の
気体を発生するものが含まれていることが多く、特にフ
ォトセンサの場合ではこれら発生気体による曇りや腐食
を防止する目的で煩わしいメンテナンスを必要とすると
いう不都合がある。因に、メンテナンスが及ばずに曇り
及び腐食対策が不充分であると、カセットの検出が不能
になるなど、誤動作を起す懸念がある。
【0024】更に、カセット10の搬送経路の近傍に上
記のようなフォトセンサ31、32を数多く配置するこ
とは、コストの増大を招来すると共に、装置全体として
の構造を設計する上でその設置スペースを種々勘案しな
ければならず、装置設計の自由度を制限することともな
っている。
【0025】本発明は上記した点に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところは、自体が構成の一部
として含まれるべき基板自動処理装置に関して、その作
業能率の向上、メンテナンス作業の削減、コストの低減
及び設計自由度の増大等の達成に寄与するカセット保持
装置を提供することである。また、本発明は、該カセッ
ト保持装置とこれを所定経路に沿って搬送する搬送手段
とからなる基板搬送装置の提供、更に、上記基板自動処
理装置を提供することを目的とする。
【0026】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のために、
本発明によるカセット保持装置は、基体部と、該基体部
に相対的に可動に取り付けられて基板収納用カセットを
保持するための保持部材と、該保持部材を駆動する駆動
手段とを備え、前記カセットを保持する際に歪が生ずべ
き所定部位に抵抗線歪ゲージが固着されているように構
成したものである。また、本発明による基板搬送装置
は、カセット保持装置によって保持された基板収納用カ
セットを搬送する搬送手段を有し、該カセット保持装置
は、該搬送手段により搬送される基体部と、該基体部に
相対的に可動に取り付けられて前記カセットを保持する
ための保持部材と、該保持部材を駆動する駆動手段とを
備え、該カセット保持装置に関し、前記カセットを保持
する際に歪が生ずべき所定部位に抵抗線歪ゲージが固着
されているように構成したものである。また、本発明に
よる基板自動処理装置は、カセット保持装置によって保
持された基板収納用カセットを所定経路に沿って搬送す
る搬送手段を有し、該カセット内の基板について、該所
定経路中で処理槽内に貯留された処理液により浸漬処理
を行い、該カセット保持装置は、該搬送手段により搬送
される基体部と、該基体部に相対的に可動に取り付けら
れて前記カセットを保持するための保持部材と、該保持
部材を駆動する駆動手段とを備え、該カセット保持装置
に関し、前記カセットを保持する際に歪が生ずべき所定
部位に抵抗線歪ゲージが固着されているように構成した
ものである。
【0027】
【作用】上記構成によれば、上記保持部材がカセットを
保持することによってカセット保持装置の所定部位に生
ずる歪に基づいて、上記抵抗線歪ゲージの抵抗値が変化
する。また、該保持部材がカセットを保持していない状
態であれば、該抵抗値は元の値となる。
【0028】
【実施例】次に、本発明の実施例としての基板自動処理
装置について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、
本発明に係る基板自動処理装置は、以下に説明する要部
以外は図4乃至図6に示した従来の基板自動処理装置と
同様に構成されている故、基板自動処理装置全体として
の説明は省略して該要部のみの説明に留める。また、以
下の説明において、該従来の基板自動処理装置の構成部
分と同一の構成部分については、同じ参照符号を付して
示している。
【0029】図1及び図2に示すように、本発明に係る
基板自動処理装置において、カセット保持装置12が具
備する2本の長手支持部材21及び22の自由端側に、
カセット10を保持するための保持部材40が2本ず
つ、取付けブロック25を介して取り付けられている。
これら4本の保持部材40は互いに同形状、同寸法にて
長手状に形成され、上記長手支持部材21、22に対し
て、具体的には取付けブロック25に対し、片持梁状
態、この場合、垂下状態にて装着されている。
【0030】図2及び図3に示すように、上記保持部材
40は、例えばステンレス鋼等の金属からなる芯部材4
0aと、フッ素系等の樹脂を素材として該芯部材40a
上に覆設された表層部材40bとからなる。図2に示す
ように、該表層部材40bは、芯部材40aの下端より
も更に下方に延出する延出部40cを有し、該延出部4
0cの下端部はフック部40dとされ、カセット10に
形成された鍔部10aをこのフック部40dによって支
え持つようになされている。
【0031】図2及び図3に示すように、上記カセット
保持装置12に関し、カセット10を保持する際に歪が
生ずべき所定部位、この場合、1本の保持部材40に、
抵抗線歪ゲージ42が接着剤等を用いて固着されてい
る。但し、図2では、該抵抗線歪ゲージ42を黒点にて
示している。図3に示すように、該抵抗線歪ゲージ42
には結線42aが施され、該結線42aにて図示しない
ブリッジ回路と接続されている。但し、該ブリッジ回路
は図4に示した基板自動処理装置において基本部19内
に設けられ、該結線42aは、可動部であるカセット保
持装置12及び搬送手段14の作動時にその妨げとなら
ないように配線されている。かかる構成によれば、上記
保持部材40がカセット10を保持することによって該
保持部材40に生ずる歪に基づいて、抵抗線歪ゲージ4
2の抵抗値が変化し、また、該保持部材40がカセット
10を保持していない状態であれば、該抵抗値は元の値
となる。これを該ブリッジ回路や図示しないオシログラ
フなどで測定することができる。すなわち、抵抗線歪ゲ
ージ42の抵抗値の変化を以て、カセット保持装置12
によるカセット10の保持及び非保持の状態が確認され
る。
【0032】上記構成によれば、基板自動処理装置(装
置全体は図4参照)において、上記カセット保持装置1
2がカセット10を保持しているかどうかの確認を、カ
セット10の搬送中、停止中及びその搬送速度に拘らず
連続的に且つ確実に行うことができる。よって、従来の
ようにカセット検出のために搬送速度を減じたりする必
要はなく、速やかに搬送することができ、基板自動処理
装置の作業能率が向上する。
【0033】ところで、本実施例においては実施しては
いないが、上記抵抗線歪ゲージ42は、その表面などを
耐食性樹脂等によってコーティング処理することが可能
かつ容易である。従って、基板自動処理装置において使
用される各種の処理液から発生する水蒸気や腐食性の気
体から該抵抗線歪ゲージ42を保護することは簡単であ
り、作業者に煩わしさを感じさせるメンテナンス作業が
不要であると共に、腐食等が原因でカセットの検出が不
能になるなど、誤動作を誘起することの懸念も払拭され
る。
【0034】本実施例においては、図3から明らかなよ
うに、上記抵抗線歪ゲージ42は保持部材40の芯部材
40aに固着され、かつ、樹脂製の表層部材40bによ
って被覆されている。故に、抵抗線歪ゲージ42は、上
述したような特別なコーティング処理を施さずとも腐食
性気体等から保護される。
【0035】また、図2及び図3から明らかなように、
上記抵抗線歪ゲージ42は、取付けブロック25に対す
る保持部材40の固定端の近傍に固着されている。すな
わち、片持梁状となされた該保持部材40の全長のう
ち、加わるモーメント、従って歪量が最も大きい部位に
抵抗線歪ゲージ42を配置したものである。この構成に
よれば、抵抗線歪ゲージ42の抵抗値の変化量が大き
く、カセット10の保持、非保持を確実に検出すること
ができる。
【0036】なお、本実施例においては抵抗線歪ゲージ
42を上述の位置に設けているが、カセット保持装置1
2の全体について、カセット10を保持する際に歪が生
ずべき部位であれば、抵抗線歪ゲージ42をどこに装着
してもよいことは勿論である。
【0037】また、抵抗線歪ゲージは一般に比較的低廉
であるからコストが安く済み、又、極く薄くかつ小さな
ものであるが故に装置全体の構造を設計する際に特にス
ペースを考慮することなく自在に設置可能であり、装置
設計の自由度が増大する。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カセット保持装置が具備する保持部材がカセットを保持
する際に歪が生ずべき該カセット保持装置の所定部位
に、抵抗線歪ゲージが固着されている。そして、該抵抗
線歪ゲージの抵抗値の変化を以てカセットの保持及び非
保持の状態が確認される。かかる構成によれば、基板自
動処理装置においてカセット保持装置がカセットを保持
しているかどうかの確認を、カセットの搬送中、その搬
送速度に拘らず連続的に且つ確実に行うことができる。
よって、従来のようにカセット検出のために搬送速度を
減じたりする必要はなく、速やかに搬送することがで
き、基板自動処理装置の作業能率が向上する。また、上
記抵抗線歪ゲージは、その表面などを耐食性樹脂等によ
ってコーティング処理することが可能かつ容易である。
従って、基板自動処理装置において使用される各種の処
理液から発生する水蒸気や腐食性の気体から該抵抗線歪
ゲージを保護することは簡単であり、作業者に煩わしさ
を感じさせるメンテナンス作業が不要であると共に、腐
食等が原因でカセットの検出が不能になるなど、誤動作
を誘起することの懸念も払拭される。更に、抵抗線歪ゲ
ージは比較的低廉であるからコストが安く済み、又、極
く薄くかつ小さなものであるが故に装置全体の構造を設
計する際に特にスペースを考慮することなく自在に設置
可能であり、装置設計の自由度が増大する。加えて、本
発明によるカセット保持装置においては、その基体部に
対し各々一端部にて回転自在に取り付けられ且つ互いに
略平行に伸長して駆動手段により回転駆動される長手支
持部材を有し、上記保持部材は長手状にして該長手支持
部材の他端側に略片持梁状態にて装着され、上記抵抗線
歪ゲージは該保持部材の固定端近傍に固着されている。
すなわち、片持梁状となされた該保持部材の最も歪量が
大きい部位に抵抗線歪ゲージを配置したものである。こ
の構成によれば、抵抗線歪ゲージの抵抗値の変化量が大
きく、カセットの保持、非保持を確実に検出することが
できる。また、本発明によるカセット保持装置において
は、上記保持部材が、金属製芯部材と、該芯部材上に覆
設された樹脂製表層部材とからなり、上記抵抗線歪ゲー
ジは該芯部材に固着され、且つ、該表層部材によって被
覆されている。故に、抵抗線歪ゲージは、前述したよう
な特別なコーティング処理を施さずとも腐食性気体等か
ら保護される。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係る基板自動処理装置の要部
であるカセット保持装置の斜視図である。
【図2】図2は、図1に示したカセット保持装置が処理
液中でカセットを保持している状態を示す、一部断面を
含む正面図である。
【図3】図3は、図1及び図2に示したカセット保持装
置の一部の、一部断面を含む斜視図である。
【図4】図4は、従来の基板自動処理装置の斜視図であ
る。
【図5】図5は、図4に示した基板自動処理装置が備え
るカセット保持装置がカセットを保持した状態と、該カ
セットの検出をなす光透過型フォトセンサとを示す、一
部断面を含む正面図である。
【図6】図6は、図5に示したカセット保持装置と、光
反射型フォトセンサとを示す、一部断面を含む正面図で
ある。
【符号の説明】
1 (基板自動処理装置
の)架台 2,3,4,5,6 処理槽 2a,3a,4a,5a,6a 処理液 8 基板 10 カセット 12 カセット保持装置 14 搬送手段 16 可動ベース 17 可動ポール 19 基体部 21,22 長手支持部材 25 取付けブロック 31,32,35 フォトセンサ 40 保持部材 40a 金属製芯部材 40b 樹脂製表層部材 42 抵抗線歪ゲージ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体部と、該基体部に相対的に可動に取
    り付けられて基板収納用カセットを保持するための保持
    部材と、該保持部材を駆動する駆動手段とを備え、前記
    カセットを保持する際に歪が生ずべき所定部位に抵抗線
    歪ゲージが固着されていることを特徴とするカセット保
    持装置。
  2. 【請求項2】 前記基体部に対し各々一端部にて回転自
    在に取り付けられ且つ互いに略平行に伸長して前記駆動
    手段により回転駆動される長手支持部材を有し、前記保
    持部材は長手状にして該長手支持部材の他端側に略片持
    梁状態にて装着され、前記抵抗線歪ゲージは該保持部材
    の固定端近傍に固着されていることを特徴とする請求項
    1記載のカセット保持装置。
  3. 【請求項3】 前記保持部材は、金属製芯部材と、該芯
    部材上に覆設された樹脂製表層部材とからなり、前記抵
    抗線歪ゲージは該芯部材に固着され、且つ、該表層部材
    によって被覆されていることを特徴とする請求項1又は
    請求項2記載のカセット保持装置。
  4. 【請求項4】 カセット保持装置によって保持された基
    板収納用カセットを搬送する搬送手段を有し、該カセッ
    ト保持装置は、該搬送手段により搬送される基体部と、
    該基体部に相対的に可動に取り付けられて前記カセット
    を保持するための保持部材と、該保持部材を駆動する駆
    動手段とを備え、該カセット保持装置に関し、前記カセ
    ットを保持する際に歪が生ずべき所定部位に抵抗線歪ゲ
    ージが固着されていることを特徴とする基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 カセット保持装置によって保持された基
    板収納用カセットを所定経路に沿って搬送する搬送手段
    を有し、該カセット内の基板について、該所定経路中で
    処理槽内に貯留された処理液により浸漬処理を行い、該
    カセット保持装置は、該搬送手段により搬送される基体
    部と、該基体部に相対的に可動に取り付けられて前記カ
    セットを保持するための保持部材と、該保持部材を駆動
    する駆動手段とを備え、該カセット保持装置に関し、前
    記カセットを保持する際に歪が生ずべき所定部位に抵抗
    線歪ゲージが固着されていることを特徴とする基板自動
    処理装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100760537B1 (ko) * 2001-09-26 2007-09-20 주식회사 케이씨텍 반도체용 웨이퍼 카세트의 파지 여부를 감지하는 장치

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