JP3060394B2 - 表面処理装置 - Google Patents
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Description
ハを複数の処理槽に順次浸漬させて表面処理を行なう表
面処理装置に関する。
ハをキャリアに収容せずに直接チャックで整立保持し、
これを複数の処理槽に順次浸漬させてウエハの表面処理
を行うキャリアレス方式のウエハ処理装置にあっては、
ウエハの処理工程においてキャリアが不要のため、それ
だけ各処理槽を小型化でき、しかも、洗浄が容易なの
で、処理液や純水が少なくて済み、メンテナンスコスト
および処理能力の点で、従来のキャリア方式のものに比
べ大変すぐれており、最近のウエハ処理装置の主流にな
りつつある。
理装置100の概要を示す。
ャリア2から取り出すロード部3、複数の処理槽41、
42、43、44を連接したウエハ処理部4、ウエハ1
を乾燥させるウエハ乾燥部5、処理済みのウエハ1をキ
ャリア2に収納するアンロード部6、およびこれらの上
方に設けられ、ウエハ1を上記各部に搬送するためのウ
エハ搬送手段7とを備えている。
内側に複数のガイド溝2aが平行に等ピッチPで刻設さ
れており、このガイド溝2aにウエハ1の外周縁が挿入
され、各ウエハ1が相互に接触しない平行な状態で複数
枚整立保持される。
設けられており、後述のようにウエハ1をキャリア2か
ら取り出し、または収納する際に利用される。
Pで平行に整立された状態で一団として搬送され処理さ
れていくので、以下これをウエハ群8と呼ぶことにす
る。
作は次のようになっている。
を収納した上記キャリア2がロード部3の上部に載置さ
れると、内部に収納されたウエハ押上装置3aのロッド
3bが伸びて、その上端部に付設されているウエハ取出
用保持部3cをキャリア2底部の開口部2bを通過させ
て上方に押し上げる。
ア2のガイド溝2aと同ピッチPのガイド溝が同数刻設
されており、このガイド溝にウエハ群8の各ウエハ1の
下部外周が挿入されてそのままウエハ取出用保持部3c
に整立保持された状態で上方に持ち上げられキャリア2
からウエハ群8が取り出される。
リア2は、表面処理が終了したウエハ群8を収納するた
め、図示しない搬送手段によってアンロード部6に移送
される。
待機している。このウエハ搬送装置7は、ウエハ群8を
開閉自在なチャック7aで保持して、図示しない駆動手
段により水平および垂直方向に搬送するよに構成されて
いる。
用保持部3cのガイド溝と同ピッチPのガイド溝が同数
内面に刻設された保持部材7bが設けられており、この
保持部材7bにより上方に押し上げられた上記ウエハ群
8を整立した状態のまま受け取り保持する。
向に水平に移動し、処理槽41の上方で停止してチャッ
ク7a部のみ下降させ、ウエハ群8を処理槽41内に充
満された所定の処理液41a内に浸漬させる。
ガイド溝と同じピッチPで形成された同数のガイド溝を
有するウエハ保持ホルダ41bが設置されており、ウエ
ハ群8をこのウエハ保持ホルダ41bに整立保持させた
後、チャック7aが上方に引き上げられる。
漬され、必要に応じてバブリングやアップフローなどの
処理がなされた後、再びチャック7aに保持されて次の
処理槽42に搬送され、以下同様の動作を繰り返す。
(図12では、処理槽42にウエハ群8が浸漬された状
態が示されている。)なお、処理槽42、43、44に
もそれぞれ所定の処理液42a、43a、44aが充満
されており、底部には、それぞれウエハ保持ホルダ42
b、43b、44bが設置されている。
理が終了した後、ウエハ群8は、ウエハ乾燥部5に搬送
される。ウエハ乾燥部5は、垂直平面内で高速回転する
回転体5aを備え、この回転体5aの保持具5bでウエ
ハ群8を保持して高速回転することによりウエハ表面に
付着した処理液を飛散させ乾燥させるようになってい
る。
8は、アンロード部6の上方に搬送される。
6aは、ロッド6bを伸ばして上面にピッチPのガイド
溝を有するウエハ収納用保持部6cでウエハ群8を受け
取り、そのまま下降してキャリア2内に収納し、一連の
表面処理が終了する。
成された図示しない制御部によってコントロールされる
ようになっている。
ャリアレス方式のウエハ処理装置においては、ウエハ群
8を直接ウエハ搬送装置7のチャック7b保持して所定
の処理槽まで搬送し、各処理槽内に設けられたウエハ保
持ホルダに当該ウエハ群8のみを載置して処理を行うよ
うになっている。そのため、整立保持したウエハ1の表
面処理の妨げにならないようにウエハ保持ホルダ41b
〜44bは、できるだけウエハ1との接触面が少なくな
るように形成されており、それだけウエハ1の保持力が
弱くならざるを得ない。
理効率を高めるため上述のように下方から洗浄液や処理
液をフローさせるアップフロー方式や、窒素ガスによる
バブリング、さらには急速排水およびスプレーの繰り返
しなどのさまざまな処理が行なわれる場合があり、これ
らによって処理液に乱流が生じ、その影響を受けて当該
処理中にウエハ1が、当該ウエハ処理ホルダ41b〜4
4bから脱落するおそれがあった。
したままなので、もはやチャック7aで把持することが
できずに処理槽内に取り残され、次のウエハ群8が当該
処理槽内のウエハ保持ホルダに載置不可能となるおそれ
があった。
する表面処理装置を提供することを目的とする。
め、本発明の請求項1にかかる発明は、キャリアからウ
エハを取り出すロード部と、所定の表面処理液を貯留
し、該表面処理液によって、搬送されてきたウエハに対
して処理を施す複数の処理槽と、開閉してウエハを保持
するウエハ保持手段を有し、該ウエハ保持手段にてロー
ド部でキャリアから取り出された複数枚のウエハを保持
し、該ウエハを複数の処理槽に搬送するウエハ搬送手段
と、各処理槽で表面処理された後のウエハを、キャリア
に収納するアンロード部と、を備え、複数の処理槽にウ
エハを順次浸漬させて表面処理する表面処理装置におい
て、ウエハ搬送手段に、複数の処理槽のうちの所定の処
理槽における表面処理ごとに当該ウエハの枚数を計測す
るウエハ枚数検知手段を設け、当該ウエハ枚数検知手段
によりウエハ枚数の不足を検知したときに、警報を発
し、および/または表面処理作業を停止するようにした
ことを特徴とする。
検知手段の具体的な構成を示すものであって、複数対の
投光部と受光部を、ほぼ平行に整列した複数枚のウエハ
を挟むようにしてウエハに対して非接触の支持手段に配
設し、投光部もしくは受光部のうち少なくとも受光部側
に、投光部と受光部の各対の光軸に沿って一定の深さを
有するスリットを備えることを特徴とする。
けるウエハ枚数検知手段の投光部および受光部のそれぞ
れを覆うハウジングを設けると共に、スリットがこのハ
ウジングに設けられ、このスリットと投光部および受光
部のそれぞれとの間に気体を供給して、処理液等のスリ
ット中への浸入を阻止するようにしたことを特徴とす
る。
理槽における処理ごとに当該ウエハの枚数を計測するウ
エハ枚数検知手段を設けているので、特にウエハ脱落の
可能性が大きい処理槽における処理ごとにウエハ枚数を
検知し、当該処理によるウエハの脱落を確実に知ること
ができ、また表面処理工程を停止させて不測の事態を避
ける。また、前記ウエハ枚数検知手段を、前記ウエハ搬
送手段に付設しているので ウエハ枚数検知手段を所定
の処理槽ごとに設ける必要がない。
知手段の複数対の投光部と受光部を、平行に整列された
複数枚のウエハを挟むようにしてウエハに対して非接触
の支持手段に配設するとともに、投光部もしくは受光部
のうち少なくとも受光部側に、投光部と受光部の各対の
光軸に沿って一定の深さを有するスリットを備えてお
り、それぞれの光軸が他の受光部に悪影響を与えること
なく対応するウエハの存否を確実に確認する。さらに、
ウエハと非接触状態で検知するので、検知のためにウエ
ハに接触する場合に比べてウエハとの接触による塵埃の
発生が少なく、また、ウエハに付着した処理液により投
光部および受光部が浸蝕されることがない。
おけるウエハ枚数検知手段の投光部および受光部のそれ
ぞれをハウジングで覆い、このハウジングに設けられた
スリットと投光部および受光部のそれぞれとの間に気体
を供給して、処理液等のスリット中への浸入を阻止する
ので、投光部および受光部がウエハ処理工程において発
生した処理液の飛沫や腐食性のガスにより侵されない。
う言葉は、半導体基板のみならず、液晶用またはフォト
マスク用ガラス基板等の薄板状基板をも含めて用いられ
るものである。
理装置の実施例を詳細に説明するが、本発明の技術的範
囲がこれによって限定されるものではないことはもちろ
んである。
エハ搬送装置にウエハ枚数検知装置の検知部を設けたと
きの斜視図である。
19には、レール溝20が設けられており、このレール
溝20にヘッド21の係合部24が係合し、図示しない
駆動手段によって当該ヘッド21が支柱19に沿って垂
直方向に移動可能なようになっている。
チャック22が、回転軸23を介して保持されており、
当該回転軸23を、ヘッド21内に内蔵された駆動装置
により回動させることにより、チャック22が開閉動作
を行うように構成される。
がピッチPで刻設された2対の保持棒25が、水平に吊
設されており、これによりウエハ1を整立保持するよう
になっている(図4参照)。
は図示しない駆動手段により左右に移動可能に構成され
る。
後述のウエハ枚数検知装置の投光側ハウジング9と受光
側ハウジング12からなるウエハ枚数検知部が、所定の
位置に水平に固設される。
す。
ック22の保持棒25のガイド溝25aと同数の赤色の
発光ダイオード10が、ピッチPで1列に配列されてお
り、ウエハ枚数演算部11から導線10bを介して供給
される電源により発光し、光を受光部側に送る。
として前記発光ダイオード10と同数の光電素子13
が、同じくピッチPで一列に配設されており、この投光
側ハウジング9と受光側ハウジング12によりウエハ枚
数検知部が形成される。
0と光電素子13を結ぶ光軸14は、図2の点線で示さ
れるようにウエハ1に対して所定の角度をなしている
(図2では、簡略化のため、ウエハ1は一枚だけしか示
されていない。)。
だけを確実に横断するように適当な角度に設定されてお
り、具体的には、当該ウエハ1の整列ピッチP、および
発光ダイオード10と光電素子12の距離によって決定
されるが、光軸の太さによってはウエハと全く平行にし
てもよい。。
光線は確実に、対応する各1枚のウエハ1のみによって
遮蔽され、カウントミスをなくすことができる。
軸側には、光軸14に沿って一定の深さを有するスリッ
ト10a,13aが設けられており、投光側スリット1
0aは発光ダイオード10から発光された光が相手の光
電素子13方向に行くよう導き、受光側スリット13a
は、対応する光軸14の方向以外からきた光線を光電素
子13が検出しないようにしている。
射した他の段の発光ダイオード10からの光線や、その
他の外光が光電素子13に入り込むおそれがなくなり、
誤検出のおそれをなくすことができる。
光側の双方に設ける必要はなく、少なくとも受光側に設
けておれば、誤検出の防止の目的を果たすことができ
る。
るだけ不要な光の入射を避けるという趣旨から、図3A
に示すように断面が円形のピンホール型スリットである
方が望ましいが、相手方の投光素子の形状などに応じ、
場合によっては、図3Bに示すように平型スリットの形
状にしてもよい。このことは投光側スリット10aにつ
いても同様である。
10a、13aをそれぞれ縦に連通する通気孔であり、
その端部が、ハウジング9、12の外部に導かれ、それ
ぞれチューブ15a、16aに接続されている。
示しないパージガス供給手段に連結される。パージガス
供給手段は、気体、好ましくは腐食性を有しない清浄な
気体、たとえば空気や窒素ガスなどをパージガスとして
各スリット10a、13aに供給する。
3aから外部に排出されるので、ウエハ処理の際に発生
する腐食性ガスや処理液の飛沫がスリット10a、13
aに混入するのを阻止することができ、発光ダイオード
10や、光電素子13は、それらによって腐食されるこ
とがなくなり耐久性が向上する。
回路がパターン化されて形成されており、これに各光電
素子13を接続することにより、クロック発生回路によ
り光電素子13の検知信号が順次取り出され、信号線1
7aを介してウエハ枚数演算部11に送られる。
呼び出してウエハ枚数演算部11に送るクロック発生回
路をハウジング12内に設けておけば、信号線17aの
本数が極めて少なくて済むことになる。
の関係から、できるだけ無駄なものを排除することが望
ましく、本実施例のようにクロック発生回路をハウジン
グ12内に設けることにより、その要請に応えることが
できる。
くる検知信号をカウントしてウエハの枚数を計算し、そ
の枚数を表示部11bに表示すると共に、その枚数が、
予め入力された枚数に足らないときは、警報部11aに
より警報を発して作業員に知らせると共に、その足らな
い枚数を表示部11bに表示せしめる。
ちに処理槽から脱落したウエハを除去してそのまま処理
を続行させるか、もしくは当該表面処理作業を一時的に
停止せしめて適当な処置を取る。これにより、万一、ウ
エハが処理槽内で脱落し、その処理槽に次々にウエハ群
が搬送され多数のウエハが重なって連鎖的に転倒し損傷
することを未然に防止することができる。
の替わりにウエハ枚数演算部11より直接表面処理装置
の制御部に異常信号を送って自動的に表面処理作業を停
止させるようにしてもよい。
有するテフロン樹脂などで形成されており、各発光ダイ
オード10、光電素子13を埋設した状態でモールド成
形するようにすれば気密性が保たれ、より内部の素子が
保護される。
ウエハ検知部は、アーム18によってウエハ搬送装置7
0の支柱19の所定位置に固定される(図1)。
のチャック22部分を前方から見た図である。
12からなるウエハ検知部は、チャック22が、ウエハ
処理槽内のウエハ1を保持して上昇し、停止した位置
で、図1に示す光軸14が、ちょうど2対の保持棒25
の間にくる位置に設置されており、ウエハ枚数検知部が
ウエハ搬送装置70と共に移動するので、次の処理槽の
前に来るまでの間に、ウエハの枚数をチェックする。
置のウエハ検知部をウエハ搬送手段70に付設しておけ
ば、各ウエハ処理毎の枚数チェックが1台の装置で可能
となり大変便利である。
っても、当該キャリア側面に光軸14が通過する位置に
開口部を設けておけば、図2の場合と同じようなウエハ
枚数検知部を付設することができる。
全に非接触状態で検知するので、検知のためにウエハに
接触する場合に比べてウエハとの接触による塵埃の発生
が少ないことによりウエハの汚染が少なくて済み、ま
た、ウエハに付着した処理液によりセンサ部分が浸蝕さ
れることがない。
クトに形成されるので、ウエハ処理装置の搬送手段に容
易に付設することが可能であり、ウエハを次の処理槽な
どに搬送する際に枚数を検知するようにしておけば、全
く時間のロスなく処理槽毎の枚数チェックができ、処理
効率を大変よくすることができる。
ック発生回路により検知信号を順次取り出す構成とした
が、これに限定されず、例えば、対である発光ダイオー
ド10、光電素子12の発光受光タイミングを一対毎に
順次ずらすことによっても検知信号を順次取り出せる。
この場合発光ダイオード10の光軸は対である光電素子
12以外と干渉することは全くない。
を組み入れた表面処理装置の一例を図5に示す。
た概要図である。図中図1および図12と同じ符号を付
したものは同じ内容を示すので詳細な説明は省略され
る。
トッカ26、27が配設されており、キャリアストッカ
26には、未処理のウエハ1が収納されたキャリア2が
多数収納され、キャリアストッカ27には、処理済みの
ウエハ1を収納したキャリア2が多数収納されるように
なっている。
を、ウエハ搬送装置70aのチャック22aで保持する
ためのロード部、反対に6は処理済のウエハ1をウエハ
搬送装置70bからキャリア2に収納するためのアンロ
ード部である。
42、43、44が配設されており、その周囲には排気
ダクト(図示せず)が設けられてウエハ処理中に発生し
た有害なガスを排気するようになっている。
燥機が設置されている。
よびアンロード部6の前面には、ウエハ搬送手段70
a、70bの支柱19a、19bが、左右に移動可能な
ように基台28に取り付けれている。
理槽41、42、43を担当し、ウエハ搬送装置70b
は、処理槽41、42、乾燥部5およびアンロード部6
を担当するようになっている。
a、19bには図1のようにウエハ枚数検知部が付設さ
れている(図では便宜上送光部9と受光部12しか図示
していない。)。
リア移送部29があり、図示しないベルトコンベアによ
り、ロード部3上方からアンロード部6上方へ空キャリ
ア2を搬送する。
ための送風部である。この空気流によりウエハ処理によ
り発生した有害なガスが下方に流され上述した処理槽周
囲に設けられたダクトから排気され、作業環境を維持す
るようになっている。
定の処理液や洗浄液を供排するためのパイプ群が配設さ
れており、ロード部3、アンロード部6のそれぞれの背
部にはキャリア搬送部31、32が設けられている(こ
のキャリア搬送部31、32の具体的な構造は図示され
ないが、キャリア2を保持して所定位置に移送できる搬
送手段であればどのようなものでもよい。)。
作を簡単に説明する。
トッカ26に収納されているキャリア2を取り出し、ロ
ード部3上部に載置する。
ら、押上装置3a(図12)のウエハ取出用保持部3c
を上方に突き出してウエハ1をキャリア2から取り出
す。
置に移動し、チャック22aでウエハ群8を保持しウエ
ハ処理部4の方向に搬送する。
ア2は、キャリア搬送部31によって、上方の空キャリ
ア移送部30に移送され、図示しないベルトコンベアに
よって、アンロード部6の上方に移送される。
キャリア2をアンロード部6に載置する。
手段70bは協力して、順次処理槽41、42、43、
44にウエハ群8を浸漬せしめ、一つの処理槽から次の
処理槽または乾燥部6に移動する間にウエハ枚数検知部
によりウエハ群8のウエハの枚数を検知し、この枚数に
不足があれば直ちにその旨表示し、警報を発するように
なっている。
ずしも各処理槽での処理ごとに行う必要はなく、所定の
処理槽での処理ごと、たとえばバブリングやアップフロ
ーなど処理液に乱流を生じさせウエハ脱落の可能性の高
い処理槽での処理ごとに枚数確認するようにしてもよ
い。
でウエハ1を乾燥させ、アンロード部6にて、空キャリ
ア2の底部の開口部2bから上方に突き出たウエハ収納
用保持部6cにウエハ群8を受け渡す。
1aがウエハ群8を保持したまま下降し、空キャリア2
に処理済みのウエハ群8を収納せしめる。
リアストッカ27に載置し、一連の処理動作が終了す
る。
ラットを有する場合には、ロード部3に公知のウエハ整
列装置(特開昭62−115738号公報等)を設け、
当該オリエンテーション・フラットが全て下方に来るよ
うに整列させておけば、以後のウエハ処理を均一に行う
ことが可能となる。
ことが可能であり、それに応じてウエハ搬送手段70
a、70bを増設してもよい。
ク洗浄槽を設ければ、各処理槽間のコンタミネーション
をさらに防止することができる。
ア搬送部29を、ウエハ処理部4の上方に配設するよう
に構成したので、平面的なスペースを節約することがで
き、また、ウエハ処理部4の前方および後方がフリーと
なるので、前面からのウエハ処理部4のメンテナンスが
容易になると共に、背部からの処理液供排パイプ群のメ
ンテナンスも容易になる。
により、キャリアストッカ26、27、ロード部3、ア
ンロード部6、空キャリア搬送部29のそれぞれの間の
キャリアの受け渡しを、一平面内で移動するキャリア搬
送部31、32だけで行うことができ、実に機能的なキ
ャリアレス方式の表面処理装置を得ることができる。
うな透過型の光電装置に限られず、ウエハの枚数を確実
に検知できるものであればよい。以下その変形実施例に
ついて述べる。
素子10と受光素子13を所定の角度をつけて配設した
反射型の光電センサを用いる。
1の端部に反射し、その反射光が受光素子13に検知さ
れ、これにより計数する。
り付けや配線も容易になるという利点がある。
ても図2の場合と同様、通気孔16に供給されたパージ
ガスがスリット13aから排出され、腐食性のガスによ
り各素子の腐食されるのを防止するようにすることが望
ましい。
電容量センサ33を、ウエハ1の整立ピッチPと同じピ
ッチで同数配列してハウジング34内に収納し、このハ
ウジング34をアーム18を介して図7に示すように支
柱19に固設させてもよい。この場合、ヘッド21の上
昇する上限位置で丁度ハウジング34とウエハ1の上端
部1aが一番接近する位置に固設される。
3が対応するウエハの有無を検知して全体のウエハ枚数
を検知するが、隣のウエハを誤検出しないようにシーリ
ング用の壁34aが設けられている。
続された導線33aがハウジング34外に引き出され、
図示しないウエハ枚数演算部に接続される。
グ34内にクロック回路を形成した基板を設け、これに
各静電容量センサ33の接続端子を接続するようにして
もよい。
ハウジング9、12と同様耐腐食性を有する材質、例え
ばテフロン樹脂などが望ましい。
ウジング34内に密閉収納されるので、図2のように清
浄な気体を供給してパージする必要がなく簡易に構成で
きる。
センサを埋設しても同様な効果を得ることができる。
ウエハ1の外縁端部に、光源装置35から強い光を照射
し、その反射光をイメージカメラ36でとらえ、そのイ
メージから枚数を検知するものである。
示すようなピークMとなって現れるので、一定の閾値α
以上のピーク数をカウントして、ウエハ1の枚数を検知
することができる。
とらえるため、強い光源を用いる必要があり、この光源
によりウエハ1のレジスト膜が悪影響を受けるおそれが
あるので、当該レジスト膜に影響を及ぼさない波長領
域、特に紫外域を除く波長領域の光線を用いる方が望ま
しい。
エハ群8の上方から枚数を検知することができ、ウエハ
群8を処理槽内に浸漬させるときでも、当該検知部が処
理液に浸されることがないので、光源装置35とイメー
ジカメラ36を図9に示すようにアーム18により直接
ウエハ搬送装置70のヘッド21に取り付けることがで
きる。
は、常時に枚数をチェックできるという利点がある。
シング35a、36aは耐腐食性を有するテフロン樹脂
で形成され、各レンズ部35b,36bも石英ガラスな
どでカバーされる方が望ましい。
受光素子を複数個配列したラインセンサを用いてもよ
い。
部を示す。
20にはL字型のヘッド保持部材37の係合部37aが
上下移動可能に嵌合されており、このヘッド保持部材3
7にヘッド21が若干上下に摺動可能に保持されて、そ
の下部には重量センサ38が配設され、この重量センサ
38によりチャック22を含むヘッド部全体の重量を検
知できるようになっている。
持したときと、保持していないときの重量の差からウエ
ハ群8の重量を検出し、この重量値をウエハ1枚の重量
で割れば容易にウエハ枚数を検出することができる。
面には処理液が付着して重量に若干の誤差が生じるが、
ウエハ1枚分の重量誤差までに達するものではなく確実
に枚数を検知することが可能である。
に重量計測するほうが望ましいが、ヘッド21が上昇ま
たは下降するとき、もしくは水平に移動するときに生じ
る負荷をあらかじめ求めておいて、この値を上記重量セ
ンサによる実測値から控除するようにしておけば、ウエ
ハ搬送途中であっても正確に枚数を検知することが可能
である。
その他、重量を一定精度で電気信号に変換できるもので
あればなんでもよい。
液圧アクチュエータを用いて行う場合には、液圧センサ
を当該液圧回路内に設けてこれにより液圧をモニタして
も同様の目的を達成することも可能である。
るようにしたが、図11に示すように、ソフトタッチの
リミットスイッチ39の接触片39aをウエハ1の端部
に接触させ、このリミットスイッチ39をアクチュエー
タ40によりウエハ1の整列方向に沿って移動させて枚
数をカウントするようにしてもよい。
位置に固設され、図2の場合同様ウエハ群8を上方に引
き上げた際に作動するように図示しない枚数演算部によ
り制御される。
時間の問題があり、十分な対策を要する。すなわち、接
触片39aとウエハ1が接触するので粉塵が生じやす
く。また、リミットスイッチ39を機械的に移動させて
検知するので上述したような電気的な走査に比べ若干時
間がかかるという問題がある。
に柔軟かつ耐腐食性のものを用い、リミットスイッチ3
9もできるだけソフトタッチのものを用いることにより
解決できる。また、アクチュエータ40の摺動部にも同
様に粉塵の発生しないものを使用するようにすればよ
い。
0を横移動する際に、ウエハ枚数を検知するように動作
させれば死時間がなくなる。
前述したような高価なセンサを用いず、また、表面処理
装置の各駆動部には空気圧が使用されているので、アク
チュエータ40も空気圧式のものにしておけば、他の駆
動源を新たに設ける必要もなく全体として大変安価に構
成することができるという利点がある。
定の処理槽における処理ごとに当該ウエハの枚数を計測
するウエハ枚数検知手段を設けているので、特にバブリ
ングやアップフローなどのウエハ脱落の可能性が大きい
処理槽における処理ごとにウエハ枚数を検知し、当該処
理によるウエハの脱落を確実に知ることができ、また表
面処理工程を停止させて不測の事態を避けることができ
る。
しても直ぐに適切な処置を取ることができ、従来のよう
に貴重なウエハを大量に損傷するような危険がなくなっ
た。
ハ搬送手段に付設しているので、ウエハ枚数検知手段を
所定の処理槽ごとに設ける必要がなく、合理的にウエハ
枚数を検知することができ、装置の製造コストを抑える
ことができる。
知手段の複数対の投光部と受光部を、平行に整列された
複数枚のウエハを挟むようにしてウエハに対して非接触
の支持手段に配設するとともに、投光部もしくは受光部
のうち少なくとも受光部側に、前記光軸に沿って一定の
深さを有するスリットを備えているので、それぞれの光
軸が他の受光部に悪影響を与えることなく対応するウエ
ハの存否を確実に確認することができ、誤検出のおそれ
がなくなった。また、当該検知手段は大変コンパクトに
形成できるので、ウエハ搬送手段に容易に設置できる。
さらに、ウエハと非接触状態で検知するので、検知のた
めにウエハに接触する場合に比べてウエハとの接触によ
る塵埃の発生が少ないことによりウエハの汚染が少な
く、また、ウエハに付着した処理液により投光部および
受光部が浸蝕されることがない。
おけるウエハ枚数検知手段の投光部および受光部のそれ
ぞれをハウジングで覆って、そのハウジングに設けられ
たスリットと投光部および受光部のそれぞれとの間に気
体を供給して、処理液等のスリット中への浸入を阻止す
るようにしたので、投光部および受光部の電子素子がウ
エハ処理工程において発生した処理液の飛沫や腐食性の
ガスにより侵されない。これにより、検知手段の寿命が
長くなり、メンテナンスもほとんど不要となってコスト
を低減できる。
ウエハ搬送装置にウエハ枚数検知部を取り付けた様子を
示す斜視図である。
ある。
リットの形状を示す図である。
置のウエハ検知部の関係を示す図である。
理装置の全体の構成の一実施例を示す図である。
ある。
取り付けたときの様子を示す図である。
ある。
取り付けたときの様子を示す図である。
である。
である。
ある。
Claims (3)
- 【請求項1】 キャリアからウエハを取り出すロード部
と、 所定の表面処理液を貯留し、該表面処理液によって、搬
送されてきたウエハに対して処理を施す複数の処理槽
と、 開閉してウエハを保持するウエハ保持手段を有し、該ウ
エハ保持手段にて前記ロード部でキャリアから取り出さ
れた複数枚のウエハを保持し、該ウエハを前記複数の処
理槽に搬送するウエハ搬送手段と、各処理槽で表面処理された後のウエハを、キャリアに収
納するアンロード部と、 を備え、複数の処理槽にウエハを順次浸漬させて表面処
理する表面処理装置において、前記ウエハ搬送手段に、 前記複数の処理槽のうちの所定
の処理槽における表面処理ごとに当該ウエハの枚数を計
測するウエハ枚数検知手段を設け、当該ウエハ枚数検知
手段によりウエハ枚数の不足を検知したときに、警報を
発し、および/または表面処理作業を停止するようにし
たことを特徴とする表面処理装置。 - 【請求項2】 前記複数枚のウエハは、前記ウエハ搬送
手段によってほぼ平行に整列した状態で搬送され、 前記ウエハ枚数検知手段は、 複数対の投光部と受光部を、前記平行に整列された複数
枚のウエハを挟むようにしてウエハに対して非接触の支
持手段に配設し、 前記投光部もしくは受光部のうち少なくとも受光部側
に、投光部と受光部の各対の光軸に沿って一定の深さを
有するスリットを備えることを特徴とする請求項1記載
の表面処理装置。 - 【請求項3】 前記ウエハ枚数検知装置は、前記投光部
および受光部のそれぞれを覆うハウジングを有すると共
に、前記スリットは当該ハウジングに設けられ、このス
リットと前記投光部および前記受光部のそれぞれとの間
に気体を供給して、処理液等のスリット中への浸入を阻
止するようにしたことを特徴とする、請求項2記載の表
面処理装置。
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-
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