JPH09148399A - ウエハ洗浄及び拡散システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄装置と拡散装置とを搬送装置によって連
結することができ、洗浄済みのウエハをカセットに収容
することなしに洗浄装置から拡散装置に搬送することが
できる。 【解決手段】 洗浄装置１００は複数の枚葉洗浄ユニッ
ト６から構成され、拡散装置２００は複数の拡散炉１４
から構成される。これらの洗浄装置１００と拡散装置２
００とは互いに近接配置され、両装置は搬送装置３００
によって連結される。拡散装置２００内の気圧はクリー
ンルームの気圧よりも低く、また洗浄装置１００の気圧
は拡散装置２００内の気圧よりも低く定められている。
このような気圧の関係によって、洗浄装置１００内の薬
液の小滴や蒸気は外部に漏出することがなく、従って、
拡散装置２００は、洗浄装置１００に近接配置しても洗
浄装置１００内の薬液の小滴や蒸気によって腐食される
恐れはない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハを洗浄しそ
の後に酸化・拡散処理するウエハ洗浄及び拡散システム
に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程では、シリコン等の半導
体ウエハは洗浄された後に、酸化・拡散処理される。こ
の洗浄処理は２５枚乃至５０枚のウエハがバッチ式に洗
浄槽内に浸漬されて洗浄処理され、拡散炉ではそれより
も少数のウエハがバッチ式に処理される。

【０００３】図１１は従来のウエハ洗浄及び拡散システ
ムを示したもので、バッチ処理式の洗浄装置１では、多
数のウエハＷを収容したカセット２がカセットステージ
３に投入される。カセット２に収容されたウエハＷは、
複数の洗浄槽４に順次搬送され、洗浄処理される。洗浄
されたウエハＷを収容したカセット２は、作業員によっ
て複数台の拡散炉５に分配搬送され、そこで、ウエハＷ
が酸化・拡散処理を受ける。

【０００４】洗浄済みウエハＷをカセット２に収容した
状態で拡散炉５に搬送する理由は以下のとおりである。
すなわち、洗浄装置１は洗浄のために特殊な薬液を使用
しており、この薬液の小滴や蒸気が周囲に飛散して拡散
炉５に付着してそれを腐食する恐れがある。そこで、拡
散炉５は薬液の小滴や蒸気の付着を防ぐために洗浄槽４
から十分に離間して配置されている。このため、洗浄処
理されたウエハＷは、カセット２に収納された状態で、
作業員によって遠方の拡散炉５に搬送される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の洗浄
及び拡散システムは、洗浄装置と拡散装置とが互いに離
間して配置されるため、作業員がその間のウエハ搬送を
行うことになるので、このウエハ搬送に際して洗浄済み
のウエハを再びカセットに収容しなければならず、洗浄
済みのウエハがカセットへの再収容に伴って再汚染さ
れ、次の拡散処理に悪影響を及ぼすといった問題があっ
た。これを詳述すると、カセットは、必ずしも常時清浄
な状態に保たれている訳ではないため、洗浄済みのウエ
ハをこのカセットに収納すると、そのカセットによって
汚染されることがある。

【０００６】さらに、従来の洗浄及び拡散システムは、
バッチ処理によって多数の洗浄済みウエハを複数の拡散
炉と分配搬送するために、洗浄済みのウエハの中には直
ちに拡散炉に搬送されないものも存在し、比較的長く待
機していたウエハは、その間に重金属汚染やその他の粒
子が再付着したり、その表面に自然酸化膜の成長が起っ
てしまうといった問題もあった。そこで、本発明の目的
は、洗浄装置と拡散装置とを搬送装置によって連結する
ことができ、洗浄済みのウエハをカセットに収容するこ
となしに洗浄装置から拡散装置に搬送することができる
ウエハ洗浄及び拡散装置および方法を提供することであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に請求項１に記載された発明は、ウエハを洗浄する洗浄
装置と、洗浄後のウエハを酸化・拡散処理する拡散装置
とを具備し、上記洗浄装置と上記拡散装置とが共にクリ
ーンルーム内に配置されたウエハ洗浄及び拡散システム
において、上記洗浄装置と上記拡散装置とを連結し、上
記洗浄装置から上記洗浄後のウエハを上記拡散装置に搬
送する搬送装置を具備し、上記拡散装置内の気圧が上記
クリーンルーム内の気圧よりも低くかつ上記洗浄装置内
の気圧が上記拡散装置内の気圧よりも低くなるように設
定されていることを特徴とするものである。

【０００８】洗浄装置内の気圧が拡散装置内の気圧及び
クリーンルーム内の気圧よりも低くなるように設定され
ているため、洗浄装置内で発生した蒸気が漏出して拡散
装置に付着することが防止される。従って、洗浄装置と
拡散装置とを互いに近接配置することができ、これによ
って、両装置を搬送装置によって連結することができ
る。更に、この搬送装置の設置によって、洗浄後のウエ
ハを洗浄装置から拡散装置に搬送する際に、洗浄ウエハ
をカセットに収容する必要がなくなり、従って、カセッ
トへの収容に伴うウエハの汚染も防止することができ
る。

【０００９】請求項２に記載された発明は、請求項１に
記載されたウエハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記
洗浄装置は枚葉式にウエハを洗浄し、上記拡散装置はバ
ッチ式にウエハを処理することを特徴とするものであ
る。洗浄装置は枚葉式にウエハを洗浄するので、洗浄装
置の台数に対して拡散装置の台数を増大する必要がなく
なり、洗浄装置と拡散装置との間に設置される搬送装置
の構成の複雑化を防ぐことができる。

【００１０】請求項３に記載された発明は、請求項２に
記載されたウエハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記
ウエハを複数個収容するカセットを載置するカセットス
テージを更に具備し、上記洗浄装置及び上記拡散装置の
各々はウエハを収容する拡散ボートを載置する拡散ボー
ト設置部を有し、上記搬送装置は、上記カセットからウ
エハを一枚ずつ上記洗浄装置に搬送すると共に洗浄され
たウエハを上記洗浄装置の上記拡散ボート設置部に載置
された上記拡散ボートに搬送する搬送ロボットと、上記
拡散ボートを上記洗浄装置の上記拡散ボート設置部から
上記拡散装置の上記拡散ボート設置部に搬送するボート
搬送機構とを有することを特徴とするものである。

【００１１】請求項４に記載された発明は、請求項２に
記載されたウエハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記
ウエハを複数個収容するカセットを載置するカセットス
テージを更に具備し、上記拡散装置はウエハを収容する
拡散ボートを載置する拡散ボート設置部を有し、上記搬
送装置は、上記カセットからウエハを一枚ずつ上記洗浄
装置に搬送すると共に洗浄されたウエハを上記拡散ボー
ト設置部に載置された上記拡散ボートに搬送することを
特徴とするものである。この請求項４に記載された発明
は、請求項３に記載された発明に比べて、洗浄装置の拡
散ボート設置部及びボート搬送機構が不要となり、構造
が単純化される利点が存在する。

【００１２】請求項５に記載された発明は、請求項１に
記載されたウエハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記
洗浄装置内の気圧を検出する検出手段と、上記拡散装置
内の気圧を検出する検出手段と、上記両検出手段の検出
出力に基づき、上記洗浄装置内の気圧と上記拡散装置内
の気圧と上記クリーンルームの気圧とが上記関係を満足
しない時に警告を発生する警告手段とを更に具備するこ
とを特徴とするものである。

【００１３】請求項６に記載された発明は、ウエハを洗
浄する洗浄装置と、洗浄後のウエハを酸化・拡散処理す
る拡散装置とを具備し、上記洗浄装置と上記拡散装置と
が共にクリーンルーム内に配置されたウエハ洗浄及び拡
散システムにおいて、上記洗浄装置と上記拡散装置とを
連結し、上記洗浄装置から上記洗浄後のウエハを上記拡
散装置に搬送する搬送装置を具備し、上記洗浄装置内の
気圧は上記クリーンルーム内の気圧よりも低くなるよう
に設定され、上記洗浄装置は枚葉式にウエハを洗浄し、
上記拡散装置はバッチ式にウエハを処理することを特徴
とするものである。

【００１４】請求項７に記載された発明は、ウエハを洗
浄する洗浄装置と、洗浄後のウエハを酸化・拡散処理す
る拡散装置とが共にクリーンルーム内に配置されたウエ
ハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記拡散装置内の気
圧を上記クリーンルーム内の気圧よりも低く設定する工
程と、上記洗浄装置内の気圧を上記拡散装置内の気圧よ
りも低く設定する工程とを有するとを特徴とするもので
ある。

【００１５】洗浄装置内の気圧がクリーンルーム内の気
圧よりも低くなるように設定されているため、洗浄装置
内で発生した蒸気が外部に漏出することが防止される。
従って、洗浄装置と拡散装置とを互いに近接配置して、
洗浄装置と拡散装置とを搬送装置によって連結すること
ができる。特に、洗浄装置は枚葉式にウエハを洗浄する
タイプであるので、洗浄装置の台数に対して拡散装置の
台数を増大する必要がなくなり、搬送装置の構成の複雑
化を防ぐことができる。

【００１６】また、搬送装置の設置によって、洗浄後の
ウエハを洗浄装置から拡散装置に搬送する際に、洗浄ウ
エハをカセットに収容する必要がなくなり、従って、カ
セットへの収容に伴うウエハの汚染も防止することがで
きる。更に、洗浄されたウエハは早急に拡散処理を受け
ることができるため、再汚染や自然酸化膜の成長を防止
することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下本発明によるウエハ洗浄及び
拡散システムの実施の形態を図１１と同一部分には同一
符号を付して示した図１乃至図１０を参照して説明す
る。図１及び図２において、ウエハ洗浄及び拡散システ
ムは、洗浄装置１００と、この洗浄装置１００に近接し
て配置された拡散装置２００と、両装置１００、２００
を互いに連結する搬送装置３００とから構成されてい
る。また、これらの洗浄装置１００と拡散装置２００と
搬送装置３００は、いずれもクリーンルーム内に設置さ
れている。

【００１８】洗浄装置１００は、カセットステージ３と
複数の枚葉式の洗浄ユニット６と２台の拡散ボート設置
部７とを有し、図２に明示したように全体がハウジング
８によって被覆されている。カセットステージ３には、
多数のウエハＷを収納した複数個のカセット２が載置さ
れている。枚葉搬送ロボット９は、カセットステージ３
の上のカセット２から１枚ずつウエハＷを取り出して、
洗浄ユニット用の搬送機構１０に搬送すると共に、洗浄
後のウエハＷを搬送機構１０から受取って拡散ボート設
置部７に搬送して、この拡散ボート設置部７に載置され
た拡散ボート１１に収納する。ボート移載機１２は拡散
ボート設置部７に載置された拡散ボート１１を搬送装置
３００のボート搬送機構１３に移送する。

【００１９】なお、搬送装置３００は、洗浄装置１００
に設置された枚葉搬送ロボット９及びボート移載機１２
とボート搬送機構１３とから構成されている。拡散装置
２００は、２台の縦型拡散炉１４と、複数の拡散ボート
設置部１５と、ボート移載機１６とを有する。

【００２０】洗浄装置１００には排気管１７が取付けら
れ、この排気管１７にはバルブ１８が設置されている。
同様に、拡散装置２００にも排気管１９が取付けられ、
この排気管１９にはバルブ２０が設置されている。ま
た、洗浄装置１００と拡散装置２００には、図２に示し
たようにそれぞれの内部の気圧を測定するマノメータ２
１、２２が設けられ、これらのマノメータ２１、２２の
出力は警告制御装置２３に接続されている。この警告制
御装置２３は、マノメータ２１、２２の測定出力に基づ
きバルブ１８、２０の開度を制御して、拡散装置２００
内の気圧がクリーンルーム内の気圧よりも低くかつ洗浄
装置１００内の気圧が拡散装置２００内の気圧よりも低
くなるように、すなわち、（クリーンルーム気圧）＞
（拡散装置気圧）＞（洗浄装置気圧）となるように設定
する。また、警告制御装置２３は、洗浄装置１００内の
気圧と拡散装置２００内の気圧とが上述の関係を満足し
ない時に、警報を発生する。

【００２１】次に、上述した実施の形態の作用を説明す
る。枚葉搬送ロボット９はカセットステージ３の上に載
置されたカセット２からウエハＷを一枚ずつ取出して、
洗浄ユニット用の搬送機構１０に搬送する。この搬送機
構１０はウエハＷを枚葉洗浄ユニット６に移送して、洗
浄処理を受けたウエハＷを洗浄ユニット６から取出す。
枚葉搬送ロボット９は、洗浄済みのウエハＷを搬送機構
１０から拡散ボート設置部７に搬送し、その拡散ボート
設置部７に載置されている拡散ボート１１に収納する。
こうして、拡散ボート１１に所定数の洗浄済みのウエハ
Ｗが収納されると、ボート移載機１２はその拡散ボート
１１をボート搬送機構１３に移送する。

【００２２】ボート搬送機構１３はこの移送された拡散
ボート１１を、ボート移載機１６を介して拡散ボート設
置部１５に載置する。拡散ボート設置部１５に載置され
た拡散ボート１１は拡散炉１４に運ばれて加熱されて酸
化・拡散処理される。こうして酸化・拡散処理されたウ
エハＷが収納された拡散ボート１１は、ボート移載機１
６とボート搬送機構１３とボート移載機１２とによっ
て、洗浄装置側の拡散ボート設置部７に載置され、その
後に、この拡散ボート１１から拡散処理済みのウエハＷ
が搬送ロボット９によって取出され、カセットステージ
３上の元のカセット２に戻される。

【００２３】このウエハ洗浄及び拡散システムの運転中
には、マノメータ２１は洗浄装置１００の気圧を常時モ
ニターし、マノメータ２２は拡散装置２００の気圧を常
時モニターし、警告制御装置２３はこれらのマノメータ
２１、２２の測定出力に基づき、バルブ１８、２０の開
度を制御して、洗浄装置１００及び拡散装置２００内の
気圧を、（クリーンルーム気圧）＞（拡散装置気圧）＞
（洗浄装置気圧）となるように制御している。このよう
に、洗浄装置１００の気圧が周囲の気圧、具体的にはク
リーンルームの気圧や拡散装置２００の気圧よりも低い
ため、洗浄装置１００の洗浄ユニット６において洗浄薬
液の蒸気や小滴が飛散しても、薬液の蒸気や小滴は、洗
浄装置１００の外部に漏出することがない。従って、洗
浄装置１００と拡散装置２００とを互いに近接配置して
も、拡散装置２００が洗浄装置１００の薬液によって腐
食されることがない。

【００２４】もし、警告制御装置２３はマノメータ２
１、２２の測定出力に基づき、洗浄装置１００及び拡散
装置２００内の気圧の関係に異常が発生したことを判別
した時、特に洗浄装置１００の気圧がクリーンルーム気
圧と同等以上になったことを判別した時には、直ちに洗
浄装置１００の運転を中断し、薬液が洗浄装置１００の
外部に漏出することを防止する。

【００２５】図３は、本発明の第２の実施の形態を示し
たもので、搬送装置３００のウエハ搬送機構２４は、カ
セットステージ３の上に載置されたカセット２からウエ
ハＷを一枚ずつ取出して、枚葉洗浄ユニット用の搬送機
構１０に搬送すると共に、洗浄済みのウエハＷを搬送機
構１０から受取って、拡散装置２００の拡散ボート載置
部１５に載置されている拡散ボート１１に収納する。

【００２６】この第２の実施の形態にあっては、ウエハ
搬送機構２４は、洗浄済みのウエハＷを洗浄装置１００
から直接に、拡散装置２００に搬送する。従って、第２
の実施の形態は、図１及び図２に示した第１の実施の形
態の洗浄装置１００の拡散ボート載置部７やボート移載
機１２及びボート搬送機構１３が不要となり、第１の実
施の形態に比べて洗浄装置１００が小型化され、構造も
簡単化される。

【００２７】図４は第２の実施の形態の変形例を示した
もので、拡散装置２００には拡散ボート設置部１５が拡
散炉１４の真下とウエハ搬送機構２４の直前との二箇所
に設けられている。搬送用のスイングアーム２５は、両
拡散ボート設置部１５の中間に回転中心が存在し、両端
部に拡散ボートの把持部を有する。従って、スイングア
ーム２５の半回転によって、拡散処理済みの拡散ボート
１１と拡散処理用の拡散ボート１１とを同時に入れ替え
ることができる。その他の構成は、図３の構成と同一で
ある。

【００２８】図５乃至図９は本発明の第３の実施の形態
を示したものである。図５及び図６において、カセット
ステージ３の上には多数のウエハＷを収容したカセット
２が載置されている。搬送ロボット２６は、このカセッ
ト２からウエハＷを一枚ずつ取出して洗浄装置１００に
搬送すると共に、この洗浄装置１００で洗浄されたウエ
ハＷを拡散ボート１１に搬送する。洗浄装置１００は２
台の枚葉洗浄ユニット６と図示を省略したウエハ反転機
構とを具備し、この洗浄装置１００のウエハ反転機構は
ウエハＷの表面及び裏面を反転して枚葉洗浄ユニット６
に載置することができる。また、拡散ボート１１はボー
ト搬送ロボット２７に載置され、この搬送ロボット２７
は、洗浄済みのウエハＷが収納された拡散ボート１１を
拡散装置２００に搬送する。この拡散装置２００は２台
の拡散炉１４を有している。

【００２９】搬送ロボット２６は、図７に示されたよう
に、洗浄前のウエハＷを把持するフィンガー２８と洗浄
後のウエハＷを把持するフィンガー２９とを有する。そ
れぞれのフィンガー２８、２９は独立の駆動機構によっ
て駆動される。フィンガー２８はカセット２から洗浄前
のウエハＷを把持し、洗浄装置１００に搬送し、フィン
ガー２９は洗浄後のウエハＷを把持して洗浄装置１００
から拡散ボート１１に搬送する。また、このような２個
のフィンガー２８、２９は、図８に示されたように同一
の駆動機構によって駆動されるように構成することもで
きる。このように、搬送ロボット２６が洗浄前及び洗浄
後のウエハＷをそれぞれ把持するフィンガー２８、２９
を有するため、洗浄後のウエハＷはその把持の際に汚染
される可能性が大幅に低減される。なお、この実施の形
態にあっても、洗浄装置１００内の気圧と拡散装置２０
０内の気圧とクリーンルームの気圧との関係は、第１の
実施の形態の場合と同様に設定されている。

【００３０】図９は、洗浄装置１００の枚葉洗浄ユニッ
ト６の具体的な構成例を示したもので、すり鉢状のウエ
ハ載置台３０の中央部にガス噴出孔が穿孔され、このガ
ス噴出孔には流量計３１を介して窒素ガスが供給され
る。この窒素ガスは、ウエハ載置台３０のガス噴出孔か
ら噴出して、ウエハ載置台３０に載置されたウエハＷを
僅かに浮かび上がらせて、ウエハ載置台３０上に非接触
状態に保持する。ウエハ載置台３０の外周囲には円周上
に複数の制限ピン３２が突設され、これらの制限ピン３
２は矢印で示したように半径方向に移動可能であり、ウ
エハ載置台３０に載置されたウエハＷの移動を制限する
と共に、ウエハＷの外周に当接してそれを保持すること
ができる。

【００３１】ウエハ載置台３０は載置台駆動用のモータ
３３によって駆動ベルト３４を介して回転駆動される。
ウエハ載置台３０の上方には薬液ノズル３５が位置し、
この薬液ノズル３５には薬液が薬液容器３６からポンプ
３７及びバルブ３８を介して供給される。また、薬液ノ
ズル３５はノズル移動用のモータ３９によってウエハ載
置台３０の半径方向に移動される。ウエハ載置台３０の
周囲はカップ４０によって取囲まれ、このカップ４０に
は、ウエハＷの周囲の気流の制御を行う排気制御板４１
が設置されると共に、排気及び排液孔４２が穿設されて
いる。

【００３２】この枚葉洗浄ユニットの作用を次に説明す
る。ウエハ載置台３０に載置されたウエハＷは、噴出窒
素ガスによってウエハ載置台３０から僅かに浮いた状態
に保たれる。制限ピン３２が半径方向に移動して、ウエ
ハＷの外周に当接してそれを保持する。その後に、ウエ
ハ載置台３０が載置台駆動用のモータ３３によって回転
駆動されると、制限ピン３２に保持されたウエハＷもウ
エハ載置台３０と一体に回転する。薬液ノズル３５は薬
液をウエハＷに吐出しながら、半径方向に移動される。
こうして、薬液ノズル３５はウエハＷの全面に薬液を塗
布してウエハＷの洗浄を行う。表面が洗浄されたウエハ
Ｗは、図示を省略したウエハ反転機構によって裏返しさ
れ、前述と同様にして裏面が洗浄される。この枚葉洗浄
ユニット６は、ウエハＷの表面と裏面とを順次洗浄する
が、表面または裏面の洗浄時に他方の面はウエハ載置台
３０から浮上しているため、ウエハ載置台３０との接触
に伴って汚染されることはない。

【００３３】図１０は、本発明の第３の実施の形態の変
形例を示したもので、カセットステージ３にはカセット
２と拡散ボート１１とが載置されている。搬送ロボット
９はカセット２からウエハＷを取出して洗浄装置１００
のウエハ反転機構４３に搬送する。このウエハ反転機構
４３はウエハＷを反転してウエハ裏面を上方に向けて、
枚葉洗浄ユニット６に載置する。この枚葉洗浄ユニット
６は載置されたウエハＷの外周を保持して、薬液ノズル
３５から薬液をウエハＷの裏面に吐出して洗浄する。こ
の洗浄されたウエハＷは、ウエハ反転機構４３によって
反転され表面を上に向けた状態で、再度洗浄ユニット６
に載置されて同様に洗浄される。

【００３４】こうして、両面が洗浄されたウエハＷは、
搬送ロボット９によって拡散ボート１１に収納され、所
定枚数の洗浄済みウエハＷが収納された拡散ボート１１
は、ボート搬送機構１３によって拡散装置２００の拡散
ボート設置部１５に搬送される。その拡散装置２００で
おいて酸化・拡散処理された拡散ボート１１は、ボート
搬送機構１３によってカセットステージ３に戻され、そ
の後に、搬送ロボット９が酸化・拡散処理された拡散ボ
ート１１からウエハＷを元のカセット２に搬送する。

【００３５】一般にウエハＷは裏面の方が表面よりも汚
染されている。本実施の形態では、最初にウエハＷの裏
面を洗浄し、その後に表面を洗浄する。従って、ウエハ
裏面の洗浄の際にウエハ裏面から除去された重金属やパ
ーティクルなどの汚染物がウエハ表面に付着しても、そ
の汚染物はその後のウエハ表面の洗浄時に除去されるた
め、ウエハＷは、表面及び裏面ともきれいに洗浄するこ
とができる。なお、この実施の形態にあっても、洗浄装
置１００内の気圧と拡散装置２００内の気圧とクリーン
ルームの気圧との関係は、第１の実施の形態の場合と同
様に設定されている。

【００３６】以上のいずれの実施の形態も、洗浄装置１
００内の気圧と拡散装置２００内の気圧とクリーンルー
ムの気圧との関係は、（クリーンルーム気圧）＞（拡散
装置の気圧）＞（洗浄装置の気圧）を満足するように設
定されていた。しかしながら、本発明は、この条件に限
定されるものではなく、洗浄装置１００内の気圧が少な
くともクリーンルームの気圧よりも低圧になるように設
定するだけでもよい。この設定によって、洗浄装置１０
０内の薬液の蒸気や小滴が外部へ漏出することが大幅に
抑制される。こうして、洗浄装置１００内の気圧が少な
くともクリーンルームの気圧よりも低圧になるように設
定することによって、洗浄装置１００と拡散装置２００
とを十分に近接配置することができる。

【００３７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように請求項１
及び請求項６に記載された発明によれば、洗浄装置内の
気圧がクリーンルーム内の気圧よりも低くなるように設
定されているため、洗浄装置内で発生した蒸気が外部に
漏出することが防止される。これによって、洗浄装置と
拡散装置とを互いに近接配置して洗浄装置と拡散装置と
を搬送装置によって連結することができる。この搬送装
置の設置によって、洗浄後のウエハを洗浄装置から拡散
装置に搬送する際に、洗浄済みウエハをカセットに収容
する必要がなくなり、従って、カセットへの収容に伴う
ウエハの汚染を防止することができる。更に、洗浄され
たウエハは早急に拡散処理を受けることができるため、
再汚染や自然酸化膜の成長を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるウエハ洗浄及び拡散システムの第
１の実施の形態を概略的に示した平面図。

【図２】第１の実施の形態を概略的に示した側面図。

【図３】本発明によるウエハ洗浄及び拡散システムの第
２の実施の形態を概略的に示した平面図。

【図４】第２の実施の形態の変形例を示した平面図。

【図５】本発明によるウエハ洗浄及び拡散システムの第
３の実施の形態を概略的に示した平面図。

【図６】第３の実施の形態を概略的に示した斜視図。

【図７】第３の実施の形態の搬送ロボットのフィンガー
をそれぞれ示した斜視図と正面図。

【図８】第３の実施の形態の搬送ロボットのフィンガー
の変形例をそれぞれ示した斜視図と正面図。

【図９】第３の実施の形態の枚葉洗浄ユニットを概略的
に示した部分断面図。

【図１０】第３の実施の形態の変形例を示した平面図。

【図１１】従来のウエハ洗浄及び拡散システムを概略的
に示した平面図。

【符号の説明】

６ 枚葉洗浄ユニット １１ 拡散ボート １３ ボート搬送機構 １４ 拡散炉 １００ 洗浄装置 ２００ 拡散装置 ３００ 搬送装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮 下 直 人 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝多摩川工場内 (72)発明者 片伯部 一 郎 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝多摩川工場内 (72)発明者 川 本 浩 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝多摩川工場内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ウエハを洗浄する洗浄装置と、洗浄後のウ
   エハを酸化・拡散処理する拡散装置とを具備し、上記洗
   浄装置と上記拡散装置とが共にクリーンルーム内に配置
   されたウエハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記洗浄
   装置と上記拡散装置とを連結し、上記洗浄装置から上記
   洗浄後のウエハを上記拡散装置に搬送する搬送装置を具
   備し、上記拡散装置内の気圧が上記クリーンルーム内の
   気圧よりも低くかつ上記洗浄装置内の気圧が上記拡散装
   置内の気圧よりも低くなるように設定されていることを
   特徴とするウエハ洗浄及び拡散システム。
2. 【請求項２】上記洗浄装置は枚葉式にウエハを洗浄し、
   上記拡散装置はバッチ式にウエハを処理することを特徴
   とする請求項１に記載のウエハ洗浄及び拡散システム。
3. 【請求項３】上記ウエハを複数個収容するカセットを載
   置するカセットステージを更に具備し、上記洗浄装置及
   び上記拡散装置の各々はウエハを収容する拡散ボートを
   載置する拡散ボート設置部を有し、上記搬送装置は、上
   記カセットからウエハを一枚ずつ上記洗浄装置に搬送す
   ると共に洗浄されたウエハを上記洗浄装置の上記拡散ボ
   ート設置部に載置された上記拡散ボートに搬送する搬送
   ロボットと、上記拡散ボートを上記洗浄装置の上記拡散
   ボート設置部から上記拡散装置の上記拡散ボート設置部
   に搬送するボート搬送機構とを有することを特徴とする
   請求項２に記載のウエハ洗浄及び拡散システム。
4. 【請求項４】上記ウエハを複数個収容するカセットを載
   置するカセットステージを更に具備し、上記拡散装置は
   ウエハを収容する拡散ボートを載置する拡散ボート設置
   部を有し、上記搬送装置は、上記カセットからウエハを
   一枚ずつ上記洗浄装置に搬送すると共に洗浄されたウエ
   ハを上記拡散ボート設置部に載置された上記拡散ボート
   に搬送することを特徴とする請求項２に記載のウエハ洗
   浄及び拡散システム。
5. 【請求項５】上記洗浄装置内の気圧を検出する検出手段
   と、上記拡散装置内の気圧を検出する検出手段と、上記
   両検出手段の検出出力に基づき、上記洗浄装置内の気圧
   と上記拡散装置内の気圧と上記クリーンルームの気圧と
   が上記関係を満足しない時に警告を発生する警告手段と
   を更に具備することを特徴とする請求項１に記載のウエ
   ハ洗浄及び拡散システム。
6. 【請求項６】ウエハを洗浄する洗浄装置と、洗浄後のウ
   エハを酸化・拡散処理する拡散装置とを具備し、上記洗
   浄装置と上記拡散装置とが共にクリーンルーム内に配置
   されたウエハ洗浄及び拡散システムにおいて、上記洗浄
   装置と上記拡散装置とを連結し、上記洗浄装置から上記
   洗浄後のウエハを上記拡散装置に搬送する搬送装置を具
   備し、上記洗浄装置内の気圧は上記クリーンルーム内の
   気圧よりも低くなるように設定され、上記洗浄装置は枚
   葉式にウエハを洗浄し、上記拡散装置はバッチ式にウエ
   ハを処理することを特徴とするウエハ洗浄及び拡散シス
   テム。
7. 【請求項７】ウエハを洗浄する洗浄装置と、洗浄後のウ
   エハを酸化・拡散処理する拡散装置とが共にクリーンル
   ーム内に配置されたウエハ洗浄及び拡散システムにおい
   て、上記拡散装置内の気圧を上記クリーンルーム内の気
   圧よりも低く設定する工程と、上記洗浄装置内の気圧を
   上記拡散装置内の気圧よりも低く設定する工程とを有す
   るとを特徴とするウエハ洗浄及び拡散方法。