JPH08262625A - 保護オーバーコートを有する写真要素 - Google Patents
保護オーバーコートを有する写真要素Info
- Publication number
- JPH08262625A JPH08262625A JP8063152A JP6315296A JPH08262625A JP H08262625 A JPH08262625 A JP H08262625A JP 8063152 A JP8063152 A JP 8063152A JP 6315296 A JP6315296 A JP 6315296A JP H08262625 A JPH08262625 A JP H08262625A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- protective overcoat
- photographic
- support body
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/95—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/32—Matting agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/151—Matting or other surface reflectivity altering material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/156—Precursor compound
- Y10S430/161—Blocked restrainers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 マット・シンチ・スクラッチおよび摩耗に対
して優れた抵抗性を有する写真要素を提供することを目
的とする。 【解決手段】 表側および裏側を有する支持体、前記の
支持体の表側上の画像形成層、前記の画像形成層よりさ
らに支持体から離れた支持体の表側上の保護オーバーコ
ートを含んでなる写真要素であって；前記の保護オーバ
ーコートが、親水性バインダー中に処理後残留性マット
粒子を含み；前記のマット粒子はＭ９０未満のロックウ
ェル硬度を有し；前記の支持体の裏側には保護オーバー
コート層があり；前記の保護オーバーコート層は、支持
体の裏側から最遠の層でありそして３０％未満のデルタ
曇り価を有する疎水性材料を含む写真要素。
して優れた抵抗性を有する写真要素を提供することを目
的とする。 【解決手段】 表側および裏側を有する支持体、前記の
支持体の表側上の画像形成層、前記の画像形成層よりさ
らに支持体から離れた支持体の表側上の保護オーバーコ
ートを含んでなる写真要素であって；前記の保護オーバ
ーコートが、親水性バインダー中に処理後残留性マット
粒子を含み；前記のマット粒子はＭ９０未満のロックウ
ェル硬度を有し；前記の支持体の裏側には保護オーバー
コート層があり；前記の保護オーバーコート層は、支持
体の裏側から最遠の層でありそして３０％未満のデルタ
曇り価を有する疎水性材料を含む写真要素。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、画像形成要素、特
に、支持体、画像形成層、および保護最上層を含んでな
る写真要素に関する。さらに詳細には、本発明は、フィ
ルム形成バインダー中にマット粒子を含有する保護最上
層並びにこのような写真要素の製造および使用中のマッ
ト・シンチ・スクラッチと摩擦カブリ（ａｂｒａｔｉｏ
ｎ ｍａｒｋｓ）を低減するための写真要素における保
護層に関する。
に、支持体、画像形成層、および保護最上層を含んでな
る写真要素に関する。さらに詳細には、本発明は、フィ
ルム形成バインダー中にマット粒子を含有する保護最上
層並びにこのような写真要素の製造および使用中のマッ
ト・シンチ・スクラッチと摩擦カブリ（ａｂｒａｔｉｏ
ｎ ｍａｒｋｓ）を低減するための写真要素における保
護層に関する。
【０００２】
【従来の技術】写真要素は、一般に画像形成化学用のそ
して保護オーバーコート中のビヒクルとしての親水性バ
インダー、例えば、ゼラチンを含む。これらの親水性コ
ロイドは、湿環境および高温で湿気を吸収して粘稠にな
り、例えば、積み重ねてパックした場合、写真材料が互
いに粘着する原因となる。これらの問題を回避するため
に、微粉末粒子またはマット剤（ビーズ）を保護層に包
含せしめて表面粗性を高め、接触およびその結果発生す
る粘着を防止することは従来行われていることである。
これらのマットビーズは非親水性であり、したがってこ
れらはバインダーとは異る材料からなることが望まし
い。異なる組成のために、これらのマットビーズは異な
る屈折率を有する。光が写真要素を通過する際、例え
ば、写真プリント又は写真投影の際、表面粗性の増加お
よび屈折率の差異の両原因により、非均一光路を引き起
し、そのため写真プリントに粒点（ｇｒａｉｎｉｎｅｓ
ｓ）または投影画像中に斑点が生じる結果となることが
ある。この理由のため、製造業者は、高pH溶液で可溶化
するように作成された、大量の処理後非残留性（ｎｏｎ
−ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｕｒｖｉｖｉｎｇ）（溶解性）マ
ットを、少量の処理後残留性（永久性）マットと組合せ
て用いる。
して保護オーバーコート中のビヒクルとしての親水性バ
インダー、例えば、ゼラチンを含む。これらの親水性コ
ロイドは、湿環境および高温で湿気を吸収して粘稠にな
り、例えば、積み重ねてパックした場合、写真材料が互
いに粘着する原因となる。これらの問題を回避するため
に、微粉末粒子またはマット剤（ビーズ）を保護層に包
含せしめて表面粗性を高め、接触およびその結果発生す
る粘着を防止することは従来行われていることである。
これらのマットビーズは非親水性であり、したがってこ
れらはバインダーとは異る材料からなることが望まし
い。異なる組成のために、これらのマットビーズは異な
る屈折率を有する。光が写真要素を通過する際、例え
ば、写真プリント又は写真投影の際、表面粗性の増加お
よび屈折率の差異の両原因により、非均一光路を引き起
し、そのため写真プリントに粒点（ｇｒａｉｎｉｎｅｓ
ｓ）または投影画像中に斑点が生じる結果となることが
ある。この理由のため、製造業者は、高pH溶液で可溶化
するように作成された、大量の処理後非残留性（ｎｏｎ
−ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｕｒｖｉｖｉｎｇ）（溶解性）マ
ットを、少量の処理後残留性（永久性）マットと組合せ
て用いる。
【０００３】近年、写真要素が利用される条件はさらに
厳しくなっている。例えば、従来の写真材料は処理後、
処理写真材料が直接接触しないようなプラスチックパウ
チまたは封筒中に貯蔵されるように作成される。近年、
貯蔵および将来接触させる必要性（ｆｕｔｕｒｅ ｉｎ
ｔｅｒｆａｃｅ ｎｅｅｄｓ）から写真材料をカートリ
ッジで後処理に戻す必要性が高まっている。これらの写
真材料は、これらの後処理の際の巻取り、巻出し、再巻
取り、取り扱いの間に直接接触するようになる。このた
め、自己接着を低減するために高レベルの処理後残留性
マットの使用が必要となる。しかしながら、このことは
また写真材料にマット・シンチ・スクラッチおよび摩擦
カブリを増加させる原因となり、これらは投影または後
にプリントする際に目視可能になる。
厳しくなっている。例えば、従来の写真材料は処理後、
処理写真材料が直接接触しないようなプラスチックパウ
チまたは封筒中に貯蔵されるように作成される。近年、
貯蔵および将来接触させる必要性（ｆｕｔｕｒｅ ｉｎ
ｔｅｒｆａｃｅ ｎｅｅｄｓ）から写真材料をカートリ
ッジで後処理に戻す必要性が高まっている。これらの写
真材料は、これらの後処理の際の巻取り、巻出し、再巻
取り、取り扱いの間に直接接触するようになる。このた
め、自己接着を低減するために高レベルの処理後残留性
マットの使用が必要となる。しかしながら、このことは
また写真材料にマット・シンチ・スクラッチおよび摩擦
カブリを増加させる原因となり、これらは投影または後
にプリントする際に目視可能になる。
【０００４】近年、写真材料の製造方法は、かなり進歩
した。例えば、塗布、仕上げ、裁断および処理のスピー
ドが高くなった。これらが向上した結果、マット粒子を
含有する側とは反対の側のスクラッチおよび摩擦カブリ
の量が有意に増加した。
した。例えば、塗布、仕上げ、裁断および処理のスピー
ドが高くなった。これらが向上した結果、マット粒子を
含有する側とは反対の側のスクラッチおよび摩擦カブリ
の量が有意に増加した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、写真要素を湿環境および高温で使用しても、処理の
前後に共に良好なフェロタイプ性能を示すことが可能で
あり、かつ製造および使用の際マット・シンチ・スクラ
ッチおよび摩耗に対して優れた抵抗性を有する写真要素
をも提供する改良された最上保護層を提供する目的に向
けられている。
は、写真要素を湿環境および高温で使用しても、処理の
前後に共に良好なフェロタイプ性能を示すことが可能で
あり、かつ製造および使用の際マット・シンチ・スクラ
ッチおよび摩耗に対して優れた抵抗性を有する写真要素
をも提供する改良された最上保護層を提供する目的に向
けられている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、写真要
素は、支持体、少くとも１層の画像形成層、前記の画像
形成層の側（以下、表側と称す）上の非画像形成親水性
最上層、および前記の画像形成層の側と反対の側（以
下、裏側と称す）上の疎水性最上層を含んでなる。前記
の表側上の非画像形成最上層は、Ｍ９０未満のロックウ
ェル硬度を有する材料から構成される処理後残留性マッ
ト剤（ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｕｒｖｉｖｉｎｇ ｍａｔｔ
ｉｎｇ ａｇｅｎｔ）を含有する。前記の裏側上の疎水
性最上層は、３０％未満のデルタ曇り価を有する。
素は、支持体、少くとも１層の画像形成層、前記の画像
形成層の側（以下、表側と称す）上の非画像形成親水性
最上層、および前記の画像形成層の側と反対の側（以
下、裏側と称す）上の疎水性最上層を含んでなる。前記
の表側上の非画像形成最上層は、Ｍ９０未満のロックウ
ェル硬度を有する材料から構成される処理後残留性マッ
ト剤（ｐｒｏｃｅｓｓ ｓｕｒｖｉｖｉｎｇ ｍａｔｔ
ｉｎｇ ａｇｅｎｔ）を含有する。前記の裏側上の疎水
性最上層は、３０％未満のデルタ曇り価を有する。
【０００７】本発明による写真要素は、高レベルのマッ
ト塗布量で、マット・シンチ・スクラッチおよび摩擦カ
ブリに対する抵抗性が向上し、これらの高レベルのマッ
ト塗布量は、高温高湿でフェロタイプ化およびブロッキ
ングから写真要素を保護するのに必要である。
ト塗布量で、マット・シンチ・スクラッチおよび摩擦カ
ブリに対する抵抗性が向上し、これらの高レベルのマッ
ト塗布量は、高温高湿でフェロタイプ化およびブロッキ
ングから写真要素を保護するのに必要である。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明写真要素は、構造および組
成を広範囲に変動することができる。例えば、これらの
要素は、支持体のタイプ、画像形成層の数および組成、
並びに支持体の表側と裏側の両側上の要素に包含される
補助層の種類に関して大巾に変動することができる。特
に、これらの写真要素は、なおフィルム、映画用フィル
ム、Ｘ線フィルム、グラフィックアートフィルム、印画
紙プリントまたはマイクロフィッシュであることができ
る。これらは、ネガ−ポジ処理に使用するように適合さ
れた白黒要素、カラー要素、または反転処理に使用する
ように適合されたカラー要素であることができる。支持
体は、高分子材料から作成され、例えば、硝酸セルロー
ス、酢酸セルロース、ポリ（ビニルアセチル）、ポリス
チレン、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（エチ
レンナフタレート）、ポリカーボネート、ガラス、金
属、紙、ポリマー被覆紙等が挙げられる。
成を広範囲に変動することができる。例えば、これらの
要素は、支持体のタイプ、画像形成層の数および組成、
並びに支持体の表側と裏側の両側上の要素に包含される
補助層の種類に関して大巾に変動することができる。特
に、これらの写真要素は、なおフィルム、映画用フィル
ム、Ｘ線フィルム、グラフィックアートフィルム、印画
紙プリントまたはマイクロフィッシュであることができ
る。これらは、ネガ−ポジ処理に使用するように適合さ
れた白黒要素、カラー要素、または反転処理に使用する
ように適合されたカラー要素であることができる。支持
体は、高分子材料から作成され、例えば、硝酸セルロー
ス、酢酸セルロース、ポリ（ビニルアセチル）、ポリス
チレン、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（エチ
レンナフタレート）、ポリカーボネート、ガラス、金
属、紙、ポリマー被覆紙等が挙げられる。
【０００９】本明細書に記載の写真要素は、従来の再装
填可能なカメラまたは予備パッケージ写真ユニット（使
い捨てカメラとしても知られている）のいずれにおいて
も露光できることは当業者に明らかである。親水性マット含有量 前記のように、本発明写真要素は、フィルム形成バイン
ダー中に処理後残留性マット剤を含む保護最上層を有す
る。本発明に有用なマット剤は、Ｍ９０未満、好ましく
はＭ８５未満、最も好ましくはＭ８５〜Ｍ４０のロック
ウェル硬度値を有する高分子材料から構成される。いく
つかの普通のプラスチック材料についての典型的なロッ
クウェルＭ値は、“Plastics Technology Handbook”，
M. Chanda および S. K. Roy. 第２版、監蓚、増補、Ma
rcel Dekker, Inc., 1933 に記載されている。例えば、
ポリスチレンのロックウェル硬度Ｍ値は８３であり、ポ
リ（メチルメタクリレート）のロックウェル硬度Ｍ値は
１０２である。ロックウェル硬度値はＡＳＴＭ Ｄ７８
５−５１に従って測定することができる。
填可能なカメラまたは予備パッケージ写真ユニット（使
い捨てカメラとしても知られている）のいずれにおいて
も露光できることは当業者に明らかである。親水性マット含有量 前記のように、本発明写真要素は、フィルム形成バイン
ダー中に処理後残留性マット剤を含む保護最上層を有す
る。本発明に有用なマット剤は、Ｍ９０未満、好ましく
はＭ８５未満、最も好ましくはＭ８５〜Ｍ４０のロック
ウェル硬度値を有する高分子材料から構成される。いく
つかの普通のプラスチック材料についての典型的なロッ
クウェルＭ値は、“Plastics Technology Handbook”，
M. Chanda および S. K. Roy. 第２版、監蓚、増補、Ma
rcel Dekker, Inc., 1933 に記載されている。例えば、
ポリスチレンのロックウェル硬度Ｍ値は８３であり、ポ
リ（メチルメタクリレート）のロックウェル硬度Ｍ値は
１０２である。ロックウェル硬度値はＡＳＴＭ Ｄ７８
５−５１に従って測定することができる。
【００１０】高分子マット粒子としては、セルロースエ
ステル、セルロースエーテル、でんぷん、付加タイプの
高分子、並びにエチレン系不飽和モノマー、例えば、ア
クリル酸をはじめとするアクリレート；メチルメタクリ
レートおよびメタクリル酸をはじめとするメタクリレー
ト；アクリルアミドおよびメタクリレートアミド；イタ
コン酸とその半エステルおよびジエステル；置換スチレ
ンをはじめとするスチレン；アクリロニトリルおよびメ
タクリロニトリル；ビニルアセテート；ビニルエーテ
ル、ハロゲン化ビニルおよびハロゲン化ビニリデン並び
にオレフィンから製造する共重合ポリマーが挙げられ
る。加えるに、架橋性およびグラフト性モノマー、例え
ば、１，４−ブチレングリコールメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアセテート、アリルメタクリレ
ート、ジアリルフタレート、ジビニルベンゼン等も挙げ
られる。他の高分子としては、縮合高分子、例えば、ポ
リウレタン、ポリエステル、ポリアミド、エポキシド等
が挙げられる。高分子または共重合体の組成は、Ｍ９０
未満のロックウェル硬度値を有するように選択しなけれ
ばならない。マット粒子の形状については特に制限はな
い。しかしながら、好ましくは正球状形を有する。マッ
ト粒子の平均サイズは０．２〜１０マイクロメートル、
好ましくは０．５〜５マイクロメートルの範囲である。
マット粒子は、高度の機械的変形に抵抗するように少く
とも５０℃のガラス転移温度を有する。
ステル、セルロースエーテル、でんぷん、付加タイプの
高分子、並びにエチレン系不飽和モノマー、例えば、ア
クリル酸をはじめとするアクリレート；メチルメタクリ
レートおよびメタクリル酸をはじめとするメタクリレー
ト；アクリルアミドおよびメタクリレートアミド；イタ
コン酸とその半エステルおよびジエステル；置換スチレ
ンをはじめとするスチレン；アクリロニトリルおよびメ
タクリロニトリル；ビニルアセテート；ビニルエーテ
ル、ハロゲン化ビニルおよびハロゲン化ビニリデン並び
にオレフィンから製造する共重合ポリマーが挙げられ
る。加えるに、架橋性およびグラフト性モノマー、例え
ば、１，４−ブチレングリコールメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアセテート、アリルメタクリレ
ート、ジアリルフタレート、ジビニルベンゼン等も挙げ
られる。他の高分子としては、縮合高分子、例えば、ポ
リウレタン、ポリエステル、ポリアミド、エポキシド等
が挙げられる。高分子または共重合体の組成は、Ｍ９０
未満のロックウェル硬度値を有するように選択しなけれ
ばならない。マット粒子の形状については特に制限はな
い。しかしながら、好ましくは正球状形を有する。マッ
ト粒子の平均サイズは０．２〜１０マイクロメートル、
好ましくは０．５〜５マイクロメートルの範囲である。
マット粒子は、高度の機械的変形に抵抗するように少く
とも５０℃のガラス転移温度を有する。
【００１１】マット粒子は、有機化合物の微粉砕および
分級により、有機モノマーの乳化、懸濁および分散重合
により、有機化合物含有溶液の噴霧乾燥により、そして
水非混和性溶媒に有機材料を溶解させ、この溶液を微細
液滴として水溶液に分散させ、次いで蒸発または他の適
切な技法により溶媒を除去することからなる高分子懸濁
法により調製することができる。バルク、乳化、分散お
よび懸濁重合法は、高分子の技術分野の当業者によく知
られており、G. Odianの“Principles of Polymerizati
on”．第２版、Wiley (1981)、並びに W. P. Sorenson
および T. W. Cambellの“Preparation Method of Poly
mer Chemistry ”第２版、Wiley (1968)のような教科書
に教示されている。
分級により、有機モノマーの乳化、懸濁および分散重合
により、有機化合物含有溶液の噴霧乾燥により、そして
水非混和性溶媒に有機材料を溶解させ、この溶液を微細
液滴として水溶液に分散させ、次いで蒸発または他の適
切な技法により溶媒を除去することからなる高分子懸濁
法により調製することができる。バルク、乳化、分散お
よび懸濁重合法は、高分子の技術分野の当業者によく知
られており、G. Odianの“Principles of Polymerizati
on”．第２版、Wiley (1981)、並びに W. P. Sorenson
および T. W. Cambellの“Preparation Method of Poly
mer Chemistry ”第２版、Wiley (1968)のような教科書
に教示されている。
【００１２】マット粒子の表面は、分子間架橋により、
または架橋剤（すなわち、硬化剤）との反応によりバイ
ンダーと共有結合を形成する反応性官能基を含んでよ
い。適切な反応性官能基としては；ヒドロキシ、カルボ
キシ、カルボジイミド、エポキシド、アジリジン、ビニ
ルスルホン、スルフィン酸、活性メチレン、アミノ、ア
ミド、アリル等が挙げられる。反応性基の存在量につい
ては特に制限されないが、これらの濃度は、好ましくは
０．５〜１０重量％の範囲である。粒子表面を、コロイ
ド状無機粒子層であって、例えば、米国特許第５，２８
８，５９８号および第５，３７８，５７７号に記載され
ているもの、または適切なバインダーとの親和性を有す
るコロイド状高分子ラテックス粒子であって、米国特許
第５，２７９，９３４号に記載されているもの、または
ゼラチン層であって米国特許第４，８５５，２１９号に
記載されているもの（これら特許のすべてを引用するこ
とにより本明細書に包含する）で取り囲んでもよい。
または架橋剤（すなわち、硬化剤）との反応によりバイ
ンダーと共有結合を形成する反応性官能基を含んでよ
い。適切な反応性官能基としては；ヒドロキシ、カルボ
キシ、カルボジイミド、エポキシド、アジリジン、ビニ
ルスルホン、スルフィン酸、活性メチレン、アミノ、ア
ミド、アリル等が挙げられる。反応性基の存在量につい
ては特に制限されないが、これらの濃度は、好ましくは
０．５〜１０重量％の範囲である。粒子表面を、コロイ
ド状無機粒子層であって、例えば、米国特許第５，２８
８，５９８号および第５，３７８，５７７号に記載され
ているもの、または適切なバインダーとの親和性を有す
るコロイド状高分子ラテックス粒子であって、米国特許
第５，２７９，９３４号に記載されているもの、または
ゼラチン層であって米国特許第４，８５５，２１９号に
記載されているもの（これら特許のすべてを引用するこ
とにより本明細書に包含する）で取り囲んでもよい。
【００１３】適切な親和性バインダーを本発明の実施に
用いてよい。バインダーは、好ましくは０．１ｇ／m2よ
り高い塗布量で塗布して要素表面へマット粒子を効果的
に接着する。最も好ましくは、塗布量は０．３〜２ｇ／
m2である。マットは、０．０１〜０．２５ｇ／m2、好ま
しくは０．０３〜０．１５ｇ／m2の塗布量で塗布する。
用いてよい。バインダーは、好ましくは０．１ｇ／m2よ
り高い塗布量で塗布して要素表面へマット粒子を効果的
に接着する。最も好ましくは、塗布量は０．３〜２ｇ／
m2である。マットは、０．０１〜０．２５ｇ／m2、好ま
しくは０．０３〜０．１５ｇ／m2の塗布量で塗布する。
【００１４】適切な親和性バインダーとしては、天然物
質、例えば、プロテイン、プロテイン誘導体、セルロー
スエステル、例えば、セルロースジアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースアセテートブチレート
をはじめとするセルロース誘導体；ゼラチンおよびゼラ
チン誘導体、ポリサッカライド、カゼイン等、並びに合
成水浸透性コロイド、例えば、ポリ（ビニルラクタ
ム）、アクリルアミドポリマー、ポリ（ビニルアルコー
ル）およびその誘導体、ポリ珪酸、加水分解化ポリビニ
ルアセテート、アルキルおよびスルホアルキルアクリレ
ートおよびメタクリレートのポリマー、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン、アクリル酸ポリマー、無水マレイン
酸コポリマー、ポリアルキレンオキシド、メタクリルア
ミドコポリマー、ポリビニルオキサゾリジノン、マレイ
ン酸コポリマー、ビニルアミンコポリマー、メタクリル
酸コポリマー、アクリロイルオキシアルキルアクリレー
トおよびメタクリレート、ビニルイミダゾールコポリマ
ー、ビニルスルフィドコポリマー、スチレンスルホン酸
含有のホモポリマーまたはコポリマー等が挙げられる。
ゼラチンが好ましい親水性バインダーである。
質、例えば、プロテイン、プロテイン誘導体、セルロー
スエステル、例えば、セルロースジアセテート、セルロ
ーストリアセテート、セルロースアセテートブチレート
をはじめとするセルロース誘導体；ゼラチンおよびゼラ
チン誘導体、ポリサッカライド、カゼイン等、並びに合
成水浸透性コロイド、例えば、ポリ（ビニルラクタ
ム）、アクリルアミドポリマー、ポリ（ビニルアルコー
ル）およびその誘導体、ポリ珪酸、加水分解化ポリビニ
ルアセテート、アルキルおよびスルホアルキルアクリレ
ートおよびメタクリレートのポリマー、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン、アクリル酸ポリマー、無水マレイン
酸コポリマー、ポリアルキレンオキシド、メタクリルア
ミドコポリマー、ポリビニルオキサゾリジノン、マレイ
ン酸コポリマー、ビニルアミンコポリマー、メタクリル
酸コポリマー、アクリロイルオキシアルキルアクリレー
トおよびメタクリレート、ビニルイミダゾールコポリマ
ー、ビニルスルフィドコポリマー、スチレンスルホン酸
含有のホモポリマーまたはコポリマー等が挙げられる。
ゼラチンが好ましい親水性バインダーである。
【００１５】バインダーおよびそのレベルは、マット粒
子を要素表面に効果的に接着させるように選択すべきで
ある。架橋性バインダー、例えば、ゼラチンについて
は、バインダーは、高度に凝集および接着させるように
好ましくは架橋させる。本発明の塗布組成物に有効に用
いられる架橋剤または硬化剤としては、アルデヒド、エ
ポキシ化合物、多官能性アジリジン、ビニルスルホン、
メラミン、トリアジン、ポリイソシアネート、ジオキサ
ン誘導体、例えば、ジヒドロキシジオキサン、カルボジ
イミド、クロムミョウバン、硫酸ジルコニウム等が挙げ
られる。
子を要素表面に効果的に接着させるように選択すべきで
ある。架橋性バインダー、例えば、ゼラチンについて
は、バインダーは、高度に凝集および接着させるように
好ましくは架橋させる。本発明の塗布組成物に有効に用
いられる架橋剤または硬化剤としては、アルデヒド、エ
ポキシ化合物、多官能性アジリジン、ビニルスルホン、
メラミン、トリアジン、ポリイソシアネート、ジオキサ
ン誘導体、例えば、ジヒドロキシジオキサン、カルボジ
イミド、クロムミョウバン、硫酸ジルコニウム等が挙げ
られる。
【００１６】本発明の実施に有用な保護層は、場合によ
り、界面活性剤、帯電防止剤、電荷制御剤、増量剤、紫
外線吸収剤、処理除去可能色素、処理除去可能マット粒
子、高沸点溶媒、ハロゲン化銀粒子、コロイド状無機粒
子、磁性記録粒子、ポリマーラテックス粒子および各種
の他の添加物を含有してもよい。本発明の実施において
有用な親水性マット含有量は、多くの周知技法、例え
ば、含浸コーティング、ロッドコーティング、ブレード
コーティング、エアナイフコーティング、グラビアコー
ティング、反転ロールコーティング、押出しコーティン
グ、スライドコーティング、カーテンコーティング等に
より施こすことができる。マット粒子、他の添加物およ
びバインダーは好ましくは液状媒体中で一緒に混合して
コーティング組成物を調製する。液状媒体は、フィルム
形成剤が界面活性剤の存在下にまたは存在なしに分散し
ている媒体、例えば、水または他の水溶液であってよ
い。コーティング後、保護層を一般に単純な蒸発（対流
加熱のような既知技法により加速してもよい）により乾
燥する。既知のコーティング法および乾燥法は、Ｒｅｓ
ｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，No. ３０８，１９
８９年１２月、１００７〜１００８頁にさらに詳細に記
載されている。疎水性層 本発明に有用な疎水性最上裏側層は、良好なスクラッチ
および摩擦抵抗性を有すべきである。そのスクラッチ抵
抗性が低すぎると、ロックウェル硬度が低いマット剤で
さえ、簡単に裏側層を傷つけることがある。疎水性最上
層の摩擦抵抗性は、ＡＳＴＭ Ｄ１０４４法に従って測
定することができる。７０°Ｆ、５０％ＲＨ、そして摩
擦ホイール（ダブルの＃ＣＳ−１０Ｆ摩擦ホイール）間
に全重量１２５ｇで、そして７２RPM で１００サイクル
についての試料で試験を行う場合は、疎水性最上層は、
３０％未満、好ましくは２０％未満、最も好ましくは１
５〜５％のデルタ曇り価（ＸＬ−２１１ Ｈａｚｅｇｕ
ａｒｄ Ｓｙｓｔｅｍ Ｈａｚｅメーターを用いて測
定）を有すべきである。
り、界面活性剤、帯電防止剤、電荷制御剤、増量剤、紫
外線吸収剤、処理除去可能色素、処理除去可能マット粒
子、高沸点溶媒、ハロゲン化銀粒子、コロイド状無機粒
子、磁性記録粒子、ポリマーラテックス粒子および各種
の他の添加物を含有してもよい。本発明の実施において
有用な親水性マット含有量は、多くの周知技法、例え
ば、含浸コーティング、ロッドコーティング、ブレード
コーティング、エアナイフコーティング、グラビアコー
ティング、反転ロールコーティング、押出しコーティン
グ、スライドコーティング、カーテンコーティング等に
より施こすことができる。マット粒子、他の添加物およ
びバインダーは好ましくは液状媒体中で一緒に混合して
コーティング組成物を調製する。液状媒体は、フィルム
形成剤が界面活性剤の存在下にまたは存在なしに分散し
ている媒体、例えば、水または他の水溶液であってよ
い。コーティング後、保護層を一般に単純な蒸発（対流
加熱のような既知技法により加速してもよい）により乾
燥する。既知のコーティング法および乾燥法は、Ｒｅｓ
ｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，No. ３０８，１９
８９年１２月、１００７〜１００８頁にさらに詳細に記
載されている。疎水性層 本発明に有用な疎水性最上裏側層は、良好なスクラッチ
および摩擦抵抗性を有すべきである。そのスクラッチ抵
抗性が低すぎると、ロックウェル硬度が低いマット剤で
さえ、簡単に裏側層を傷つけることがある。疎水性最上
層の摩擦抵抗性は、ＡＳＴＭ Ｄ１０４４法に従って測
定することができる。７０°Ｆ、５０％ＲＨ、そして摩
擦ホイール（ダブルの＃ＣＳ−１０Ｆ摩擦ホイール）間
に全重量１２５ｇで、そして７２RPM で１００サイクル
についての試料で試験を行う場合は、疎水性最上層は、
３０％未満、好ましくは２０％未満、最も好ましくは１
５〜５％のデルタ曇り価（ＸＬ−２１１ Ｈａｚｅｇｕ
ａｒｄ Ｓｙｓｔｅｍ Ｈａｚｅメーターを用いて測
定）を有すべきである。
【００１７】適切な疎水性材料としては、ポリエステル
イオノマーを含むポリエステル、ポリ尿素およびポリウ
レタン尿素を含むポリウレタン、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルホン、エポキシドポリマー、セルロースお
よびその誘導体、ポリアセタール；並びにエチレン系不
飽和モノマー、例えば、アクリル酸をはじめとするアク
リレート；メタクリル酸およびメタクリル酸をはじめと
するメタクリレート；アクリルアミドおよびメタクリレ
ートアミド；イタコン酸とその半エステルおよびジエス
テル；置換スチレンをはじめとするスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメタクリロニトリル；ビニルアセテー
ト、ビニルエーテル、ハロゲン化ビニルおよびハロゲン
化ビニリデン並びにオレフィンまたそれらの混合物が挙
げられる。加えるに、架橋性およびグラフト性モノマ
ー、例えば、１，４−ブチレングリコールメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアセテート、アクリル
メタクリレート、ジアクリルフタレート、ジビニルベン
ゼン等も用いることができる。このような疎水性層は、
例えば、米国特許第４，５８２，７８４号；第４，６１
２，２７９号；第４，７３５，９７６号；第４，４９
７，９１７号；および第５，３６６，８５５号に記載さ
れている。
イオノマーを含むポリエステル、ポリ尿素およびポリウ
レタン尿素を含むポリウレタン、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリスルホン、エポキシドポリマー、セルロースお
よびその誘導体、ポリアセタール；並びにエチレン系不
飽和モノマー、例えば、アクリル酸をはじめとするアク
リレート；メタクリル酸およびメタクリル酸をはじめと
するメタクリレート；アクリルアミドおよびメタクリレ
ートアミド；イタコン酸とその半エステルおよびジエス
テル；置換スチレンをはじめとするスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメタクリロニトリル；ビニルアセテー
ト、ビニルエーテル、ハロゲン化ビニルおよびハロゲン
化ビニリデン並びにオレフィンまたそれらの混合物が挙
げられる。加えるに、架橋性およびグラフト性モノマ
ー、例えば、１，４−ブチレングリコールメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアセテート、アクリル
メタクリレート、ジアクリルフタレート、ジビニルベン
ゼン等も用いることができる。このような疎水性層は、
例えば、米国特許第４，５８２，７８４号；第４，６１
２，２７９号；第４，７３５，９７６号；第４，４９
７，９１７号；および第５，３６６，８５５号に記載さ
れている。
【００１８】前記の疎水性材料は、分子間架橋により、
または架橋剤との反応により共有結合を形成することが
できる反応性官能基を含んでよい。適切な反応性官能基
としては：ヒドロキシ、カルボキシ、カルボジイミド、
エポキシド、アジリジン、ビニルスルホン、スルフィン
酸、活性メチレン、アミノ、アミド、アリル等が挙げら
れる。疎水性最上層は、また適切な架橋剤をも含有して
よく、これらの架橋剤としては、アルデヒド、エポキシ
化合物、多官能性アジリジン、ビニルスルホン、メラミ
ン、トリアジン、ポリイソシアネート、ジオキサン誘導
体、例えば、ジヒドロキシジオキサン、カルボジイミ
ド、クロムミヨウバン、硫酸ジルコニウム等が挙げられ
る。
または架橋剤との反応により共有結合を形成することが
できる反応性官能基を含んでよい。適切な反応性官能基
としては：ヒドロキシ、カルボキシ、カルボジイミド、
エポキシド、アジリジン、ビニルスルホン、スルフィン
酸、活性メチレン、アミノ、アミド、アリル等が挙げら
れる。疎水性最上層は、また適切な架橋剤をも含有して
よく、これらの架橋剤としては、アルデヒド、エポキシ
化合物、多官能性アジリジン、ビニルスルホン、メラミ
ン、トリアジン、ポリイソシアネート、ジオキサン誘導
体、例えば、ジヒドロキシジオキサン、カルボジイミ
ド、クロムミヨウバン、硫酸ジルコニウム等が挙げられ
る。
【００１９】疎水性最上保護層は、一定量の水溶性また
は／膨潤性材料を含有してよい。これらの材料の濃度
は、例えば、写真処理の際、保護層全体の除去を引起こ
す程あまりに高くすべきではない。このような、適切な
疎水性材料としてはプロテイン、プロテイン誘導体、セ
ルロース誘導体（例えば、セルロースエステル）、ゼラ
チンおよびゼラチン誘導体、ポリサッカライド、カゼイ
ン等、並びに合成水浸透性コロイド、例えば、ポリ（ビ
ニルラクタム）、アクリルアミドポリマー、ポリ（ビニ
ルアルコール）およびその誘導体、加水分解化ポリビニ
ルアセテート、アルキルおよびスルホアルキルアクリレ
ートおよびメタクリレートのポリマー、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン、アクリル酸ポリマー、無水マレイン
酸コポリマー、ポリアルキレンオキシド、メタクリルア
ミドコポリマー、ポリビニルオキサゾリジノン、マレイ
ン酸コポリマー、ビニルアミンコポリマー、メタクリル
酸コポリマー、アクリロイルオキシアルキルアクリレー
トおよびメタクリレート、ビニルイミダゾールコポリマ
ー、ビニルスルフィドコポリマー、スチレンスルホン酸
含有のホモポリマーまたはコポリマー等が挙げられる。
は／膨潤性材料を含有してよい。これらの材料の濃度
は、例えば、写真処理の際、保護層全体の除去を引起こ
す程あまりに高くすべきではない。このような、適切な
疎水性材料としてはプロテイン、プロテイン誘導体、セ
ルロース誘導体（例えば、セルロースエステル）、ゼラ
チンおよびゼラチン誘導体、ポリサッカライド、カゼイ
ン等、並びに合成水浸透性コロイド、例えば、ポリ（ビ
ニルラクタム）、アクリルアミドポリマー、ポリ（ビニ
ルアルコール）およびその誘導体、加水分解化ポリビニ
ルアセテート、アルキルおよびスルホアルキルアクリレ
ートおよびメタクリレートのポリマー、ポリアミド、ポ
リビニルピリジン、アクリル酸ポリマー、無水マレイン
酸コポリマー、ポリアルキレンオキシド、メタクリルア
ミドコポリマー、ポリビニルオキサゾリジノン、マレイ
ン酸コポリマー、ビニルアミンコポリマー、メタクリル
酸コポリマー、アクリロイルオキシアルキルアクリレー
トおよびメタクリレート、ビニルイミダゾールコポリマ
ー、ビニルスルフィドコポリマー、スチレンスルホン酸
含有のホモポリマーまたはコポリマー等が挙げられる。
【００２０】疎水性最上保護層は、場合により、添加
物、例えば、界面活性剤、電荷制御剤、帯電防止剤、例
えば、米国特許第４，３９４，４４１号に記載されてい
る導電性ポリマーまたは導電性金属酸化物粒子、増量
剤、磁性記録粒子、滑剤、マット剤、金属酸化物粒子お
よび各種の他の添加物を含有してもよい。本発明の実施
において有用な疎水性保護層は、多くの周知技法、例え
ば、含浸コーティング、ロッドコーティング、ブレード
コーティング、エアナイフコーティング、グラビアコー
ティング、反転ロールコーティング、押出しコーティン
グ、スライドコーティング、カーテンコーティング等に
より施こすことができる。添加物およびバインダーは好
ましくは液状媒体中で一緒に混合してコーティング組成
物を調製する。液状媒体は、フィルム形成剤が界面活性
剤の存在下にまたは存在なしに分散している媒体、例え
ば、水または他の水溶液、または樹脂バインダーが溶解
している有機溶剤のような溶媒であってよい。コーティ
ング後、保護層を一般に単純な蒸発（対流加熱のような
既知技法により加速してもよい）により乾燥する。既知
のコーティング法および乾燥法は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ
Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，No. ３０８，１９８９年１２月
刊行、１００７〜１００８頁にさらに詳細に記載されて
いる。
物、例えば、界面活性剤、電荷制御剤、帯電防止剤、例
えば、米国特許第４，３９４，４４１号に記載されてい
る導電性ポリマーまたは導電性金属酸化物粒子、増量
剤、磁性記録粒子、滑剤、マット剤、金属酸化物粒子お
よび各種の他の添加物を含有してもよい。本発明の実施
において有用な疎水性保護層は、多くの周知技法、例え
ば、含浸コーティング、ロッドコーティング、ブレード
コーティング、エアナイフコーティング、グラビアコー
ティング、反転ロールコーティング、押出しコーティン
グ、スライドコーティング、カーテンコーティング等に
より施こすことができる。添加物およびバインダーは好
ましくは液状媒体中で一緒に混合してコーティング組成
物を調製する。液状媒体は、フィルム形成剤が界面活性
剤の存在下にまたは存在なしに分散している媒体、例え
ば、水または他の水溶液、または樹脂バインダーが溶解
している有機溶剤のような溶媒であってよい。コーティ
ング後、保護層を一般に単純な蒸発（対流加熱のような
既知技法により加速してもよい）により乾燥する。既知
のコーティング法および乾燥法は、Ｒｅｓｅａｒｃｈ
Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，No. ３０８，１９８９年１２月
刊行、１００７〜１００８頁にさらに詳細に記載されて
いる。
【００２１】本発明を以下の実施例によりさらに具体的
に説明するが、部およびパーセントは特に断らない限り
重量部および重量％である。実施例１〜８および比較試料Ａ〜Ｇ 一連の写真要素を以下のように製造した：一方の側にハ
レーション防止層を、そして他の側に疎水性保護層を有
する（以下に述べる）セルローストリアセテートフィル
ム支持体に、以下の画像形成層を、米国特許第５，２８
８，５９８号の実施例２に記載されているような順序
で、前記のハレーション防止層上にコーティングした：
低感度シアン色素形成層、高感度シアン色素形成層、中
間層、低感度マゼンタ色素形成層、高感度マゼンタ色素
形成層、中間層、低感度イエロー色素形成層、高感度イ
エロー色素形成層およびＵＶ層。親水性表側最上層の調製 本発明のゼラチンバインダーおよびマット剤を含有する
保護最上層を、前記のＵＶ層の頂部にコーティングした
が、この保護層は第１表に示す以下の組成を有した。
に説明するが、部およびパーセントは特に断らない限り
重量部および重量％である。実施例１〜８および比較試料Ａ〜Ｇ 一連の写真要素を以下のように製造した：一方の側にハ
レーション防止層を、そして他の側に疎水性保護層を有
する（以下に述べる）セルローストリアセテートフィル
ム支持体に、以下の画像形成層を、米国特許第５，２８
８，５９８号の実施例２に記載されているような順序
で、前記のハレーション防止層上にコーティングした：
低感度シアン色素形成層、高感度シアン色素形成層、中
間層、低感度マゼンタ色素形成層、高感度マゼンタ色素
形成層、中間層、低感度イエロー色素形成層、高感度イ
エロー色素形成層およびＵＶ層。親水性表側最上層の調製 本発明のゼラチンバインダーおよびマット剤を含有する
保護最上層を、前記のＵＶ層の頂部にコーティングした
が、この保護層は第１表に示す以下の組成を有した。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】疎水性裏側最上層の調製 画像形成層の反対側の支持体上に、以下の疎水性層（第
３表）のうちの１層をコーティングした。テーバー摩耗
試験は、これらの塗膜についてＡＳＴＭ Ｄ１０４４に
従って行った。
３表）のうちの１層をコーティングした。テーバー摩耗
試験は、これらの塗膜についてＡＳＴＭ Ｄ１０４４に
従って行った。
【００２５】
【表３】
【００２６】＊ Ｔｅｆｌｏｎ １２０：フッ素化ポリ
マー粒子分散体（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍ
ｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏ．から市販）。 ＊＊ Ｂｙｋ ３３１：ポリエーテル改質ジメチルポリ
シロキサンコポリマー（ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅから市
販）。 ＊＊＊ Ｅｌｖａｃｉｔｅ ２０４１：メチルメタクリ
レートポリマー（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍ
ｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏ．から市販）。
マー粒子分散体（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍ
ｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏ．から市販）。 ＊＊ Ｂｙｋ ３３１：ポリエーテル改質ジメチルポリ
シロキサンコポリマー（ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅから市
販）。 ＊＊＊ Ｅｌｖａｃｉｔｅ ２０４１：メチルメタクリ
レートポリマー（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍ
ｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏ．から市販）。
【００２７】＊＊＊＊ Ｓｙｌｏｉｄ ２４４：シリカ
マット剤（Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ ＆Ｃｏ．から市販）。 ＊＊＊＊＊ ＰＦＡＺ２３２：多官能性アジリジン（Ｓ
ｙｂｌｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｃ．から市販）。マット・シンチ摩耗試験 表側マット含有最上保護オーバーコートを有するフィル
ム、および裏側疎水性最上保護層を有するフィルムの細
片（３０．５cm×３５mm）各々５枚を７０°Ｆ／５０％
ＲＨで１７時間コンデイショニングを行った。裏側保護
層を含有する試料を、保護層側が上に向くような状態
で、直角面および水平面を定める直解縁端を含有する取
付具（ｆｉｘｔｕｒｅ）に取付けた。表側保護層を含有
する試料を、裏側保護層を含有する試料の上に、表マッ
ト側が固定試料の裏側と接触するように置いた。重量
は、表側試料の垂直面にかけた。表側試料を、直角から
水平方向に引き離した。１０，２０，５０，１００およ
び２００ｇの重量を用いてこれらの試料を引き離した。
裏側保護層を含有する試料５枚について、反射光の下に
生じたスクラッチを定量評価した（平均）：０＝スクラ
ッチなし、２＝２〜３のスクラッチ、３＝いくつかのス
クラッチ、４＝多くのスクラッチ。実施例および試験結
果を第４表に報告する。
マット剤（Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ ＆Ｃｏ．から市販）。 ＊＊＊＊＊ ＰＦＡＺ２３２：多官能性アジリジン（Ｓ
ｙｂｌｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｃ．から市販）。マット・シンチ摩耗試験 表側マット含有最上保護オーバーコートを有するフィル
ム、および裏側疎水性最上保護層を有するフィルムの細
片（３０．５cm×３５mm）各々５枚を７０°Ｆ／５０％
ＲＨで１７時間コンデイショニングを行った。裏側保護
層を含有する試料を、保護層側が上に向くような状態
で、直角面および水平面を定める直解縁端を含有する取
付具（ｆｉｘｔｕｒｅ）に取付けた。表側保護層を含有
する試料を、裏側保護層を含有する試料の上に、表マッ
ト側が固定試料の裏側と接触するように置いた。重量
は、表側試料の垂直面にかけた。表側試料を、直角から
水平方向に引き離した。１０，２０，５０，１００およ
び２００ｇの重量を用いてこれらの試料を引き離した。
裏側保護層を含有する試料５枚について、反射光の下に
生じたスクラッチを定量評価した（平均）：０＝スクラ
ッチなし、２＝２〜３のスクラッチ、３＝いくつかのス
クラッチ、４＝多くのスクラッチ。実施例および試験結
果を第４表に報告する。
【００２８】
【表４】
【００２９】第４表に示すように、表側親水性保護層に
Ｍ９０未満のロックウェル硬度のマット粒子を、３０未
満のテーバーデルタ曇り価を有する裏側疎水性保護層と
組合わせて使用すると、シンチ摩耗およびスクラッチ抵
抗性が優れたものになる。本発明の写真要素は、従来知
られている同様の要素と比較して多くの利点を有する。
例えば、本発明要素は、シンチ・スクラッチに対して抵
抗性を有するので、極めて高いスピードの製造および仕
上げ工程に用いることができ、そしてフィルムの巻取
り、巻出しおよび積重ねが高頻度で繰り返される用途に
用いることができる。
Ｍ９０未満のロックウェル硬度のマット粒子を、３０未
満のテーバーデルタ曇り価を有する裏側疎水性保護層と
組合わせて使用すると、シンチ摩耗およびスクラッチ抵
抗性が優れたものになる。本発明の写真要素は、従来知
られている同様の要素と比較して多くの利点を有する。
例えば、本発明要素は、シンチ・スクラッチに対して抵
抗性を有するので、極めて高いスピードの製造および仕
上げ工程に用いることができ、そしてフィルムの巻取
り、巻出しおよび積重ねが高頻度で繰り返される用途に
用いることができる。
【００３０】本発明の写真要素は、要素を貯蔵および将
来の接触の必要性のためにカートリッジ中で後処理に戻
す必要がある工程に用いることができる。これらの工程
では、後処理の巻取り、巻出しおよび取扱い操作の際に
裏面と表面が直接接触するので、フィルムの自己接触を
低減するために高レベルの処理後残留性マットを使用す
ることが必要である。本発明の写真要素では、要素にさ
らに多くのマット・シンチ・スクラッチおよび摩耗カブ
リが生じる危険性を増加させることなしに、さらに高レ
ベルの処理後残留性マットを使用することが可能であ
る。
来の接触の必要性のためにカートリッジ中で後処理に戻
す必要がある工程に用いることができる。これらの工程
では、後処理の巻取り、巻出しおよび取扱い操作の際に
裏面と表面が直接接触するので、フィルムの自己接触を
低減するために高レベルの処理後残留性マットを使用す
ることが必要である。本発明の写真要素では、要素にさ
らに多くのマット・シンチ・スクラッチおよび摩耗カブ
リが生じる危険性を増加させることなしに、さらに高レ
ベルの処理後残留性マットを使用することが可能であ
る。
【００３１】生フィルムが付される写真処理工程として
は以下が挙げられるが、これらに限定されない： １）発色現象→漂白−定着→洗浄／安定化； ２）発色現象→漂白→定着→洗浄／安定化； ３）発色現象→漂白→漂白−定着→洗浄／安定化； ４）発色現象→停止→洗浄→漂白→洗浄→定着→洗浄／
安定化； ５）発色現象→漂白−定着→定着→洗浄／安定化； ６）発色現象→漂白→漂白−定着→定着→洗浄／安定
化。
は以下が挙げられるが、これらに限定されない： １）発色現象→漂白−定着→洗浄／安定化； ２）発色現象→漂白→定着→洗浄／安定化； ３）発色現象→漂白→漂白−定着→洗浄／安定化； ４）発色現象→停止→洗浄→漂白→洗浄→定着→洗浄／
安定化； ５）発色現象→漂白−定着→定着→洗浄／安定化； ６）発色現象→漂白→漂白−定着→定着→洗浄／安定
化。
【００３２】前記処理工程の中で、工程１），２），
３）および４）が好ましい。さらに、Ｈａｈｍの米国特
許第４，７１９，１７３号に記載されているように、前
記工程の各々を多数回行うことができ、多工程プロセッ
サーの補充および作動について共流（ｃｏ−ｃｕｒｒｅ
ｎｔ）配置、向流配置およびコントラソ（ｃｏｎｔｒａ
ｃｏ）配置で用いることができる。
３）および４）が好ましい。さらに、Ｈａｈｍの米国特
許第４，７１９，１７３号に記載されているように、前
記工程の各々を多数回行うことができ、多工程プロセッ
サーの補充および作動について共流（ｃｏ−ｃｕｒｒｅ
ｎｔ）配置、向流配置およびコントラソ（ｃｏｎｔｒａ
ｃｏ）配置で用いることができる。
【００３３】当該技術分野において知られている任意の
写真プロセッサーを用いて本発明の写真材料を処理する
ことができる。例えば、大容量プロセッサー、いわゆる
ミニラボおよびミクロラボプロセッサーを用いてもよ
い。以下の参考文献に記載されているように低容量薄型
プロセッサーの使用は特に有利である：国際公開（Ｗ
Ｏ）９２／１０７９０号；同９２／１７８１９号；同９
３／０４４０４号；同９２／１７３７０号；同９１／１
９２２６号；同９２／１２５６７号；同９２／０７３０
２号；同９３／００６１２号；同９２／０７３０１号；
同０２／０９９３２号；米国特許第５，２９４，９５６
号；ヨーロッパ特許第５５９，０２７号；米国特許第
５，１７９，４０４号；ヨーロッパ特許第５５９，０２
５号；米国特許第５，２７０，７６２号；ヨーロッパ特
許第５５９，０２６号；米国特許第５，３１３，２４３
号；米国特許第５，３３９，１３１号。
写真プロセッサーを用いて本発明の写真材料を処理する
ことができる。例えば、大容量プロセッサー、いわゆる
ミニラボおよびミクロラボプロセッサーを用いてもよ
い。以下の参考文献に記載されているように低容量薄型
プロセッサーの使用は特に有利である：国際公開（Ｗ
Ｏ）９２／１０７９０号；同９２／１７８１９号；同９
３／０４４０４号；同９２／１７３７０号；同９１／１
９２２６号；同９２／１２５６７号；同９２／０７３０
２号；同９３／００６１２号；同９２／０７３０１号；
同０２／０９９３２号；米国特許第５，２９４，９５６
号；ヨーロッパ特許第５５９，０２７号；米国特許第
５，１７９，４０４号；ヨーロッパ特許第５５９，０２
５号；米国特許第５，２７０，７６２号；ヨーロッパ特
許第５５９，０２６号；米国特許第５，３１３，２４３
号；米国特許第５，３３９，１３１号。
フロントページの続き (72)発明者 デニス エドワード スミス アメリカ合衆国，ニューヨーク 14626, ロチェスター，リッジウェイ アベニュ 2750
Claims (1)
- 【請求項１】 表側および裏側を有する支持体、前記の
支持体の表側上の画像形成層、前記の画像形成層よりさ
らに支持体から離れた支持体の表側上の保護オーバーコ
ートを含んでなる写真要素であって；前記の保護オーバ
ーコートが、親水性バインダー中に処理後残留性マット
粒子を含み；前記のマット粒子はＭ９０未満のロックウ
ェル硬度を有し；前記の支持体の裏側には保護オーバー
コート層があり；前記の保護オーバーコート層は、支持
体の裏側から最遠の層でありそして３０％未満のデルタ
曇り価を有する疎水性材料を含む写真要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/407,936 US5536627A (en) | 1995-03-21 | 1995-03-21 | Photographic elements with improved cinch scratch resistance |
| US407936 | 1995-03-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08262625A true JPH08262625A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=23614175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8063152A Pending JPH08262625A (ja) | 1995-03-21 | 1996-03-19 | 保護オーバーコートを有する写真要素 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5536627A (ja) |
| EP (1) | EP0733943B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08262625A (ja) |
| DE (1) | DE69608840T2 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5786298A (en) * | 1997-04-28 | 1998-07-28 | Eastman Kodak Company | Backing layers for imaging elements containing crosslinked elastomeric matte beads |
| US6346369B1 (en) * | 1998-06-03 | 2002-02-12 | Eastman Kodak Company | Scratch resistant layer for imaging elements |
| US6187522B1 (en) * | 1999-03-25 | 2001-02-13 | Eastman Kodak Company | Scratch resistant antistatic layer for imaging elements |
| JP2000287115A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-10-13 | Ricoh Co Ltd | デジタルカメラおよびデジタルカメラシステム |
| US6854386B2 (en) * | 2000-10-31 | 2005-02-15 | International Imaging Materials Inc. | Ceramic decal assembly |
| US7507453B2 (en) * | 2000-10-31 | 2009-03-24 | International Imaging Materials, Inc | Digital decoration and marking of glass and ceramic substrates |
| US6990904B2 (en) * | 2000-10-31 | 2006-01-31 | International Imaging Materials, Inc | Thermal transfer assembly for ceramic imaging |
| US6796733B2 (en) | 2000-10-31 | 2004-09-28 | International Imaging Materials Inc. | Thermal transfer ribbon with frosting ink layer |
| JP4885364B2 (ja) * | 2001-01-10 | 2012-02-29 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ワイピングフィルム |
| US7364789B2 (en) * | 2001-01-10 | 2008-04-29 | 3M Innovative Properties Company | Wiping film |
| US6831786B2 (en) * | 2002-03-11 | 2004-12-14 | Eastman Kodak Company | Surface formed complex multi-layered polymer lenses for light diffusion |
| EP1544266B1 (en) * | 2002-07-31 | 2010-10-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | (meth)acrylic copolymer resin and coating film thereof |
| US6908240B1 (en) * | 2003-12-16 | 2005-06-21 | International Imaging Materials, Inc | Thermal printing and cleaning assembly |
| KR20070118397A (ko) * | 2006-06-12 | 2007-12-17 | 삼성전자주식회사 | 보호 시트 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 |
| US7829162B2 (en) | 2006-08-29 | 2010-11-09 | international imagining materials, inc | Thermal transfer ribbon |
| US20080057233A1 (en) * | 2006-08-29 | 2008-03-06 | Harrison Daniel J | Conductive thermal transfer ribbon |
| US8536087B2 (en) | 2010-04-08 | 2013-09-17 | International Imaging Materials, Inc. | Thermographic imaging element |
| US9067448B2 (en) | 2012-05-02 | 2015-06-30 | Eastman Kodak Company | Pre-treatment composition for inkjet printing |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4022622A (en) * | 1972-11-22 | 1977-05-10 | Agfa-Gevaert N.V. | Dispersing polymeric particles in aqueous medium for coating silver halide emulsion layers |
| US3976490A (en) * | 1974-08-16 | 1976-08-24 | Polaroid Corporation | Removable antiblocking top coat |
| JPS5834821B2 (ja) * | 1978-12-13 | 1983-07-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真感光材料 |
| DE2919822A1 (de) * | 1979-05-16 | 1980-11-27 | Agfa Gevaert Ag | Verfahren zur herstellung von mattierungsschichten |
| GB2077935B (en) * | 1980-05-26 | 1984-04-26 | Minnesota Mining & Mfg | Photographic elements with improved surface characteristics |
| JPS6087323A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真感光材料 |
| JPH061349B2 (ja) * | 1984-08-07 | 1994-01-05 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS61170732A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS63194255A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光機能を賦与した感光材料包装ユニツト |
| JPH0830862B2 (ja) * | 1987-05-21 | 1996-03-27 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US4855219A (en) * | 1987-09-18 | 1989-08-08 | Eastman Kodak Company | Photographic element having polymer particles covalently bonded to gelatin |
| GB8809327D0 (en) * | 1988-04-20 | 1988-05-25 | Ciba Geigy Ag | Anti-block layers |
| IT1227930B (it) * | 1988-11-25 | 1991-05-14 | Minnesota Mining & Mfg | Materiali fotografici agli alogenuri d'argento sensibili alla luce. |
| US5104777A (en) * | 1990-05-01 | 1992-04-14 | Eastman Kodak Company | Photographic element having both a filter dye layer and a matte layer |
| US5061595A (en) * | 1990-09-24 | 1991-10-29 | Eastman Kodak Company | Contact film for use in graphic arts with two overcoat layers |
| US5175073A (en) * | 1991-03-26 | 1992-12-29 | Eastman Kodak Company | Nucleated contact film for use in graphic arts |
| JPH0593985A (ja) * | 1991-10-02 | 1993-04-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JP2811256B2 (ja) * | 1992-04-23 | 1998-10-15 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US5378577A (en) * | 1992-10-30 | 1995-01-03 | Eastman Kodak Company | Photographic light-sensitive elements |
| EP0610522B1 (en) * | 1993-02-08 | 1999-04-21 | Imation Corp. | Silver halide photographic material comprising monodispersed polymer particles and process for the production thereof |
| US5310640A (en) * | 1993-06-02 | 1994-05-10 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element comprising an electroconductive layer and a backing layer. |
| US5397826A (en) * | 1993-12-22 | 1995-03-14 | Eastman Kodak Company | Coating compositions for a transparent magnetic recording layer |
| US5595862A (en) * | 1995-02-01 | 1997-01-21 | Eastman Kodak Company | Photographic elements containing matte particles of bimodal size distribution |
-
1995
- 1995-03-21 US US08/407,936 patent/US5536627A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-03-15 DE DE69608840T patent/DE69608840T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-15 EP EP96200714A patent/EP0733943B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-19 JP JP8063152A patent/JPH08262625A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69608840D1 (de) | 2000-07-20 |
| EP0733943A2 (en) | 1996-09-25 |
| DE69608840T2 (de) | 2001-01-04 |
| EP0733943B1 (en) | 2000-06-14 |
| US5536627A (en) | 1996-07-16 |
| EP0733943A3 (en) | 1997-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08262625A (ja) | 保護オーバーコートを有する写真要素 | |
| US5447832A (en) | Imaging element | |
| EP0745895A2 (en) | Photographic element having improved scratch resistance | |
| JPH04501324A (ja) | 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料 | |
| EP0824219B1 (en) | Imaging element comprising an auxilliary layer coated from coating compositions containing lubricant-loaded, nonaqueous dispersed polymer particles | |
| EP0875786B1 (en) | Backing layers for imaging elements containing crosslinked elastomeric matte beads | |
| US5965304A (en) | Protecting layer for gelatin based AGX photographic products | |
| US5550011A (en) | Photographic elements containing matte particles of bimodal size distribution | |
| JPH08254772A (ja) | イメージング要素 | |
| US5723276A (en) | Coating compositions for photographic paper | |
| US5800973A (en) | Backing layers for imaging elements containing hard filler particles and crosslinked, elastomeric matte beads | |
| US5709986A (en) | Photographic elements employing polymeric particles | |
| US5834174A (en) | Photographic elements containing highly crosslinked matting agent | |
| JP2002096556A (ja) | インクジェット記録要素及び印刷方法 | |
| EP0915372A1 (en) | A novel protecting layer for gelatin based AGX photographic products | |
| US5965339A (en) | Photographic element having a protective overcoat | |
| US5916741A (en) | Photographic elements containing elastomeric matting agent | |
| JP2000338626A (ja) | 写真要素用の耐引掻ききず性、耐水性オーバーコート | |
| EP0829755B1 (en) | Coating composition for imaging elements comprising vinyl polymer | |
| JPH09156211A (ja) | インクジェット記録用シート | |
| US5824464A (en) | Photographic element with improved drying characteristics | |
| JPH09127651A (ja) | マット剤含有写真画像形成要素およびそれを含む写真材料 | |
| JPH06202264A (ja) | 写真感光性要素 | |
| JPH10211764A (ja) | インクジェット記録用シート | |
| US5846700A (en) | Hydrophilic surface protective layer containing a fluoropolymer latex |